DE4238417A1 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Halbleitermodul mit einem
Gehäuse mit einem Innenraum und einer diesen verschließenden
Wärmeableitvorrichtung, welches eine leitende Kühlrippe auf
weist, sowie auf ein Verfahren zur Herstellung eines Halblei
termoduls.
Insbesondere bezieht sie sich auf einen Leistungsregler zum
Einsatz in Verbindung mit dem Halbleitermodul für einen Wech
selrichter, eine Servomotorsteuerung oder dergleichen zum An
steuern eines Motors, der Wechselstrom mit veränderlicher
Spannung und veränderlicher Frequenz erzeugt.
Eine grundsätzliche Anordnung eines Schaltungssubstrats ist
in Fig. 8 dargestellt, wie sie beispielsweise in der japani
schen Offenlegungsschrift Nr. HEI 2-2 09 787 beschrieben wird.
Gemäß Fig. 8 wird ein Polyamidfilm 3 mittels einer Kleb
schicht auf ein Aluminiumsubstrat aufgeklebt. Eine Vielzahl
von Leitungswegen bzw. Durchführungen wird mittels eines Kup
ferfolienmusters 4 auf dem Polyamidfilm 3 gebildet. Ein Halb
leiterelement 6 oder dergleichen wird des weiteren fest auf
das Kupferfolienmuster 4 über eine Wärmeleitplatte 5, bei
spielsweise ein Kupferstück oder dergleichen, befestigt.
Fig. 9 zeigt eine grundsätzliche Anordnung eines Wechselrich
ters, bei dem das in Fig. 8 dargestellte Schaltungssubstrat
eingesetzt wird. Wie Fig. 9 veranschaulicht, wird auf die
Rückseite des Aluminiumsubstrats 1 eine Silikonmasse aufge
bracht, um die Wärmeleitung zu erhöhen. Das Aluminiumsubstrat
1 wird unter Verwendung von Schrauben 9 fest auf einer Kühl
rippe 7 angebracht. Das Halbleiterelement 6 auf dem Alumini
umsubstrat 1 wird dabei durch ein Formbauteil 10 geschützt.
Der Wechselrichter weist seinerseits eine Abdeckung 11 zum
Schutz des Halbleitermoduls auf. Das Halbleiterelement 6 ist
über einen Draht 12 mit dem Kupferfolienmuster 4 verbunden.
Wie vorstehend erläutert wird eine Silikonmasse 8 zur Verbes
serung der Wärmeleitung verwendet. Unter der Voraussetzung,
daß das Aluminiumsubstrat 1 und die Kühlrippe 7 direkt mit
tels Schrauben ohne Einsatz der Silikonmasse miteinander ver
bunden sind, bleibt zwischen dem Aluminiumsubstrat 1 und der
Kühlrippe 7 ein kleiner Luftspalt. Luft besitzt eine geringe
Wärmeleitfähigkeit von etwa 0,06·10-3 (cal/cm·s·°C). Folg
lich läßt sich Wärme über den Spalt hinweg nur schwer über
tragen.
Fig. 10 zeigt ein Schaltbild eines Wechselrichters, bei dem
das in Fig. 9 dargestellte Halbleitermodul eingesetzt wird.
Gemäß Fig. 10 besteht eine Stromrichterschaltung 50, die ei
nen kommerziell üblichen Drehstrom kommutiert, aus sechs Di
oden. Ein Glättungskondensator 51 glättet den Ausgangsstrom
aus der Stromrichterschaltung 50. Eine Wechselrichterschal
tung 52 setzt einen vom Glättungskondensator 51 geglätteten
Gleichstrom in einen Dreiphasen-Wechselstrom mit wählbarer
Spannung und Frequenz um und führt diesen einem Drehstrom-In
duktionsmotor 53 zu. In der Wechselrichterschaltung 52 sind
parallel zu beiden Anschlüssen des Glättungskondensators 51
drei Halbleiterschalter am oberen Arm und drei Halbleiter
schalter am unteren Arm geschaltet, während der Ausgangsstrom
von einem Verbindungspunkt zwischen jedem Halbleiterschalter
am oberen Arm mit dem Halbleiterschalter am unteren Arm dem
Drehstrom-Induktionsmotor 53 zugeführt wird.
Jedes Halbleiterschaltelement der Wechselrichterschaltung 52
wird durch eine Steuerschaltung 54 ein- oder ausgeschaltet
und versorgt den Drehstrom-Induktionsmotor 53 mit einem drei
phasigen impulsdauermodulierten Wechselstrom.
Bei dem Wechselrichter stellen die Stromrichterschaltung 50
und die Wechselrichterschaltung 52 Heizelemente dar und sind
dementsprechend bei einer herkömmlichen Vorrichtung zu einem
Leistungsmodul 55 zusammengefaßt und auf einer Kühlrippe 7
angeordnet, wie Fig. 11 zeigt.
Fig. 12a-12e sowie Fig. 13 veranschaulichen ein Verfahren
zur Herstellung des konventionellen Halbleitermoduls. Gemäß
Fig. 12a wird der Polyamidfilm 3 (100 µm) auf das Kupferfoli
enmuster 4 (35 µm) aufgebracht (Schritt S90), worauf gemäß
Fig. 12b das Kupferfolienmuster 4 auf das Aluminiumsubstrat
(2-3 mm) durch Erwärmen und Pressen aufgebracht wird und auf
dem Aluminiumsubstrat 1 Schraubfassungen gebildet werden
(Schritt S91). Gemäß Fig. 12c wird in einem Ätzvorgang
(Schritt S92) ein Schaltungsmuster auf dem Kupferfolienmuster
4 gebildet. Gemäß Fig. 12d werden die Wärmeleitplatte 5 und
das Halbleiterelement 6 auf das Schaltungsmuster (Kupferfoli
enmuster 4) aufgelötet (Schritt S93), woraufhin das Halblei
terelement 6 unter Verwendung des Drahtes 12 mit anderen Tei
len des Schaltungsmusters verbunden (Schritt S94) und die Ab
deckung 11 auf das Aluminiumsubstrat 1 aufgesetzt wird
(Schritt S96). Abschließend wird das Aluminiumsubstrat 1 mit
tels der Schrauben auf der Kühlrippe 7 befestigt (Schritt
S97).
Die Silikonmasse wird in pastöser Form aufgetragen und be
steht aus einem Silikonöl bzw. Silikonschmiermittel als Trä
ger für ein wärmeleitfähiges Metalloxid. Die Wärmeleitfähig
keit des in elementarer Form vorliegenden Silikonöls beträgt
etwa 0,4·10, während die Wärmeleitfähigkeit des dem Metall
oxid zugesetzten Silikonöls etwa 1,5·10-3 (cal/sec·cm·°C)
beträgt. Die elektrische Leitfähigkeit der Silikonmasse zur
Isolierung beträgt etwa 1013 (Ω·cm).
Bei dem herkömmlichen Schaltungssubstrat wird die Silikonmas
se zu dem Zweck aufgetragen, die Wärmeleitung zu verbessern.
Die Wärmeleitfähigkeit der Silikonmasse beträgt jedoch etwa
3,4·10-3 (cal/sec·cm·°C), ist also erheblich niedriger als
die Wärmeleitfähigkeit von Aluminium, die 486·10-3 (cal/
sec·cm·°C) beträgt. Somit liegt insofern ein Problem vor, als
die Verwendung der vorstehend erläuterten Anordnung eine un
erwünschte Abstrahlungsleistung besitzt.
Wird außerdem die Silikonmasse auf die Rückseite des Alumini
umsubstrats aufgetragen, so geschieht dies vollflächig auf
der gesamten Rückseite des Aluminiumsubstrats in geringstmög
licher Schichtdicke. Weisen jedoch das Aluminiumsubstrat und
die Kühlrippe eine Krümmung auf, so können Bereiche vorlie
gen, in denen keine Silikonmasse aufgetragen ist. Die Sili
konmasse läßt sich nur mit Schwierigkeiten jedesmal in der
richtigen Menge entsprechend der Krümmung auftragen. Folglich
liegt auch insofern ein Problem vor, als bei Bildung eines
Spalts eine Veränderung in der Wärmeleitung auftritt. In die
sem Zusammenhang wird normalerweise ein Spalt gebildet, da
üblicherweise beim Festziehen der Schrauben eine Biegung des
Substrats auftritt.
Aus dem vorstehend erläuterten Grund ist es erforderlich die
Planheit sowohl des Aluminiumsubstrats als auch der Abstrahl
rippe sorgfältig zu beeinflussen, was normalerweise durch Be
einflussung des auf die Schrauben aufgebrachten Drehmoments
geschieht. Damit erhöht sich jedoch die Anzahl der Herstel
lungsschritte. Darüberhinaus müssen die Elemente, bei einen
eine übermäßig starke Biegung vorliegt, verworfen werden. So
mit liegt auch das Problem einer niedrigen Produktionslei
stung vor.
Bleibt außerdem die Silikonmasse an den Fingern eines Arbei
ters kleben, so kann sie die Produkte bzw. das Arbeitsumfeld
verunreinigen, wenn dieser damit in Berührung kommt. Somit
tritt auch das Problem der Beeinträchtigung der Leistungsfä
higkeit des Herstellungsverfahrens auf.
Da das Aluminiumsubstrat und die Abstrahlrippe durch die
Schrauben fest miteinander verbunden sind, um so die Wärme
leitung zu verbessern und die Bildung eines Spalts zwischen
den jeweiligen Flächen des Aluminiumsubstrats und der Ab
strahlrippe zu verhindern, werden außerdem bei Vorliegen ei
ner Krümmung beim Aluminiumsubstrat und bei der Abstrahlrippe
gelötete Bereiche des Halbleiterelements und des Kupferfoli
enmusters beim Festziehen der Schrauben belastet. Dies führt
zum Bruch des Halbleiterelements, zur Ablösung desselben von
dem Muster, zur Rißbildung im Muster und ähnlichen Erschei
nungen. Somit besteht die Sorge, daß die herkömmliche Vor
richtung leicht beschädigt werden kann. Angesichts dieses Um
stands ist es erforderlich, ganz strikt auf Planheit des Alu
miniumsubstrats und der Abstrahlrippe zu achten und das Dreh
moment beim Anziehen der Schrauben sehr präzise zu steuern.
In der Praxis ist es jedoch recht schwierig, Bruch und die
vorbeschriebenen ähnlichen Probleme auf ein Mindestmaß zu re
duzieren.
Schließlich muß auf dem Aluminiumsubstrat ein freier Raum für
die Schrauböffnungen gebildet werden. Folglich wird die Flä
che, die zum Integrieren bzw. Aufmontieren von Teilen und vom
Muster zur Verfügung steht, eingeengt. Um einen Leistungsreg
ler mit den gewünschten Eigenschaften herzustellen, muß das
Aluminiumsubstrat vergrößert werden. Und damit stellt sich
außerdem insofern ein Problem, als die Miniaturisierung des
Leistungsreglers behindert oder eingeschränkt wird.
Somit liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Halblei
termodul zu schaffen, bei dem die Wärmeabstrahlleistung ver
bessert wird, bei dem die Wärmeleitung mit besserer Dichte
erfolgt, bei dem eine präzise Beeinflussung der Planheit ei
nes Aluminiumsubstrats und einer Kühlrippe sowie eine strenge
Steuerung des auf die Schrauben aufgebrachten Drehmoments un
nötig sind, bei dem die Produktionsleistung höher ist und bei
dem ein Ansatz zur Verbesserung der Miniaturisierung gemacht
wird.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Schaffung
eines Leistungsreglers, bei dem das vorstehend erläuterte
Halbleitermodul zum Einsatz kommt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß es
folgendes aufweist:
- - einen direkt auf der Wärmeableiteinrichtung ausgebildeten elektrischen Isolierkörper, der eine Innenfläche definiert;
- - ein Kupferfolienmuster, welches eine Vielzahl von Leitungs wegen auf der Innenfläche des Isolierkörpers bildet; und
- - ein Halbleiterelement, das auf dem Kupferfolienmuster ange schlossen ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Halbleitermodul und dem erfindungs
gemäßen Leistungsregler wird die Kühlrippe direkt mit dem
elektrisch isolierenden Kunststoff beschichtet. Die Leitungs
wege werden von dem Kupferfolienmuster auf der Oberfläche des
elektrisch isolierenden Kunststoffs gebildet. Das Leistungs-
Halbleiterelement ist dabei auf dem Kupferfolienmuster ange
schlossen.
Bei der erfindungsgemäßen Anordnung ist es somit möglich, die
Wärmeleitfähigkeit im Leistungs-Halbleiterelement erheblich
zu verbessern, da eine Schicht aus Silikonmasse entfallen
kann. Somit entsteht der Vorteil, daß die Lebensdauer der
Vorrichtung verlängert werden kann. Außerdem können Schwan
kungen in der Wärmeleitung beseitigt werden, während ein ei
gener Schritt der Verschraubung unnötig ist. Dementsprechend
wird weder das Element noch das Muster infolge einer Biegung
belastet. Somit ergibt sich der Vorteil, daß sich die Be
triebssicherheit der Vorrichtung insgesamt verbessert. Dar
überhinaus wird die zur Montage der verschiedenen Elemente
effektiv nutzbare Fläche größer, da kein Platz für die zur
Verschraubung benötigten Schraublöcher reserviert werden muß,
wodurch die Miniaturisierung der Vorrichtung gefördert wird.
Da man sich die Schwierigkeiten beim Auftragen der Silikon
masse erspart, ergibt sich der Vorteil einer besseren Produk
tionsleistung und günstigerer Herstellungskosten.
Weitere Aufgaben und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus
der nachstehenden Beschreibung unter Bezugnahme auf die bei
gefügte Zeichnung. Es zeigen:
Fig. 1 eine Übersichtszeichnung eines erfindungsgemäßen
Halbleitermoduls;
Fig. 2 eine Übersichtszeichnung eines erfindungsgemäßen
Leistungsreglers, bei dem das Halbleitermodul aus
Fig. 1 eingesetzt ist;
Fig. 3a bis 3e ein erfindungsgemäßes Ätzverfahren;
Fig. 4a bis 4d eine Übersichtszeichnung mit der Darstellung
des Verfahrens zur Herstellung eines erfindungsgemä
ßen Halbleitermoduls;
Fig. 5 ein Ablaufdiagramm des erfindungsgemäßen Verfahrens
zur Herstellung eines Halbleitermoduls;
Fig. 6 eine perspektivische Ansicht eines erfindungsgemäßen
Halbleitermoduls;
Fig. 7 eine perspektivische Ansicht einer Kühlrippe mit Wa
benstruktur;
Fig. 8 eine Übersichtsdarstellung eines herkömmlichen Halb
leitermoduls;
Fig. 9 eine Übersichtszeichnung eines Leistungsreglers, bei
welchem das Halbleitermodul aus Fig. 8 eingesetzt
ist;
Fig. 10 ein Schaltschema eines herkömmlichen Wechselrich
ters;
Fig. 11 eine perspektivische Ansicht eines herkömmlichen
Halbleitermoduls;
Fig. 12a bis 12e eine Übersichtszeichnung zur Veranschauli
chung eines Verfahrens zur Herstellung eines her
kömmlichen Halbleitermoduls; und
Fig. 13 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung
eines herkömmlichen Halbleitermoduls.
Aus Fig. 1 ergibt sich eine Anordnung eines erfindungsgemäßen
Halbleitermoduls. Das Halbleitermodul umfaßt einen elektrisch
isolierenden Dickschichtkunststoff 25, beispielsweise ein
Epoxidharz, mit dem eine Aluminiumrippe 17 zur Wärmeableitung
direkt beschichtet ist. Auf den Dickschichtkunststoff 25 ist
ein Kupferfolienmuster 14 aufgedruckt, um Leitungswege bzw.
Durchführungen zu bilden. Auf das Kupferfolienmuster 14 wird
über eine Wärmeleitplatte 15 ein roher bzw. unbedeckter Chip
eines Halbleiterelements 16 durch Löten aufmontiert, bei
spielsweise ein Leistungstransistor, ein IGBT-Element, eine
Diode oder dergleichen. Das Halbleiterelement 16 ist über ei
nen Draht 22 mit dem Kupferfolienmuster 14 verbunden.
Fig. 2 zeigt eine Anordnung eines Leistungsreglers, bei dem
das in Fig. 1 abgebildete Halbleitermodul eingesetzt wird.
Ein Steuerschaltungsbereich 26 ist durch Löten auf andere Be
reiche als die vom Kupferfolienmuster 14 gebildeten Leitungs
wege aufgebracht. Darüberhinaus ist das Halbleiterelement 16
auf das Kupferfolienmuster 14 aufgelötet. Eine Abdeckung 21
sorgt für den Schutz des Innenraumes, in dem der Leistungs
regler untergebracht ist.
Als nächstes wird ein Beispiel für ein Verfahren zum Be
schichten der Aluminiumrippe 17 mit einer Isoliermasse, bei
spielsweise dem Epoxidharz (Dickschichtkunststoff 25) oder
dergleichen, näher erläutert. Zunächst wird auf die Kupferfo
lie gleichmäßig ein Kleblack aufgetragen und getrocknet, der
aus Aluminiumoxidpulver, Epoxidharz, Härter, Lösungsmittel
und dergleichen besteht. In diesem Fall wird das Aluminium
oxidpulver dazu verwendet, die Wärmeleitfähigkeit der Kunst
stoffschicht 25 zu verbessern. Anschließend wird die Kupfer
folie, auf welche der Kleblack aufgetragen wird, auf eine
Fläche der Aluminiumrippe 17 aufgestrichen, welche eine plan
polierte Oberfläche aufweist, so daß der Klebstoff der Alumi
niumrippe 17 zugewandt ist. Anschließend erwärmt man die Kup
ferfolie und die Aluminiumrippe 17 und preßt beide Teile ge
geneinander. Auf diese Weise wird die Oberfläche der Alumini
umrippe 17 mit der Kupferfolie beschichtet.
Als nächstes wird ein Verfahren zum Isolieren der Aluminium
rippe 17 angesichts der Oxidierung ihrer Oberfläche erläu
tert. Dabei wird auf einer Aluminiumfläche in Sauerstoffatmo
sphäre problemlos eine stabile Oxidschicht gebildet. Um je
doch in den Fällen, in denen bewußt eine dickere Oxidschicht
gebildet wird, die Korrosionsbeständigkeit zu verbessern,
stehen ein Eloxalverfahren und ein chemisches Behandlungsver
fahren mit Umsetzung der Filmschicht unter Einsatz von Chemi
kalien zur Verfügung.
Das Eloxalverfahren läuft folgendermaßen ab. In einem Elek
trolytbad mit 2% Oxalsäure bzw. 15% Schwefelsäure wird ein
Aluminiumprodukt an eine Anode zur Gleichstromelektrolyse
herangeführt, worauf an das Aluminiumprodukt ein Wechselstrom
zur Bildung eines elektrolytischen Films angelegt wird (Alu
mitschicht). Außerdem läuft das chemische Behandlungsverfah
ren mit Umsetzung der Filmschicht folgendermaßen ab. Bei
spielsweise wird ein Aluminiumprodukt in eine wäßrige Lösung
mit rund 5% Natriumkarbonat über einen Zeitraum in der Grö
ßenordnung von etwa 20 bis 30 Minuten eingetaucht.
Nun wird ein Ätzverfahren erläutert. Fig. 3a bis 3e zeigen
verschiedene Schritte des Ätzverfahrens. Gemäß Fig. 3a wird
die Aluminiumrippe 17 direkt mit dem Dickschichtkunststoff 25
zur elektrischen Isolierung beschichtet. Zur Bildung der Lei
tungswege wird auf die Kupferfolie 14, die auf den Dick
schichtkunststoff aufgedruckt ist, ein Trockenfilm 27 aufla
miniert. Zu diesem Zeitpunkt beträgt die Laminierungstempera
tur etwa 90 bis 100°C, ist der Druck dabei etwa 2 bis 4
kg/cm2, und beträgt die Geschwindigkeit rund 1,0 bis 2,0
m/min.
Anschließend wird, wie Fig. 3b zeigt, eine Maske 28 mit Nega
tivmuster auf den Trockenfilm 27 aufgebracht, worauf eine
Weiterbearbeitung durch Belichtung mittels einer Hochdruck-
Quecksilberlampe zum Beispiel erfolgt. Danach wird die Maske
28 mit dem Negativmuster entfernt, wie Fig. 3c zeigt. Die Be
reiche auf dem Trockenfilm 27, die gegenüber der Belichtung
abgeschattet waren, werden entfernt. Die übrigen Bereiche des
Trockenfilms 27 werden mittels eines flüssigen Entwicklers
entwickelt und bilden eine gehärtete Photolackschicht.
Danach werden, wie Fig. 3d zeigt, Teile der Kupferfolie 14,
die nicht durch den Trockenfilm 27 (in den unnötigen Berei
chen) geschützt sind, durch eine Lösung aus Eisen- oder Kup
ferchlorid aufgelöst, wodurch die Ätzung erfolgt. Abschlie
ßend wird der Trockenfilm 27 (der gehärtete Photolack) abge
trennt, wie Fig. 3e zeigt, um so das gewünschte Kupfermuster
auf dem Dickschichtkunststoff 25 zu belassen.
Fig. 4a-4d und Fig. 5 zeigen das Verfahren zur Herstellung
des erfindungsgemäßen Halbleitermoduls. Gemäß Fig. 4a wird
der Dickschichtkunststoff 254 auf die Kupferfolie 14 aufge
bracht (Schritt S80). Anschließend wird gemäß Fig. 4b die
Kupferfolie 14 direkt auf eine Oberfläche der Aluminiumrippe
17 durch Erwärmen und Pressen aufgebracht (Schritt S81). In
Fig. 4c wird auf der Kupferfolie 14 durch den in Fig. 3a-3e
dargestellten Ätzvorgang ein Schaltungsmuster gebildet
(Schritt S82). Gemäß Fig. 4d werden die Wärmeleitplatte 15
und das Halbleiterelement 16 auf das Schaltungsmuster (Kup
ferfolienmuster 14) aufgelötet (Schritt S83), worauf das
Halbleiterelement 16 mit einem anderen Schaltungsmuster unter
Verwendung eines Drahts 22 verbunden (Schritt S84) und die
Abdeckung 21 auf die Aluminiumrippe 17 aufgesetzt wird
(Schritt S85). Fig. 6 zeigt in perspektivischer Ansicht einen
Zustand, bei dem mehrere Halbleitermodule auf die Aluminium
rippe 17 aufgesetzt sind, während Fig. 7 eine perspektivische
Darstellung der Form einer wabenförmig ausgelegten Kühlrippe
17a zeigt.
Auch wenn die Erfindung zum Zwecke einer vollständigen und
deutlichen Offenbarung vorstehend im Zusammenhang mit einem
speziellen Ausführungsbeispiel erläutert wurde, sind die bei
gefügten Ansprüche nicht in dieser Weise eingeschränkt, son
dern sind so zu verstehen, daß sie alle für den Fachmann auf
diesem Gebiet gegebenenfalls möglichen Modifzierungen und al
ternativen Konstruktionen umfassen, welche in den Rahmen der
hier dargestellten grundlegenden Lehre fallen.
Claims (17)
1. Halbleitermodul mit einem Gehäuse mit einem Innenraum
und einer diesen verschließenden Wärmeableitvorrichtung, wel
ches eine leitende Kühlrippe (17) aufweist,
gekennzeichnet durch
- - einen direkt auf der Wärmeableiteinrichtung ausgebildeten elektrischen Isolierkörper, (25) der eine Innenfläche defi niert;
- - ein Kupferfolienmuster (14), welches eine Vielzahl von Lei tungswegen auf der Innenfläche des Isolierkörpers (25) bil det; und
- - ein Halbleiterelement (16), das auf dem Kupferfolienmuster (14) angeschlossen ist.
2. Halbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der elektrische Isolierkörper (25) eine Oberflächenoxid
bildung auf der Wärmeableiteinrichtung aufweist.
3. Halbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der elektrische Isolierkörper (25) ein Epoxidharz auf
weist.
4. Halbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß es außerdem eine Wärmeleitplatte (15) aufweist, über wel
che das Halbleiterelement (16) mit dem Kupferfolienmuster
(14) verbunden ist.
5. Halbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Halbleiterelement (16) einen Leistungstransistor, ein
IGBT-Element oder eine Diode aufweist.
6. Halbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Kühlrippe (17) eine Wabenstruktur aufweist.
7. Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements,
dadurch gekennzeichnet,
daß es die folgenden Schritte aufweist:
- - Aufbringen eines elektrisch isolierenden Kunststoffs auf eine erste Fläche einer Kupferfolie;
- - Aufbringen der kunststoffbeschichteten Oberfläche der Kup ferfolie auf eine Oberfläche der Wärmeableitvorrichtung unter Erwärmung und Verpressung;
- - Bildung eines Schaltungsmusters auf der Kupferfolie, wel ches mindestens einen ersten und einen zweiten Stromleiter aufweist;
- - Auflöten zumindest von einer Wärmeleitplatte und einem Halbleiterelement auf das Kupferfolienmuster;
- - elektrisches Anschließen des Halbleiterelements an den min destens ersten und zweiten Stromleiter unter Verwendung eines Drahts; und
- - Aufsetzen einer Abdeckung auf die Wärmeableitvorrichtung zum Umschließen von mindestens dem Halbleiterelement.
8. Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls nach
Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Aufbringschritt die Beschichtung der Kupferfolie mit
einem Epoxidharz umfaßt.
9. Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls nach
Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Aufbringschritt die Bildung einer Filmschicht aus
oxidiertem Aluminium durch Oberflächenoxidierung der Wärmeab
leitvorrichtung umfaßt.
10. Leistungsregler zur Verwendung in Verbindung mit einem
Halbleitermodul,
gekennzeichnet durch
- - eine Kühlrippe (17) mit einer ersten Fläche;
- - einen direkt auf die erste Fläche der Kühlrippe (17) zur Bildung einer Beschichtungsfläche aufgebrachten elektrisch isolierenden Kunststoff (25);
- - ein Kupferfolienmuster (14), welches eine Vielzahl von elektrischen Leitern auf der beschichteten Fläche des elek trisch isolierenden Kunststoffs (25) bildet;
- - ein Leistungshalbleiterelement, das auf das Kupferfolienmu ster (14) aufgelötet ist; und
- - einen Steuerschaltungsbereich, der an mindestens einen Be reich der Oberfläche des elektrisch isolierenden Kunststoffs (25) mit Ausnahme der elektrischen Leiter angelötet ist.
11. Leistungsregler nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Kühlrippe (17) eine Aluminiumrippe aufweist.
12. Leistungsregler nach Anspruch 10
dadurch gekennzeichnet,
daß der elektrisch isolierende Kunststoff (25) ein Epoxidharz
aufweist.
13. Leistungsregler nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Kupferfolienmuster (14) ein gedrucktes Schaltungsmu
ster auf dem elektrisch isolierenden Kunststoff (25) auf
weist.
14. Leistungsregler nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß er des weiteren eine Wärmeleitplatte (15) aufweist, über
welche das Halbleiterelement (16) mit dem Kupferfolienmuster
(14) verbunden ist.
15. Leistungsregler nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Halbleiterelement (16) einen Leistungstransistor, ein
IGBT-Element oder eine Diode aufweist.
16. Leistungsregler nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Kühlrippe (17) eine Wabenstruktur aufweist.
17. Leistungsregler nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Fläche der Kühlrippe (17) ein isolierendes Oxid
aufweist.
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