JPH05194845A - 全芳香族ポリアミド組成物 - Google Patents
全芳香族ポリアミド組成物Info
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- JPH05194845A JPH05194845A JP4009265A JP926592A JPH05194845A JP H05194845 A JPH05194845 A JP H05194845A JP 4009265 A JP4009265 A JP 4009265A JP 926592 A JP926592 A JP 926592A JP H05194845 A JPH05194845 A JP H05194845A
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- chemical
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/20—Carboxylic acid amides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
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- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
- C08K5/3417—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、高強度、高モジュラスを有し、高
温で延伸、熱処理しても耐光性が損なわれることのない
全芳香族ポリアミド組成物を提供することを目的とする
ものである。 【構成】 全芳香族ポリアミドに対し、ナフタレン環と
イミド結合とを含むアミド化合物が０．１〜３０重量％
含有されてなる全芳香族ポリアミド組成物。
温で延伸、熱処理しても耐光性が損なわれることのない
全芳香族ポリアミド組成物を提供することを目的とする
ものである。 【構成】 全芳香族ポリアミドに対し、ナフタレン環と
イミド結合とを含むアミド化合物が０．１〜３０重量％
含有されてなる全芳香族ポリアミド組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐光性の改良された全
芳香族ポリアミド組成物に関する。
芳香族ポリアミド組成物に関する。
【０００２】更に詳しくは、ナフタレン環とイミド結合
とを含む化合物が含有されてなる耐光性の改良された全
芳香族ポリアミド組成物に関する。
とを含む化合物が含有されてなる耐光性の改良された全
芳香族ポリアミド組成物に関する。
【０００３】
【従来の技術】全芳香族ポリアミド（アラミド）は、高
強力、高モジュラス及び高い耐熱性を生かして繊維、フ
イルム等に幅広く用いられている。
強力、高モジュラス及び高い耐熱性を生かして繊維、フ
イルム等に幅広く用いられている。
【０００４】しかし、アラミドについて従来から指摘さ
れている欠点として耐光性の悪さがある。
れている欠点として耐光性の悪さがある。
【０００５】従来のアラミド耐光性向上技術としては、
ポリメタフェニレンイソフタルアミドのＮ―メチルピロ
リドン溶液（ドープ）にベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤及び酸化防止剤を添加して耐光性を向上させる方法
が提案されている（特開昭４９―１００３２２号公
報）。しかし、この方法による耐光性向上の程度は必ず
しも満足できるものではない。
ポリメタフェニレンイソフタルアミドのＮ―メチルピロ
リドン溶液（ドープ）にベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤及び酸化防止剤を添加して耐光性を向上させる方法
が提案されている（特開昭４９―１００３２２号公
報）。しかし、この方法による耐光性向上の程度は必ず
しも満足できるものではない。
【０００６】一方、パラ型アラミドの代表例であるポリ
パラフェニレンテレフタルアミド（ＰＰＴＡ）は、溶融
困難かつ難溶性であるため、硫酸等の特殊な溶媒を用い
て溶解したうえで成型する必要がある。従って、一般の
溶融可能重合体と異なり、添加剤を原液ドープ中に添加
することによって種々の機能性を付与する方法では硫酸
系溶媒中での安定性という点から採用できる添加剤は種
類が限られる。
パラフェニレンテレフタルアミド（ＰＰＴＡ）は、溶融
困難かつ難溶性であるため、硫酸等の特殊な溶媒を用い
て溶解したうえで成型する必要がある。従って、一般の
溶融可能重合体と異なり、添加剤を原液ドープ中に添加
することによって種々の機能性を付与する方法では硫酸
系溶媒中での安定性という点から採用できる添加剤は種
類が限られる。
【０００７】また、一般にアラミドドープに紫外線吸収
剤等を溶解させた後、成型する方法では、例えば繊維に
成型する場合、高温で延伸又は熱処理等を行うことが多
いが、かかる高温では紫外線吸収剤等は、ほとんどが分
解してしまうため、その効果を十分に発現させることが
できない。
剤等を溶解させた後、成型する方法では、例えば繊維に
成型する場合、高温で延伸又は熱処理等を行うことが多
いが、かかる高温では紫外線吸収剤等は、ほとんどが分
解してしまうため、その効果を十分に発現させることが
できない。
【０００８】一方、成型された後ではＰＰＴＡの高い結
晶性、高い分子鎖間力が障害となり、添加剤をポリマー
中に強固に含有せしめることは非常に困難である。そこ
でパラ型アラミドの耐光性向上法として、水に膨潤した
未乾燥の繊維に紫外線吸収剤等を含浸せしめる方法が提
案されている（特開昭４９―７５８２４号公報、特開昭
５０―１２３２２号公報、特開昭５３―３５０２０号公
報、特公昭５６―３３４８７号公報、特開平１―２４０
５３３号公報）。
晶性、高い分子鎖間力が障害となり、添加剤をポリマー
中に強固に含有せしめることは非常に困難である。そこ
でパラ型アラミドの耐光性向上法として、水に膨潤した
未乾燥の繊維に紫外線吸収剤等を含浸せしめる方法が提
案されている（特開昭４９―７５８２４号公報、特開昭
５０―１２３２２号公報、特開昭５３―３５０２０号公
報、特公昭５６―３３４８７号公報、特開平１―２４０
５３３号公報）。
【０００９】しかし、かかる方法で紫外線吸収剤等を繊
維中に含浸せしめると繊維の分子鎖構造を乱すことにな
り、繊維強度等の力学的特性が低下する。
維中に含浸せしめると繊維の分子鎖構造を乱すことにな
り、繊維強度等の力学的特性が低下する。
【００１０】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は、上記問題
点を生じせしめないで高強度、高弾性率を有し、高温で
延伸、熱処理しても耐光性が損なわれることのない新規
な全芳香族ポリアミド組成物を提供するものである。
点を生じせしめないで高強度、高弾性率を有し、高温で
延伸、熱処理しても耐光性が損なわれることのない新規
な全芳香族ポリアミド組成物を提供するものである。
【００１１】
【問題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
「全芳香族ポリアミドに対し、ナフタレン環とイミド結
合とを含むアミド化合物が０．１〜３０重量％含有され
てなる全芳香族ポリアミド組成物」である。
「全芳香族ポリアミドに対し、ナフタレン環とイミド結
合とを含むアミド化合物が０．１〜３０重量％含有され
てなる全芳香族ポリアミド組成物」である。
【００１２】本発明において用いられる全芳香族ポリア
ミドは、公知のパラ型芳香族ポリアミドでもメタ型芳香
族ポリアミドでもよいが、パラ型芳香族ポリアミドが好
ましい。
ミドは、公知のパラ型芳香族ポリアミドでもメタ型芳香
族ポリアミドでもよいが、パラ型芳香族ポリアミドが好
ましい。
【００１３】なかでも全芳香族ポリアミドの繰り返し単
位の８０モル％以上が下記繰り返し単位からなる実質的
にパラ配向の全芳香族ポリアミドが好ましい。
位の８０モル％以上が下記繰り返し単位からなる実質的
にパラ配向の全芳香族ポリアミドが好ましい。
【００１４】
【化１１】
【００１５】（但し、Ａｒ1 ，Ａｒ2 は
【００１６】
【化１２】
【００１７】から選ばれた少なくとも一種の芳香族残基
を示す。なお、Ａｒ1 ，Ａｒ2 は互いに同一でも相異な
るものでもよい。これらの芳香族残基は、その水素原子
の一部又は全部がハロゲン原子又は低級アルキル基で置
換されていてもよい。）。
を示す。なお、Ａｒ1 ，Ａｒ2 は互いに同一でも相異な
るものでもよい。これらの芳香族残基は、その水素原子
の一部又は全部がハロゲン原子又は低級アルキル基で置
換されていてもよい。）。
【００１８】なかでも前記Ａｒ1 ，Ａｒ2 の合計の８０
モル％以上が下記芳香族残基ＡおよびＢ又はＢ′からな
り、且つ芳香族残基Ｂ又はＢ′の比率が１０〜４０モル
％である全芳香族ポリアミドが耐光性向上の効果が大き
く好適である。
モル％以上が下記芳香族残基ＡおよびＢ又はＢ′からな
り、且つ芳香族残基Ｂ又はＢ′の比率が１０〜４０モル
％である全芳香族ポリアミドが耐光性向上の効果が大き
く好適である。
【００１９】
【化１３】
【００２０】
【化１４】
【００２１】
【化１５】
【００２２】かかる全芳香族ポリアミドの製造方法の詳
細については、英国特許第１５０１９４８号公報、米国
特許第３７３８９６４号公報、特開昭４９―１００３２
２号公報等に記載されている。
細については、英国特許第１５０１９４８号公報、米国
特許第３７３８９６４号公報、特開昭４９―１００３２
２号公報等に記載されている。
【００２３】本発明のナフタレン環とイミド結合とを含
むアミド化合物は、全結合種数の少なくとも５モル％以
上がナフタレン環に直結していることが望ましい。ここ
でいう結合種とは官能基の種類のことで、例えばアミド
結合、エーテル結合、エステル結合、イミド結合などを
指す。５モル％未満では十分な耐光性向上の効果が得ら
れない。本発明のナフタレン環とイミド結合とを含むア
ミド化合物は脂肪族、脂環族、芳香族の有機基のいずれ
より構成されてもよいが、特に芳香族の有機基が好まし
い。該アミド化合物は、アミン成分とカルボン酸成分と
から構成される。
むアミド化合物は、全結合種数の少なくとも５モル％以
上がナフタレン環に直結していることが望ましい。ここ
でいう結合種とは官能基の種類のことで、例えばアミド
結合、エーテル結合、エステル結合、イミド結合などを
指す。５モル％未満では十分な耐光性向上の効果が得ら
れない。本発明のナフタレン環とイミド結合とを含むア
ミド化合物は脂肪族、脂環族、芳香族の有機基のいずれ
より構成されてもよいが、特に芳香族の有機基が好まし
い。該アミド化合物は、アミン成分とカルボン酸成分と
から構成される。
【００２４】該アミン成分としては、１―アミノナフタ
レン、２―アミノナフタレン、１，２―ナフタレンジア
ミン、１，８―ナフタレンジアミン、２，３―ナフタレ
ンジアミン、２，６―ジアミノナフタレン、１，５―ジ
アミノナフタレン等に加えるに、アニリン、ｏ―アミノ
フェノール、ｍ―アミノフェノール、ｐ―アミノフェノ
ール、２―アミノチオフェノール、３―アミノチオフェ
ノール、４―アミノチオフェノール、ｏ―ニトロアニリ
ン、ｍ―ニトロアニリン、ｐ―フェニレンジアミン、ｍ
―フェニレンジアミン、ｏ―フェニレンジアミン、２，
４′―ジアミノジフェニルエーテル、３，４′―ジアミ
ノジフェニルエーテル、４，４′―ジアミノジフェニル
エーテル、２，４′―ジアミノジフェニルメタン、３，
４′―ジアミノジフェニルメタン、４，４′―ジアミノ
ジフェニルメタン、３，３′―ジアミノジフェニルスル
ホン、４，４′―ジアミノジフェニルスルホン、ｏ―ト
リジン、ｍ―トリジン、４，４′―ジアミノベソツアニ
リド
レン、２―アミノナフタレン、１，２―ナフタレンジア
ミン、１，８―ナフタレンジアミン、２，３―ナフタレ
ンジアミン、２，６―ジアミノナフタレン、１，５―ジ
アミノナフタレン等に加えるに、アニリン、ｏ―アミノ
フェノール、ｍ―アミノフェノール、ｐ―アミノフェノ
ール、２―アミノチオフェノール、３―アミノチオフェ
ノール、４―アミノチオフェノール、ｏ―ニトロアニリ
ン、ｍ―ニトロアニリン、ｐ―フェニレンジアミン、ｍ
―フェニレンジアミン、ｏ―フェニレンジアミン、２，
４′―ジアミノジフェニルエーテル、３，４′―ジアミ
ノジフェニルエーテル、４，４′―ジアミノジフェニル
エーテル、２，４′―ジアミノジフェニルメタン、３，
４′―ジアミノジフェニルメタン、４，４′―ジアミノ
ジフェニルメタン、３，３′―ジアミノジフェニルスル
ホン、４，４′―ジアミノジフェニルスルホン、ｏ―ト
リジン、ｍ―トリジン、４，４′―ジアミノベソツアニ
リド
【００２５】
【化１６】
【００２６】などが挙げられる。なかでも３，４′―ジ
アミノジフェニルエーテル、アニリンが特に好ましい。
アミノジフェニルエーテル、アニリンが特に好ましい。
【００２７】また、該カルボン酸成分としては、１―ナ
フタレンカルボン酸、２―ナフタレンカルボン酸、２，
６―ナフタレンジカルボン酸、１，４―ナフタレンジカ
ルボン酸、１，５―ナフタレンジカルボン酸、２，３―
ナフタレンジカルボン酸、１，８―ナフタレンジカルボ
ン酸、１，４，５，８―ナフタレンテトラカルボン酸等
に加えるに安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、ピロメリ
ット酸、トリメリット酸、３，３′，４，４′―ビフェ
ニルテトラカルボン酸、３，３′，４，４′―ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸、３，３′，４，４′―ジフェ
ニルエーテルテトラカルボン酸、フタル酸、マレイン酸
などが挙げられる。なかでも安息香酸、テレフタル酸、
イソフタル酸、フタル酸が好ましく、特にフタル酸が好
ましい。
フタレンカルボン酸、２―ナフタレンカルボン酸、２，
６―ナフタレンジカルボン酸、１，４―ナフタレンジカ
ルボン酸、１，５―ナフタレンジカルボン酸、２，３―
ナフタレンジカルボン酸、１，８―ナフタレンジカルボ
ン酸、１，４，５，８―ナフタレンテトラカルボン酸等
に加えるに安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、ピロメリ
ット酸、トリメリット酸、３，３′，４，４′―ビフェ
ニルテトラカルボン酸、３，３′，４，４′―ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸、３，３′，４，４′―ジフェ
ニルエーテルテトラカルボン酸、フタル酸、マレイン酸
などが挙げられる。なかでも安息香酸、テレフタル酸、
イソフタル酸、フタル酸が好ましく、特にフタル酸が好
ましい。
【００２８】好ましいナフタレン環とイミド結合とを有
するアミド化合物としては以下のものが挙げられる。
するアミド化合物としては以下のものが挙げられる。
【００２９】
【化１７】
【００３０】
【化１８】
【００３１】
【化１９】
【００３２】
【化２０】
【００３３】
【化２１】
【００３４】本発明のナフタレン環とイミド結合とを含
むアミド化合物は、イミド結合を全結合種に対し１０モ
ル％以上有していることが好ましい。１０モル％未満で
は十分な耐光性向上の効果が得られない。
むアミド化合物は、イミド結合を全結合種に対し１０モ
ル％以上有していることが好ましい。１０モル％未満で
は十分な耐光性向上の効果が得られない。
【００３５】イミド結合は該アミド化合物のどの部分に
あってもかまわない。すなわち、該アミド化合物を得る
ために酸無水物を含むジカルボン酸成分とジアミン成分
とを反応せしめてもよいし、あるいは例えば末端のアミ
ノ基と酸無水物とを反応せしめてもよい。更には予めイ
ミド結合を含む反応剤を用いて該アミド化合物を合成し
てもよい。更に、ナフタレン環とイミド結合とを含む化
合物は一種類であっても二種類以上であってもよい。
あってもかまわない。すなわち、該アミド化合物を得る
ために酸無水物を含むジカルボン酸成分とジアミン成分
とを反応せしめてもよいし、あるいは例えば末端のアミ
ノ基と酸無水物とを反応せしめてもよい。更には予めイ
ミド結合を含む反応剤を用いて該アミド化合物を合成し
てもよい。更に、ナフタレン環とイミド結合とを含む化
合物は一種類であっても二種類以上であってもよい。
【００３６】本発明のナフタレン環とイミド結合とを含
むアミド化合物は低分子量でも高分子量でもよい。高分
子量の場合その重合度は、全芳香族ポリアミドとの相溶
性を有する限り特に限定されないが、通常濃度０．５ｇ
／１００mlの９８％濃硫酸溶液の対数粘度で４．０以下
程度が好ましい。
むアミド化合物は低分子量でも高分子量でもよい。高分
子量の場合その重合度は、全芳香族ポリアミドとの相溶
性を有する限り特に限定されないが、通常濃度０．５ｇ
／１００mlの９８％濃硫酸溶液の対数粘度で４．０以下
程度が好ましい。
【００３７】ナフタレン環とイミド結合とを含むアミド
化合物の混合量は、全芳香族ポリアミドに対し、０．１
〜３０重量％である。０．１重量％未満では十分な耐光
性向上の効果が得られない。３０重量％を越えると全芳
香族ポリアミド組成物の機械的物性が低下することが多
い。
化合物の混合量は、全芳香族ポリアミドに対し、０．１
〜３０重量％である。０．１重量％未満では十分な耐光
性向上の効果が得られない。３０重量％を越えると全芳
香族ポリアミド組成物の機械的物性が低下することが多
い。
【００３８】ナフタレン環とイミド結合とを含むアミド
化合物と全芳香族ポリアミドとの混合方法は、例えばナ
フタレン環とイミド結合とを含む化合物の溶液と全芳香
族ポリアミドの溶液とを混合する。あるいは、全芳香族
ポリアミドの溶液に、ナフタレン環とイミド結合とを含
む化合物を溶解せしめて混合することもできる。
化合物と全芳香族ポリアミドとの混合方法は、例えばナ
フタレン環とイミド結合とを含む化合物の溶液と全芳香
族ポリアミドの溶液とを混合する。あるいは、全芳香族
ポリアミドの溶液に、ナフタレン環とイミド結合とを含
む化合物を溶解せしめて混合することもできる。
【００３９】また、本発明の全芳香族ポリアミド組成物
に、本発明の目的を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、
酸化防止剤等の改質剤あるいは安定剤を併用してもよ
い。
に、本発明の目的を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、
酸化防止剤等の改質剤あるいは安定剤を併用してもよ
い。
【００４０】
【発明の効果】本発明の全芳香族ポリアミド組成物は、
高い耐光性向上効果を有し、且つ熱安定性が高いので、
少量の添加で高い耐光性向上効果を得ることができる。
高い耐光性向上効果を有し、且つ熱安定性が高いので、
少量の添加で高い耐光性向上効果を得ることができる。
【００４１】以下、実施例により本発明を説明する。
【００４２】以下の実施例において、部とは重量部をい
い、対数粘度は９８重量％の濃硫酸に濃度０．５ｇ／１
００mlで溶解した溶液を３０℃にて通常の方法で測定し
た値である。またポリマー溶液の粘度は、外径３mmの鋼
球（材質ＳＵＳ３１４）にて１００℃の恒温槽内で落球
法にて測定した値である。
い、対数粘度は９８重量％の濃硫酸に濃度０．５ｇ／１
００mlで溶解した溶液を３０℃にて通常の方法で測定し
た値である。またポリマー溶液の粘度は、外径３mmの鋼
球（材質ＳＵＳ３１４）にて１００℃の恒温槽内で落球
法にて測定した値である。
【００４３】
【実施例１】 （全芳香族ポリアミドの合成）十分に乾燥した攪拌装置
付きの三つ口フラスコにＮ―メチルピロリドン（以下Ｎ
ＭＰという）１８３２部、ｐ―フェニレンジアミン（以
下ＰＰＤＡという）２５．１１部、３，４′―ジアミノ
ジフェニルエーテル（以下３，４′―ＤＡＰＥという）
４６．４９部を常温下で入れ、窒素中で溶解した後、攪
拌しながらテレフタル酸クロリド（以下ＴＰＣという）
９４．２８部を添加した。最終的に８５℃で６０分間反
応せしめ、透明性の粘調なポリマー溶液を得た。次い
で、２２．５重量％の水酸化カルシウムを含有するＮＭ
Ｐスラリー１５２．９部を添加し、中和反応を行った。
付きの三つ口フラスコにＮ―メチルピロリドン（以下Ｎ
ＭＰという）１８３２部、ｐ―フェニレンジアミン（以
下ＰＰＤＡという）２５．１１部、３，４′―ジアミノ
ジフェニルエーテル（以下３，４′―ＤＡＰＥという）
４６．４９部を常温下で入れ、窒素中で溶解した後、攪
拌しながらテレフタル酸クロリド（以下ＴＰＣという）
９４．２８部を添加した。最終的に８５℃で６０分間反
応せしめ、透明性の粘調なポリマー溶液を得た。次い
で、２２．５重量％の水酸化カルシウムを含有するＮＭ
Ｐスラリー１５２．９部を添加し、中和反応を行った。
【００４４】得られたポリマーの対数粘度は３．４０
で、ポリマー濃度は６重量％であった。
で、ポリマー濃度は６重量％であった。
【００４５】（ナフタレン環とイミド結合とを含む化合
物の合成）十分に乾燥した攪拌装置付きの三つ口フラス
コに窒素雰囲気下３，４′―ＤＡＰＥをＮＭＰに５重量
％の割合で溶解し、攪拌しながら３，４′―ＤＡＰＥの
２分の１モル相当分の２，６―ナフタレンジカルボン酸
クロリド（以下２，６―ＮＤＣという）を徐々に添加し
た。８５℃で１時間攪拌後、無水フタル酸（以下ＰＨＡ
という）を３，４′―ＤＡＰＥと同モル相当分添加し、
１時間ＮＭＰ還流下で反応せしめたあと、放冷し、内容
物を大量の水に展開したあと濾過し、更に大量の水への
展開と濾過を１回と大量のメタノールへの展開と濾過を
２回行って、十分に乾燥した。このものの対数粘度は
０．８であり、赤外吸収スペクトルよりナフタレン環、
イミド結合、アミド結合が存在していることがわかっ
た。更に融点は２５６℃でほぼ単一であった。
物の合成）十分に乾燥した攪拌装置付きの三つ口フラス
コに窒素雰囲気下３，４′―ＤＡＰＥをＮＭＰに５重量
％の割合で溶解し、攪拌しながら３，４′―ＤＡＰＥの
２分の１モル相当分の２，６―ナフタレンジカルボン酸
クロリド（以下２，６―ＮＤＣという）を徐々に添加し
た。８５℃で１時間攪拌後、無水フタル酸（以下ＰＨＡ
という）を３，４′―ＤＡＰＥと同モル相当分添加し、
１時間ＮＭＰ還流下で反応せしめたあと、放冷し、内容
物を大量の水に展開したあと濾過し、更に大量の水への
展開と濾過を１回と大量のメタノールへの展開と濾過を
２回行って、十分に乾燥した。このものの対数粘度は
０．８であり、赤外吸収スペクトルよりナフタレン環、
イミド結合、アミド結合が存在していることがわかっ
た。更に融点は２５６℃でほぼ単一であった。
【００４６】（全芳香族ポリアミドとナフタレン環とイ
ミド結合とを含む化合物のブレンド）全芳香族ポリアミ
ドポリマーに対し、該化合物が３重量％に相当する量を
全芳香族ポリアミド溶液に粉体のままブレンドし、８５
℃で３時間攪拌して、透明なポリマー溶液を得た。
ミド結合とを含む化合物のブレンド）全芳香族ポリアミ
ドポリマーに対し、該化合物が３重量％に相当する量を
全芳香族ポリアミド溶液に粉体のままブレンドし、８５
℃で３時間攪拌して、透明なポリマー溶液を得た。
【００４７】（紡糸）上記混合溶液を孔径０．３mm、孔
数５０ケの口金を通してＮＭＰ３０重量％の凝固浴に押
出し湿式紡糸した。口金面と凝固浴面との距離は１０mm
とした。紡出繊維を水洗、乾燥したのち、熱板上で３９
０℃および５１０℃、全延伸倍率１１．５で二段延伸
し、全繊度７８．３デニールのフィラメントを得た。
数５０ケの口金を通してＮＭＰ３０重量％の凝固浴に押
出し湿式紡糸した。口金面と凝固浴面との距離は１０mm
とした。紡出繊維を水洗、乾燥したのち、熱板上で３９
０℃および５１０℃、全延伸倍率１１．５で二段延伸
し、全繊度７８．３デニールのフィラメントを得た。
【００４８】得られた繊維の機械的物性は、強度２７．
４ｇ／ｄｅ、伸度３．６％、モジュラス７０６ｇ／ｄｅ
であった。得られた繊維の耐光性を下記の方法で評価し
た。結果を表１に示す。
４ｇ／ｄｅ、伸度３．６％、モジュラス７０６ｇ／ｄｅ
であった。得られた繊維の耐光性を下記の方法で評価し
た。結果を表１に示す。
【００４９】（耐光性評価方法）東芝（株）製 光化学
用水銀ランプＨ４００―Ｐを用い、該繊維に対し、４時
間光照射した。２時間後と４時間後の繊維の機械的物性
（強度、伸度、モジュラス）を求めた。
用水銀ランプＨ４００―Ｐを用い、該繊維に対し、４時
間光照射した。２時間後と４時間後の繊維の機械的物性
（強度、伸度、モジュラス）を求めた。
【００５０】
【比較例１】実施例１の全芳香族ポリアミドを実施例１
の方法で紡糸した。得られた繊維の機械的物性は、繊度
７８．４ｄｅ、強度２６．６ｇ／ｄｅ、伸度３．９ｇ／
ｄｅ、モジュラス６４０ｇ／ｄｅであった。この繊維に
ついて実施例１と同様に耐光性を評価した結果を表１に
示す。
の方法で紡糸した。得られた繊維の機械的物性は、繊度
７８．４ｄｅ、強度２６．６ｇ／ｄｅ、伸度３．９ｇ／
ｄｅ、モジュラス６４０ｇ／ｄｅであった。この繊維に
ついて実施例１と同様に耐光性を評価した結果を表１に
示す。
【００５１】
【実施例２〜９、比較例２〜３】表２に記載した原料か
ら、実施例１と同様にナフタレン環とイミド結合とを含
む化合物を合成し、表２に記載した割合で添加した後、
実施例１と同様に実施した。その結果を表１に示す。
ら、実施例１と同様にナフタレン環とイミド結合とを含
む化合物を合成し、表２に記載した割合で添加した後、
実施例１と同様に実施した。その結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】
【表２】
Claims (5)
- 【請求項１】 全芳香族ポリアミドに対し、ナフタレン
環とイミド結合とを含むアミド化合物が、０．１〜３０
重量％含有されてなる全芳香族ポリアミド組成物。 - 【請求項２】 全芳香族ポリアミドの繰り返し単位の８
０モル％以上が下記繰り返し単位からなる請求項１記載
の全芳香族ポリアミド組成物。 【化１】 （但し、Ａｒ1 ，Ａｒ2 は 【化２】 から選ばれた少なくとも一種の芳香族残基を示す。これ
らの芳香族残基は、その水素原子の一部又は全部がハロ
ゲン原子又は低級アルキル基で置換されていてもよ
い。） - 【請求項３】 Ａｒ1 ，Ａｒ2 の８０モル％以上が下記
芳香族残基Ａ及びＢからなり、且つ芳香族残基Ｂの比率
が１０〜４０モル％である請求項２記載の全芳香族ポリ
アミド組成物。 【化３】 【化４】 （ここに芳香族残基Ａ，Ｂは、その水素原子の一部又は
全部がハロゲン原子又は低級アルキル基で置換されてい
てもよい。） - 【請求項４】 Ａｒ1 ，Ａｒ2 の８０モル％以上が下記
芳香族残基Ａ及びＢ′からなり、且つ芳香族残基Ｂ′の
比率が１０〜４０モル％である請求項２記載の全芳香族
ポリアミド組成物。 【化５】 【化６】 （ここに芳香族残基Ａ，Ｂ′は、その水素原子の一部又
は全部がハロゲン原子又は低級アルキル基で置換されて
いてもよい。） - 【請求項５】 ナフタレン環とイミド結合とを含むアミ
ド化合物の主たる構成成分が下記式で表わされる請求項
１〜４のいずれかに記載の全芳香族ポリアミド組成物。 【化７】 但し、Ｒ1 は 【化８】 （Ｙは―Ｏ―，―Ｓ―，―ＳＯ―，―ＳＯ2 ―，―ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ―，―ＣＨ（ＣＦ3 ）2 ―，―ＣＯＯ，―
ＣＯＮＨ―，―ＣＯ―より選ばれる。（ｍ＝０〜４））
で表わされ、一種であっても二種以上の混合物であって
もよい。Ｒ2 は 【化９】 より選ばれ、一種であっても二種以上の混合物であって
もよい。Ｘは 【化１０】 である。ｎは０以上１０以下の整数。
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|---|---|---|---|
| JP04009265A JP3137707B2 (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | 全芳香族ポリアミド組成物 |
| AT92122104T ATE178340T1 (de) | 1992-01-22 | 1992-12-29 | Vollständig aromatische polyamidharzzusammensetzung mit verbesserter lichtbeständigkeit |
| EP92122104A EP0552499B1 (en) | 1992-01-22 | 1992-12-29 | Wholly aromatic polyamide resin composition having enhanced light resistance |
| US07/998,010 US5312851A (en) | 1992-01-22 | 1992-12-29 | Wholly aromatic polyamide resin composition having enhanced light resistance |
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- 1992-12-29 AT AT92122104T patent/ATE178340T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-29 US US07/998,010 patent/US5312851A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-29 EP EP92122104A patent/EP0552499B1/en not_active Expired - Lifetime
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