JPS6245143A - 円板物体の位置決め装置 - Google Patents

円板物体の位置決め装置

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JPS6245143A
JPS6245143A JP60183973A JP18397385A JPS6245143A JP S6245143 A JPS6245143 A JP S6245143A JP 60183973 A JP60183973 A JP 60183973A JP 18397385 A JP18397385 A JP 18397385A JP S6245143 A JPS6245143 A JP S6245143A
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JP
Japan
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wafer
notch
positioning
value
counter
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Application number
JP60183973A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Nakazato
博 中里
Takahiro Akamatsu
赤松 孝弘
Takashi Matsumura
松村 尊
Kenji Fukui
健司 福井
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[発明の属する分野] 本発明は、半導体ウェハ等の円板状物体の微小切欠きを
検出することによりこの円板状物体を所定の向きに位置
決めする装置に関する。本発明は、特に、マスクアライ
ナ等の露光装置やウエハプローバ等の測定装置、検査装
置等に対して半導体ウェハを載置する際に使用する位置
決め装置に適用して好適なものである。 [従来技術] 従来、この種の装置は、ウェハの周囲の一部に設けられ
た切欠きを用いて位置決めを行なうように構成されてい
る。普通、この切欠きは円板状のウェハの周囲を直線状
に切欠いたもので、オリエンテーションフラット(以下
、オリフラと呼ぶ)と呼ばれている。 オリフラを用いて位置決めする一例として、特開昭58
−18713号[円板物体の位置決め装置」に光電素子
を用いてウェハ端部変化を求め、その微分値によってオ
リフラの中心を求めて位置決めを行なう装置が示されて
いる。また、特開昭51−198642号「ウェハ位置
検出装置」には光電素子によってウェハ端部位置を各回
転位置で比較し、回転位置変化に対するウェハ端部位置
の極値を求めることによってウェハ位置を検出する装置
が示されている。 ところが、近年、オリフラに加えて微小切欠き(以下、
ノツチと呼ぶ)をもったウェハが出てきた。このノツチ
は、オリフラとともにウェハに備えられることが多い。 第7図は、オリフラおよびノツチを有するウェハの平面
図を示ず。同図において、21はウェハ、22はノツチ
、23はオリフラである。その場合、上記の二個の公知
例に係る装置では、ノツチとオリフラを区別することが
できずノツチ部での位置決めをすることは困難である。 また、第8図に示すように、両側にフォトセンサ25を
備えたビン24をウェハ21に押しつけなからウェハ2
1を回転し、ノツチにビン24が入って両方の7オトセ
ンサが同時に遮光されたとぎ、それを検出して位置決め
を行なう装置もある。しかし、この場合には、ビン24
および26を常に接触させなからウェハ21を回転する
必要があるため、ウェハ21に強い外力が加わることと
なる。従って、ウェハを破損しやすく、また高速にウェ
ハを回転することができないため位置決めに時間がかか
るという欠点があった。 [発明の目的] 本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、ノツチを備えた
ウェハ等の円板状物体においてノツチ部での高粘度な位
置決めを行なうことができ、その際、ウェハに加わる外
力を最小に抑えてウェハを破損することがなく、さらに
高速に位置決めを行なうことが可能な円板物体の位置決
め装置を提供することを目的とする。 [実施例の説明] 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。 第1図は、本発明の一実施例に係る位置決め装置の外観
を示す。同図において、1はウェハ、2はウェハ駆動ロ
ーラ、4はウェハ1を載置するテーブルである。テーブ
ル4はウェハ1を浮上させるためのエアベアリング機構
を持っており、さらに傾斜させることができる。5は全
体を保持する基台、6および7はウェハ1の最終位置決
め用押しつけローうである。この押しつけローラ6およ
び7は基台5に装備されており、押しつけ時は内側に、
その他のときは外側へ移動可能である。押しつけロー5
7の上部にはウェハ回転ローラ8が取付けである。この
ウェハ回転ローラ8は、テーブル4を傾斜させた場合に
ウェハ駆動ロー52とともにウェハ1を保持する。9は
ノツチセン1ツユニツトであり、微小切欠きが位置すべ
き所定箇所に配置されている。 第2図は、上記実施例の装置の要部の平面図および側面
図を示す。ここで、第2図aはテーブル4を傾斜させて
ノツチを検出している状態における平面図、第2図すお
よび第2図Cはともに第2図aの状態における側面図で
ある。特に、第2図すはノツチセンサユニット9の部分
を詳しく示し、第2図Cはウェハ駆動ローラ2の部分を
詳しく示す。また、第2図dおよび第2図eは、それぞ
れ、ノツチの検出が終了しテーブル4を水平にして機械
的な位置決めを行なう状態における平面図および側面図
を示す。 第2図において、10は照明光源、11は押しつけビン
、12は集光レンズ、101は光電素子である。 これらの部分はすべてノツチセンサユニット9に取付け
てあり、ノツチの検出時および機械的な位置決めのため
の押しつけ時は内側へ、その他の場合は外側へと移動可
能である。 照明光源10はウェハ1の端部(外周部)を下部より照
明するためのものであり、光電素子101はこれと対向
する上部に設けられている。この照明光源10より出た
光は集光レンズ12により集光される。この場合、ウェ
ハ端部における遮光の変化を光電素子101において正
確に検出するため、光はウェハ面上にて長手方向がウェ
ハの半径方向となるような長方形に集光される。光電素
子101および集光された光の長手方向の寸法はウェハ
の外径バラツギおよびノツチ、オリフラによる遮光の変
化を充分に満足りる寸法になっている。 第2図Cにおいて、114はパルスジェネレータ、11
5はウェハ1を回転するための駆動装置を構成づるモー
タである。このモータ115の回転軸には歯車14が取
付けられており、ウェハ駆動ローラ2に取付けられた歯
車15と噛合している。すなわち、モータ115を駆動
づ゛ることにより、ウェハ駆動ローラ2を回すことがで
きる。同時に歯車15はパルスジェネレータ114に取
付けられた歯車16と噛合している。これらのm m 
15#よび16とパルスジェネレータ114は、例えば
ウェハ駆動ローラ2が1回転すると、パルスジェネレー
タ114が600個のパルスを発生するというように適
当に選択されている。従って、パルスジェネレータ11
4のパルスをカウントすることによりウェハ駆動ローラ
2の回転mすなわらウェハの回転量を検出することかで
きる。 第3図は、本実施例の装置の制御系の構成を示すブロッ
ク図である。同図により、ウェハを回転しノツチを光電
検出する際の制御系の各部の機能を説明する。 まず、光電素子101より出力される光電流をプリアン
プ102により増幅する。これにより、光電素子101
で検出した光電の変化は電圧の変化に変換して出力され
る。この信号をピーク値検出回路104に入力し、信号
の最大値を検出する。次に、レベルシフタ122はこの
最大値信号を所定の値だけレベルシフトし、その結果を
コンパレータ103の一端へ入力する。コンパレータ1
03のもう一端には、プリアンプ102の出力信号が直
接入力されており、両者の大小に応じた信号出力がコン
パレータ103より得られる。レベルシフタ122のレ
ベルシフト量については後述する。 モータ115はウェハ駆動ローラ2を回転する動力とな
るものであり、スイッチ117によりモータ115の回
転の向きと速度すなわちウェハの回転速度を高速あるい
は低速逆回転の2段階に切換えることができる。モータ
115の回転はパルスジェネレータ114に伝えられ、
パルスジェネレータ114はウェハの回転に応じたパル
スを出力する。 カウンタ105はノツチを検出するために使用されるカ
ウンタである。アンドゲート121の作用により、コン
パレータ103の出力が゛(」″レベルの時のみ、パル
スジ、ネレータ114の出力パルスが力Cシフタ105
に入力され計数が行なわれる。コンパレータ106は、
このh1数値と設定3107に予め設定されている上限
値および上限値とをそれぞれ比較し、削数値がその上限
値と下限値の範囲内ならば計数を行なった時点に検知し
ていたウェハ端部にノツチが存在していたことを示す検
出信号を出力する。 アップダウンカウンタ1084.!ノツチの中心位置を
求めるために使用されるカウンタである。このアップダ
ウンカウンタ108へ入力されるパルスは、カウンタ1
05に入力されるパルスと同一のものであるが、スイッ
チ110を切換えることにJ:す、直接入力と1/2に
分周されたものとのいずれか一方を選択できる。また、
スイッチ110の切換信号は同時にアップダウンカウン
タ108のアップダウン切換も行なっている。すなわら
、力Cクンドアツブ時は1/2分周器を通したものを計
数し、カウントダウン時は直接計数を行なう。これは、
後述するようにノツチの中心に位置決めするためである
。アップダウンカウンタ108からは、カウントダウン
時、その値が零となったときにキャリー信号が出力され
る。 カウンタ111は、ウェハが1回転したことを検知する
ためのものである。カウンタ111は、パルスジェネレ
ータ114の出力パルスを計数する。設定器113には
、予めウェハが1回転した場合にパルスジェネレータ1
14が出力するパルス数よりも若干大きい値を設定して
おく。コンパレータ112は、このカウンタ111の値
と設定器113の設定値とを比較し、カウンタ111の
値の方が大きいとき1回転したことを承り検知信号を出
力する。 シーケンサ120は上記のカウンタ、モータ等の制御を
すべて行なう。 以上のような構成において、第1図〜第3図、第4図の
フローチャートおよび第5図のタイムチャートを参照し
ながら、ウェハを位置決めするまでの全体の動作につい
て説明する。なお、第5図a−gは、それぞれ第3図の
ブロック図のa−gの位置にお番プる電圧変化を示すタ
イムヂャートである。以下、これらの信号を、それぞれ
、信号a1信号b、・・・・・・、信号qと呼ぶ。また
、第5図a〜Qのタイムヂャートはすべて、時間を横軸
としている。この横軸は、ウェハが一定速度で回転して
いる間においては、ウェハの回転方向の位置を示す軸と
みなすこともできる。 まず、テーブル4を斜め位置にセットし、エアベアリン
グ機構によりエアフローを行なう。ノツチセンサユニッ
ト9、押しつけローラ6および7は最も内側となる位置
にセットしておく。この状態でウェハ1が搬入されテー
ブル4上に載置されると、エアベアリング効果によりウ
ェハ1は滑り、ウェハ回転ローラ8とウェハ駆動ローラ
2の両者に当って停止する(ステップ31 )。 次に、ピーク値検出回路104、カウンタ105および
アップダウンカウンタ111の内容を零にクリアし、ス
イッチ117を高圧VH側にしてウェハ1の高速回転を
行なう。このときウェハ1とウェハ駆動ローラ2の間の
スリップを防止するため、七−夕115の回転は急加速
や急減速をしないようにする。すなわら、モータ115
に対する印加電圧は徐々に昇圧し一定の電圧にもってい
く。モータ115の回転を止めるとぎも同様である。第
5図9は、このようななだらかな加減速駆動を行なうた
めにモータ115に与える電圧を示している。 このようにウェハ1を回転すると、その外周部のノツチ
およびオリフラにより、照明光源10から照光される光
の遮光1は変化する。その光は変化を充電素子101に
より電気信号の変化に変換する。 第5図aは、この電気信号をプリアンプ102により増
幅した後の信号aを示す。同図aにおいて、急激なピー
クはノツチ部分を示し、なだらかなピークはオリフラ部
分を示している。この信号aはピーク値検出回路104
により変化団の最大値(ピーク値)が検出される(ステ
ップ82)。 ウェハの回転mに応じたパルスジェネレータ114から
の出力パルスは、カウンタ111に入力し計数する。コ
ンパレータ112は、このカウンタ111の計数値と設
定器113に設定されている値とを比較する。前述した
ように、設定器113の設定値としては、ウェハが1回
転したときにパルスジェネレータ114から出力される
パルス数に若干のパルス数を加えた値を、予め設定して
おく。従って、ウェハが1回転以上すると、コンパレー
タ112より検知信号が出力され、これによりシーケン
サ120はウェハが1回転以上したことを検知する(ス
テップ83)。それと同時にシーケンサ120はカウン
タ111を再びクリアする。 この時点でシーケンサ120はピーク値検出回路104
の動作を停止し、ピーク値をホールドする。 第5図すは、ピーク値検出回路104の出力信号を示し
ている。このピーク値は、レベルシフタ122に入力さ
れ、あるレベルだけシフトダウンされる。 第5図Cのにおいて実線で示した信号が、レベルシフト
された信号Cを示している。このピーク値をレベルシフ
トした値が、以後、スライスレベルとしてノツチ検出に
用いられる(ステップ84)。 このノツチ検出の際には、後述するように、まず光電素
子101の出力とスライスレベルとを比較してその大小
関係を得、光電素子101の出力を2値化する。この2
値化の結果のパルスよりノツチおよびオリフラを検出す
る。従って、スライスレベルは、ウェハの外径バラツキ
にかかわらず、2値化により生成したパルスによりノツ
チやオリフラ部分の区別が可能となるような値である必
要があり、レベルシフト聞もそれに基づき設定する。 なお、ステップS3において、未だウェハが1回転して
いないと判別した場合は、再びステップS2に戻り1回
転するまで、ピーク値の検出をする。 さらに、ウェハの回転は続いており、上述のスライスレ
ベル(信号C)と光電素子101からの信号a(第5図
Cの点線部分)とをコンパレータ103により比較する
。このとき、ノツチやオリフラにより光電素子101の
出力レベルが増大し、スライスレベルを越えた間、コン
パレータ103は11 H11レベルを出力する。第5
図dは、このときのコンパレータ103の出力を示す。 この出力信号dはアントゲ−1−121に入力し、パル
スジェネレータ114からの出力パルスがカウンタ10
583よびアップダウンカウンタ108に加えられるの
を制御する。ずなわら、ノツチやオリフラが光電素子1
01の下を通過している間のみ、コンパレータ103の
出力は゛1H゛°レベルとなりアンドゲート121が開
くため、カウンタ105およびアップダウンカウンタ1
08が計数される。第5図eは、力tシフタ105の入
力信号を示す。 このとき、スイッチ110は1/2分周器109側にな
ってJ3す、アップダウンカウンタ108はカウントア
ツプ可能となっている。従って、パルスジェネレータ1
14から2パルス出力されるとアップダウンカウンタ1
08の内容は1カウントアツプする。第5図丁は、この
ときのアップダウンカウンタ108への入力を示ツ。信
号eのパルス部分が信号fでは半分のカウント数となっ
ている。 また、コンパレータ106は、カウンタ105の内容と
予め設定器107に設定された上限値および下限値とを
それぞれ比較する。この上限値はノツチが光電素子10
1の下を通過したときにカウンタ105に入力されるパ
ルス数に所定値を加えた値であり、下限値は同様に上記
のパルス数から所定値を減じた偵である。 ノツチまたはオリフラが光電素子101の下を通過した
後にアンドゲート121が閉じられるが、その際、カウ
ンタ105の内容が設定器107に予め設定された上記
の上限値および下限値の間に入っていればノツチと判断
される。[ノツチである]ことを示すコンパレータ10
6からの信号はシーケンサ120に入力し、シーケンサ
120はこれによりノツチを検出する(ステップ85)
。もし、ノツチが検出されるntgにコンパレータ11
2より1回転の検知信号が出力された場合は、ウェハが
1回転したにもかかわらずノツチがみつからなかったこ
とを示し、この場合は再びステップS2より繰返す。 なお、このとき、既に設定されているスライスレベルは
変更しないことにすれば、ステップ82〜S4のスライ
スレベルを決定する処理を再度行なう必要はない。従っ
て、この場合はステップS2に分岐するのでなく、ステ
ップS5のノツチ検出を繰返す51!l埋を行なう。 ステップS5でノツチが検出されると、シーケンナ12
0は第5図Qに示ずようにモータ115を減速停止し、
ウェハの回転を停止する。次にスイッチ117を低圧V
Lに切換えて、モータ115を低速逆転する。すなわち
、モータ115には今までと逆向きの電圧をかける(第
5図q)。これにより、光電素子101は先程下を通過
したノツチの後縁を検知する。このとき、スイッチ11
0はパルスジェネレータ114の出力パルスが直接アッ
プダウンカウンタ108に入力されるとなっており、ア
ップダウンカウンタ108はダウンカウント可能となっ
ている。ここで、アップダウンカウンタ108には、ノ
ツチが通過するときに発生したパルス数の1/2の値が
入っている。従って、ノツチの後縁を検知した時点より
、アップダウンカウンタ108の内容をパルスジェネレ
ータの出力で減算してゆき、アップダウンカウンタ10
8の内容が零となりキャリー信号が出力された時点で、
モータ115を停止する。これにより、ノツチの中心を
光電素子101の真下、すなわち押しつけビン11の位
置にすることができる(ステップS6)。 以上の手順でウェハのノツチの位置決めは行なうが、さ
らに高精度にθ位置決めおよびセンタリングを行なうた
め、機械的に押しつ(プ動作を行なう。 まず、上述のようなノツチの位置決めの後、ウェハ1を
テーブル4に吸着し固定する。次にノツチセン1ツユニ
ツト9、押しつけローラ6 a3よび7を外側へ動かす
。これは、テーブル4を水工にするときの妨げにはなら
ないようにするためである。 そうしておいて、テーブル4を水平にする。次に、押し
つけピン11をまずノツチ部に挿入する。挿入完了後、
ウェハを再びエアフローによりテーブル4上でエアベア
リングざぜる。そして、押しつけローラ6および7をウ
ェハに押しつ
【)ることにより、θ位置決めおよび中心
位16決めを行なう。第2図dおよびeは、以上のよう
な押しつけ動作の様子を示している。 次に、ウェハ1をテーブル4に吸着し固定した後、押し
つ(プビン11、押しつけローラ6および7を外側へ動
かしUtl放する(ステップ87)。 以上により、本装置での位置決め動作は完了し、ウェハ
は露光装置、検査装置等のウェハ設置台へ位置決めされ
た状態のまま搬出される。(ステップ88)。 本実施例によれば、ウェハを1回転した際の光電索子の
出力の最大値からスライスレベルを決定し、光電素子1
01の出力をこのスライスレベルと比較して2値化して
いる。従って、ノツチとオリフラの両省を備えたウェハ
であっても、ウェハの外径バラツキにかかわらず、安定
してノツチおよびオリフラを検出することができる。 また、ノツチかオリフラかの判別は、ウェハを駆動する
ウェハ駆動ローラ2と連動して回転するパルスジェネレ
ータ114からの出力パルスにより、2値化された結果
のパルスの【1】を計数し、その計:a値と予め設定さ
れた設定値とを比較することにより行なっている。この
計数値は、ウェハの回転速度とは無関係に常に一定値と
なるため、正確にノツチのみを検出することが可能であ
る。 さらに、上記の設定値をオリフラのパルス巾の計数値と
等しくなるように設定するだけで、ノツチではなくオリ
フラが検出できるという効果もある。 ウェハはスライスレベル検出時およびノツチ検出時まで
は高速で回転される。そして、ノツチが検出されると減
速停止し、次に低速で逆転し、ノツチの後縁が検出され
た時点から、予め求められた値だ(プバルスエンコーダ
のパルス数を計数し停止してノツチの中心の位置決めを
行なっている。 従って、比較的短時間で位置決めを行なうことができる
し、高速回転から減速停止するとぎにウェハとウェハ駆
動ローラ間でスリップが起っても影響が生じない。 さらに、本実施例では、ウェハを照光している照明光源
10より出た光は、集光レンズ12により、ウェハ面上
にて長手方向がウェハの半径方向となるような長方形に
集光されるため、この光を観測することでウェハの端部
の形状の変化を正確に得ることができ、正しく位置決め
を行なうことができる。 なお、このような集光レンズとして、シリンドリカルレ
ンズ等を用いれば、照明光源10から出た光を簡11に
長方形に集光することができる。第3図は、集光レンズ
としてシリンドリカルレンズを用いた位置決め装置のウ
ェハ端部検出系の斜視図である。 本実施例では、全体のシーケンス制御にシーケンリづ2
0を用いており、さらにウェハ1回転の検出、ノツチ判
定おにびノツチ中心検出等にそれぞれハードウェアによ
るカウンタヤコンバレータ、設定器を段1)でいるが、
これに限ることなく、マイクロコンピュータを使用する
こともできる。すなわち、シーケンス制御、ウェハ1回
転の検出、ノツチ判定およびノツチ中心検出等はマイク
ロコンピュータのソフトウェアとマイクロコンピュータ
に接続されたメモリ上のソフト的なカウンタにより行な
うこともできる。 また、本実施例においては、ウェハの端部の形状の変化
を検出する光電素子101としてフォトディテクタを使
用しているが、これはCODのようなフォトアレイでも
良いし、ITVのような1次元以上の光電素子に置き代
えても良い。ざらに、モータとしてパルスモータを使用
することもできる。このような場合、パルスエンコーダ
114は不要となる。 [発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、テーブルに載置
したウェハ等の円板物体の周囲に、その外周部に存在す
る微小切欠ぎに嵌合可能な第1部材と複数の位置決め用
第2部材とを設けており、円板物体の外周部の形状の変
化を光学的に検出し、検出した微小切欠きを所定箇所に
位置決めした後、上記第1または第2部材のうち少なく
とも1つを円板物体に押圧して曙械的に円板物体を位置
決めしているので、ノツチ部における高精度な位置決め
を行なうことができる。また、外力は円板物体を回転さ
せる際には加えず、最終段階の機械的位置決めのときの
み加える。従って、円板物体を破損することがなく、ざ
らにノツチを検出するまでは円板物体を高速で回転させ
ることができるので、比較的短時間で位置決めを行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る位置決め装置の外観
図、 第2図は、上記実施例の装置の平面図および側面図、 第3図は、上記実施例の装置の制御系を示すブ(コック
図、 第4図は、上記実施例の装置の動作のシーケンスを示す
フローチャート、 第5図は、第3図の各部の信号の波形を示すタイムヂV
−ト図、 第6図は、集光レンズとしてシリンドリカルレンズを用
いた位置決め装置のパノエハ喘部検出系の斜視図、 第7図は、ノツチおよびオリフラを備えたつ工への平面
図、 第8図は、ビンをウェハに押しつけながら位置決めを行
なう様子を示す!11而図面ある。 9:ノッチヒンサユニット、10:照明光源、12:集
光レンズ、 101:充電素子、102:ブリアンプ、
 103,106,112 :コンパレータ、104:
ビーク値検出回路、 105.108,111 :カウンタ、 107,11
3 :設定器、110.147 :スイ・ソチ、   
109:1/2分周器、114:バルスジ]−ネレータ
、115:モータ、116:ドライバ、     12
0:シーケンサ、122ニレベルシフタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、テーブルに載置した円板物体を回転させて、該円板
    物体の外周部に存在する微小切欠きを光学的に検出し、
    検出した微小切欠きを所定箇所に位置決めする円板物体
    の位置決め装置であつて、上記円板物体の周囲に上記微
    小切欠きに嵌合可能な第1部材と複数の位置決め用第2
    部材とを設け、 上記微小切欠きの上記所定箇所への位置決めの後、上記
    第1または第2部材のうち少なくとも1つを上記円板物
    体に押圧して機械的に円板物体を位置決めすることを特
    徴とする円板物体の位置決め装置。 2、前記テーブルが、傾斜可能であり、傾斜した状態で
    前記微小切欠きの前記所定箇所への位置決めを行ない、
    その後該テーブルを水平にして前記機械的位置決めを行
    なう特許請求の範囲第1項記載の円板物体の位置決め装
    置。
JP60183973A 1985-08-23 1985-08-23 円板物体の位置決め装置 Pending JPS6245143A (ja)

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JP60183973A JPS6245143A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 円板物体の位置決め装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003515947A (ja) * 1999-12-01 2003-05-07 シュテアク エルテーペー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 板状の基板を位置合わせするための装置および方法
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