JPS6136702B2 - - Google Patents

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JPS6136702B2
JPS6136702B2 JP4109879A JP4109879A JPS6136702B2 JP S6136702 B2 JPS6136702 B2 JP S6136702B2 JP 4109879 A JP4109879 A JP 4109879A JP 4109879 A JP4109879 A JP 4109879A JP S6136702 B2 JPS6136702 B2 JP S6136702B2
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JP
Japan
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motor
semiconductor wafer
rotary table
detection
detection point
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JP4109879A
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English (en)
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JPS55133551A (en
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Nobuyuki Akyama
Mitsuyoshi Koizumi
Yoshimasa Ooshima
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば半導体ウエハや撮像管面板等
の面板試料を検査する装置に関する。
まず従来の面板表面検査装置の概要を第1図に
より説明する。1は、回転台4上に固定された円
形の試料3の1点2について、例えば、この点に
対して光を照射し、その反射光を入射して欠陥検
査等を行う検出装置であり、該検出装置の検出出
力を分析することによつて試料の検査を行う。該
検出装置1は、静止部に固定されている。一方前
記回転台4は、駆動ねじを有する電動機9によ
り、ベース7上をX方向に移動させられるXテー
ズル6上に設置された支持体10に水平に、かつ
電動機5で回転させられるように装着されてい
る。この従来装置は、前記電動機5,9を定速で
それぞれ独立に回転させることにより回転台4を
回転させると同時に、該回転台4をX方向に移動
させ、これによつて第2図aに示すように検出点
軌跡としてら線11が得られるようにして、試料
3の全面の検査を行うように構成されている。
しかしながら、この従来装置には次のような問
題点がある。まず第1に、回転台4の回転角度を
Xテーブル6の送り量との関係が互いに独立であ
るため、外乱により回転台4の回転速度やXテー
ブル6の送り速度が乱された時に、検出点2の軌
跡が乱される可能性があつた。即ち外乱がない場
合には、第2図aの11に示すように、試料面上
の検出点の軌跡はピツチ間隔が一定のら線状にな
るが、外乱があると、同図bに示すように、外乱
を生じた時点で12aに示すように正規の軌跡か
ら外れ、軌跡12のピツチ間隔が不揃いになつて
しまう。このため、試料3の全面にわたつてまん
べんなく検査しえないことがある。第2に、回転
台4は定速で回転する電動機5で回転させられる
から、試料3の周辺近傍では走査速度が大であ
り、中心部に行くにつれて走査速度が小になり、
1つの試料の全面を走査する時間を長びかせる原
因となつている。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を
解決し、検出点の軌跡を試料面上でピツチ間隔が
一定の円弧状にし、かつ接線走査速度をほぼ一定
にさせて半導体ウエハ上に微小な異物等が存在す
るか否かについて半導体ウエハ異物検査装置を提
供するにある。
即ち本発明は、上記目的を達成するために、半
導体ウエハを載置し、その中心を回転中心として
回転する回転台と、該回転台上の半導体ウエハの
所定の検出点に傾斜させた方向からレーザ光を照
射するレーザ照射光学系、及び上記検出点からの
乱反射した光を受光して電気信号に変換する受光
手段を有する検出装置と、上記回転台の一回転を
検出する回転検出手段と、該回転検出手段の出力
信号に対応させて第1のモータを駆動して上記回
転台または検出装置を相対的に上記半導体ウエハ
の半径方向である一方向に一定距離移動させる直
線的送り手段と、上記回転台を回転駆動する第2
のモータと、上記直線的送り手段によつて得られ
る一方向移動量にもとづいて上記検出装置が検出
する検出点の半導体ウエハ中心からの半径を求
め、この半径に応じて上記検出点の線速度が一定
になる様に上記第2のモータへの駆動信号を形成
するモータ制御手段とを備え、上記検出装置が検
出する検出点の軌跡を上記半導体ウエハ上に半径
方向に等しい間隔で円弧状に形成して上記検出装
置は半導体ウエハの全表面に亘つて異物等が存在
するか否かについて安定に検査することを特徴と
する半導体ウエハ異物検査装置である。特にま
ず、検出点の軌跡をピツチ間隔一定のら線状にす
るために、回転台4の回転角を検出する角度検出
器を備えかつ第3図に示すようにXテーブル6を
駆動する電動機としてパルスモータ32を使用
し、角度検出器によつて得られる回転角情報を用
いて該パルスモータを駆動する。これによつて回
転台4の回転角度とXテーブル6の送り量の間に
は一定の関係を生じるので、ピツチ間隔一定のら
線を得ることができる。また、ら線の接続走査速
度を一定にするため、Xテーブル6の送り量から
Xテーブル6の位置を演算し、この値を用いて回
転台駆動用可変速モータ27の回転速度を制御す
る。即ち、第3図において、Xテーブル6の位置
をxで表し、xuを現在の検出位置、xcを試料
(回転台)の回転中心の位置とすると検出位置の
半径(回転中心0と検出点2との距離)rは、r
=xc−xoとなり、Xテーブルの位置xuを求めれ
ば、検出位置の半径rを求めることができ、この
半径rから、接続走査速度を一定とするための回
転台駆動用可変速モータ27の速度を一義的に決
定する。
次に本発明の具体例実施例を第4図により説明
する。第4図において、1は検出装置、2は回転
台4上に固定した試料3の検出点で、この例にお
ける検出装置1は、対物レンズ21、レーザ発振
器22、コンデンサレンズ23、ハーフミラー2
4及び検出器25からなり、検出点からの反射光
を検出器25で検出して欠陥検査を行う。回転台
4は、その軸4aが軸受19,20を介して支持
体10に回転自在に支持され、支持体10に取付
けられた可変速モータとしての直流モータ27の
出力軸に嵌着したブーリ20aと、回転台の軸4
aに嵌着したプーリ20bとにベルト28がかけ
られ、直流モータ27の回転により回転台4が回
転させられるようになつている。26は前記直流
モータ27の回転速度検出用タコジエネレータで
あり、これは回転速度に比例した電圧41を発生
する。29は回転台4上に試料を吸着固定するた
めに、軸4aに外嵌した環状体で、この内周に回
転台4とその軸4aに設けた孔31に連通する溝
を有し、かつ真空系に連通させる孔29bを有す
る。30は回転台4が所定の角度回転する毎にパ
ルスを発生させる角度検出器としてのロータリー
エンコーダである。
これらの装置を取付けた支持体10は、Xテー
ブル6上に固定され、該Xテーブル6はベース7
に固定されたパルスモータ32の駆動ねじ33と
螺合するねじ穴を有し、該駆動ねじ33の回転に
より図面上左右方向に移動させられるようになつ
ている。その移動方向は、検出点2と回転台4と
を結ぶ線の方向に一致する。35は電源34を有
するパルスモータ制御系であり、これは前記ロー
タリエンコーダ30の出力パルスを用いて前記X
テーブル駆動用のパルスモータ32を駆動するも
のである。
36〜40は前記回転台4駆動用直流モータ2
7を変速駆動すべく設けられたもので、36は前
記パルスモータ制御系55の出力パルス56を計
数するカウンタ、37は該計数値をアナログ信号
に変換するD/A変換器、40は電源39を有す
る直流モータ制御系で、該制御系には、前記タコ
ジエネレータ26の出力信号41と共に前記D/
A変換器37の出力信号38が入力されて両者が
等しくなるように直流モータ27の回転速度を制
御する。
次に前記パルスモータ制御系35と直流モータ
制御系40を具体例により説明する。初めにパル
スモータ制御系35について第5図により説明す
る。43は前記ロータリエンコーダ30の出力4
2を波形整する波形整形回路であり、この回路に
よつて矩形波44を得る。この信号を適当な数だ
け間引きし、この間引きされたパルスで前記パル
スモータ32を駆動したとすると、軌跡で描かれ
るら線のピツチ間隔は、間引きされるパルス数の
多少によつて決まり、間引き数が多い程、即ちロ
ータリエンコーダ30の出力パルスに比べてこれ
によつて得られるパルスモータ32の駆動パルス
が少ない程ピツチ間隔は小となる。カウンタ45
とアンドゲート46とはこのパルスの間引きを行
なうための回路で、この例ではカウンタ45の2
uの位の出力と23の位の出力との論理積をアンド
ゲート46でとることにより、アンドゲート46
の出力47にはロータリエンコーダ30の出力4
2の9パルス当り1回の割合で出力されるので、
8パルス間引きされた信号が得られる。49はこ
の間引きされたパルスを入力とし、該パルスによ
つてパルスモータ駆動信号50を作るパルスモー
タ駆動回路で、48はその電源、51はパルスモ
ータの励磁回路である。このように、このパルス
モータ制御系は、前記ロータリエンコーダ30の
出力パルスにを用いてXテーブル移動用パルスモ
ータ32を駆動することにより、回転台4の回転
角に呼応してXテーブル6を移動させるものであ
るから、検出点の軌跡としてピツチ間隔一定のら
線状のものが得られる。
次に前記直流モータ制御系40の具体例を、第
6図の回路図と第7図の動作図により説明する。
まず、第7図に示すように、前記パルスモータ3
2の駆動パルス数をnとし、Xテーブル6が第4
図の図面上左端、即ち初期位置(パルスモータ3
2始動前)イにあるときのパルス数をゼロとし、
ロに示すように途中位置まで移動するまでのパル
ス数をNとし、回転台4の中心が検出点2に一致
する時の駆動パルスをNcとする。第7図からわ
かるように、検出点2から回転台4の中心までの
半径rは、Xテーブル6の移動、即ち回転台4の
移動に伴つて次第に小となるが、Xテーブルの移
動距離はパルスモータ32の駆動パルス数に比例
することから、結局、半径rはパルス数の差
(Nc−N)に比例することになる。
このようなことを前提として第6図の回路は組
まれており、58は前記駆動パルス数Ncが初期
値としてセツトされ、前記パルスモータ制御系3
5からのパルスモータ駆動パルス56が入力され
るごとに1つずつ減算を行う減算カウンタ、60
は該減算カウンタ58の出力値(Nc−N)をア
ナログ電圧a(Nc−N)(aは定数)に変換する
D/A変換器、62は該D/A変換器出力電圧を
増幅して電圧ak(Nc−N)(kは定数)を得る増
幅器であり、この増幅器62の出力電圧は、前記
駆動パルス56が入力されるごとに、そのパルス
数に比例して減少するものとなり、この電圧ak
(Nc−N)が半径rをアナログで表示したものと
なる。vuは周速度、即ち接線走査速度を規定す
べく、図示しない回路で設定される電圧(一定)
で、65は前記ak(Nc−N)=rとvuとから、
直流モータ27への指令回転角速度ωi=vu
rを求めるアナログ除算器であり、その出力電圧
はリミツタ回路73を介して差動増幅器67にて
前記タコジエネレータ26の出力電圧ω(これは
直流モータ27の回転速度を表示する)と比較さ
れ、その差(ωi−ω)が増幅器68で増幅さ
れ、直流モータ27を駆動する。
この第6図の回路構成によれば、一定に設定さ
れた周波度電圧vuを半径rで除算することによ
り指令回転角速度電圧ωiを得ており、この指令
電圧に対してタコジエネレータ26の出力電圧が
一致するようにフイードバツクさせているので、
結局ωi=ωとなる制御がなされ、半径rの減少
に伴つて直流モータ27は昇速されて検出点軌跡
の接線走査速度は一定となる。なお、(Nc−N)
=0となると、r=ak(Nc−N)はゼロとな
り、指令回転角速度電圧ωiが原理的に無限大と
なるので、リミツタ回路73でこれを防いでい
る。
このように、接線走査速度を一定化することに
より、試料の全面にわたつて常に高速で走査する
ことが可能になる。また、例えば外乱によつて直
流モータ27又はパルスモータ32による回転速
度又は送り速度が乱されたとしても、これらの速
度のうちの一方の外乱による変動が他方にも及ぶ
ため、結局ピツチ間隔は一定に保たれる。
本発明は、半導体ウエハや撮像管面板などの円
形面板試料に適用した場合に最大の効果が得られ
る。また、本発明者らは、既に、ウエハ上の異物
検査を行うものとして、ウエハの中央を中心とし
て少くとも周囲4方向の斜め上方よりX方向とY
方向とを交互に切換えてS偏光レーザ光をウエハ
上に照射し、X方向にS偏光レーザ光を照射した
とき、ウエハ上から得られる乱反射光を検出装置
1に備えたS偏光カツトフイルタを通してP偏光
レーザ成分だけを光電変換素子で受光し、Y方向
にS偏光レーザ光を照射したときウエハ上から得
られる乱反射光を検出装置1に備えたP偏光カツ
トフイルタを通してS偏光レーザ成分を別の光電
変換素子で受光し夫々のとき光電変換素子から得
られる出力を加算してウエハ上に異物が存在する
か否かを検査するものを開発し提案したが、この
ような異物検査に本発明を適用することにより、
検査時間短縮の面で飛躍的に性能を向上させるこ
とができる。
なお、実施例においては、パルスモータ32駆
動パルスを直流モータ27の制御系に加えること
としたがXテーブル6の変位量を計測する系を有
する場合は、その出力をモータ27の制御系に伝
達するようにしてもよい。
以上述べたように、本発明においては、面板の
回転角度を検出する角度検出器と、該角度検出器
によつて得られる回転角情報によつて駆動され、
回転台を一方向に移動させるパルスモータと、回
転台を回転させる可変速モータと、回転台の一方
向移動に関する送り量情報から前記可変速モータ
の駆動信号として、検出点の軌跡の周速度が一定
になるような信号を得るモータ制御系とを備えた
ので、外乱がある場合でも検出点の軌跡がピツチ
一定のら線になり、試料面全面にわたつて見逃し
なく検査ができる。また周速度が一定であるか
ら、従来のように中心部では周速が低下し、検出
器の性能を十分に生かせないということがなくな
り、検査時間の大幅短縮が達成される。具体的に
は、例えば従来検査時間に3分を要していたもの
が、本発明によればこれを30秒程度に短縮するこ
とが可能となつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の面板駆動装置を示す斜視図、第
2図a,bは検出点の軌跡の説明図、第3図a,
bはそれぞれ本発明の原理説明に供する回転台の
平面図及び回転台駆動装置の概略側面図、第4図
は本発明による面板検査装置の一実施例を示す構
成図、第5図は該実施例におけるパルスモータ駆
動回路の一例を示す回路図、第6図は該実施例に
おける直流モータ制御回路の一例を示す回路図、
第7図は第6図の回路の動作説明図である。 1……検出装置、2……検出点、3……試料、
4……回転台、6……Xテーブル、7……ベー
ス、27……タコジエネレータ、27……回転台
駆動用直流モータ、30……ロータリエンコー
ダ、32……パルスモータ、36……カウンタ、
37……D/A変換器、40……直流モータ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体ウエハを載置し、その中心を回転中心
    として回転する回転台と、該回転台上の半導体ウ
    エハの所定の検出点に傾斜させた方向からレーザ
    光を照射するレーザ照射光学系、及び上記検出点
    からの乱反射した光を受光して電気信号に変換す
    る受光手段を有する検出装置と、上記回転台の一
    回転を検出する回転検出手段と、該回転検出手段
    の出力信号に対応させて第1のモータを駆動して
    上記回転台または検出装置を相対的に上記半導体
    ウエハの半径方向である一方向に一定距離移動さ
    せる直線的送り手段と、上記回転台を回転駆動す
    る第2のモータと、上記直線的送り手段によつて
    得られる一方向移動量にもとづいて上記検出装置
    が検出する検出点の半導体ウエハ中心からの半径
    を求め、この半径に応じて上記検出点の線速度が
    一定になる様に上記第2のモータへの駆動信号を
    形成するモータ制御手段とを備え、上記検出装置
    が検出する検出点の軌跡を上記半導体ウエハ上に
    半径方向に等しい間隔で円弧状に形成することを
    特徴とする半導体ウエハ異物検査装置。
JP4109879A 1979-04-06 1979-04-06 Device for driving circular face plate Granted JPS55133551A (en)

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JPS55133551A JPS55133551A (en) 1980-10-17
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JPS60220940A (ja) * 1983-05-20 1985-11-05 Hitachi Ltd 異物自動検査装置
JPS63122936A (ja) * 1986-11-13 1988-05-26 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 面板欠陥検出信号のサンプリング方法およびサンプリング装置
JPS63122937A (ja) * 1986-11-13 1988-05-26 Hitachi Electronics Eng Co Ltd レーザスポットによる面板走査方法および面板走査制御装置
JP4646520B2 (ja) * 2004-01-09 2011-03-09 オリンパス株式会社 3次元形状測定方法及び装置

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