JPH08145620A - 回転体上異物位置測定装置 - Google Patents
回転体上異物位置測定装置Info
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- JPH08145620A JPH08145620A JP28070094A JP28070094A JPH08145620A JP H08145620 A JPH08145620 A JP H08145620A JP 28070094 A JP28070094 A JP 28070094A JP 28070094 A JP28070094 A JP 28070094A JP H08145620 A JPH08145620 A JP H08145620A
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- light
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転体の形状情報と回転体上の異物を同時に
検出して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物
の位置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体
の回転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して
行うことができる回転体上異物位置測定装置を提供する
こと。 【構成】 検査対象物を回転させて回転体とする回転手
段と、回転体の回転位置を検出するための回転位置検出
部と、回転体を照射する照射光学系と、回転体の正反射
光を受光し、回転体の形状情報及び回転中心軸線方向の
位置を検出するための第１受光系と、回転体の散乱反射
光の光量を受光し、回転体上の異物を検出するための第
２受光系とを包含することを特徴とする回転体上異物位
置測定装置。
検出して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物
の位置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体
の回転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して
行うことができる回転体上異物位置測定装置を提供する
こと。 【構成】 検査対象物を回転させて回転体とする回転手
段と、回転体の回転位置を検出するための回転位置検出
部と、回転体を照射する照射光学系と、回転体の正反射
光を受光し、回転体の形状情報及び回転中心軸線方向の
位置を検出するための第１受光系と、回転体の散乱反射
光の光量を受光し、回転体上の異物を検出するための第
２受光系とを包含することを特徴とする回転体上異物位
置測定装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回転体上の異物の位置
座標測定装置、さらに詳しくは、例えば回転するウエー
ハの上に存在する塵等のパーテイクルの位置座標を高精
度に検出し、視野の極めて狭い電子顕微鏡によるパーテ
イクルの観察や処理を効率的に行うための装置に関す
る。
座標測定装置、さらに詳しくは、例えば回転するウエー
ハの上に存在する塵等のパーテイクルの位置座標を高精
度に検出し、視野の極めて狭い電子顕微鏡によるパーテ
イクルの観察や処理を効率的に行うための装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の回転ウエーハ上のパーテイクルす
なわち異物の位置座標検出装置の第１例としては、特公
平３−７５０５５号公報に開示された異物検出装置、特
開昭６０−１５９３９号公報に開示された異物検査装
置、特開昭５７−１０８６０６号公報に開示された自動
外観検査装置等に包含されているものが知られている。
これらの装置においては、移動載置台に載置されたウエ
ーハ等を移動させて異物を高倍率の顕微鏡や光電式検出
器によって検出し、その時の移動載置台の基準位置から
の移動量をエンコーダ等によって検出して異物位置座標
を測定するものである。従来のウエーハ上の異物の位置
座標検出装置の第２例としては、ウエーハ上を一定面積
の矩形ピクセルに分割し、それぞれのピクセルの散乱光
量を測定し、一定値より高い散乱光量が測定された時、
そのピクセルにパーテイクルが存在すると認定し、その
ピクセルの座標を検出・記憶するものである。
なわち異物の位置座標検出装置の第１例としては、特公
平３−７５０５５号公報に開示された異物検出装置、特
開昭６０−１５９３９号公報に開示された異物検査装
置、特開昭５７−１０８６０６号公報に開示された自動
外観検査装置等に包含されているものが知られている。
これらの装置においては、移動載置台に載置されたウエ
ーハ等を移動させて異物を高倍率の顕微鏡や光電式検出
器によって検出し、その時の移動載置台の基準位置から
の移動量をエンコーダ等によって検出して異物位置座標
を測定するものである。従来のウエーハ上の異物の位置
座標検出装置の第２例としては、ウエーハ上を一定面積
の矩形ピクセルに分割し、それぞれのピクセルの散乱光
量を測定し、一定値より高い散乱光量が測定された時、
そのピクセルにパーテイクルが存在すると認定し、その
ピクセルの座標を検出・記憶するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記第１例の異物の位
置座標検出装置においては、検出される座標は回転体を
分割したピクセルのデータ（代表値）であるから、座標
測定精度がピクセルの大きさによって制限されたしまう
という問題があった。また、上記第２例のパーテイクル
の位置座標検出装置においては、位置検出分解能（空間
分解能）がピクセルの面積に限定されてしまい、電子顕
微鏡等の分析機器が必要とする高精度の測定をすること
ができないという問題があった。
置座標検出装置においては、検出される座標は回転体を
分割したピクセルのデータ（代表値）であるから、座標
測定精度がピクセルの大きさによって制限されたしまう
という問題があった。また、上記第２例のパーテイクル
の位置座標検出装置においては、位置検出分解能（空間
分解能）がピクセルの面積に限定されてしまい、電子顕
微鏡等の分析機器が必要とする高精度の測定をすること
ができないという問題があった。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、上述した従来の回転体上異物
の位置座標測定装置の問題点に鑑みてなされたものであ
って、回転体の形状情報と回転体上の異物を同時に検出
して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物の位
置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体の回
転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して行う
ことができる回転体上異物位置測定装置を提供すること
を目的とする。
の位置座標測定装置の問題点に鑑みてなされたものであ
って、回転体の形状情報と回転体上の異物を同時に検出
して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物の位
置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体の回
転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して行う
ことができる回転体上異物位置測定装置を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【発明の構成】本発明は、検査対象物を回転させて回転
体とする回転手段と、回転体の回転位置を検出するため
の回転位置検出部と、回転体を照射する照射光学系と、
回転体の正反射光を受光し、回転体の形状情報を検出す
るための第１受光系と、回転体の散乱反射光を受光し、
回転体上の異物を検出するための第２受光系とを包含す
ることを特徴とする回転体上異物位置測定装置である。
本発明の実施態様は、上記第１受光系が、回転体の回転
軸線方向の高さを検出することを特徴とする。他の実施
態様は、上記第１受光系は、投影光学系を有し、上記第
１受光系の受光部と上記回転体が共役であることを特徴
とする。他の実施態様は、上記回転体がウエハであっ
て、上記形状情報がウエハの外径オリフラ・ノッチであ
ることを特徴とする。他の実施態様は、上記回転体上異
物位置測定装置が、さらに回転体を水平垂直方向に位置
調節するための水平垂直移動測定台を有することを特徴
とする。他の実施態様は、上記照射光学系が、合焦レン
ズを包含し、照射スポットを調節するために該合焦レン
ズがボイスコイルによって駆動されることを特徴とする
体とする回転手段と、回転体の回転位置を検出するため
の回転位置検出部と、回転体を照射する照射光学系と、
回転体の正反射光を受光し、回転体の形状情報を検出す
るための第１受光系と、回転体の散乱反射光を受光し、
回転体上の異物を検出するための第２受光系とを包含す
ることを特徴とする回転体上異物位置測定装置である。
本発明の実施態様は、上記第１受光系が、回転体の回転
軸線方向の高さを検出することを特徴とする。他の実施
態様は、上記第１受光系は、投影光学系を有し、上記第
１受光系の受光部と上記回転体が共役であることを特徴
とする。他の実施態様は、上記回転体がウエハであっ
て、上記形状情報がウエハの外径オリフラ・ノッチであ
ることを特徴とする。他の実施態様は、上記回転体上異
物位置測定装置が、さらに回転体を水平垂直方向に位置
調節するための水平垂直移動測定台を有することを特徴
とする。他の実施態様は、上記照射光学系が、合焦レン
ズを包含し、照射スポットを調節するために該合焦レン
ズがボイスコイルによって駆動されることを特徴とする
【０００６】
【作用】第１受光系によって回転体の正反射光を受光し
て回転体の投影像を形成して、回転体の形状情報を検出
し、第２受光系によって回転体の散乱反射光の光量を受
光して、回転体上の異物を検出する。
て回転体の投影像を形成して、回転体の形状情報を検出
し、第２受光系によって回転体の散乱反射光の光量を受
光して、回転体上の異物を検出する。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の実施例の回転体上異物位置座
標測定装置を図に基づいて説明する。回転体上異物位置
座標測定装置１は、図１の構成説明図に示すように、モ
ータ２によって垂直な回転軸線Ｏを中心に回転させられ
る回転テーブル４に、検査対象の回転体Ｒを載置する。
回転テーブル４の回転数Ｍは、例えば毎秒５０回転であ
る。モータ２にはエンコーダ６が組み合わされて、モー
タ２の回転角度を検出し、エンコーダ６の出力は制御演
算部１０に送られる。エンコーダ６の分割数Ｎは、例え
ば１回転６０００分割であり、分割された角度範囲を
「角度区分」という。制御演算部１０の制御出力はモー
タ２に入力する。モータ２とエンコーダ６は、水平垂直
移動測定台１２に載置されており、これによってモータ
２とエンコーダ６が水平方向及び垂直方向に移動されま
たその移動量が測定され、移動量測定値の出力は制御演
算部１０に送られる。
標測定装置を図に基づいて説明する。回転体上異物位置
座標測定装置１は、図１の構成説明図に示すように、モ
ータ２によって垂直な回転軸線Ｏを中心に回転させられ
る回転テーブル４に、検査対象の回転体Ｒを載置する。
回転テーブル４の回転数Ｍは、例えば毎秒５０回転であ
る。モータ２にはエンコーダ６が組み合わされて、モー
タ２の回転角度を検出し、エンコーダ６の出力は制御演
算部１０に送られる。エンコーダ６の分割数Ｎは、例え
ば１回転６０００分割であり、分割された角度範囲を
「角度区分」という。制御演算部１０の制御出力はモー
タ２に入力する。モータ２とエンコーダ６は、水平垂直
移動測定台１２に載置されており、これによってモータ
２とエンコーダ６が水平方向及び垂直方向に移動されま
たその移動量が測定され、移動量測定値の出力は制御演
算部１０に送られる。
【０００８】回転テーブル４に載置された回転体Ｒの斜
め上方には、レーザ光源である発光素子２０及び集光レ
ンズ２１が配置され、また回転体Ｒの垂直上方にはフォ
トマル２２が配置され、発光素子２０によって照明され
た回転体Ｒの反射光量がフォトマル２２によって検出さ
れる。集光レンズ２１が照射するスポットを適切なもの
とするため、集光レンズ２１は、制御演算部１０の出力
に基づきボイスコイル（図示せず）によって駆動され
る。発光素子２０に対し反対側となる回転体Ｒの斜め上
方には、投影レンズ２４及び位置検出素子であるＰＳＤ
２５が配置される。照射スポットを調整する別の手段と
して、発光素子２０、集光レンズ２１からなる照射光学
系に対し回転体Ｒを垂直方向に移動できるように構成し
てもよい。
め上方には、レーザ光源である発光素子２０及び集光レ
ンズ２１が配置され、また回転体Ｒの垂直上方にはフォ
トマル２２が配置され、発光素子２０によって照明され
た回転体Ｒの反射光量がフォトマル２２によって検出さ
れる。集光レンズ２１が照射するスポットを適切なもの
とするため、集光レンズ２１は、制御演算部１０の出力
に基づきボイスコイル（図示せず）によって駆動され
る。発光素子２０に対し反対側となる回転体Ｒの斜め上
方には、投影レンズ２４及び位置検出素子であるＰＳＤ
２５が配置される。照射スポットを調整する別の手段と
して、発光素子２０、集光レンズ２１からなる照射光学
系に対し回転体Ｒを垂直方向に移動できるように構成し
てもよい。
【０００９】ＰＳＤ２１は、集光レンズ２１から照射さ
れる照射光軸が回転体Ｒで正反射された反射光軸に対し
て直交する方向から僅かにずらし、ＰＳＤ２１の表面で
反射する光が回転体Ｒに再び戻らないように配置され
る。これによって、ＰＳＤ２１での再帰反射の光が測定
位置において有害な散乱光を生じ誤測定することを防ぐ
ことができる。
れる照射光軸が回転体Ｒで正反射された反射光軸に対し
て直交する方向から僅かにずらし、ＰＳＤ２１の表面で
反射する光が回転体Ｒに再び戻らないように配置され
る。これによって、ＰＳＤ２１での再帰反射の光が測定
位置において有害な散乱光を生じ誤測定することを防ぐ
ことができる。
【００１０】制御演算部１０には、図２の処理回路ブロ
ック図に示すように、フォトマル２２の出力が第１Ａ／
Ｄ変換部３０を介して入力し、ＰＳＤ２５の出力が第２
Ａ／Ｄ変換部３１を介して入力し、さらにエンコーダ６
の出力とは独立のクロックパルスを発生するクロックパ
ルス発生器３６の出力が入力する。制御演算部１０には
さらに、エンコーダ６及び水平垂直移動測定台１２の出
力が入力する。第１Ａ／Ｄ変換部３０は、フォトマル２
２の出力をクロックパルスのタイミングでＡ／Ｄ変換す
る。第２Ａ／Ｄ変換部３１は、ＰＳＤ２５の出力をＡ／
Ｄ変換する。制御演算部１０の演算処理については後述
する。制御演算部１０の出力は、モータ２、発光素子２
０、表示部３７及びメモリ４４に入力する。クロックパ
ルス発生器３６が発生するクロックパルスは、エンコー
ダ６の出力の周波数よりも高くなるように設定される。
上述した例では、 回転テーブル４の回転数Ｍ ＝毎秒５０回転 エンコーダ６の分割数Ｎ ＝１回転６０００分割 エンコーダ６の出力の周波数＝Ｍ×Ｎ ＝３００KHz となるから、クロックパルス発生器３６が発生するクロ
ックパルスは、３００KHz より大きい数MHz から数１０
MHz 程度に設定される。
ック図に示すように、フォトマル２２の出力が第１Ａ／
Ｄ変換部３０を介して入力し、ＰＳＤ２５の出力が第２
Ａ／Ｄ変換部３１を介して入力し、さらにエンコーダ６
の出力とは独立のクロックパルスを発生するクロックパ
ルス発生器３６の出力が入力する。制御演算部１０には
さらに、エンコーダ６及び水平垂直移動測定台１２の出
力が入力する。第１Ａ／Ｄ変換部３０は、フォトマル２
２の出力をクロックパルスのタイミングでＡ／Ｄ変換す
る。第２Ａ／Ｄ変換部３１は、ＰＳＤ２５の出力をＡ／
Ｄ変換する。制御演算部１０の演算処理については後述
する。制御演算部１０の出力は、モータ２、発光素子２
０、表示部３７及びメモリ４４に入力する。クロックパ
ルス発生器３６が発生するクロックパルスは、エンコー
ダ６の出力の周波数よりも高くなるように設定される。
上述した例では、 回転テーブル４の回転数Ｍ ＝毎秒５０回転 エンコーダ６の分割数Ｎ ＝１回転６０００分割 エンコーダ６の出力の周波数＝Ｍ×Ｎ ＝３００KHz となるから、クロックパルス発生器３６が発生するクロ
ックパルスは、３００KHz より大きい数MHz から数１０
MHz 程度に設定される。
【００１１】ＰＳＤ２５による位置検出は、垂直方向の
位置差が１００ミクロンメータであると、ＰＳＤ２５上
ではΔｄ＝２×１００ミクロンメータ×ｓｉｎθとな
る。θ＝２５°とすると、Δｄ＝８４．５２ミクロンメ
ータとなる。
位置差が１００ミクロンメータであると、ＰＳＤ２５上
ではΔｄ＝２×１００ミクロンメータ×ｓｉｎθとな
る。θ＝２５°とすると、Δｄ＝８４．５２ミクロンメ
ータとなる。
【００１２】制御演算部１０の演算は、図３のフローチ
ャート図に示すように、ステップＳ１において、回転テ
ーブル４を回転させてこれに載置された回転体Ｒを回転
させる。回転テーブル４は、水平垂直移動台により、照
射スポット位置が中心から周辺の方向へ、又はその逆方
向に移動するように、かつ半径ｒに対して反比例する速
度で移動される。従って照射スポットは、回転体Ｒを螺
旋的に等線速度で走査することとなる。ステップＳ２に
おいて、発光素子２０を発光させて回転体Ｒを照射す
る。ステップＳ３において、フォトマル２２によって散
乱反射光を読み込み、またクロックパルス計数値を読み
込む。ステップＳ４において、ＰＳＤ２５によって正反
射光及び受光位置を読み込む。ステップＳ５において、
その角度区分におけるフォトマル２２による散乱反射光
及びクロックパルス計数値の読み込み、及びＰＳＤ２５
による正反射光量及び受光位置の読み込みが終了したか
否かを判別する。ステップＳ５において読み込みが終了
していないと判別した場合は、ステップＳ３へ戻る。
ャート図に示すように、ステップＳ１において、回転テ
ーブル４を回転させてこれに載置された回転体Ｒを回転
させる。回転テーブル４は、水平垂直移動台により、照
射スポット位置が中心から周辺の方向へ、又はその逆方
向に移動するように、かつ半径ｒに対して反比例する速
度で移動される。従って照射スポットは、回転体Ｒを螺
旋的に等線速度で走査することとなる。ステップＳ２に
おいて、発光素子２０を発光させて回転体Ｒを照射す
る。ステップＳ３において、フォトマル２２によって散
乱反射光を読み込み、またクロックパルス計数値を読み
込む。ステップＳ４において、ＰＳＤ２５によって正反
射光及び受光位置を読み込む。ステップＳ５において、
その角度区分におけるフォトマル２２による散乱反射光
及びクロックパルス計数値の読み込み、及びＰＳＤ２５
による正反射光量及び受光位置の読み込みが終了したか
否かを判別する。ステップＳ５において読み込みが終了
していないと判別した場合は、ステップＳ３へ戻る。
【００１３】ステップＳ６において読み込みが終了した
と判別した場合に進むステップＳ６において、その角度
区分におけるフォトマル２２の最大受光量とその座標値
を読み込み、メモリ４４に記憶する。
と判別した場合に進むステップＳ６において、その角度
区分におけるフォトマル２２の最大受光量とその座標値
を読み込み、メモリ４４に記憶する。
【００１４】ステップＳ７において、その角度区分内が
１回転の最終角度区分であるか否かを判別する。ステッ
プＳ７においてその角度区分内が１回転の最終角度区分
でないと判別した場合、ステップＳ８に進み、ＰＳＤ２
５の出力によって回転体Ｒの位置調整及びスポット調整
を行う。仮に、測定中においてその回転体Ｒの歪みなど
により、回転体Ｒ上での照射スポットの垂直方向の高さ
が変化した場合、正反射光を受光するＰＳＤの受光位置
が変化する。この場合、この位置変化に基づき制御演算
部が集光レンズ２１を移動させ又は回転体Ｒを垂直方向
に移動させ、照射スポットが所定の高さにおいて回転体
Ｒを照射するように制御する。その結果、照射スポット
を回転体Ｒの適切な位置でかつ適切な形状を形成するこ
とができる。
１回転の最終角度区分であるか否かを判別する。ステッ
プＳ７においてその角度区分内が１回転の最終角度区分
でないと判別した場合、ステップＳ８に進み、ＰＳＤ２
５の出力によって回転体Ｒの位置調整及びスポット調整
を行う。仮に、測定中においてその回転体Ｒの歪みなど
により、回転体Ｒ上での照射スポットの垂直方向の高さ
が変化した場合、正反射光を受光するＰＳＤの受光位置
が変化する。この場合、この位置変化に基づき制御演算
部が集光レンズ２１を移動させ又は回転体Ｒを垂直方向
に移動させ、照射スポットが所定の高さにおいて回転体
Ｒを照射するように制御する。その結果、照射スポット
を回転体Ｒの適切な位置でかつ適切な形状を形成するこ
とができる。
【００１５】ステップ９において、クロックパルスの計
数値をリセットして、ステップＳ３へ戻る。ステップＳ
７においてその角度区分内が１回転の最終角度区分であ
ると判別した場合、ステップＳ１０において、ステップ
Ｓ６において検出した異物の角度区分及びその座標を表
示する。また、Ｓ１０においては、Ｓ４で検出したＰＳ
Ｄ２５の正反射光強度及びその受光位置に基づき、回転
体Ｒとして用いられるウエハに設けられたオリフラ又は
ノッチを検出する。例えば、回転体Ｒの中心方向から周
辺方向へ照射スポットを移動させて測定する場合、周辺
近傍でＰＳＤ２５の出力レベルが低下する角度範囲が現
れるので、これらの角度及び半径方向の距離でオリフラ
又はノッチの位置及び形状を特定することができる。
数値をリセットして、ステップＳ３へ戻る。ステップＳ
７においてその角度区分内が１回転の最終角度区分であ
ると判別した場合、ステップＳ１０において、ステップ
Ｓ６において検出した異物の角度区分及びその座標を表
示する。また、Ｓ１０においては、Ｓ４で検出したＰＳ
Ｄ２５の正反射光強度及びその受光位置に基づき、回転
体Ｒとして用いられるウエハに設けられたオリフラ又は
ノッチを検出する。例えば、回転体Ｒの中心方向から周
辺方向へ照射スポットを移動させて測定する場合、周辺
近傍でＰＳＤ２５の出力レベルが低下する角度範囲が現
れるので、これらの角度及び半径方向の距離でオリフラ
又はノッチの位置及び形状を特定することができる。
【００１６】ステップＳ１１において、測定終了するか
否かを判別する。測定終了でなければステップＳ３に戻
る。制御演算部１０の演算結果が記憶されるメモリ４４
においては、図５の記憶模式図に示すように、Ｘ軸に時
間、Ｙ軸に円周領域、Ｚ軸に最大受光量をとると、例え
ば、第ｎ円周領域：Ｙ( n ) 、第( ｎ＋5 ) 円周領域：
Ｙ( n ＋5 ) にそれぞれ強度Ｚ Ｚ、Ｚ’Ｚ’の異物が
記憶される。一方、メモリ４４は、各角度区分内におけ
るフォトマル２２のすべての受光量とその座標値を記憶
するように構成してもよい。
否かを判別する。測定終了でなければステップＳ３に戻
る。制御演算部１０の演算結果が記憶されるメモリ４４
においては、図５の記憶模式図に示すように、Ｘ軸に時
間、Ｙ軸に円周領域、Ｚ軸に最大受光量をとると、例え
ば、第ｎ円周領域：Ｙ( n ) 、第( ｎ＋5 ) 円周領域：
Ｙ( n ＋5 ) にそれぞれ強度Ｚ Ｚ、Ｚ’Ｚ’の異物が
記憶される。一方、メモリ４４は、各角度区分内におけ
るフォトマル２２のすべての受光量とその座標値を記憶
するように構成してもよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の回転体上異物位置座標測定装置
によれば、回転体の形状情報と回転体上の異物を同時に
検出して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物
の位置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体
の回転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して
行うことができる効果を有する。
によれば、回転体の形状情報と回転体上の異物を同時に
検出して、短時間に回転体の形状検出と回転体上の異物
の位置座標測定を高精度に行うことができ、かつ回転体
の回転中心軸線方向の位置合わせを上記測定と並行して
行うことができる効果を有する。
【図１】本発明の実施例の回転体上の異物の位置座標測
定装置の構成説明図である。
定装置の構成説明図である。
【図２】図１の制御演算部の処理回路ブロック図であ
る。
る。
【図３】制御演算回路のフローチャート図である。
【図４】メモリの記憶模式図である。
【００１７】
Ｒ 回転体 ０ 回転軸線 １ 回転体上異物位置座標測定装置 ２ モータ ４ 回転テーブル ６ エンコーダ １０ 制御演算部 １２ 水平垂直移動測定台 ２０ 発光素子 ２２ フォトマル ２４ 投影レンズ ２５ ＰＳＤ ３０ 第１Ａ／Ｄ変換部 ３１ 第２Ａ／Ｄ変換部 ３２ クロックパルス発生器 ３７ 表示部 ４４ メモリ
Claims (8)
- 【請求項１】 検査対象物を回転させて回転体とする回
転手段と、 回転体の回転位置を検出するための回転位置検出部と、 回転体を照射する照射光学系と、 回転体の正反射光を受光し、回転体の形状情報及び回転
中心軸線方向の位置を検出するための第１受光系と、 回転体の散乱反射光の光量を受光し、回転体上の異物を
検出するための第２受光系とを包含することを特徴とす
る回転体上異物位置測定装置。 - 【請求項２】 上記第１受光系が、回転体の回転軸線方
向の高さを検出することを特徴とする請求項１記載の回
転体上異物位置測定装置。 - 【請求項３】 上記第１受光系は、投影光学系を有し、
上記第１受光系の受光部と上記回転体が共役であること
を特徴とする請求項１記載の回転体上異物位置測定装
置。 - 【請求項４】 上記回転体がウエハであって、上記形状
情報がウエハのうねりであることを特徴とする請求項１
記載の回転体上異物位置測定装置。 - 【請求項５】 上記回転体がウエハであって、上記形状
情報がウエハのオリフラであることを特徴とする請求項
１記載の回転体上異物位置測定装置。 - 【請求項６】 上記回転体がウエハであって、上記形状
情報がウエハのノッチであることを特徴とする請求項１
記載の回転体上異物位置測定装置。 - 【請求項７】 上記回転体上異物位置測定装置が、さら
に回転体を水平垂直方向に位置調節するための水平垂直
移動測定台を有することを特徴とする請求項１記載の回
転体上異物位置測定装置。 - 【請求項８】 上記照射光学系が、合焦レンズを包含
し、照射スポットを調節するために該合焦レンズがボイ
スコイルによって駆動されることを特徴とする請求項１
記載の回転体上異物位置測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28070094A JP3593161B2 (ja) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | 回転体上異物位置測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-11-15 JP JP28070094A patent/JP3593161B2/ja not_active Expired - Lifetime
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