JPH0712747A - 薄膜付きディスク表面検査方法及びその装置 - Google Patents
薄膜付きディスク表面検査方法及びその装置Info
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- JPH0712747A JPH0712747A JP15492193A JP15492193A JPH0712747A JP H0712747 A JPH0712747 A JP H0712747A JP 15492193 A JP15492193 A JP 15492193A JP 15492193 A JP15492193 A JP 15492193A JP H0712747 A JPH0712747 A JP H0712747A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、薄膜付きディスクの欠陥を薄膜の
干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に検出するこ
とを目的とする。 【構成】 薄膜付きディスク５の半径方向にレーザ光を
走査し、ディスク全面を走査するため薄膜付きディスク
５を回転させ、レーザ光による薄膜付きディスク５から
の膜厚干渉反射光を電気信号に変換し、半径方向への少
なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査分の電気
信号とを比較し、その比較結果を基に薄膜付きディスク
５の欠陥を検出することを特徴とする。
干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に検出するこ
とを目的とする。 【構成】 薄膜付きディスク５の半径方向にレーザ光を
走査し、ディスク全面を走査するため薄膜付きディスク
５を回転させ、レーザ光による薄膜付きディスク５から
の膜厚干渉反射光を電気信号に変換し、半径方向への少
なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査分の電気
信号とを比較し、その比較結果を基に薄膜付きディスク
５の欠陥を検出することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜付きディスク表面
検査方法及びその装置に関する。
検査方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜付きディスク表面検査装置と
しては、例えば図５に示すようなものがある。レーザ投
光器２１により薄膜付きディスク２２にレーザ光が照射
される。このとき薄膜付きディスク２２はディスク回転
テーブル２３により回転されるとともに１軸テーブル２
４により半径方向に移動されてレーザ光が薄膜付きディ
スク２２の全面にスパイラル走査されるようになってい
る。薄膜付きディスク２２からの反射光はハーフミラー
２５で折り返され光電変換器２６で受光されて電気信号
に変換される。そして、その電気信号が信号処理装置２
７で処理されて薄膜付きディスク２２の欠陥が検出され
る。
しては、例えば図５に示すようなものがある。レーザ投
光器２１により薄膜付きディスク２２にレーザ光が照射
される。このとき薄膜付きディスク２２はディスク回転
テーブル２３により回転されるとともに１軸テーブル２
４により半径方向に移動されてレーザ光が薄膜付きディ
スク２２の全面にスパイラル走査されるようになってい
る。薄膜付きディスク２２からの反射光はハーフミラー
２５で折り返され光電変換器２６で受光されて電気信号
に変換される。そして、その電気信号が信号処理装置２
７で処理されて薄膜付きディスク２２の欠陥が検出され
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】薄膜付きディスクにレ
ーザ光を照射すると、薄膜表面での反射と薄膜を透過し
てその下面での反射とで干渉が発生する。膜厚の僅かな
変化は干渉による受光光量の増減を伴い、図６（ａ）に
示すように光電変換器による電気信号の信号レベルが上
下する。このため、欠陥を電気信号より二値化検出しよ
うとすると薄膜の干渉の影響による信号変化よりも大き
くなければ検出できない。例えば、図６（ｂ）におい
て、欠陥信号（２）は検出されるが、欠陥信号（１），
（３）は検出できない。また、スパイラル走査による全
面走査において、回転速度を一定とした場合、欠陥の発
生する場所により欠陥信号の周波数が変化する。即ち、
内周側では周波数が低くなる。信号処理装置の周波数特
性より、欠陥が小さい場合、信号周波数が高くなるが、
上記のような僅かな周波数変化で欠陥信号の信号値が変
化して、その欠陥検出が困難となる場合がある。さら
に、干渉による電気信号の振幅の周波数帯と同様の周波
数信号を発生する欠陥で、振幅も干渉信号より小さい場
合は検出することが困難となる。
ーザ光を照射すると、薄膜表面での反射と薄膜を透過し
てその下面での反射とで干渉が発生する。膜厚の僅かな
変化は干渉による受光光量の増減を伴い、図６（ａ）に
示すように光電変換器による電気信号の信号レベルが上
下する。このため、欠陥を電気信号より二値化検出しよ
うとすると薄膜の干渉の影響による信号変化よりも大き
くなければ検出できない。例えば、図６（ｂ）におい
て、欠陥信号（２）は検出されるが、欠陥信号（１），
（３）は検出できない。また、スパイラル走査による全
面走査において、回転速度を一定とした場合、欠陥の発
生する場所により欠陥信号の周波数が変化する。即ち、
内周側では周波数が低くなる。信号処理装置の周波数特
性より、欠陥が小さい場合、信号周波数が高くなるが、
上記のような僅かな周波数変化で欠陥信号の信号値が変
化して、その欠陥検出が困難となる場合がある。さら
に、干渉による電気信号の振幅の周波数帯と同様の周波
数信号を発生する欠陥で、振幅も干渉信号より小さい場
合は検出することが困難となる。
【０００４】本発明は、上記に鑑みてなされたもので、
薄膜付きディスクの欠陥を薄膜の干渉の影響を受けるこ
となく確実かつ高速に検出することができる薄膜付きデ
ィスク表面検査方法及びその装置を提供することを目的
とする。
薄膜付きディスクの欠陥を薄膜の干渉の影響を受けるこ
となく確実かつ高速に検出することができる薄膜付きデ
ィスク表面検査方法及びその装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、第１に、被検査対象である薄膜付きディ
スクの半径方向にレーザ光を走査し、該薄膜付きディス
クの全面を走査するため当該薄膜付きディスクを回転さ
せ、前記レーザ光による前記薄膜付きディスクからの膜
厚干渉反射光を電気信号に変換し、前記半径方向への少
なくとも１走査分の前記電気信号と次の同数の走査分の
前記電気信号とを比較し、その比較結果を基に前記薄膜
付きディスクの欠陥を検出することを要旨とする。
に、本発明は、第１に、被検査対象である薄膜付きディ
スクの半径方向にレーザ光を走査し、該薄膜付きディス
クの全面を走査するため当該薄膜付きディスクを回転さ
せ、前記レーザ光による前記薄膜付きディスクからの膜
厚干渉反射光を電気信号に変換し、前記半径方向への少
なくとも１走査分の前記電気信号と次の同数の走査分の
前記電気信号とを比較し、その比較結果を基に前記薄膜
付きディスクの欠陥を検出することを要旨とする。
【０００６】第２に、被検査対象である薄膜付きディス
クの半径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄
膜付きディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光
による前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受
光して電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換
手段で変換された前記半径方向への少なくとも１走査分
の電気信号と次の同数の走査分の電気信号とを比較し、
その比較結果を基に前記薄膜付きディスクの欠陥を検出
する信号処理手段とを有することを要旨とする。
クの半径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄
膜付きディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光
による前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受
光して電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換
手段で変換された前記半径方向への少なくとも１走査分
の電気信号と次の同数の走査分の電気信号とを比較し、
その比較結果を基に前記薄膜付きディスクの欠陥を検出
する信号処理手段とを有することを要旨とする。
【０００７】第３に、被検査対象である薄膜付きディス
クの半径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄
膜付きディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光
による前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受
光して電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換
手段で変換された電気信号から一定周波数以上の信号を
検出することにより薄膜付きディスクの微小欠陥を検知
する信号処理手段とを有することを要旨とする。
クの半径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄
膜付きディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光
による前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受
光して電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換
手段で変換された電気信号から一定周波数以上の信号を
検出することにより薄膜付きディスクの微小欠陥を検知
する信号処理手段とを有することを要旨とする。
【０００８】
【作用】上記構成において、第１に、薄膜付きディスク
表面からの反射光は、膜厚による干渉で光量が増減し、
光電変換された電気信号は一定の振幅で振動する。薄膜
に歪欠陥があると膜厚変化が良品部分より大きくなり、
振幅信号が出力されない場合がある。この場合、半径方
向への少なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査
分の電気信号とを比較し、その信号差分をとると歪欠陥
のある部分に振幅信号が現われるので、この振幅信号か
ら薄膜の干渉の影響を受けることなく確実に欠陥を検出
することが可能となる。
表面からの反射光は、膜厚による干渉で光量が増減し、
光電変換された電気信号は一定の振幅で振動する。薄膜
に歪欠陥があると膜厚変化が良品部分より大きくなり、
振幅信号が出力されない場合がある。この場合、半径方
向への少なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査
分の電気信号とを比較し、その信号差分をとると歪欠陥
のある部分に振幅信号が現われるので、この振幅信号か
ら薄膜の干渉の影響を受けることなく確実に欠陥を検出
することが可能となる。
【０００９】第２に、薄膜付きディスクの半径方向にレ
ーザ光を走査する走査手段、薄膜付きディスクを回転さ
せる回転手段、薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光
を電気信号に変換する光電変換手段、その電気信号から
欠陥検出処理を行う信号処理手段とを具備させることに
より、上記第１の歪欠陥の検出が適切に実現される。
ーザ光を走査する走査手段、薄膜付きディスクを回転さ
せる回転手段、薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光
を電気信号に変換する光電変換手段、その電気信号から
欠陥検出処理を行う信号処理手段とを具備させることに
より、上記第１の歪欠陥の検出が適切に実現される。
【００１０】第３に、薄膜の微小欠陥は、振幅信号上に
高周波の点状欠陥信号として現われる。この欠陥信号を
ハイパスフィルタ等で取出すことにより、微小欠陥の検
知が可能となる。
高周波の点状欠陥信号として現われる。この欠陥信号を
ハイパスフィルタ等で取出すことにより、微小欠陥の検
知が可能となる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１乃至図５に基づ
いて説明する。まず、図１及び図２を用いて、本実施例
の基本的構成及び作用を説明する。図１においてレーザ
光源１からのレーザ光がポリゴンミラー３と投光レンズ
４からなる走査手段としての走査光学系２により薄膜付
きディスク５の半径方向に走査されるようになってい
る。薄膜付きディスク５からの反射光は受光レンズ８を
介して光電変換手段としての光電変換器１０により受光
され、電気信号に変換される。そして、この電気信号が
信号処理手段としての信号処理装置１１で処理されて薄
膜付きディスク５の欠陥が検出されるようになってい
る。６は回転手段としての回転テーブルであり、薄膜付
きディスク５は全面検査をするためにこの回転テーブル
６で回転される。上記のように、レーザ光は薄膜付きデ
ィスク５の半径方向に走査されるため、光電変換器１０
から出力される電気信号の信号幅（周期）は一定とな
り、信号処理装置１１での比較演算等の信号処理が容易
となる。
いて説明する。まず、図１及び図２を用いて、本実施例
の基本的構成及び作用を説明する。図１においてレーザ
光源１からのレーザ光がポリゴンミラー３と投光レンズ
４からなる走査手段としての走査光学系２により薄膜付
きディスク５の半径方向に走査されるようになってい
る。薄膜付きディスク５からの反射光は受光レンズ８を
介して光電変換手段としての光電変換器１０により受光
され、電気信号に変換される。そして、この電気信号が
信号処理手段としての信号処理装置１１で処理されて薄
膜付きディスク５の欠陥が検出されるようになってい
る。６は回転手段としての回転テーブルであり、薄膜付
きディスク５は全面検査をするためにこの回転テーブル
６で回転される。上記のように、レーザ光は薄膜付きデ
ィスク５の半径方向に走査されるため、光電変換器１０
から出力される電気信号の信号幅（周期）は一定とな
り、信号処理装置１１での比較演算等の信号処理が容易
となる。
【００１２】信号処理装置１１では、図２に示すような
信号処理が行われる。図２（ａ）のａ１に示すように、
薄膜付きディスク５上に点状欠陥１８ａ及び歪欠陥１８
ｂがあるとする。半径方向へのレーザ光走査位置１９が
良品部上にあるとき、検出された電気信号ａ２は、薄膜
の干渉により一定振幅の振動信号となる。この振幅部の
中心レベルで二値化するとａ３に示すような二値化信号
が得られる。この二値化信号をカウントすることによ
り、薄膜の膜厚の差が得られる。また、半径方向に時間
分割してカウントすることにより、膜厚変化が得られ
る。図２（ｂ）のｂ１に示すように、レーザ光走査位置
１９が点状欠陥１８ａ上にあるとき、ｂ２の電気信号に
示すように、高周波の点状欠陥信号が振幅信号上に現わ
れる。この電気信号をハイパスフィルタを通過させる
と、ｂ３に示すように、点状欠陥信号のみが得られ、容
易に二値化検出することが可能となる。また、図２
（ｃ）のｃ１に示すように、レーザ光走査位置１９が歪
欠陥１８ｂ上にあるとき、ｃ２の電気信号に示すよう
に、歪欠陥位置に相当する部分の振幅の様相が変る。こ
の場合には、このｃ２の電気信号と、前記ａ２の良品部
の電気信号とを比較し、その信号差分をとることによ
り、歪欠陥部を検出する。
信号処理が行われる。図２（ａ）のａ１に示すように、
薄膜付きディスク５上に点状欠陥１８ａ及び歪欠陥１８
ｂがあるとする。半径方向へのレーザ光走査位置１９が
良品部上にあるとき、検出された電気信号ａ２は、薄膜
の干渉により一定振幅の振動信号となる。この振幅部の
中心レベルで二値化するとａ３に示すような二値化信号
が得られる。この二値化信号をカウントすることによ
り、薄膜の膜厚の差が得られる。また、半径方向に時間
分割してカウントすることにより、膜厚変化が得られ
る。図２（ｂ）のｂ１に示すように、レーザ光走査位置
１９が点状欠陥１８ａ上にあるとき、ｂ２の電気信号に
示すように、高周波の点状欠陥信号が振幅信号上に現わ
れる。この電気信号をハイパスフィルタを通過させる
と、ｂ３に示すように、点状欠陥信号のみが得られ、容
易に二値化検出することが可能となる。また、図２
（ｃ）のｃ１に示すように、レーザ光走査位置１９が歪
欠陥１８ｂ上にあるとき、ｃ２の電気信号に示すよう
に、歪欠陥位置に相当する部分の振幅の様相が変る。こ
の場合には、このｃ２の電気信号と、前記ａ２の良品部
の電気信号とを比較し、その信号差分をとることによ
り、歪欠陥部を検出する。
【００１３】次に、図３及び図４を用いて、本実施例の
構成及び作用をさらに詳細に説明する。図３に示すよう
に、検出ユニット１５内に、レーザ光源１の電源である
高電圧ユニット１３、走査光学系２、投受光ミラーボッ
クス７、受光レンズ８、ミラー９及び光電変換器１０が
収納されている。走査光学系２で走査されたレーザ光は
投光レンズ４と投受光ミラーボックス７内の投受光ミラ
ーを介して薄膜付きディスク５の表面に同一スポット
径、同一入射角で照射されるようになっている。薄膜付
きディスク５は、全面検査のために回転テーブル６によ
り１回転以上回転される。１４は検出ユニット１５内の
各ユニットと信号処理装置１１に電力を供給する電源装
置、１２は信号処理装置１１とともに電気信号を処理し
て良否判定等を行うマイコンである。また、薄膜付きデ
ィスク５のローダ・アンローダとしてワーク移載ロボッ
ト１６とカセット１７が備えられている。ワーク移載ロ
ボット１６はカセット１７から薄膜付きディスク５を抜
き取って回転テーブル６上にセットし、検査終了後に、
その薄膜付きディスク５を回転テーブル６上からカセッ
ト１７に収納するようになっている。この場合、ＯＫ及
びＮＧ用のカセットを用意して検査結果により薄膜付き
ディスク５を振り分けてもよい。
構成及び作用をさらに詳細に説明する。図３に示すよう
に、検出ユニット１５内に、レーザ光源１の電源である
高電圧ユニット１３、走査光学系２、投受光ミラーボッ
クス７、受光レンズ８、ミラー９及び光電変換器１０が
収納されている。走査光学系２で走査されたレーザ光は
投光レンズ４と投受光ミラーボックス７内の投受光ミラ
ーを介して薄膜付きディスク５の表面に同一スポット
径、同一入射角で照射されるようになっている。薄膜付
きディスク５は、全面検査のために回転テーブル６によ
り１回転以上回転される。１４は検出ユニット１５内の
各ユニットと信号処理装置１１に電力を供給する電源装
置、１２は信号処理装置１１とともに電気信号を処理し
て良否判定等を行うマイコンである。また、薄膜付きデ
ィスク５のローダ・アンローダとしてワーク移載ロボッ
ト１６とカセット１７が備えられている。ワーク移載ロ
ボット１６はカセット１７から薄膜付きディスク５を抜
き取って回転テーブル６上にセットし、検査終了後に、
その薄膜付きディスク５を回転テーブル６上からカセッ
ト１７に収納するようになっている。この場合、ＯＫ及
びＮＧ用のカセットを用意して検査結果により薄膜付き
ディスク５を振り分けてもよい。
【００１４】信号処理装置１１及びマイコン１２では、
図６に示すような信号処理及びデータ処理が行われる。
図６（ａ）はレーザ光が良品部上を半径方向に走査され
たときの電気信号である。この電気信号から欠陥信号を
検出するため、信号処理装置１１により次のような処理
が行われる。図６（ｂ）に示すように、薄膜の干渉によ
る信号振幅より信号変化の大きい欠陥信号は二値化レベ
ルＶ１，Ｖ２を信号の上下に設けて、これと比較するこ
とにより容易に検出される。図６（ｃ）に示すように、
薄膜表面の歪欠陥では、膜厚変化が良品部より大きく、
振幅信号が出力されない場合がある。このような欠陥を
検出するためには、半径方向への１走査分あるいは複数
走査分の電気信号と、次のディスク表面上位置の１走査
分あるいは複数走査分の電気信号とが比較される。各電
気信号は、信号メモリに格納されて比較（信号差分）さ
れ、その比較結果の信号に対し、二値化レベルを設けて
欠陥が検出される。内周方向に信号変化がゆるやかな場
合は、ある走査と次走査の電気信号を比較せず、数走査
間引いた後の走査信号と比較する場合もある。図６
（ｄ）に示すように、欠陥が小さく、その欠陥の信号周
波数が高いときは、高周波通過フィルタ（ハイパスフィ
ルタ）により、欠陥信号のみを取り出すことができ、そ
の取り出した欠陥信号に対し、二値化レベルを設けて欠
陥が検出される。図６（ｅ）に示すように、薄膜の干渉
による振幅信号に対し、二値化レベルＶ３を設けて二値
化する。このとき振幅信号に微小欠陥、ノイズ信号が含
まれるときは、ローパスフィルタでこれらの微小欠陥等
を除去した後に、二値化レベルを設けて二値化する。そ
して、この二値化した信号をカウントすることにより半
径方向の膜厚差が求められる。また、半径方向への走査
内を分割し、その各部分でカウントあるいは、次のカウ
ントまでの長さを測定することにより、膜厚変化を検出
することができる。さらに薄膜付きディスク全面の膜厚
変化は、信号を画像メモリに格納して、円周方向に振幅
信号の稜を追跡することにより、その稜線の膜厚の等厚
線をとり、求めることができる。
図６に示すような信号処理及びデータ処理が行われる。
図６（ａ）はレーザ光が良品部上を半径方向に走査され
たときの電気信号である。この電気信号から欠陥信号を
検出するため、信号処理装置１１により次のような処理
が行われる。図６（ｂ）に示すように、薄膜の干渉によ
る信号振幅より信号変化の大きい欠陥信号は二値化レベ
ルＶ１，Ｖ２を信号の上下に設けて、これと比較するこ
とにより容易に検出される。図６（ｃ）に示すように、
薄膜表面の歪欠陥では、膜厚変化が良品部より大きく、
振幅信号が出力されない場合がある。このような欠陥を
検出するためには、半径方向への１走査分あるいは複数
走査分の電気信号と、次のディスク表面上位置の１走査
分あるいは複数走査分の電気信号とが比較される。各電
気信号は、信号メモリに格納されて比較（信号差分）さ
れ、その比較結果の信号に対し、二値化レベルを設けて
欠陥が検出される。内周方向に信号変化がゆるやかな場
合は、ある走査と次走査の電気信号を比較せず、数走査
間引いた後の走査信号と比較する場合もある。図６
（ｄ）に示すように、欠陥が小さく、その欠陥の信号周
波数が高いときは、高周波通過フィルタ（ハイパスフィ
ルタ）により、欠陥信号のみを取り出すことができ、そ
の取り出した欠陥信号に対し、二値化レベルを設けて欠
陥が検出される。図６（ｅ）に示すように、薄膜の干渉
による振幅信号に対し、二値化レベルＶ３を設けて二値
化する。このとき振幅信号に微小欠陥、ノイズ信号が含
まれるときは、ローパスフィルタでこれらの微小欠陥等
を除去した後に、二値化レベルを設けて二値化する。そ
して、この二値化した信号をカウントすることにより半
径方向の膜厚差が求められる。また、半径方向への走査
内を分割し、その各部分でカウントあるいは、次のカウ
ントまでの長さを測定することにより、膜厚変化を検出
することができる。さらに薄膜付きディスク全面の膜厚
変化は、信号を画像メモリに格納して、円周方向に振幅
信号の稜を追跡することにより、その稜線の膜厚の等厚
線をとり、求めることができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第１に、薄膜付きディスクの半径方向にレーザ光を走査
し、ディスク全面を走査するため薄膜付きディスクを回
転させ、レーザ光による薄膜付きディスクからの膜厚干
渉反射光を電気信号に変換し、半径方向への少なくとも
１走査分の電気信号と次の同数の走査分の電気信号とを
比較し、その比較結果を基に薄膜付きディスクの欠陥を
検出するようにしたため、歪欠陥のように膜厚変化が良
品部より大きく、その欠陥部分に振幅信号が出力されな
い場合でも、比較結果の信号差分には、歪欠陥のある部
分のみに振幅信号が現われるので、この信号差分から薄
膜の干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に薄膜付
きディスクの欠陥を検出することができる。
第１に、薄膜付きディスクの半径方向にレーザ光を走査
し、ディスク全面を走査するため薄膜付きディスクを回
転させ、レーザ光による薄膜付きディスクからの膜厚干
渉反射光を電気信号に変換し、半径方向への少なくとも
１走査分の電気信号と次の同数の走査分の電気信号とを
比較し、その比較結果を基に薄膜付きディスクの欠陥を
検出するようにしたため、歪欠陥のように膜厚変化が良
品部より大きく、その欠陥部分に振幅信号が出力されな
い場合でも、比較結果の信号差分には、歪欠陥のある部
分のみに振幅信号が現われるので、この信号差分から薄
膜の干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に薄膜付
きディスクの欠陥を検出することができる。
【００１６】第２に、薄膜付きディスクの半径方向にレ
ーザ光を走査する走査手段と、薄膜付きディスクを回転
させる回転手段と、薄膜付きディスクからの膜厚干渉反
射光を電気信号に変換する光電変換手段と、半径方向へ
の少なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査分の
電気信号とを比較し、その比較結果を基に欠陥を検出す
る信号処理手段とを具備させたため、上記第１の確実か
つ高速な歪欠陥の検出を適切に実現することができる。
ーザ光を走査する走査手段と、薄膜付きディスクを回転
させる回転手段と、薄膜付きディスクからの膜厚干渉反
射光を電気信号に変換する光電変換手段と、半径方向へ
の少なくとも１走査分の電気信号と次の同数の走査分の
電気信号とを比較し、その比較結果を基に欠陥を検出す
る信号処理手段とを具備させたため、上記第１の確実か
つ高速な歪欠陥の検出を適切に実現することができる。
【００１７】第３に、薄膜の微小欠陥は、振幅信号上に
高周波の欠陥信号として現われるので、この欠陥信号を
ハイパスフィルタ等で取出すことにより、微小欠陥を、
薄膜の干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に検出
することができる。
高周波の欠陥信号として現われるので、この欠陥信号を
ハイパスフィルタ等で取出すことにより、微小欠陥を、
薄膜の干渉の影響を受けることなく確実かつ高速に検出
することができる。
【図１】本発明に係る薄膜付きディスク表面検査装置の
実施例の基本的な構成を示す構成図である。
実施例の基本的な構成を示す構成図である。
【図２】図１の装置における信号処理装置の信号処理内
容を説明するための図である。
容を説明するための図である。
【図３】上記実施例の構成をさらに詳細に示す構成図で
ある。
ある。
【図４】図４の装置における信号処理装置の信号処理内
容を説明するための図である。
容を説明するための図である。
【図５】従来の薄膜付きディスク表面検査装置の構成図
である。
である。
【図６】上記従来例の作用を説明するための図である。
１ レーザ光源 ２ 走査手段 ５ 薄膜付きディスク ６ 回転テーブル（回転手段） １０ 光電変換器（光電変換手段） １１ 信号処理装置（信号処理手段）
Claims (3)
- 【請求項１】 被検査対象である薄膜付きディスクの半
径方向にレーザ光を走査し、該薄膜付きディスクの全面
を走査するため当該薄膜付きディスクを回転させ、前記
レーザ光による前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反
射光を電気信号に変換し、前記半径方向への少なくとも
１走査分の前記電気信号と次の同数の走査分の前記電気
信号とを比較し、その比較結果を基に前記薄膜付きディ
スクの欠陥を検出することを特徴とする薄膜付きディス
ク表面検査方法。 - 【請求項２】 被検査対象である薄膜付きディスクの半
径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄膜付き
ディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光による
前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受光して
電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換手段で
変換された前記半径方向への少なくとも１走査分の電気
信号と次の同数の走査分の電気信号とを比較し、その比
較結果を基に前記薄膜付きディスクの欠陥を検出する信
号処理手段とを有することを特徴とする薄膜付きディス
ク表面検査装置。 - 【請求項３】 被検査対象である薄膜付きディスクの半
径方向にレーザ光を走査する走査手段と、前記薄膜付き
ディスクを回転させる回転手段と、前記レーザ光による
前記薄膜付きディスクからの膜厚干渉反射光を受光して
電気信号に変換する光電変換手段と、該光電変換手段で
変換された電気信号から一定周波数以上の信号を検出す
ることにより薄膜付きディスクの微小欠陥を検知する信
号処理手段とを有することを特徴とする薄膜付きディス
ク表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15492193A JPH0712747A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜付きディスク表面検査方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15492193A JPH0712747A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜付きディスク表面検査方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0712747A true JPH0712747A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15594868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15492193A Pending JPH0712747A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 薄膜付きディスク表面検査方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0712747A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002168793A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法 |
| JP2007248325A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Utsunomiya Univ | 外観検査装置、外観検査方法、外観検査プログラム及びそれを記録した情報記録媒体 |
| JP2010210568A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
| JP2010231831A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンドメディアの表面欠陥検出方法 |
| JP2011033388A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗膜形成ムラ検査装置 |
| US8477301B2 (en) | 2009-09-15 | 2013-07-02 | Sokudo Co., Ltd. | Substrate processing apparatus, substrate processing system and inspection/periphery exposure apparatus |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP15492193A patent/JPH0712747A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002168793A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法 |
| JP2007248325A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Utsunomiya Univ | 外観検査装置、外観検査方法、外観検査プログラム及びそれを記録した情報記録媒体 |
| JP2010210568A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
| JP2010231831A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンドメディアの表面欠陥検出方法 |
| JP2011033388A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗膜形成ムラ検査装置 |
| US8477301B2 (en) | 2009-09-15 | 2013-07-02 | Sokudo Co., Ltd. | Substrate processing apparatus, substrate processing system and inspection/periphery exposure apparatus |
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