JP2008211168A - 半導体装置および半導体モジュール - Google Patents
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- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
Abstract
【課題】通常のボンディング条件を用いて半導体素子との接合ができ、かつ、熱応力が繰り返し発生しても接合部の剥離が抑制される、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】
半導体装置が、基板と、基板上に配置された半導体素子と、半導体素子に、所定の接合面で接合された接合部を有するリボンワイヤとを含み、接合部上に、リボンワイヤより線膨張係数の小さな固体層が接合される。また、半導体モジュールが、半導体装置と、半導体装置の半導体素子に電気的に接続された電極と、半導体装置を埋め込むモールド樹脂またはシリコーンゲルを含む。
【選択図】図1
【解決手段】
半導体装置が、基板と、基板上に配置された半導体素子と、半導体素子に、所定の接合面で接合された接合部を有するリボンワイヤとを含み、接合部上に、リボンワイヤより線膨張係数の小さな固体層が接合される。また、半導体モジュールが、半導体装置と、半導体装置の半導体素子に電気的に接続された電極と、半導体装置を埋め込むモールド樹脂またはシリコーンゲルを含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置および半導体モジュールに関し、特に、パワーサイクルに対する信頼性の高いパワー半導体装置およびパワー半導体モジュールに関する。
パワー半導体装置では、半導体素子と電極との間がボンディングワイヤ等で接続されるが、ボンディングワイヤを通過する電流による発熱を低減するために、断面積が大きく電気抵抗の小さいリボンワイヤが半導体素子と電極との間の接続に用いられる。
しかしながら、リボンワイヤと半導体素子の線膨張係数(アルミワイヤの線膨張係数α=24.5×10−6/K、素子の線膨張係数α=3.5×10−6/K)の差が大きいため、リボンワイヤと半導体素子との接合部には大きな熱応力が繰返し発生(一般的にパワーサイクルと呼ばれている。)するため、接合部の長期信頼性向上のために、接合部の長寿命化技術の開発が期待されている。
そこで、このような接合部の剥離を抑制し信頼性を向上させるために、アルミニウムからなるリボンワイヤを、線膨張係数がアルミニウムよりも小さい、例えば銅等の金属で被覆したリボンワイヤが提案されていた(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−336043号公報
しかしながら、リボンワイヤと半導体素子の線膨張係数(アルミワイヤの線膨張係数α=24.5×10−6/K、素子の線膨張係数α=3.5×10−6/K)の差が大きいため、リボンワイヤと半導体素子との接合部には大きな熱応力が繰返し発生(一般的にパワーサイクルと呼ばれている。)するため、接合部の長期信頼性向上のために、接合部の長寿命化技術の開発が期待されている。
そこで、このような接合部の剥離を抑制し信頼性を向上させるために、アルミニウムからなるリボンワイヤを、線膨張係数がアルミニウムよりも小さい、例えば銅等の金属で被覆したリボンワイヤが提案されていた(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、半導体素子のパッド等には、通常、アルミニウムのメタライズが施されるため、アルミニウム以外の金属で被覆されたリボンワイヤを用いたボンディング接合は困難である。また、ボンディング条件の設定も困難で、製造工程が複雑化する。
そこで、本発明では、通常のボンディング条件を用いて半導体素子との接合ができ、かつ、熱応力が繰り返し発生しても接合部が剥離しない、信頼性の高い半導体装置の提供を目的とする。
即ち、本発明は、基板と、基板上に配置された半導体素子と、半導体素子に、所定の接合面で接合された接合部を有するリボンワイヤとを含む半導体装置において、接合部上に、リボンワイヤより線膨張係数の小さな固体層が接合されたことを特徴とする半導体装置である。
また、本発明は、かかる半導体装置と、半導体装置の半導体素子に電気的に接続された電極と、半導体装置を埋め込むモールド樹脂またはシリコーンゲルを含むことを特徴とする半導体モジュールでもある。
本発明では、リボンワイヤの熱膨張が抑制され、リボンワイヤが半導体素子から剥離しない信頼性の高いパワー半導体装置およびパワー半導体モジュールの提供が可能となる。
実施の形態1.
図1は、全体が100で表される、本実施の形態1にかかるパワー半導体装置であり、図1(a)に上面図を、図1(b)に(a)のA−A方向に見た場合の断面図を、それぞれ示す。
図1は、全体が100で表される、本実施の形態1にかかるパワー半導体装置であり、図1(a)に上面図を、図1(b)に(a)のA−A方向に見た場合の断面図を、それぞれ示す。
パワー半導体装置100は、例えばアルミナ(Al2O3)、窒化アルミニウム(AlN)、窒化珪素(Si3N4)等からなる絶縁基板5を含む。絶縁基板5の上面には、例えば銅からなる配線パターン4が形成されている。配線パターン4の上には半導体素子3がはんだ等で固定されている。半導体素子3は、例えばIGBTやパワーFETのようなパワー半導体素子、フリーホイールダイオードからなる。半導体素子3の材料は例えばシリコンであるが、炭化ケイ素、砒化ガリウムやガリウムナイトライド等の他の材料であって良い。半導体素子3の上には、例えばアルミニウムで表面がメタライズされたボンディングパッド(図示せず)が形成されている。
ボンディングパッドの上には、リボンワイヤ1が接合されている。リボンワイヤ1は、例えばアルミニウムからなり、幅は1.0〜2.5mm程度、厚さは0.2mm程度、接合部20の長さは約1mm程度である。リボンワイヤ1は、例えば超音波接合によりボンディングパッド上に接合される。
リボンワイヤ1の接合部20の上には、セラミック層2が形成されている。セラミック層2は、アルミナ等のセラミック材料の粉体をアルコール系溶剤に混ぜた、市販のセラミック接着剤をリボンワイヤ1の接合部20上に塗布し、乾燥させることにより形成する。
なお、本実施の形態1では、線状のボンディングワイヤではなくリボンワイヤ1を用いるため、接合部20上に容易にセラミック接着剤を塗布することができる。
なお、本実施の形態1では、線状のボンディングワイヤではなくリボンワイヤ1を用いるため、接合部20上に容易にセラミック接着剤を塗布することができる。
セラミック層2の線膨張係数は、アルミナの場合で約7×10−6/K程度であり、例えばリボンワイヤ1の材料として使われるアルミニウムの線膨張係数24.5×10−6/Kに比べると小さく、半導体素子3の材料であるシリコンの線膨張係数3.5×10−6/Kに近い。
このため、パワーサイクルにおいて、接合部20の温度が上昇し、リボンワイヤ1が膨張した場合でも、その上のセラミック層2は、半導体素子3と同程度にしか膨張せず、リボンワイヤ1を収縮する方向に引張ることとなる。この結果、リボンワイヤ1の伸び量が抑えられ、線膨張係数のミスマッチに起因する接合部20の剥離を抑制し、信頼性の高いパワー半導体装置100を得ることができる。
このため、パワーサイクルにおいて、接合部20の温度が上昇し、リボンワイヤ1が膨張した場合でも、その上のセラミック層2は、半導体素子3と同程度にしか膨張せず、リボンワイヤ1を収縮する方向に引張ることとなる。この結果、リボンワイヤ1の伸び量が抑えられ、線膨張係数のミスマッチに起因する接合部20の剥離を抑制し、信頼性の高いパワー半導体装置100を得ることができる。
図2には、リボンワイヤ1の厚さを0.2mm、幅を2.0mm、接合部20の長さを1.0mm、そしてセラミック層2の厚さを0.1mmとし、セラミック層2をAl2O3(線膨張係数:約7×10−6/K)、Si3N4(線膨張係数:約3×10−6/K)、AlN(線膨張係数:約5×10−6/K)、またはCu(線膨張係数:約17×10−6/K)とした場合の、寿命改善効果を有限要素法(FEM)により計算した結果を示す。図2の縦軸は、セラミック層2が無い状態の寿命を基準寿命1とした場合の、セラミック層2がある場合の寿命比率を示している。線膨張係数が小さいセラミックでは寿命改善効果は大きいが、線膨張係数17×10−6/KのCuでは効果が小さいことがわかる。この結果から、セラミック層2には、線膨張係数が低いセラミックが金属よりも好ましいことが分かる。
ここでは、リボンワイヤ1の厚さを0.2mm、セラミック層2の厚さを0.1mmとした場合の例を示したが、リボンワイヤ1およびセラミック層2の厚さの変化に加え、その他の部分の構造の変化によっても寿命改善効果が変化する。このため、従来のパワー半導体装置に比較して、1.5〜2倍程度の寿命改善効果が見込まれる。
図3(a)は、全体が500で表される、パワー半導体装置100を組み込んだパワー半導体モジュールであり、図1(a)のA−A方向と同じ方向に見た場合の断面図である。
パワー半導体モジュール500では、図3(a)に示すように、パワー半導体装置100の絶縁基板5が、絶縁性の樹脂シート11の上に載置され、半導体素子3が、リボンワイヤやボンディングワイヤのようなワイヤ12により外部電極13に接続されてパワー半導体装置100全体が、モールド樹脂14に埋め込まれている。
パワー半導体モジュール500では、図3(a)に示すように、パワー半導体装置100の絶縁基板5が、絶縁性の樹脂シート11の上に載置され、半導体素子3が、リボンワイヤやボンディングワイヤのようなワイヤ12により外部電極13に接続されてパワー半導体装置100全体が、モールド樹脂14に埋め込まれている。
また、図3(b)は、全体が550で表される、パワー半導体装置100を組み込んだ他のパワー半導体モジュールであり、図1(a)のA−A方向と同じ方向に見た場合の断面図である。
図3(b)に示すように、パワー半導体モジュール550では、パワー半導体装置100の絶縁基板5が、銅など放熱性の高い材質で作られたベース板15の上に載置され、半導体素子3がリボンワイヤやボンディングワイヤのようなワイヤ12により外部電極13に接続されている。筐体16により囲まれたパワー半導体装置100全体が、シリコーンゲル17等に埋め込まれてもよい。
図3(b)に示すように、パワー半導体モジュール550では、パワー半導体装置100の絶縁基板5が、銅など放熱性の高い材質で作られたベース板15の上に載置され、半導体素子3がリボンワイヤやボンディングワイヤのようなワイヤ12により外部電極13に接続されている。筐体16により囲まれたパワー半導体装置100全体が、シリコーンゲル17等に埋め込まれてもよい。
なお、パワー半導体モジュール500、550において、半導体装置3とワイヤ12との接合部にも、接合部20と同様にセラミック層を形成することが可能である。
本実施の形態1にかかるパワー半導体モジュール500、550では、パワーサイクル中のリボンワイヤ1の剥離を抑制し、信頼性の高いパワー半導体モジュール500、550を提供することができる。
なお、以下の実施の形態2〜4に示すパワー半導体装置についても、図3に示すように、パワー半導体モジュールとして使用することが可能である。
また、実施の形態1〜5では、半導体装置3がIGBT等からなるパワー半導体装置およびパワー半導体モジュールの場合について説明するが、半導体装置3が、FETやMOSFETのような通常の半導体素子からなる場合においても、本発明にかかる構造を適用することは可能である。これにより、半導体素子3とリボンワイヤ1との剥離を抑制し、信頼性の高い半導体装置や半導体モジュールを提供することができる。
実施の形態2.
図4は、本実施の形態2にかかるパワー半導体装置110の部分断面図であり、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示す。図4中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
図4は、本実施の形態2にかかるパワー半導体装置110の部分断面図であり、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示す。図4中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
パワー半導体装置110では、半導体素子3とリボンワイヤ1との接合部20の上にセラミック層2を設けるとともに、接合部20の周囲の半導体素子3の上に、コーティング樹脂6が設けられている。コーティング樹脂6は、リボンワイヤ1の接合部20の周囲を囲むように設けられることが好ましい。コーティング樹脂6は、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂からなる。
このように、パワー半導体装置110では、セラミック層2を設けることにより、線膨張係数のミスマッチに起因するリボンワイヤ1の剥離を抑制できるとともに、コーティング樹脂6により、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部に発生する応力を低減させることで、接合部への亀裂の進展を抑制し、接合部長寿命化の効果を得ることができる。この結果、信頼性の高いパワー半導体装置110を提供することができる。
実施の形態3.
図5は、本実施の形態3にかかるパワー半導体装置120であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のB−B方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図5は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図5中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
図5は、本実施の形態3にかかるパワー半導体装置120であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のB−B方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図5は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図5中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
パワー半導体装置120では、半導体素子3とリボンワイヤ1とを接合した後に、接合部20のリボンワイヤ1を接着剤8で覆うとともに、リボンワイヤ1の上にセラミック板7が接着されている。接着剤8には、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等が用いられる。また、セラミック板7には、Al2O3(線膨張係数:約7×10−6/K)、AlN(線膨張係数:約5×10−6/K)またはSi3N4(約3×10−6/K)等を用いることができる。
パワー半導体装置120では、セラミック板7を接着することにより、リボンワイヤ1と半導体素子3との線膨張係数のミスマッチに起因するリボンワイヤ1の剥離を抑制できるとともに、接着剤8により、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部に発生する応力を低減させることで、接合部への亀裂の進展を抑制し、接合部長寿命化の効果を得ることができる。この結果、信頼性の高いパワー半導体装置120を提供することができる。
実施の形態4.
図6は、本実施の形態4にかかるパワー半導体装置130であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のC−C方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図6は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図6中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
図6は、本実施の形態4にかかるパワー半導体装置130であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のC−C方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図6は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図6中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
本実施の形態4にかかるパワー半導体装置130では、リボンワイヤ1の接合部20の上面に、ディンプル孔9が設けられている。ディンプル孔9の直径は、約0.2〜0.3mm程度で、深さは、例えば0.2mmであるリボンワイヤ1の厚さの、10〜25%程度とする。
ディンプル孔9は、複数設けることが好ましく、図6では5つのディンプル孔9が設けられている。
ディンプル孔9は、複数設けることが好ましく、図6では5つのディンプル孔9が設けられている。
リボンワイヤ1の接合部20の上には、ディンプル孔9を埋め込むようにセラミック層2が形成されている。このようなセラミック層2は、実施の形態1で述べたように、接合部20の上に、ディンプル孔9を埋め込むようにセラミック接着剤を塗布し、乾燥することにより形成する。
本実施の形態4にかかるパワー半導体装置130では、セラミック層2を設けることにより、線膨張係数のミスマッチに起因する接合部20の剥離を抑制できる。特に、ディンプル孔9を埋め込むようにセラミック層2が形成されるため、リボンワイヤ1とセラミック層2との接続強度が向上し、リボンワイヤ1の剥離をより効果的に抑制できる。この結果、信頼性の高いパワー半導体装置130を提供することができる。
実施の形態5.
図7は、本実施の形態5にかかるパワー半導体装置140であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のD−D方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図7は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図7中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
図7は、本実施の形態5にかかるパワー半導体装置140であり、(a)に部分上面図を、(b)に、(a)のD−D方向に見た場合の部分断面図を、それぞれ示す。図7は、リボンワイヤ1と半導体素子3との接合部のみを示し、図7中、図1と同一符号は、同一又は相当箇所を示す。
本実施の形態5にかかるパワー半導体装置140では、リボンワイヤ1の接合部20の上面に、溝10が設けられている。溝10の幅は、リボンワイヤ1の接合部の面積にもよるが、例えば0.2〜0.3mm程度が好ましい。また、深さは、リボンワイヤ1の厚さの10〜25%程度が好ましい。
リボンワイヤ1の接合部20の上には、溝10を埋め込むようにセラミック層2が形成されている。このようなセラミック層2は、実施の形態4と同様に、セラミック接着剤を、接合部20の上に、溝10を埋め込むように塗布し、乾燥することにより形成する。
上述のパワー半導体装置130と同様に、本実施の形態5にかかるパワー半導体装置140でも、セラミック層2を設けることにより、線膨張係数のミスマッチに起因するリボンワイヤ1の剥離を抑制できる。特に、溝10を埋め込むようにセラミック層2が形成されるため、リボンワイヤ1とセラミック層2との接合強度が向上し、リボンワイヤ1の剥離をより効果的に抑制できる。この結果、信頼性の高いパワー半導体装置140を提供することができる。
1 リボンワイヤ、2 セラミック層、3 半導体素子、4 配線パターン、5 絶縁基板、6 コーティング樹脂、7 セラミックス板 、8 接着剤、9 ディンプル孔、10 溝、11 樹脂シート、12 ワイヤ、13 外部電極、14 モールド樹脂、 15 ベース板、16 筐体、17 シリコーンゲル、100 パワー半導体装置、500、550 パワー半導体モジュール。
Claims (8)
- 基板と、該基板上に配置された半導体素子と、該半導体素子に、所定の接合面で接合された接合部を有するリボンワイヤとを含む半導体装置において、
該接合部上に、該リボンワイヤより線膨張係数の小さな固体層が接合されたことを特徴とする半導体装置。 - 上記リボンワイヤの接合部の周囲に、コーティング材が設けられたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 上記コーティング材が、上記リボンワイヤの接合部上にも設けられ、該コーティング材により上記固体層が該接合部上に接合されたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 上記コーティング材が、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、およびポリイミド樹脂からなる群から選択される材料からなることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体装置。
- 上記リボンワイヤの接合部の上面に凹部が設けられ、該凹部を埋め込むように上記固体層が接合されたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 上記凹部が、ディンプル孔または溝からなることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
- 上記固定層が、セラミック材料からなることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の半導体装置と、
該半導体装置の半導体素子に電気的に接続された電極と、
該半導体装置を埋め込むモールド樹脂またはシリコーンゲルを含むことを特徴とする半導体モジュール。
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-
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