JPH05136304A - 半導体モジユール及びそれを用いたパワー制御装置 - Google Patents
半導体モジユール及びそれを用いたパワー制御装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放熱効率の向上と放熱性のばらつきを改善
し、平面度管理、ネジ締めトルク管理の省略、工作性の
向上、パワー制御装置の小型化の促進を図る。 【構成】 アルミフィン7を用いた半導体モジュールに
おいて、アルミフィン7上に直接コートされる厚膜樹脂
15と、厚膜樹脂15表面に導電路を形成する銅箔パタ
ーン4と、銅箔パターン4上に接続する半導体素子6を
有する。また、上記半導体モジュール用いたパワー制御
装置は、銅箔パターン4により形成される導電路以外の
部分に半田付け実装される制御回路部16を有する。
し、平面度管理、ネジ締めトルク管理の省略、工作性の
向上、パワー制御装置の小型化の促進を図る。 【構成】 アルミフィン7を用いた半導体モジュールに
おいて、アルミフィン7上に直接コートされる厚膜樹脂
15と、厚膜樹脂15表面に導電路を形成する銅箔パタ
ーン4と、銅箔パターン4上に接続する半導体素子6を
有する。また、上記半導体モジュール用いたパワー制御
装置は、銅箔パターン4により形成される導電路以外の
部分に半田付け実装される制御回路部16を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、放熱フィンを用いた
半導体モジュールと、該半導体モジュールを用いた、可
変電圧、可変周波数の交流を得る誘導電動機駆動用イン
バータ装置等のパワー制御装置に関するものである。
半導体モジュールと、該半導体モジュールを用いた、可
変電圧、可変周波数の交流を得る誘導電動機駆動用イン
バータ装置等のパワー制御装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は、例えば、特開平2−20978
7号公報に開示されている「回路基板」の主要構成を示
す説明図であり、ここでは、アルミニウム基板1上にポ
リイミドフィルム3を接着層2によって接着し、その上
に銅箔パターン4により導電路を形成し、更に、その上
に銅片等の熱伝導板5を介して半導体素子6等を固着し
ている。
7号公報に開示されている「回路基板」の主要構成を示
す説明図であり、ここでは、アルミニウム基板1上にポ
リイミドフィルム3を接着層2によって接着し、その上
に銅箔パターン4により導電路を形成し、更に、その上
に銅片等の熱伝導板5を介して半導体素子6等を固着し
ている。
【0003】図5は、図4に示した回路基板を利用した
インバータ装置の主要構成を示す説明図であり、図示の
如く、アルミニウム基板1の裏面に放熱性を高めるため
にシリコーンコンパウンド8を塗布し、放熱フィン7に
対しネジ9を用いて固定していた。図中、10はアルミ
ニウム基板1上の半導体素子6を保護するモールドパッ
ケージ、11は半導体モジュールを保護するインバータ
装置のカバー、12は半導体素子6と銅箔パターン4を
つなぐワイヤである。
インバータ装置の主要構成を示す説明図であり、図示の
如く、アルミニウム基板1の裏面に放熱性を高めるため
にシリコーンコンパウンド8を塗布し、放熱フィン7に
対しネジ9を用いて固定していた。図中、10はアルミ
ニウム基板1上の半導体素子6を保護するモールドパッ
ケージ、11は半導体モジュールを保護するインバータ
装置のカバー、12は半導体素子6と銅箔パターン4を
つなぐワイヤである。
【0004】上記の如く、シリコーンコンパウンド8を
塗布するのは、仮に、アルミニウム基板1と放熱フィン
7をシリコーンコンパウンド8を塗らずに直接ネジ止め
した場合、その間隙に小さな空気の隙間が形成される。
空気の熱伝導率は約0.06×10-3(cal/cm・
s・℃)と小さく、熱が伝わりにくいので放熱性改善の
ために利用しているものである。
塗布するのは、仮に、アルミニウム基板1と放熱フィン
7をシリコーンコンパウンド8を塗らずに直接ネジ止め
した場合、その間隙に小さな空気の隙間が形成される。
空気の熱伝導率は約0.06×10-3(cal/cm・
s・℃)と小さく、熱が伝わりにくいので放熱性改善の
ために利用しているものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の回路基板にあっ
ては、放熱性改善のためにシリコーンコンパウンドを塗
布するが、シリコーンコンパウンドの熱伝導率は約3.
4×10-3(cal/cm・s・℃)と、アルミの熱伝
導率486×10-3(cal/cm・s・℃)に比べる
とかなり悪く、この構成を採用すると放熱効率が低下す
るという問題点があった。
ては、放熱性改善のためにシリコーンコンパウンドを塗
布するが、シリコーンコンパウンドの熱伝導率は約3.
4×10-3(cal/cm・s・℃)と、アルミの熱伝
導率486×10-3(cal/cm・s・℃)に比べる
とかなり悪く、この構成を採用すると放熱効率が低下す
るという問題点があった。
【0006】また、アルミニウム基板の裏面にシリコー
ンコンパウンドを塗布する際にあっては、コストの面か
らできるだけ薄く全面に塗るが、アルミニウム基板や放
熱フィンに反りがあると、シリコーンコンパウンドが塗
布されない部分が発生し、毎回反りに合わせて適量を塗
ることは難しく、その結果、隙間ができる(ネジ締めに
より反りが生じ、隙間ができる場合もある)と放熱性に
ばらつきが発生するという問題点があった。
ンコンパウンドを塗布する際にあっては、コストの面か
らできるだけ薄く全面に塗るが、アルミニウム基板や放
熱フィンに反りがあると、シリコーンコンパウンドが塗
布されない部分が発生し、毎回反りに合わせて適量を塗
ることは難しく、その結果、隙間ができる(ネジ締めに
より反りが生じ、隙間ができる場合もある)と放熱性に
ばらつきが発生するという問題点があった。
【0007】そのため、アルミニウム基板、放熱フィン
の平面度管理、ネジ締めトルク管理が必要となり、工程
数が増加し、反りがひどいものは廃却しなければなら
ず、歩留まりが悪くなるという問題点があった。
の平面度管理、ネジ締めトルク管理が必要となり、工程
数が増加し、反りがひどいものは廃却しなければなら
ず、歩留まりが悪くなるという問題点があった。
【0008】また、シリコーンコンパウンドは、指につ
くとべたつき工作性が悪いという問題点もあった。
くとべたつき工作性が悪いという問題点もあった。
【0009】また、放熱性を損なわず、全面隙間ができ
ないようにアルミニウム基板と放熱フィンをネジで締め
合わせるため、アルミニウム基板、放熱フィンに反りが
あると、締め付けたときに半導体素子の半田付け部や銅
箔パターンに応力がかかり、半導体素子の割れ、半導体
素子のパターンからの剥離、パターンの亀裂等を招来
し、機器が破損する恐れがあった。そこで、アルミニウ
ム基板、放熱フィンの厳密な平面度管理、ネジ締めトル
ク管理が必要となるが、上記理由に起因する割れ等を絶
無にすることは実際には難しいという問題点があった。
ないようにアルミニウム基板と放熱フィンをネジで締め
合わせるため、アルミニウム基板、放熱フィンに反りが
あると、締め付けたときに半導体素子の半田付け部や銅
箔パターンに応力がかかり、半導体素子の割れ、半導体
素子のパターンからの剥離、パターンの亀裂等を招来
し、機器が破損する恐れがあった。そこで、アルミニウ
ム基板、放熱フィンの厳密な平面度管理、ネジ締めトル
ク管理が必要となるが、上記理由に起因する割れ等を絶
無にすることは実際には難しいという問題点があった。
【0010】更に、アルミニウム基板上にネジ穴のスペ
ースが必要であり、部品実装やパターンに使える面積が
狭くなり所望の処理を実行するパワー制御装置を得るた
めにはアルミニウム基板を大きくしなければならず、パ
ワー制御装置の小型化を阻害するという問題点もあっ
た。
ースが必要であり、部品実装やパターンに使える面積が
狭くなり所望の処理を実行するパワー制御装置を得るた
めにはアルミニウム基板を大きくしなければならず、パ
ワー制御装置の小型化を阻害するという問題点もあっ
た。
【0011】この発明は、上記の問題点を解決するため
になされたものであって、放熱効率の向上と放熱性のば
らつき改善を行い、アルミニウム基板、放熱フィンの厳
密な平面度管理、ネジ締めトルク管理の省略、工作性の
向上、パワー制御装置の小型化の促進を図ることを目的
とする。
になされたものであって、放熱効率の向上と放熱性のば
らつき改善を行い、アルミニウム基板、放熱フィンの厳
密な平面度管理、ネジ締めトルク管理の省略、工作性の
向上、パワー制御装置の小型化の促進を図ることを目的
とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体モ
ジュールは、放熱フィンを用いた半導体モジュールにお
いて、前記放熱フィン上に直接コートされる電気絶縁樹
脂と、前記電気絶縁樹脂表面に導電路を形成する銅箔パ
ターンと、前記銅箔パターン上に接続するパワー半導体
素子を有するものである。
ジュールは、放熱フィンを用いた半導体モジュールにお
いて、前記放熱フィン上に直接コートされる電気絶縁樹
脂と、前記電気絶縁樹脂表面に導電路を形成する銅箔パ
ターンと、前記銅箔パターン上に接続するパワー半導体
素子を有するものである。
【0013】また、この発明に係る半導体モジュールを
用いたパワー制御装置は、放熱フィンと、前記放熱フィ
ン上に直接コートされる電気絶縁樹脂と、前記電気絶縁
樹脂表面に導電路を形成する銅箔パターンと、前記銅箔
パターン上に半田付け実装されるパワー半導体素子と、
前記導電路以外の部分に半田付け実装される制御回路部
とを有するものである。
用いたパワー制御装置は、放熱フィンと、前記放熱フィ
ン上に直接コートされる電気絶縁樹脂と、前記電気絶縁
樹脂表面に導電路を形成する銅箔パターンと、前記銅箔
パターン上に半田付け実装されるパワー半導体素子と、
前記導電路以外の部分に半田付け実装される制御回路部
とを有するものである。
【0014】
【作用】この発明に係る半導体モジュールは、放熱フィ
ン上に電気絶縁樹脂を直接コートし、電気絶縁樹脂表面
に銅箔パターンよって導電路を形成し、銅箔パターン上
にパワー半導体素子を接続したものである。
ン上に電気絶縁樹脂を直接コートし、電気絶縁樹脂表面
に銅箔パターンよって導電路を形成し、銅箔パターン上
にパワー半導体素子を接続したものである。
【0015】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1は、この発明に係る半導体モジュールの構成
を示す説明図であり、(放熱用)アルミフィン7の上に
電気絶縁用の厚膜樹脂15、例えば、エポキシ樹脂を直
接コートして、導電路を形成するためその上に銅箔パタ
ーン4を印刷し、熱伝導板5を介してその上にパワート
ランジスタ、IGBT、ダイオード等の半導体素子6の
裸のチップを半田付け実装したものである。12は半導
体素子6と銅箔パターン4をつなぐワイヤである。
する。図1は、この発明に係る半導体モジュールの構成
を示す説明図であり、(放熱用)アルミフィン7の上に
電気絶縁用の厚膜樹脂15、例えば、エポキシ樹脂を直
接コートして、導電路を形成するためその上に銅箔パタ
ーン4を印刷し、熱伝導板5を介してその上にパワート
ランジスタ、IGBT、ダイオード等の半導体素子6の
裸のチップを半田付け実装したものである。12は半導
体素子6と銅箔パターン4をつなぐワイヤである。
【0016】図2は、上記図1に示した半導体モジュー
ルを利用したパワー制御装置の構成を示す説明図であ
り、上記銅箔パターン4上に半田付け実装される半導体
素子6の他、銅箔パターン4により形成される導電路以
外の部分に制御回路部16を半田付け実装する。11は
パワー制御装置の内部を保護するカバーである。
ルを利用したパワー制御装置の構成を示す説明図であ
り、上記銅箔パターン4上に半田付け実装される半導体
素子6の他、銅箔パターン4により形成される導電路以
外の部分に制御回路部16を半田付け実装する。11は
パワー制御装置の内部を保護するカバーである。
【0017】次に、アルミフィン7に対するエポキシ樹
脂(厚膜樹脂15)等の絶縁体のコート方法の一例につ
いて説明する。まず、アルミナ粉末、エポキシ樹脂、硬
化剤及び溶剤等から成る接着剤ワニスを銅箔に対し均一
に塗布し、乾燥させる。ここにおいて、アルミナ粉末
は、熱伝導性をよくするために充填されるものである。
その後、表面を平面研磨処理しておいたアルミフィン7
の表面に上記接着剤ワニス付銅箔を、接着剤側をアルミ
フィン側にして貼り合わせた後、加熱・加圧してコート
するものである。
脂(厚膜樹脂15)等の絶縁体のコート方法の一例につ
いて説明する。まず、アルミナ粉末、エポキシ樹脂、硬
化剤及び溶剤等から成る接着剤ワニスを銅箔に対し均一
に塗布し、乾燥させる。ここにおいて、アルミナ粉末
は、熱伝導性をよくするために充填されるものである。
その後、表面を平面研磨処理しておいたアルミフィン7
の表面に上記接着剤ワニス付銅箔を、接着剤側をアルミ
フィン側にして貼り合わせた後、加熱・加圧してコート
するものである。
【0018】次に、アルミフィン7の表面酸化による絶
縁の方法について説明する。アルミニウムは、大気中に
おいて、その表面に容易に安定な酸化皮膜を形成する
が、耐食性を向上させるために、より厚い酸化皮膜を意
図的に形成する場合には、陽極酸化法と化学薬品による
化学的皮膜化成処理法がある。
縁の方法について説明する。アルミニウムは、大気中に
おいて、その表面に容易に安定な酸化皮膜を形成する
が、耐食性を向上させるために、より厚い酸化皮膜を意
図的に形成する場合には、陽極酸化法と化学薬品による
化学的皮膜化成処理法がある。
【0019】陽極酸化法は、シュウ酸2%とか、硫酸1
5%の電解液中において、アルミ製品を直流電解の陽極
とし、更に、交流を重畳させて、陽極皮膜(アルマイト
層)を作成する方法である。また、化学的皮膜化成処理
法は、例えば、炭酸ソーダ約5%の水溶液中に20〜3
0分程度浸せきする方法である。
5%の電解液中において、アルミ製品を直流電解の陽極
とし、更に、交流を重畳させて、陽極皮膜(アルマイト
層)を作成する方法である。また、化学的皮膜化成処理
法は、例えば、炭酸ソーダ約5%の水溶液中に20〜3
0分程度浸せきする方法である。
【0020】次に、エッチングの方法について説明す
る。図3は、エッチングの方法について工程別に示した
ものである。図3(a)に示すように、アルミフィン7
の上に電気絶縁用の厚膜樹脂15、例えば、エポキシ樹
脂を直接コートし、導電路を形成するために厚膜樹脂1
5に印刷した銅箔パターン4の上にドライフィルム17
をラミネートする。このとき、例えば、温度は90〜1
00度、圧力は2〜4kg/cm2 、速度は1.0〜
2.0m/分である。
る。図3は、エッチングの方法について工程別に示した
ものである。図3(a)に示すように、アルミフィン7
の上に電気絶縁用の厚膜樹脂15、例えば、エポキシ樹
脂を直接コートし、導電路を形成するために厚膜樹脂1
5に印刷した銅箔パターン4の上にドライフィルム17
をラミネートする。このとき、例えば、温度は90〜1
00度、圧力は2〜4kg/cm2 、速度は1.0〜
2.0m/分である。
【0021】次に、図3(b)に示すように、その上に
ネガパターンマスク18を被せて、例えば、高圧水銀灯
により露光処理を実行する。その後、図3(c)に示す
ように、ネガパターンマスク18を外し、ドライフィル
ム17は光の影になった部分を剥がし、残ったドライフ
ィルム17を現像液を用いて現像する。
ネガパターンマスク18を被せて、例えば、高圧水銀灯
により露光処理を実行する。その後、図3(c)に示す
ように、ネガパターンマスク18を外し、ドライフィル
ム17は光の影になった部分を剥がし、残ったドライフ
ィルム17を現像液を用いて現像する。
【0022】次に、図3(d)に示すように、塩化鉄或
いは塩化銅溶液にて不要部分になる箇所の銅箔パターン
を4を溶かしてエッチングを行う。最後に、図3(e)
に示すようにドライフィルム17(硬化レジスト)を剥
離する。
いは塩化銅溶液にて不要部分になる箇所の銅箔パターン
を4を溶かしてエッチングを行う。最後に、図3(e)
に示すようにドライフィルム17(硬化レジスト)を剥
離する。
【0023】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、シリ
コーンコンパウンドの層がなくなるので、パワー半導体
素子で発生した熱の伝導率を大きく改善することができ
るため、機器の寿命が伸びる効果がある。また、放熱性
のバラツキがなくなり、更に、ネジ締めをしなくてよい
ため、反りに起因した素子、パターンへの応力の発生が
なく、機器の信頼性が向上する効果がある。また、ネジ
止めに必要なネジ穴のスペースの確保が不要となるた
め、各種素子実装のための有効面積が増え機器の小型化
を促進し、シリコーンコンパウンドを塗る手間が省ける
ため、工作性が向上する効果がある。
コーンコンパウンドの層がなくなるので、パワー半導体
素子で発生した熱の伝導率を大きく改善することができ
るため、機器の寿命が伸びる効果がある。また、放熱性
のバラツキがなくなり、更に、ネジ締めをしなくてよい
ため、反りに起因した素子、パターンへの応力の発生が
なく、機器の信頼性が向上する効果がある。また、ネジ
止めに必要なネジ穴のスペースの確保が不要となるた
め、各種素子実装のための有効面積が増え機器の小型化
を促進し、シリコーンコンパウンドを塗る手間が省ける
ため、工作性が向上する効果がある。
【図1】この発明による半導体モジュールの概略構成を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図2】図1に示した半導体モジュールを用いたパワー
制御装置の概略構成を示す説明図である。
制御装置の概略構成を示す説明図である。
【図3】この発明によるエッチングの方法を示す説明図
である。
である。
【図4】従来における半導体モジュールの概略構成を示
す説明図である。
す説明図である。
【図5】図4に示した半導体モジュールを用いたパワー
制御装置の概略構成を示す説明図である。
制御装置の概略構成を示す説明図である。
4 銅箔パターン 5 熱伝導板 6 半導体素子 7 (放熱用)アルミフィン 15 絶縁膜 16 制御回路部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月6日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
Claims (3)
- 【請求項1】 放熱フィンを用いた半導体モジュールに
おいて、前記放熱フィン上に直接コートされる電気絶縁
樹脂と、前記電気絶縁樹脂表面に導電路を形成する銅箔
パターンと、前記銅箔パターン上に接続するパワー半導
体素子を有することを特徴とする半導体モジュール。 - 【請求項2】 放熱フィンと、前記放熱フィン上に直接
コートされる電気絶縁樹脂と、前記電気絶縁樹脂表面に
導電路を形成する銅箔パターンと、前記銅箔パターン上
に半田付け実装されるパワー半導体素子と、前記導電路
以外の部分に半田付け実装される制御回路部とを有する
ことを特徴とする半導体モジュールを用いたパワー制御
装置。 - 【請求項3】 前記放熱フィンにアルミフィンを用いた
ことを特徴とする請求項1,2の半導体モジュール及び
それを用いたパワー制御装置。
Priority Applications (3)
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---|---|---|---|
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JP3298895A JPH05136304A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | 半導体モジユール及びそれを用いたパワー制御装置 |
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Country Status (3)
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