JPH0782413A - 紫外線吸収剤及び樹脂組成物 - Google Patents

紫外線吸収剤及び樹脂組成物

Info

Publication number
JPH0782413A
JPH0782413A JP5228865A JP22886593A JPH0782413A JP H0782413 A JPH0782413 A JP H0782413A JP 5228865 A JP5228865 A JP 5228865A JP 22886593 A JP22886593 A JP 22886593A JP H0782413 A JPH0782413 A JP H0782413A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aramid
resin
group
formula
ultraviolet absorber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5228865A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshitsugu Matsuki
寿嗣 松木
Toshihiro Mita
利弘 三田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP5228865A priority Critical patent/JPH0782413A/ja
Priority to US08/304,866 priority patent/US5532412A/en
Priority to EP94114350A priority patent/EP0643039B1/en
Priority to DE69404582T priority patent/DE69404582T2/de
Publication of JPH0782413A publication Critical patent/JPH0782413A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C235/00Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
    • C07C235/42Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C235/44Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with carbon atoms of carboxamide groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C235/58Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with carbon atoms of carboxamide groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with carbon atoms of carboxamide groups and singly-bound oxygen atoms, bound in ortho-position to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C235/64Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with carbon atoms of carboxamide groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with carbon atoms of carboxamide groups and singly-bound oxygen atoms, bound in ortho-position to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C235/00Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
    • C07C235/42Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C235/66Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems and singly-bound oxygen atoms, bound to the same carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/39Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton at least one of the nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C07C323/40Y being a hydrogen or a carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/88Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/91Dibenzofurans; Hydrogenated dibenzofurans
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/20Carboxylic acid amides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • C08K5/375Thiols containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/22Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing only six-membered rings
    • C07C2603/24Anthracenes; Hydrogenated anthracenes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyamides (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は新規な耐熱性紫外線吸収剤及
び高い機械的物性と耐光耐久性を有する樹脂組成物を提
供することにある。 【構成】 特定構造を有するナフトールアミド化合物か
らなる紫外線吸収剤及び該紫外線吸収剤を含有する樹脂
組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性紫外線吸収剤に
関する。更には、機械的物性と耐光性の改善された樹脂
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より公知のベンゾフェノン系紫外線
吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤などは、一
般には比較的低温において、適当な波長に固有の紫外線
吸収能力を有する。しかしながら、これらは一般に耐熱
性が不足しており、高温でポリマーに添加したり、添加
後高温で成形加工する場合に分解や昇華などの不都合を
生ずることが多かった。
【0003】そこで、微粒子状の酸化チタンやカーボン
ブラック、ベンガラなどの無機物をポリマーに添加する
ことが提案されている。しかしながら、これらの無機物
はポリマーに相溶化しないので、ポリマーの機械的物性
を低下せしめてしまうことが多いうえ、ポリマーの着色
を伴うので本来のポリマーの“生成り”の色が出ないこ
とが多い。
【0004】一方、耐光性を付与するため、全芳香族ポ
リエステルを含むポリエステル、脂肪族ポリアミド、全
芳香族ポリアミド(アラミド)、ポリカーボネートなど
は、重合時や高温で成形加工する前後あるいは後加工時
に、紫外線吸収剤を添加するが、耐光性向上のために、
さらに紫外線吸収能力の高い有機紫外線吸収剤が望まれ
ている。
【0005】特にアラミドは、高強度、高モジュラス及
び高い耐熱性を活かして繊維、フイルムなどに幅広く用
いられているが、従来から指摘されている欠点として耐
光性の悪さがある。
【0006】従来のアラミド耐光性向上技術としては、
ポリメタフェニレンイソフタルアミドのN―メチル―2
―ピロリドン溶液(ドープ)にベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤及び酸化防止剤を添加して耐光性を向上させ
る方法が提案されている(特開昭49―100322号
公報)。しかし、この方法による耐光性向上の程度は必
ずしも満足できるものではない。
【0007】一方、パラ型アラミドの代表例であるポリ
パラフェニレンテレフタルアミド(PPTA)は、溶融
困難かつ難溶性であるため、硫酸などの特殊な溶媒を用
いて溶解した上で成形する必要がある。従って、一般の
溶融可能重合体と異なり、添加剤を原液ドープ中に添加
することによって種々の機能性を付与する方法では硫酸
系溶媒中での安定性という点から採用できる添加剤は種
類が限られる。このような例としては、カーボンブラッ
クの添加(特開昭64―85316号公報)や有機顔料
の添加(特開昭64―14317号公報)が提案されて
いるが、これらの方法では、“生成り”の繊維を得るこ
とは難しく、色相が限定される上、剤の分散が難しいた
め成形後のパラ型アラミドの強度が充分に発現されない
ことが多い。
【0008】また、一般にアラミドドープに紫外線吸収
剤などを溶解させた後、成形する方法では、例えば繊維
に成形する場合、高温では紫外線吸収剤等は殆んど分解
してしまうため、その効果を充分に発現させることがで
きない。
【0009】一方、成形された後ではPPTAの高い結
晶性、高い分子鎖間力が障害となり、添加剤をポリマー
中に強固に含有せしめることは非常に困難である。そこ
でパラ型アラミドの耐光性向上法として、水に膨潤した
未乾燥の繊維に紫外線吸収剤などを含有せしめる方法が
提案されている(特開昭49―75824号公報、特開
昭50―12322号公報、特開昭53―35020号
公報、特公昭56―33487号公報、特開平1―24
0533号公報)。しかし、かかる方法で紫外線吸収剤
などを繊維中に含浸せしめると繊維の分子間構造を乱す
ことになり繊維強度などの力学的特性が低下する。
【0010】特開平5―9293号公報には、ナフタレ
ン環を含有した芳香族アミド化合物を、アラミドにブレ
ンドして耐光性を向上せしめる方法が記載されている。
しかしながら、この化合物が別途重合したオリゴマーで
かつ工業的スケールで実施した場合には、一般にはオリ
ゴマー調製のための反応槽をアラミドの重合槽とは別に
用意する必要があり反応プロセスが多くなる。また、も
っと低分子の芳香族アミド化合物では、熱板上で延伸や
熱処理を実施しているときに、該化合物が昇華してしま
うことがある。また、該芳香族アミド化合物をブレンド
した繊維は、機械的物性の低下を伴うことが多い。
【0011】ナフタレン環を有する芳香族アミド化合物
を含有したアラミドをブレンドした成形物は、他にもい
くつかの提案されている。例えば、特開昭62―263
320号公報には、ナフタレン環を含んだモノマーを用
いた芳香族コポリアミドとポリパラフェニレンテレフタ
ルアミドとを混合したものよりなる繊維、特開平3―1
43922号公報には、ナフタレン骨格を含むアラミド
ドープと、ナフタレン骨格を含まないアラミドドープと
のブレンドよりなるアラミド繊維が記載されている(同
公報の実施例8)。これらはいずれもアラミド繊維の高
強度化を目的としたものである。
【0012】特公昭62―10580号公報では、有機
紫外線吸収剤として耐熱性のあるオルトヒドロキシ芳香
族アミド化合物を、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリアミドに配合することにより該ポリマーの耐光性を
改善することが提案されている。今日、脂肪族ポリアミ
ドであるナイロンと、全芳香族ポリアミドであるアラミ
ドを区別するのは周知であるが、実施例中にはポリアミ
ドの例としてナイロン6が記載されているのみであり、
アラミドに関しては何等言及されていない。また、オル
トヒドロキシ芳香族アミド化合物の配合により、特定波
長以下の紫外線が吸収されることが記載されているが、
機械的物性については何等言及されていない。これはア
ラミドとの相溶性、剤の耐熱性があまり良好でないう
え、アラミドの耐光劣化を防ぐほどの紫外線遮蔽性がな
いためであり、更なる紫外線遮蔽性、機械的物性向上の
ために剤の耐熱性向上、アラミドとの相溶性向上などが
望まれている。また更に、特公昭62―10580号公
報に記載されているヒドロキシ芳香族アミド化合物のう
ち両末端がナフトールカルボン酸構造で封鎖されている
化合物は、中央のジアミンが毒性のベンチジン骨格を持
っており、該化合物が加水分解したときの毒性が懸念さ
れる。
【0013】Dokl Akad. Nauk BSS
23(4) 347(1979)やJ.Appl.
Polym.Sci 23(8) 2225(197
9)などには、ポリエチレンや天然ゴムなどのポリマー
に対してオルトヒドロキシサリチル酸アミド化合物添加
が耐光性向上に効果があるとしている。しかし、この化
合物は、上述のように紫外線遮蔽性、耐熱性などが不足
しているうえ、本発明の新規な紫外線吸収剤のような構
造には全く言及していない。
【0014】
【発明の目的】本発明の目的は、新規な耐熱性のある紫
外線吸収剤を供給することである。更には、高い機械的
物性を有し、耐光性が損なわれることのない樹脂組成
物、特にアラミド組成物を提供するものである。
【0015】
【問題を解決するための手段】即ち本発明は、「(請求
項1)下記一般式で表されるナフトールアミド化合物
【0016】
【化4】
【0017】からなる紫外線吸収剤であり、式中、
【0018】
【化5】 は、
【0019】
【化6】
【0020】より選ばれ、R1 は、水素原子、ハロゲン
原子、炭素数が1から10のアルキル基、アルコキシ基
から選ばれる基であり、Ar1 、Ar2 、Ar3 は互い
に同一でも異なっていてもよい芳香族基であり、nは0
又は1、XはO又はSより選ばれる。 (請求項2)請求項1の紫外線吸収剤を0.01〜10
重量%含有してなる樹脂組成物。 (請求項3)樹脂が全芳香族ポリアミドである請求項2
の樹脂組成物。」である。好ましくは、
【0021】
【化7】 は、
【0022】
【化8】 であり、特に好ましくは
【0023】
【化9】 は、
【0024】
【化10】 である。
【0025】Ar1 は芳香族基であり、p―フェニレ
ン、m―フェニレン、o―フェニレン、2,7―ナフタ
レン、2,6―ナフタレン、2,5―ナフタレン、2,
4―ナフタレン、2,3―ナフタレン、1,2―ナフタ
レン、1,3―ナフタレン、1,4―ナフタレン、1,
5―ナフタレン、1,6―ナフタレン、1,7―ナフタ
レン、1,8―ナフタレン、4,4′―ビフェニル、
3,3′―ビフェニルなどのほか、
【0026】
【化11】
【0027】が好ましい。これらは、メチル基、エチル
基、n―プロピル基、i―プロピル基、n―ブチル基、
sec―ブチル基、tert―ブチル基などの炭素数1
から10の低級脂肪族基や、低級脂肪族アルコキシ基、
クロロ基、ブロモ基などのハロゲノ基などの置換基を有
していてもよい。更には、カルボニル基のオルト位に水
酸基を有していてもよい。なかでもp―フェニレン、m
―フェニレン、o―フェニレンである。特に好ましいA
1 は、o―フェニレンである。Ar2 、Ar3は、A
1 と同一または異なる芳香族基である。
【0028】本発明の紫外線吸収剤が、特定波長の紫外
線を吸収する能力に優れている理由には、以下のことが
考えられる。まず第1には、マトリックスとなる樹脂を
劣化させ易い波長の光を、
【0029】
【化12】
【0030】に相当するナフタレン環などの芳香環と、
光に敏感なオキシ及び/またはチオ芳香族アミド構造で
吸収すること、第二に芳香族オルトヒドロキシ基による
自己エノール構造でエネルギー的に非常に安定化してい
ることが考えられる。
【0031】本発明の紫外線吸収剤の好ましい具体的な
構造は、
【0032】
【化13】 である。特に、
【0033】
【化14】 が好ましい。
【0034】本発明のオルトヒドロキシ芳香環アミド化
合物は、公知の方法によって得られる。即ち、オルトヒ
ドロキシ芳香族カルボン酸のヒドロキシ基を例えば無水
酢酸やアセチルクロリド等で保護した後、カルボキシル
基を公知の方法で酸クロリド等に変換後ジアミン類と反
応せしめる方法や、上記保護体をアミン類と高圧反応せ
しめる方法や触媒の存在下直接反応せしめる方法などを
経由し、最後に脱保護を行う方法、オルトヒドロキシ芳
香族カルボン酸を低級アルコールのエステルとした後、
ジアミン類と反応せしめる方法などが一般的である。無
論、該化合物の調製はこれらの方法に限定されない。
【0035】本発明の紫外線吸収剤のマトリックス樹脂
に対する割合は0.01重量%以上、好ましくは0.1
重量%以上が好ましい。これより少いと充分な耐光性向
上の効果が得られない。最大配合量は、該紫外線吸収剤
の構造や分子量、配合されるマトリックスとなる樹脂の
構造により異なるが、相溶性低下や低分子量物増加に伴
って成形物の機械的物性を損なわぬように10重量%以
下、好ましくは8重量%以下が好ましい。
【0036】本発明の紫外線吸収剤は、合成樹脂や合成
ゴムに添加して安定な組成物をつくることができる。こ
れらマトリックスとなる合成樹脂、合成ゴムとしては、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリロニトリル、全芳香族ポリエステルを含むポリ
エステル、脂肪族ポリアミド、アラミド、ポリカーボネ
ート、ポリウレタン、不飽和ポリエステル、アルキッド
樹脂、熱硬化アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フェノール樹脂、SBR、NBRなどを
挙げることができる。より好ましくは、全芳香族ポリエ
ステルを含むポリエステル、脂肪族ポリアミド、アラミ
ド、ポリカーボネートである。特に好ましくはアラミド
である。
【0037】アラミドとは、実質的に、一種類以上の公
知の芳香族ジアミンと一種類以上の芳香族酸ハライドに
よって得られるものであり、パラ型でもメタ型でもよい
がパラ型がより好ましい。
【0038】好ましい芳香族ジアミンとしては、p―フ
ェニレンジアミン、m―フェニレンジアミン、ベンチジ
ン、4,4′―ジアミノ―p―ターフェニル、2,7―
ジアミノフルオレン、2,8―ジアミノフェノキサチ
ン、1,4―、1,5―または2,6―ナフタレンジア
ミン、3,3′―、3,4′―、4,4′―ジアミノジ
フェニルエーテル、3,3′―、3,4′―、4,4′
―ジアミノジフェニルアミド、3,3′―、3,4′
―、4,4′―ジアミノジフェニルスルフィド、3,
3′―、3,4′―、4,4′―ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′―、3,4′―、4,4′―ジアミノ
ベンゾフェノン、3,3′―、3,4′―、4,4′―
ジアミノジフェニルメタン、および、その芳香環に1個
以上の低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲノ
基、ニトロ基などの非反応性官能基を含むものなどや、
2,2―ビス―4(4―アミノフェノキシ)フェニルプ
ロパン、2,2―ビス―4(3―アミノフェノキシ)フ
ェニルプロパン、2,2―ビス―4(4―アミノフェノ
キシ)フェニルヘキサフロロプロパン、2,2―ビス―
4(3―アミノフェノキシ)フェニルヘキサフロロプロ
パン、ビス―4(4―アミノフェノキシ)フェニルスル
ホン、ビス―4(3―アミノフェノキシ)フェニルスル
ホン、1,4―ビス―(4―アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,4―ビス―(3―アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,3―ビス―(4―アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,3―ビス―(3―アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、4,4′―ビス―(4―アミノフェノキシ)ビフェ
ニル、4,4′―ビス―(3―アミノフェノキシ)ビフ
ェニル、p―キシリレンジアミン、m―キシリレンジア
ミン、p―アミノベンジルアミン、m―アミノベンジル
アミン、9,10―ビス―(4―アミノフェニル)アン
トラセン、9,9―ビス―(4―アミノフェニル)フル
オレンなどが挙げられる。
【0039】芳香族ジカルボン酸ハライドとしては該酸
クロリドが特に好ましく、テレフタル酸クロリド、イソ
フタル酸クロリド、2,6―、2,5―ナフタレンジカ
ルボン酸クロリド、4,4′―ジフェニルジカルボン酸
クロリド、および、その芳香環に1個以上の低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲノ基、ニトロ基などの
非反応性官能基を含むものなどが挙げられる。
【0040】アラミドとは、繰り返し単位の有機残基の
80モル%以上、より好ましくは90モル%以上が芳香
族であることが好ましく、この割合よりも芳香族残基が
少ないとアラミドの特徴である耐熱性等が不足し、不都
合を生じる場合が多い。
【0041】アラミドの構造は、繰り返し単位の80モ
ル%以上が下記のものである。
【0042】
【化15】
【0043】(但し、Ar4 、Ar5
【0044】
【化16】
【0045】から選ばれた少なくとも一種類の芳香族残
基を示す。なお、Ar4 、Ar5 は互いに同一でも相異
なるものでもよい。これらの芳香族残基はその水素原子
の一部または全部がハロゲン原子または低級アルキル基
で置換されていてもよい。)なかでも、前記Ar4 、A
5 の合計の80モル%以上が下記芳香族残基Aおよび
BまたはB′またはCからなり、かつBまたはB′の比
率が10から40モル%であるアラミドが好適である。
【0046】
【化17】
【0047】
【化18】
【0048】
【化19】
【0049】
【化20】
【0050】紡糸原液となるアラミドドープは、溶液重
合を行ったものでも、別途得られたアラミドを溶媒に溶
解せしめたものでもよいが、溶液重合反応を行ったもの
が好ましい。また、溶解性を向上せしめるために溶解助
剤として無機塩を適当量添加しても差し支えない。この
ような無機塩としては、例えば、塩化リチウム、塩化カ
ルシウム等が挙げられる。
【0051】重合溶媒、あるいは再溶解溶媒としては一
般に公知の非プロトン性有機極性溶媒を用いるが、例を
挙げるとN―メチル―2―ピロリドン、N―エチル―2
―ピロリドン、N,N―ジメチルホルムアミド、N,N
―ジメチルアセトアミド、N,N―ジエチルアセトアミ
ド、N,N―ジメチルプロピオンアミド、N,N―ジメ
チルブチルアミド、N,N―ジメチルイソブチルアミ
ド、N―メチルカプロラクタム、N,N―ジメチルメト
キシアセトアミド、N―アセチルピロリジン、N―アセ
チルピペリジン、N―メチルピペリドン―2、N,N′
―ジメチルエチレン尿素、N,N′―ジメチルプロピレ
ン尿素、N,N,N′,N′―テトラメチルマロンアミ
ド、N―アセチルピロリドン、N,N,N′,N′―テ
トラメチル尿素、ジメチルスルホキシドなどである。
【0052】アラミドの重合度は特に制限はないが、ア
ラミドが溶媒に溶けるならば重合度は大きい方が好まし
い。アラミドを溶液重合する場合、酸成分とジアミン成
分との比は実質的に等モルで反応させるが重合度制御の
ためいずれかの成分を過剰に用いることもできる。ま
た、末端封鎖剤として単官能性の酸成分、アミン成分を
使用してもよい。
【0053】本発明の紫外線吸収剤を樹脂に配合する方
法としては、成形あるいは加工時に直接添加する方法、
予めコンパウンドを作り、それを加工する方法、高濃度
のマスターバッチを作りそれを加工時にポリマーに添加
する方法、ポリマー重合時に添加する方法等がいずれも
好適に用いられる。
【0054】特に、本発明の紫外線吸収剤のアラミドへ
の配合は以下のように行うのが好ましい。
【0055】即ち、アラミドドープが、溶液重合反応後
アラミドを単離せずに得られたものであるならば、該紫
外線吸収剤を単体、スラリーあるいは溶液として中和反
応以降でかつ成形前に配合することが好ましい。これ
は、一般には溶液重合反応中では、芳香族酸ハライドが
該紫外線吸収剤中のフェノール性OH基と反応し、重合
反応を阻害したりするからである。
【0056】また、アラミドドープが、アラミドを溶媒
に再溶解せしめて得られた場合は、再溶解の段階で溶媒
に該紫外線吸収剤を単体、スラリーまたは溶液として配
合せしめてもよいし、成形前に配合せしめてもよい。配
合方法は、攪拌翼やエクストルーダーなどを使用した動
的配合でもスタティックミキサーによる静的配合でもよ
い。
【0057】本発明の紫外線吸収剤は、配合されるマト
リックスとなる樹脂と均一に混合できることが成形時の
機械的物性の面から好ましいが機械的物性の低下が許容
範囲であれば、本発明の紫外線吸収剤が分散しているだ
けでも何ら構わない。
【0058】本発明の紫外線吸収剤と樹脂との組成物は
通常公知の方法で成形される。樹脂が特にアラミドの場
合には、ドープにして、通常湿式成形される。繊維に成
形される場合には、該ドープを凝固浴の中に直接吐出し
てもよいし、あるいはエアギャップを設けてもよい。凝
固浴には、アラミドの貧溶媒が用いられるが、アラミド
ドープの溶媒が急速に抜け出してアラミド繊維に欠陥が
できぬように、通常は良溶媒を添加して凝固速度を調節
する。一般には、貧溶媒として水、良溶媒としてはアラ
ミドドープの溶媒を用いるのが好ましい。良溶媒/貧溶
媒の比は、アラミドの溶解性や凝固性にも依るが、15
/85から40/60が一般的に好ましい。
【0059】本発明の紫外線吸収剤は、本発明の目的の
ためには単一物であっても数種類の混合物であってもよ
い。また、本発明の紫外線吸収剤は、従来より公知の紫
外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などと併用すること
ができる。更には、可塑剤、乳化剤、潤滑剤、顔料、蛍
光増白剤、難燃剤、帯電防止剤と併用することができ
る。
【0060】本発明の樹脂組成物から得られる成形物と
しては、繊維、パルプ、粉体、フイルム、テープ、シー
トのような各種成形材料のほか、該組成物をパルプ状あ
るいは粉体状としたのち圧縮成形したもの、流延キャス
ト方による該組成物溶液からのフイルムなどが挙げられ
る。
【0061】
【発明の効果】本発明の紫外線吸収剤は、従来品と比べ
て紫外線吸収能が劣らないばかりでなく、耐熱性も非常
に高い。更に、該紫外線吸収剤をブレンドした樹脂組成
物、特にアラミド組成物は、高い耐光性向上効果を有
し、かつ熱安定性が高く昇華性も低いので、機械的物性
の低下をきたさずに従来より少量の添加で高い耐光性向
上効果を有することができる。
【0062】以下実施例を挙げて、本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、本実施例中で用いられる部は、重量部を表す。
【0063】
【実施例1】 本発明のナフトールアミド化合物(以下NADという)
の評価 (1)NADの合成方法 2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸を、大量の無水酢酸中
で75℃で1時間加熱し、エバポレーターで濃縮した
後、大量の水に展開した。一晩静置後、沈殿物を濾過
し、酢酸/水(2/1)混合液で再結晶した。これを単
離し、乾燥後、大量のチオニルクロライド中で70℃、
1時間加熱処理した。この反応液を冷却すると結晶が生
じたので、これを濾別して充分乾燥後、74.6g
(0.3mol)を、1,4―ビス―(4―アミノフェ
ノキシ)ベンゼン(43.8g、0.15mol)とN
―メチル―2―ピロリドン(500ml)中で100℃
で30分間反応せしめた。大量の水に展開し沈澱物を濾
過後、10%炭酸カリウム水溶液/メタノール(1/
1)(1500ml)中で60℃、2時間処理した。こ
れを1N塩酸水溶液で約PH4にして沈殿物を生じせし
め、N,N―ジメチルスルホキシドで再結晶し、59.
7gのNADを得た。(1,4―ビス―(4―アミノフ
ェノキシ)ベンゼンからの収率63%)
【0064】(2)NADの同定 炭素核磁気共鳴スペクトル(13C―NMR)、赤外吸収
スペクトル(IR)の各スペクトルを図1、図2に示
す。熱分解質量分析スペクトル(FD―MS)より求め
た分子量は、632.2であり、構造と一致した。融点
は358℃であった。また、λmax.は302nmで
あった。
【0065】(3)アラミドとの配合 <アラミドドープの調製>充分に乾燥した攪拌装置付き
の三つ口フラスコにN―メチル―2―ピロリドン(以下
NMPという)112.9部、p―フェニレンジアミン
1.506部、3,4′―ジアミノジフェニルエーテル
2.789部を常温下で入れ、窒素中で溶解した後、攪
拌しながらテレフタル酸クロリド5.658部を添加し
た。最終的に85℃で60分間反応せしめ、透明の粘稠
なポリマー溶液を得た。次いで、22.5重量%の水酸
化カルシウムを含有するNMPスラリー9.174部を
添加し、中和反応を行った。得られたポリマーの対数粘
度は3.41であった(なお、ポリマー溶液の粘度は、
外径3mmの鋼球(材質SUS316)にて100℃の
恒温槽内で落球法にて測定した値である。)。また、ド
ープ中のポリマー濃度は6.000重量%(7.921
部)であった。
【0066】<アラミドドープへの、NADの添加(成
形用原液の調製)>上記のようにして得られたドープに
対して、NADの20%NMP溶液を、アラミドポリマ
ーに対してNADが3重量%となるように添加し混合し
た。
【0067】(4)紡糸 このドープを孔径0.3mm、孔数100個の口金を通
してNMP30重量%の凝固浴に押出し湿式紡糸した。
口金面と凝固浴との距離は8mmとした。紡出繊維を水
洗、乾燥後、熱板上390℃で2.5倍と、520℃で
二段延伸して最大延伸倍率の8割の延伸倍率で巻取り、
全繊度150デニールのフィラメントを得た。得られた
繊維の機械的物性を表1に示す。
【0068】(5)耐光性評価 得られた繊維の耐光性を、JIS規格のサンシャイン評
価(63℃、雨あり)100時間後の強度、伸度劣化を
測定して実施した。結果を表1に示す。
【0069】
【比較例1】実施例1で調製した、NADを添加する前
のアラミドドープを、実施例1と同様にして紡糸した。
得られた繊維の機械的物性を表1に示す。また、耐光性
評価も実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。N
ADを添加した実施例1と比較して耐光性が大幅に低下
した。
【0070】
【参考例1】実施例1と同様にして、本発明以外のナフ
トールアミド化合物(ナフトールAS―BR:ヘキスト
社製)を実施例1のアラミドに対して3重量%添加し、
製糸、耐光評価を実施した。ナフトールAS―BRを添
加しないものよりは、耐光性は向上したが、実施例1の
レベルまでは到達していない。
【0071】
【実施例2】NADの添加量を0.01重量%にする以
外は実施例1と全く同様にして、紡糸・製糸および耐光
性評価を実施した。結果を表1に示す。
【0072】
【比較例2】NADの添加量を0.005重量%にする
以外は実施例1と全く同様にして、紡糸・製糸および耐
光性評価を実施した。結果を表1に示す。耐光性が向上
しているとは言い難い。
【0073】
【実施例3】NADの添加量を10重量%にする以外は
実施例1と全く同様にして、紡糸・製糸および耐光性評
価を実施した。結果を表1に示す。
【0074】
【比較例3】NADの添加量を15重量%にする以外は
実施例1と全く同様にして、紡糸・製糸および耐光性評
価を実施した。結果を表1に示す。耐光性が向上してい
るが糸の初期物性が低い。
【0075】
【実施例4】NADをポリエチレンテレフタレートに対
し、1重量%添加し、285℃で10分間溶融混合し
た。これを、製糸して75de/24fil.のヤーン
を得た。これを、実施例1と同様に耐光性評価を行っ
た。結果を表1に示す。
【0076】
【実施例5】NADをナイロン6に対し、1重量%添加
し、260℃で10分間溶融混合した。これを、製糸し
て70de/48fil.のヤーンを得た。これを、実
施例1と同様に耐光性評価を行った。結果を表1に示
す。
【0077】
【比較例4、5】実施例4、5のNADを添加しない糸
を製糸し、実施例1と同様に耐光性評価を行った、結果
を表1に示す。いずれもNADを添加した糸に比べて耐
光性が低下している。
【0078】
【表1】
【0079】
【実施例6】NADをポリカーボネートに対し、1重量
%添加し、280℃で溶融混合し、フイルムにした。こ
れに、紫外線ランプ(東芝(株)製 光化学ランプH―
400P)で紫外線を、光源より15cmの位置で1時
間照射したがフイルムは変色せず、強度も低下しなかっ
た。
【0080】
【比較例6】実施例6のNADを添加しないフイルムに
対し、実施例6と同様に耐光テストを実施した。フイル
ムは着色し、手で持つとすぐ折れるほど脆くなった。
【図面の簡単な説明】
【図1】NADの13C―NMRスペクトルである。
【図2】NADのIRスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09K 3/00 104 Z // C07D 209/56 8217−4C 209/88 8217−4C 235/02 Z 307/91

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式で表されるナフトールアミド
    化合物 【化1】 からなる紫外線吸収剤。式中、 【化2】 は、 【化3】 より選ばれ、R1 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
    が1から10のアルキル基、アルコキシ基から選ばれる
    基であり、Ar1 、Ar2 、Ar3 は互いに同一でも異
    なっていてもよい芳香族基であり、nは0又は1、Xは
    O又はSより選ばれる。
  2. 【請求項2】 請求項1の紫外線吸収剤を0.01〜1
    0重量%含有してなる樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 樹脂が全芳香族ポリアミドである請求項
    2の樹脂組成物。
JP5228865A 1993-09-14 1993-09-14 紫外線吸収剤及び樹脂組成物 Pending JPH0782413A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5228865A JPH0782413A (ja) 1993-09-14 1993-09-14 紫外線吸収剤及び樹脂組成物
US08/304,866 US5532412A (en) 1993-09-14 1994-09-13 Ultraviolet ray-absorbing aromatic compound and polymeric composition containing the same
EP94114350A EP0643039B1 (en) 1993-09-14 1994-09-13 Ultraviolet ray-absorbing aromatic compound and polymeric composition containing the same
DE69404582T DE69404582T2 (de) 1993-09-14 1994-09-13 Ultraviolett absorbierende aromatische Verbindungen und diese enthaltende Polymerzusammensetzungen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5228865A JPH0782413A (ja) 1993-09-14 1993-09-14 紫外線吸収剤及び樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0782413A true JPH0782413A (ja) 1995-03-28

Family

ID=16883095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5228865A Pending JPH0782413A (ja) 1993-09-14 1993-09-14 紫外線吸収剤及び樹脂組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5532412A (ja)
EP (1) EP0643039B1 (ja)
JP (1) JPH0782413A (ja)
DE (1) DE69404582T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140075197A (ko) * 2012-12-11 2014-06-19 도레이케미칼 주식회사 메타아라미드 조성물 제조방법 및 이를 통해 제조된 메타아라미드 조성물

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050029209A (ko) * 2002-07-15 2005-03-24 미리어드 제네틱스, 인크. 화합물, 조성물 및 이의 사용방법
DE10308226A1 (de) * 2003-02-25 2004-09-23 Degussa Ag Transparente Formmasse für optische Anwendungen
CN107849742B (zh) 2015-09-29 2021-08-20 帝人芳纶有限公司 具有改进的水解稳定的聚亚芳基化合物纤维

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5817158A (ja) * 1981-07-23 1983-02-01 Dainippon Ink & Chem Inc 紫外線を遮断する樹脂組成物
JPS6210580A (ja) * 1985-07-08 1987-01-19 凸版印刷株式会社 断熱パネル
JPH059293A (ja) * 1991-07-04 1993-01-19 Teijin Ltd 全芳香族ポリアミド組成物
JP3137707B2 (ja) * 1992-01-22 2001-02-26 帝人株式会社 全芳香族ポリアミド組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140075197A (ko) * 2012-12-11 2014-06-19 도레이케미칼 주식회사 메타아라미드 조성물 제조방법 및 이를 통해 제조된 메타아라미드 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
EP0643039A1 (en) 1995-03-15
DE69404582T2 (de) 1998-02-19
EP0643039B1 (en) 1997-07-30
DE69404582D1 (de) 1997-09-04
US5532412A (en) 1996-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4245066A (en) Wholly aromatic polyamide blend composition
JPH0782413A (ja) 紫外線吸収剤及び樹脂組成物
EP0552499B1 (en) Wholly aromatic polyamide resin composition having enhanced light resistance
Yang et al. Synthesis and properties of aromatic polyamides derived from 1, 7‐bis (4‐aminophenoxy) naphthalene and various aromatic dicarboxylic acids
US4978734A (en) Polyamide-polyamide and polybenzoxazole-polyamide polymer
Liaw et al. Synthesis and characterization of new cardo polyamides derived from 8, 8‐bis [4‐(4‐aminophenoxy) phenyl] tricyclo [5.2. 1.02, 6] decane
Imai et al. Preparation and properties of N‐phenylated aromatic polyamides from N, N′‐diphenyl‐p‐phenylenediamine and aromatic diacid chlorides
JPH0782414A (ja) 紫外線吸収剤及び樹脂組成物
So et al. Poly (p‐Phenylenebenzobisoxazole) fiber with polyphenylene sulfide pendent groups
US5504182A (en) Thermoplastically processable aromatic polyether amide
Yang et al. Synthesis and properties of aromatic polyamides derived from 2, 6‐bis (4‐aminophenoxy) naphthalene and various aromatic dicarboxylic acids
Liaw et al. Synthesis and characterization of new soluble polyamides derived from 3, 3′, 5, 5′‐tetramethyl‐2, 2‐bis [4‐(4‐carboxyphenoxy) phenyl] propane
JPH07278431A (ja) 芳香族ポリアミド類とフラーレン類とを含む組成物、それで成形された構造物およびその使用
JP2795519B2 (ja) 芳香族ポリアミド
JPH07118523A (ja) アラミド組成物
US4914180A (en) Polyamides prepared from 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl) hexafluoro propane
Otsuki et al. Preparation and properties of aromatic–aliphatic copolyamides from aromatic diisocyanates and dicarboxylic acids
IE910515A1 (en) Wholly aromatic polyamides, preparation thereof and shaped structures therefrom
JPH01207322A (ja) ビス〔2−(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロイソプロピル)ジフェニルエーテルのポリカルボンアミド
Wang et al. Synthesis and properties of phosphorus containing polyester‐amides derived from 1, 4‐bis (3‐aminobenzoyloxy)‐2‐(6‐oxido‐6H‐dibenz< c, e>< 1, 2> oxaphosphorin‐6‐yl) phenylene
US4966955A (en) Aromatic copolyether amide which can be processed as a thermoplastic, process for its preparation, and its use for the production of molding
US5334693A (en) Aramid composition
JPH01115932A (ja) 新規成形用ドープ
JPH08113706A (ja) アラミド組成物
JPH059293A (ja) 全芳香族ポリアミド組成物