JPH05127402A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 感光体中に酸化防止剤を含有してなる、ピリ
リウム系染料、電気絶縁性重合体及び正孔輸送性物質を
主成分とする感光層を有する電子写真感光体。 【効果】 本発明の電子写真用感光体は、繰り返し使用
によっても帯電々位の低下が抑制され、高感度なもので
あり、ポジ−ポジ現像においては画像濃度の低下が防止
でき、ネガ−ポジ現像においては地肌部の汚れが防止で
きる。また、本発明の感光体は複写機等の中における耐
環境性（耐反応ガス性）にも優れるため高耐久性で異常
画像の発生を防止し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に係わる
ものであり、特に長期間の繰り返し使用時においても帯
電安定性に優れた電子写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体には、いままでＳｅ，Ｃ
ｄＳ，ＺｎＯ等の無機材料が用いられてきたが、近年そ
れに匹敵する特性を示す有機材料を用いた電子写真感光
体が開発、実用化されるようになってきた。この利点と
して安価、大量生産等が挙げられるが、有機物であるが
ゆえに材料の劣化を免れることはできない。一方、無機
系、有機系材料を問わず下引き層、保護層等が設けられ
るが、これらの多くは部分的に有機物で設けられるた
め、同様に材料の劣化を生ずることは避けられない。こ
のような材料の劣化機構について多くは判っていない
が、光照射によるもの、電子の通過によるもの、反応性
ガス（ＮＯｘ，ＳＯｘ，Ｏ₃等）によるもの等が考えら
れている。この様な材料の劣化、とりわけ酸化を防ぐ目
的で特定の酸化防止剤を添加することが知られている。
たとえば、特開昭５７−１２２４４４号、特開昭６１−
１５６０５２号、特開昭６２−２６５６６６号、特開昭
６３−１８３５６号、特開昭６４−４４４５１号等に記
載されている。

【０００３】一方、ピリリウム系染料と電気絶縁性重合
体とからなる共晶錯体及び必要あればトリフェニルメタ
ン系増感剤を加えた組成物を光導電層とした両帯電性電
子写真感光体は公知である（例えば特公昭４６−２２５
１６号公報、同４６−２２５１９号公報、同５１−１１
２９号公報、特開昭４７−１０７８５号公報、同５１−
８８２２６号公報、同５１−９３３２４号公報、同５３
−８７２２７号公報等）。これらの感光体も有機材料で
構成されているため、材料の劣化とりわけ酸化劣化に対
して不安定であり、この点より一層の改良が望まれてい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、繰り返し使用によって生ずる帯電性の低下を改良し
た両帯電性電子写真感光体を提供することにある。本発
明に第二の目的は、耐環境性（耐反応ガス性）の優れた
両帯電性電子写真感光体を提供することにある。本発明
の第三の目的は、異常画像の発生を防止した両帯電性電
子写真感光体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、導電性
基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重合体および正
孔輸送性物質を主成分とする感光層が設けられた電子写
真感光体において、該感光体中に酸化防止剤を含有させ
てなることを特徴とする電子写真感光体が提供される。

【０００６】一般に、この種の共晶錯体感光体は、正帯
電ならびに負帯電に対して各々電子写真感光度を示す
が、上述した様に繰り返し使用による帯電性の低下を生
ずる。又、環境特性とりわけ反応性ガス（Ｏ₃，ＮＯ
ｘ，ＳＯｘ，ｅｔｃ．）により、帯電性の低下や異常画
像を生じることがある。この原因については明らかでは
ないが、有機材料系に特有の現象であり、おそらく材料
の劣化を伴なっていると推測される。本発明者らは、こ
の点を鋭意検討した結果、共晶錯体を有する感光層中に
酸化防止剤を含有させることで上述した諸現象が著しく
改善されることを見い出し、本発明を完成するに到っ
た。

【０００７】以下、図面に沿って、本発明をさらに説明
する。図１は、本発明の電子写真感光体の構成例を示す
断面図であり、導電性基体１１上に、共晶錯体感光層１
５が設けれられている。図２は、本発明の別の構成例で
あり、導電性基体と共晶錯体感光層との間に下引層１４
を設けたものである。図３、図４は本発明の更に別の構
成例であり、共晶錯体感光層１５の上に保護層１７を設
けたものである。また図５（ａ）に、本発明の応用とし
て電子写真用複合感光体を示す。このものは導電性基体
上に、共晶錯体感光層を透過する光に対して感度を有す
る感光層１２（以下、第２感光層という）を設け、さら
にその上に共晶錯体感光層を設けたものである。図５
（ｂ）は、電子写真用複合感光体の別の構成例を示すも
のであり、第２感光層と、共晶錯体感光層の間に中間層
１３を設けてなるものである。

【０００８】導電性基体１１としては、体積抵抗１０¹¹
Ωｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金な
どの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物
を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしく
は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるい
は、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステ
ンレス等の板およびそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出
し、引抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩
等で表面処理した管等を使用することができる。前述し
たように、本発明の電子写真感光体の共晶錯体感光層１
５は、共晶錯体と、正孔輸送性物質を主成分として構成
されている。ここで共晶錯体は、ピリリウム系染料と電
気絶縁性重合体とからつくられるものである。

【０００９】ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チ
アピリリウム塩及びセレナピリリウム塩の３種があり、
下記構造式化１を有している。

【化１】 上式においてＲａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄ及びＲｅは夫々、
以下の基を表わす。 (a) 水素原子 (b) アルキル基、代表的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの
C₁〜C₁₅のアルキル基 (c）メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、アミ
ロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキシ基 (d）フェニル、4-ジフェニル、4-エチルフェニル、4-プ
ロピルフェニルなどのアルキルフェニル類；4-エトキシ
フェニル、4-メトキシフェニル、4-アミロキシフェニ
ル、2-ヘキソキシフェニル、2-メトキシフェニル、3,4-
ジメトキシフェニルなどのアルコキシフェニル類；2-ヒ
ドロキシエトキシフェニル、3-ヒドロキシエトキシフェ
ニルなどのβ-ヒドロキシアルコキシフェニル類；4-ヒ
ドロキシフェニル、2,4-ジクロロフェニル、3,4-ジブロ
モフェニル、4-クロロフェニル、3,4-ジクロロフェニル
などのハロフェニル類；アジドフェニル、ニトロフェニ
ル、4-ジエチルアミノフェニル、4-ジメチルアミノフェ
ニルなどのアミノフェニル類；ナフチル、スチリル、メ
トキシスチリル、ジエトキシスチリル、ジメチルアミノ
スチリル、1-ブチル-4-P-ジメチルアミノフェニル-1,3-
ブタジェニル、β-エチル-4-ジメチルアミノスチリル等
のビニル置換アリール基のような置換アリール基を含め
たアリール基、また、Xは硫黄、酸素又はセレン原子で
あり、またZ^-はパークロレート、フルオロボレート、沃
化物、塩化物、臭化物、硫酸塩、過沃化物、P-トルエン
スルホネート、ヘキサフルオロホスフエートなどの陰イ
オン官能基である。

【００１０】更にＲａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄ及びＲｅは共
同してピリリウム核に融合したアリール環を完成するに
必要な原子であってもよい。このようなピリリウム系染
料の代表例を下記に示す。

【表１−（１）】 化合物Ｎｏ． 化合物名 １ 4-〔4-ビス-2(クロロエチル)アミノフェニル〕-2・6-ジフェニル チアピリリウムパークロレート ２ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウム パークロレート ３ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウム フルオロボレート ４ 4-(4-ジメチルアミノ-2-メチルフェニル)-2・6-ジフェニルピリリ ウムパークロレート ５ 4-〔4-ビス(2-クロロエチル)アミノフェニル〕-2-(4-メトキシフ ェニル)-6-フェニルチアピリリウムパークロレート ６ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウム サルフエート ７ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウム P-トルエンスルホネート ８ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)2・6-ジフェニルピリリウム-P-ト ルエンスルホネート ９ 2-(2・4-ジメトキシフェニル)-4-(4-ジメチルアミノフェニル)-ベ ンゾ(b)ピリリウムパークロレート １０ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-ジメチルアミノフェニル)チ アピリリウムパークロレート １１ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-(4-メトキシフェニル)-6-フェ ニルチアピリリウムパークロレート １２ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-(4-エトキシフェニル)-6-フェ ニルチアピリリウムパークロレート １３ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-(4-メトキシフェニル)-6-(4- メチルフェニル)-ピリリウムパークロレート

【表１−（２）】 １４ 4-(4-ジフェニルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウ ムパークロレート １５ 2-4-6-トリフェニルピリリウムパークロレート １６ 4-(4-メトキシフェニル)-2・6-ジフェニルピリリウムパークロレ ート １７ 4-(2・4-ジクロロフェニル)-2・6-ジフェニルピリリウムパークロ レート １８ 4-(3・4-ジクロロフェニル)-2・6-ジフェニルピリリウムパークロ レート １９ 2-6-ビス(4-メトキシフェニル)-4-フェニルピリリウムパークロ レート ２０ 6-(4-メトキシフェニル)-2・4-ジフェニルピリリウムパークロレ ート ２１ 2-(3・4-ジクロロフェニル)-4-(4-メトキシフェニル)-6-フェニル ピリリウムパークロレート ２２ 4-(4-アミロキシフェニル)-2・6-ビス(4-エチルフェニル)ピリリ ウムパークロレート ２３ 4-(4-アミロキシフェニル)-2・6-ビス(4-メトキシフェニル)ピリ リウムパークロレート ２４ 2・4・6-トリフェニルピリリウムフルオロボレート ２５ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-メトキシフェニルピリリウム パークロレート ２６ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-メトキシフェニル)ピリリウ ムフルオロボレート ２７ 6-(3・4-ジエトキシスチリル)-2・4・ジフェニルピリリウムパーク ロレート ２８ 6-(3・4-ジエトキシ-β-アミルスチリル)-2・4-ジフェニルピリリ ウムフルオロボレート

【表１−（３）】 ２９ 6-(4-ジメチルアミノ-β-エチルスチリル)-2・4-ジフェニルピリ リウムフルオロボレート ３０ 6-(1-n-アミル-4-p-ジメチルアミノフェニル-1・3-ブタジエニル )-2・4-ジフェニルピリリウムフルオロボレート ３１ 6-(4-ジメチルアミノスチリル)-2・4・ジフェニルピリリウムフル オロボレート ３２ 6-〔α-エチル-β・β-ビス(ジメチルアミノフェニル)ビニレン〕 -2・4-ジフェニルピリリウムフルオロボレート ３３ 6-(1-ブチル-4-p-ジメチルアミノフェニル-1・3-ブタジエニル)-2 ・4-ジフェニルピリリウムフルオロボレート ３４ 5-(4-ジメチルアミノスチリル)-2・4-ジフェニルピリリウムパー クロレート ３５ 6-〔β・β-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ビニレン〕-2・4-ジ フェニルピリリウムパークロレート ３６ 2・6-ビス(4-ジメチルアミノスチリル)-4-フェニルピリリウムパ ークロレート ３７ 6-(β-メチル-4-ジメチルアミノスチリル)-2・4-ジフェニルピリ リウムフルオロボレート ３８ 6-〔1-エチル-4-(4-ジメチルアミノフェニル)-1・3-ブタジエニル 〕-2・4-ジエニルピリリウムフルオロボレート ３９ 6-〔β・β-ビス(4-ジメチルアミノフェニ)ビニレン〕-2・4-ジフ ェニルピリリウムフルオロボレート ４０ 6-〔1-メチル-4-(4-ジメチルアミノフェニル-1・3-ブタジエニル 〕-2・4-ジフェルピリリウムフルオロボレート ４１ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルピリリウムパー クロレート ４２ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-フェニルピリリウムパークロレ ート

【表１−（４）】 ４３ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-メトキシフェニルチアピリリウ ムフルオロボレート ４４ 2・4・6-トリフェニルチアピリリウムパークロレート ４５ 4-(4-メトキシフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウムパーク ロレート ４６ 6-(4-メトキシフェニル)-2・4-ジフェニルチアピリリウムパーク ロレート ４７ 2-6-ビス(4-メトキシフェニル)-4-フェニルチアピリリウムパー クロレート ４８ 4-(2・4-ジクロロフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウムパー クロレート ４９ 2・4・6-トリ(4-メトキシフェニル)チアピリリウムパークロレート ５０ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-フェニルチアピリリウムパーク ロレート ５１ 4-(4-アミルオキシフェニル)-2・6-ビス(4-エチルフェニル)チア ピリリウムパークロレート ５２ 6-(4-ジメチルアミノスチリル)-2・4-ジフェニルチアピリリウム パークロレート ５３ 2・4・6-トリフェニルチアピリリウムフルオロボレート ５４ 2・4・6-トリフェニルチアピリリウムサルフェート ５５ 4-(4-メトキシフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウムフルオ ロポレート ５６ 2・4・6-トリフェニルチアピリリウムクロライド ５７ 2-(4-アミルオキシフェニル)-4・6-ジフェニルチアピリリウムフ ルオロポレート ５８ 4-(4-アミルオキシフェニル)-2・6-ビス(4-メトキシフェニル)チ アピリリウムパークロレート

【表１−（５）】 ５９ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-メトキシフェニル)チアピリ リウムパークロレート ６０ 4-アニシル-2・6-ビス(4-n-アミルオキシフェニル)チアピリリウ ムクロライド ６１ 2-〔β・β-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ビニレン〕-4・6-ジ フェニルチアピリリウムパークロレート ６２ 6-(β-エチル-4-ジメチルアミノスチリル)-2・4-ジフェニルチア ピリリウムパークロレート ６３ 2-(3・4-ジエトキシスチリル)-4・6-ジフェニルチアピリリウムパ ークロレート ６４ 2・4・6-トリアニシルチアピリリウムパークロレート ６５ 6-エチル-2・4-ジフェニルピリリウムフルオロボレート ６６ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-メトキシフェニル)チアピリ リウムクロライド ６７ 6-〔β・β-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ビニレン〕-2・4-ジ( 4-エチルフェニル)ピリリウムパークロレート ６８ 2・6-ビス(4-アミルオキシフェニル)-4-(4-メトキシフェニル)チ アピリリウムパークロレート) ６９ 6-(3・4-ジエトキシ-β-エチルスチリル)-2・4-ジフェニルピリリ ウムフルオロボレート ７０ 6-(4-メトキシ-β-エチルスチリル)-2・4-ジフェニルピリリウム フルオロボレート ７１ 2-(4-エチルフェニル)-4・6-ジフェニルチアピリリウムパークロ レート ７２ 2・6-ジフェニル-4-(4-メトキシフェニル)チアピリリウムパーク ロレート ７３ 2・6-ジフェニル-4-(4-メトキシフェニル)チアピリリウムフルオ ロボレート

【表１−（６）】 ７４ 2・6-ビス(4-エチルフェニル)-4-(4-n-アミルオキシフェニル)チ アピリリウムパークロレート ７５ 2・6-ビス(4-メトキシフェニル)4-(4-n-アミルオキシフェニル)チ アピリリウムパークロレート ７６ 2・4・6-トリス(4-メトキシフェニル)チアピリリウムフルオロボレ ート ７７ 2・4-ジフェニル-6-(3・4-ジエトキシスチリル)ピリリウムパーク ロレート ７８ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-フェニルベンゾ(b)セレナピリ リウムパークロレート ７９ 2-(2・4-ジメトキシフェニル)-4-(4-ジメチルアミノフェニル)-ベ ンゾ(b)セレナピリリウムパークロレート ８０ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルセレナピリリウ ムパークロレート ８１ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-(4-エトキシフェニル)-6-フェ ニルセレナピリリウムパークロレート ８２ 4-〔4-ビス(2-クロロエチル)アミノフェニル〕-2・6-ジフェニル セレナピリリウムパークロレート ８３ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ビス(4-エチルフェニル)-セ レナピリリウムパークロレート ８４ 4-(4-ジメチルアミノ-2-メチルフェニル)-2・6-ジフェニルセレナ ピリリウムパークロレート ８５ 3-(4-ジメチルアミノフェニル)ナフト(2・1-b)セレナピリリウム パークロレート ８６ 4-(4-ジメチルアミノスチリル)-2-(4-メトキシフェニル)ベンゾ (b)セレナピリリウムパークロレート ８７ 2・6-ジ(4-ジエチルアミノフェニル)-4-フェニルセレナピリリウ ムパークロレート

【表１−（７）】 ８８ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2-(4-エトキシフェニル)-6-フェ ニルチアピリリウムフルオロボレート ８９ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルピリリウムヘキ サフルオロフォスフェート ９０ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルチアピリリウム ヘキサフルオロフォスフェート ９１ 4-(4-ジメチルアミノフェニル)-2・6-ジフェニルセレナピリリウ ムヘキサフルオロフォスフェート

【００１１】特に有用なピリリウム染料は下記構造式化
２を有するものである。

【化２】 式中R₁及びR₂はC₁〜C₆のアルキル基及びC₁〜C₆のアルコ
キシ基から選ばれた少なくとも１つの置換基を有する置
換フェニル基のようなアリール基であり、R₃はアルキル
部分がC₁〜C₆のアルキルアミノ置換フェニル基で、ジア
ルキルアミノ置換及びハロアルキルアミノ置換フェニル
基でもよい。Xは酸素、硫黄又はセレン原子、Z^-は前述
の通りである。

【００１２】電気絶縁性重合体としては主鎖(繰返し単
位)中に下記化３で示されるアルキリデンジアリーレン
部分を有するものが特に有用である。

【化３】 式中R₄及びR₅は夫々、水素原子、トリフルオロメチルの
ような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどのアル
キル基、ハロゲン、C₁〜C₅のアルキル基のような置換基
を有する置換アリール基を含むフェニル及びナフチルな
どのアリール基であり、またR₄とR₅とは共同してシクロ
ヘキシルのようなシクロアルカン類及びノルボルニルの
ようなポリシクロアルカン類を含む環式炭化水素基を形
成するに必要な炭素原子であってもよい。R₅及びR₇は水
素、C₁〜C₆のアルキル基又はクロル、ブロム、沃素など
のハロゲンであり、またR₈は よりなる群から選択された２価の基である。

【００１３】また下記式の繰返し単位からなる疎水性炭
酸塩重合体類（ポリカーボネート）も有用で好ましいも
のである。 式中、Rはハロ置換フェニレン基類及びアルキル置換フ
ェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR₄及びR₅
は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,028,365
号、同3,317,466号に開示されている。好ましくは、ビ
スフェノールAから製造されるような、繰返し単位にア
ルキリデンジアリーレン部分を含有しジフェニルカーボ
ネートと2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンとの
間のエステル交換によって生成した重合体を含むポリカ
ーボネート類が有用である。このような重合体はUSP2,9
99,750号、同3,038,874号、同3,038,880号、同3,106,54
4号、同3,106,545号、同3,106,546号等に開示されてい
る。いずれにしてもフィルム形成性ポリカーボネート樹
脂類は広範囲に使用できる。特に約0.5〜1.8の固有粘度
を有するものを使用すると、満足し得る結果が得られ
る。電気絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。

【００１４】

【表２−（１）】 番号 重合体材料 １ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-1,4-シクロヘキシル -ジメチルカーボネート) ２ ポリ(3,3'-エチレンジオキシフェニレンチオカーボネート) ３ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレンカーボネート-CO-テレフ タレート) ４ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレンカーボネート) ５ ポリ(4,4'-イソプロピリデンフェニレンチオカーボネート ６ ポリ(2,2-ブタンビス-4-フェニレンカーボネート) ７ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレンカーボネート-ブロック- エチレンオキシド) ８ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレンカーボネート-ブロック- テトラメチレンオキシド) ９ ポリ〔4,4'-イソプロピリデンビス(2-メチルフェニレン)カーボネ ート〕 １０ ポリ(4,4'-イソプロピリデンフェニレン-CO-1,4-フェニレンカーボ ネート) １１ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-1,3-フェニレンカー ボネート) １２ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-4,4'-ジフェニレン カーボネート) １３ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-4,4'-オキシジフェ ニレンカーボネート) １４ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-4,4'-カルポニル-ジ フェニレンカーボネート) １５ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-CO-4,4'-エチレンジフ ェニレンカーボネート) １６ ポリ〔4,4'-メチレンビス(2-メチルフェニレン)カーボネート〕 １７ ポリ〔1,1-(P-ブロモフェニルエタン)-ビス(4-フェニレン)カーボ ンネート〕 １８ ポリ〔4,4′-イソプロピリテンジフェニレン-CO-スルホニル-ビス( 4-フェニレン)カーボネート〕 １９ ポリ〔1,1-シクロヘキサンビス(4-フェニレン)カーボネート〕 ２０ ポリ〔4,4'-イソプロピリデンビス(2-クロロフェニレン)カーボネ ート〕 ２１ ポリ(ヘキサフルオロイソプロビリデンジ-4-フェニレンカーボネー ト) ２２ ポリ〔4,4'-イソプロピリデンジフェニレン-4,4'-イソプロピリデ ンジベンゾエート) ２３ ポリ(4,4'-イソプロピリテンジベンジル-4,4′-イソプロピリテン ジベンゾエート) ２４ ポリ〔2,2-(3-メチルブタン)ビス-4-フェニレンカーボネート) ２５ ポリ〔2,2-(3,3-ジメチルブタン)ビス-4-フェニレンカーボネート 〕 ２６ ポリ{1,1-〔1-(1-ナフチル)〕ビス-4-フェニレンカーボネート} ２７ ポリ〔2,2-(4-メチルペンタン)ビス-4-フェニレンカーボネート〕 ２８ ポリ〔4,4'-(2-ノルボルニリデン)ジフェニレンカーボネート〕 ２９ ポリ〔4,4'-(へキサヒドロ-4,7-メタノインタン-5-イリデン)-ジフ ェニレンカーボネート〕 ３０ ポリ(4,4'-イソプロピリデンジフェニレンカーボネート-ブロック- オキシテトラメチレン)

【００１５】正孔輸送性物質としては、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾ
リルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホ
ルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピ
レン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導
体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モ
ノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、ト
リアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェ
ニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリール
メタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリ
ルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベ
ンゼン誘導体、ビドラソン誘導体、インデン誘導体、ブ
タジェン誘導体など、その他公知の材料が用いられる。

【００１６】本発明の共晶錯体感光層15をつくるには、
上記のピリリウム系染料、電気絶縁性重合体、および正
孔輸送性物質を、適当な溶媒、例えば、テトラヒドロフ
ラン、トルエン、１，２−ジクロルエタン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体１１上
に塗布し、５０〜１３０℃で乾燥して、膜厚５〜５０μ
ｍの光導電層（共晶錯体感光層）１５を形成すればよ
い。塗布は、浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコ
ート法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エア
ーナイフなどを用いて行なえる。

【００１７】この塗布乾燥がなされる間に、ピリリウム
系染料と電気絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。共
晶錯体感光層１５における各成分の割合は、ピリリウム
系染料１重量部に対して、電気絶縁性重合体５〜８０重
量部、正孔輸送性物質１〜５０重量部が適当である。ま
た、この層１５を形成する際に、シリコーンオイルなど
のレベリング剤を塗工液に添加してもよい。その使用量
は、電気絶縁性重合体に対して０〜１重量％程度が適当
である。

【００１８】この共晶錯体感光層には必要に応じて酸化
防止剤が添加できるが、その添加量は正孔輸送性物質１
００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、好ま
しくは、０．１〜５重量部である。なお、酸化防止剤を
添加するためには、共晶錯体感光層塗工液に酸化防止剤
を加えればよいが、その添加時期又は添加順序はいつで
もよく、問題にはならない。

【００１９】以下、本発明に使用できる酸化防止剤を示
す。本発明に使用できる酸化防止剤としては、プラスチ
ック、ゴム、石油、油脂類の酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤として公知の材料すべては用いる事ができ
るが、とりわけ次に示す化合物群より選ばれる材料が好
ましく使用できる。

【００２０】（１）特開昭５７−１２２４４４号公報に
記載のフェノール類、特開昭６０−１８８９５６号公報
に記載のフェノール誘導体及び特開昭６３−１８３５６
号公報に記載のビンダードフェノール類。

【００２１】（２）特開昭５７−１２２４４４号公報に
記載のパラフェニレンジアミン類、特開昭６０−１８８
９５６号公報に記載のパラフェニレンジアミン誘導体及
び特開昭６３−１８３５６号公報に記載のパラフェニレ
ンジアミン類。

【００２２】（３）特開昭５７−１２２４４４号公報に
記載のハイドロキノン類、特開昭６０−１８８９５６号
公報に記載のハイドロキノン誘導体及び特開昭６３−１
８３５６号公報に記載のハイドロキノン類。

【００２３】（４）特開昭５７−１８８９５６号公報に
記載のイオウ化合物及び特開昭６３−１８３５６号公報
に記載の有機イオウ化合物類。

【００２４】（５）特開昭５７−１２２４４４号公報に
記載の有機リン化合物及び特開昭６３−１８３５６号公
報に記載の有機リン化合物類。

【００２５】（６）特開昭５７−１２２４４４号公報に
記載のヒドロキシアニソール類。

【００２６】（７）特開昭６３−１８３５５号公報に記
載の特定の骨格構造を有するピペリジン誘導体及びオキ
ソピペラジン誘導体。

【００２７】（８）特開昭６０−１８８９５６号公報に
記載のカロチン類、アミン類、トコフェロール類、Ｎｉ
（ＩＩ）錯体、スルフィド類等。

【００２８】（９）米国特許第１９６８９０６号明細書
及びＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．５５，１２２４（１
９３３年）に記載の下記一般式（Ｉ）（化４）で示され
る化合物。

【化４】 （式中、Ｒ₁〜Ｒ₄はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
ビロキシ基、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、シクロアルキル基、アルコキシ
基，アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、また置換アミノ基、イミノ基、複素環基、スルホキ
シド基、スルホニル基、アシル基、アゾ基を表わす。）

【００２９】（１０）下記一般式（II）（化５）で示さ
れる化合物。

【化５】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置
換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のア
リール基、置換または無置換のシクロアルキル基、置換
または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリ
ーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルキルア
シルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アルキルカル
バモイル基、アリールカルギモイル基、アルキルスルホ
ンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルスル
ファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルア
シルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シリル基又は
複素環基を表わす。但し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄のうち少
なくとも１つは炭素原子数の総和が４以上の基であ
る。）

【００３０】（１１）下記一般式（ＩＩＩ）（化６）で
示される化合物。

【化６】 （式中、Ｒ₅は、−Ｃ−ＣｎＨ₂n+₁-m（Ｒ₉)ｍを表わ
し、Ｒ₆は炭素末４〜２０の置換または無置換のアルキ
ル基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、またはＲ₅を表わ
し、またＲ₉と結合して炭素数５〜１０の環を形成して
もよいが、Ｒ₇とＲ₈は同時に水素であることはなく、Ｒ
₉は置換または無置換のアリール基、アリールチオ基、
アリールオキシ基、アリールアシルアミノ基、アリール
カルバモイル基、アリールスルフォニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アリールアシルオキシ基、アリール
アミノ基、アリールスルホンアミド基、アリールスルホ
ニルオキシ基を表わし、ｎは１〜５を表わし、ｍは１ま
たは２を表わす。）、

【００３1】（１２）下記一般式（ＩＶ）（化７）で示
される化合物。

【化７】 （式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂は置換または無置換のアリール
基、アリールチオ基、アリールオキシ基、ベンジル基、
フタルイミド基を表わし、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換または無置換のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルキ
ルアミノ基、アルキルカルバモイル基を表わす。）

【００３２】（１３）下記一般式（Ｖ）（化８）で示さ
れる化合物。

【化８】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換また
は無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアル
キル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または
無置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル
基、アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ
基、アルキルカルバモイル基、アリールカルギモイル
基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミ
ド基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモ
イル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオ
キシ基、シリル基又は複素環基を表わす。

【００３３】（１４）下記一般式（ＶＩ）（化９）で示
される化合物。

【化９】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換また
は無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアル
キル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または
無置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル
基、アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ
基、アルキルカルバモイル基、アリールカルギモイル
基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミ
ド基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモ
イル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオ
キシ基、シリル基又は複素環基を表わす。

【００３４】（１５）下記一般式（ＶＩＩ）（化１０）
で示される化合物。

【化１０】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、はそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または
無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアルキ
ル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無
置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、
アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、ア
ルキルカルバモイル基、アリールカルギモイル基、アル
キルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ア
ルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキ
ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シ
リル基又は複素環基を表わす。

【００３５】（１６）下記一般式（ＶＩＩＩ）（化１
１）で示される化合物。

【化１１】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅はそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置
換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のア
リール基、置換または無置換のシクロアルキル基、置換
または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリ
ーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルキルア
シルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アルキルカル
バモイル基、アリールカルギモイル基、アルキルスルホ
ンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルスル
ファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルア
シルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シリル基又は
複素環基を表わす。

【００３６】（１７）下記一般式（ＩＸ）（化１２）で
示される化合物。

【化１２】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換また
は無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアル
キル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または
無置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル
基、アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ
基、アルキルカルバモイル基、アリールカルギモイル
基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミ
ド基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモ
イル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオ
キシ基、シリル基又は複素環基を表わす。以下に、一般
式（Ｉ）〜（ＩＸ）の化合物の具体例を示すが、これら
のものに限定されないことはもちろんである。 〔一般式（Ｉ）の化合物の具体例〕

【表３−（１）】

【表３−（２）】 〔一般式（ＩＩ）の化合物の具体例〕

【表４−（１）】

【表４−（２）】

【表４−（３）】

【表４−（４）】

【表４−（５）】

【表４−（６）】

【表４−（７）】

【表４−（８）】

【表４−（９）】

【表４−（１０）】

【表４−（１１）】

【表４−（１２）】

【表４−（１３）】

【表４−（１４）】

【表４−（１５）】

【表４−（１６）】

【表４−（１７）】

【表４−（１８）】

【表４−（１９）】

【表４−（２０）】

【表４−（２１）】

【表４−（２２）】

【表４−（２３）】

【表４−（２４）】

【表４−（２５）】

【表４−（２６）】

【表４−（２７）】

【表４−（２８）】

【表４−（２９）】

【表４−（３０）】

【表４−（３１）】

【表４−（３２）】 〔一般式（III）の化合物の具体例〕

【表５−（１）】

【表５−（２）】

【表５−（３）】

【表５−（４）】

【表５−（５）】

【表５−（６）】

【表５−（７）】 〔一般式（ＩＶ）の化合物の具体例〕

【表６−（１）】

【表６−（２）】 〔一般式（Ｖ）の化合物の具体例〕

【表７−（１）】

【表７−（２）】

【表７−（３）】

【表７−（４）】

【表７−（５）】

【表７−（６）】

【表７−（７）】

【表７−（８）】

【表７−（９）】

【表７−（１０）】

【表７−（１１）】

【表７−（１２）】

【表７−（１３）】 〔一般式（ＶＩ）の化合物の具体例〕

【表８−（１）】

【表８−（２）】 〔一般式（ＶＩＩ）の化合物の具体例〕

【表９−（１）】

【表９−（２）】

【表９−（３）】

【表９−（４）】

【表９−（５）】

【表９−（６）】

【表９−（７）】 〔一般式（ＶIII）の化合物の具体例〕

【表１０−（１）】

【表１０−（２）】

【表１０−（３）】

【表１０−（４）】

【表１０−（５）】 〔一般式（ＩＸ）の化合物の具体例〕

【表１１−（１）】

【表１１−（２）】

【００３７】また、共晶錯体感光層１５を形成する際
に、シリコーンオイルなどのレベリング剤を塗工液に添
加してもよい。その使用量は、電気絶縁性重合体に対し
て０〜１重量％程度が適当である。さらに、この層15を
設けるに際して、結着剤が必要により使用されてもよ
い。

【００３８】ここでの結着剤材料としてはポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリブタジエン、スチレン−ブタジ
エン共重合体、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルの重合体及び共重合体、ポリエステル、ポリアミ
ド、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ア
ルキッド樹脂、セルロース系樹脂やポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール及びその誘導体（例えばカルバゾール骨格に
塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基などの
置換基を有するもの）、ポリビニルピレン、ポリビニル
アントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド縮重合体及び
その誘導体（例えばピレン骨格に臭素などのハロゲン、
ニトロ基などの置換基を有するもの）、ポリ−γ−カル
バゾリルエチル−Ｌ−ダルタメート、スチロール樹脂、
塩素化ポリエチレン、アセタール樹脂、メラミン樹脂な
どがあげられる。

【００３９】この結着材には、可塑材を併用することが
できる。可塑材としてはジブチルフタレート、ジオクチ
ルフタレートなど、一般に樹脂の可塑材として使用され
ているものがそのまま使用できる。その使用量は、樹脂
結着材に対して0〜30重量％程度が適当である。

【００４０】なお、本発明の共晶錯体感光層15を形成す
るに際しては、塗工液を重ね塗り方法(特開昭56-40837
号公報)や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウ
ム系染料に浸漬後、乾燥する方法(特開昭56-80052号公
報)を用いてもよく、また層15中のピリリウム系染料の
濃度を導電性基体側と、表面付近で異にするように形成
(特開昭56-121042号公報)してもよい。

【００４１】本発明において、図２に示されるように導
電性基体と、共晶錯体感光層の間に、下引層１４を設け
ることにより、帯電性、接着性を改良することができ
る。

【００４２】本発明において、図２に示されるように、
導電性基体と、共晶錯体感光層１５との間に、下引層１
４を設けることができる。下引層１４は一般には樹脂を
主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤
で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐
溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹
脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリア
クリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、
メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、
ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキ
ッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造
を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。

【００４３】また下引層１４にはモアレ防止、残留電位
の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化
ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示でき
る金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。

【００４４】本発明においては下引層にも酸化防止剤を
含有させることが可能かつ有効であり、その含有量は樹
脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、好まし
くは０．１〜１０重量部である。ただし、酸化防止剤と
しては上で挙げた酸化防止剤が使用できる。

【００４５】これらの下引層は前述の如く適当な溶媒、
塗工法を用いて形成することができる。更に、本発明の
下引層１４として、シランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤、クロムカップリング剤等を使用することも
できる。

【００４６】この他本発明の下引層１４にはＡｌ₂Ｏ₃を
陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリ
レン）等の有機物や、ＳｉＯ、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴ
Ｏ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたも
のも良好に使用できる。下引層１４の膜厚は０〜５μｍ
が適当である。

【００４７】また、本発明において、共晶錯体感光層15
上に保護層や絶縁層を設けることも可能である。

【００４８】保護層は感光体の表面保護の目的で設けら
れ、これに使用される材料としてはABS樹脂、ACS樹脂、
オレフィン〜ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエー
テル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフセタール、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポ
リアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ
ド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレ
ン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチ
レン、AS樹脂、ブタジエン-スチレン共重合体、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキ
シ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩
耗性を向上する目的でポリテトラフルオロエチレンのよ
うな弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸化
チタン、酸化錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散
したもの等を添加することができる。

【００４９】保護層１７には酸化防止剤を用いることが
できるが、その添加量は樹脂１００重量部に対して０〜
２０重量部であり、好ましくは０．１〜１０重量部であ
る。ただし、酸化防止剤としては前述した酸化防止剤が
使用できる。

【００５０】保護層の形成法としては通常の塗布法が採
用される。なお、保護層の厚さは０．５〜１０μｍ程度
が適当である。

【００５１】また、以上のほかに真空薄膜作成法にて形
成したａ−Ｃ、ａ−ＳｉＣなど公知の材料も保護層２１
として用いることができる。本発明においては感光層と
保護層との間に別の中間層（図示せず）を設けることも
可能である。

【００５２】中間層にも一般にバインダー樹脂を主成分
として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アル
コール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ポリビニルブチラー
ル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール
などが挙げられる。

【００５３】中間層には酸化防止剤を用いることができ
るが、その添加量としてはバインダー樹脂１００重量部
に対して０〜２０重量部であり、好ましくは０．１〜５
重量部である。ただし、酸化防止剤には上述した酸化防
止剤が使用できる。

【００５４】本発明の応用例として、図５（ａ）、図５
（ｂ）に示す様な電子写真用複合感光体が挙られる。第
２感光層12および中間層13には、公知の材料(例えば特
開昭56-121044号公報)を用いることができ、第１感光層
には、前述した共晶錯体感光層15を用いることができ
る。この様にしてなる電子写真用複合体には、公知のプ
ロセス(例えば特開昭56-121044)を適用して画像形成す
ることができる。

【００５５】

【効果】本発明の電子写真感光体は、くり返し使用によ
り高感度をそこなう事なく帯電電位の低下が抑制される
ので、ポジ−ポジ現像においては画像濃度の低下を防ぎ
ネガ−ポジ現像においては地肌部の汚れを防止できる。
又、本発明の感光体は、複写機等の中における耐環境性
（耐反応ガス性）にも優れるため、高耐久でかつ異常画
像の発生も防止できる。

【００５６】

【実施例】次に実施例を挙げるが、実施例は本発明を詳
しく説明するためのものであり、本発明が実施例によっ
て制約されるものではない。なお実施例中、部はすべて
重量部である。

【００５７】実施例１〜９ Ａｌ導電層を有するポリエステルフィルム上に、下記組
成の塗工液を塗布、乾燥し、膜厚１８μｍの共晶錯体感
光層を形成し、本発明の電子写真感光体を得た。 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２，６ −ジフェニルピリリウムパークロレート ３部 ポリカーボネート ２８部 （帝人化成(株)製パンライトＬ−１２２５） 塩化メチレン ６５０部 表１２に示す正孔輸送性物質 ２２部 表１２に示す酸化防止剤 ０．２部

【００５８】比較例１〜９ 実施例１〜９において酸化防止剤を添加しないほかはす
べて同じ条件にて比較例１〜９の電子写真感光体を作成
した。

【００５９】

【表１２】

【００６０】つぎに実施例１〜９および比較例１〜９の
各感光体を、静電複写試験装置（川口電気製作所製ＳＰ
−４２８型）を用いて次のように評価した。

【００６１】まず、−５．２ＫＶの放電々圧にてコロナ
帯電を２０秒間行ない、次いで１０秒間暗減衰させ、そ
の後８ｌｕｘのタングステン光を照射した。この時の帯
電開始１秒後と２０秒後の表面電位Ｖ₁（Ｖ）、Ｖ
₂₀（Ｖ）および暗減衰１０秒後の表面電位Ｖ₃₀（Ｖ）を
測定し、また、Ｖ₃₀を半分の電位に光減衰させるのに必
要な露光量Ｅ１／２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を測定した。な
お、暗減衰率（Ｄ．Ｄ）は、次式で定義される。 Ｄ．Ｄ＝Ｖ₃₀／Ｖ₂₀ 更に、上記条件の帯電と露光を同時に３０分間行なって
疲労させた後、再び前記と同様の測定を行なった。試験
結果を、表１３に示すが、試験はすべて常温常湿下で行
なった。

【表１３】

【００６２】実施例１０〜１８ 厚さ０．２ｍｍのＡｌ板上に下記組成の各塗工液を塗
布、乾燥し、厚さ０．２μｍの下引層、厚さ２１μｍの
共晶錯体感光層を順次設けた。 〔下引き層塗工液〕 メタノール ８０部 ｎ−ブタノール ２０部 アルコール可溶性ナイロン ３部 （アミランＣＭ−８０００，東レ製） 表１４に示す酸化防止剤 ０．０６部 〔共晶錯体感光層塗工液〕 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２，６−ジフ ェニルチアピリリウムヘキサフルオロフォスフェート １部 ポリカーボネート（ＧＥ社製レキサン−１４１） ２５部 表１４に示す正孔輸送性物質 ２０部 下引層に用いたものと同じ酸化防止剤 ０．３部 塩化メチレン ４００部 クロロホルム ２００部

【００６３】比較例１０〜１８ 実施例１０〜１８において酸化防止剤を添加しないほか
はすべて同じ条件にて比較例１０〜１８の電子写真感光
体を作成した。

【表１４】

【００６４】つぎに、実施例２〜１８および比較例２〜
１８の感光体をオゾン暴露試験機中でオゾン濃度５ｐｐ
ｍ、３５℃で５日間疲労させた。この疲労前と疲労後の
感光体を実施例１と同様な試験方法（ただし放電々圧は
＋５．６ＫＶとした）で、Ｖ₁（Ｖ）、Ｄ．Ｄ、Ｅ１／
２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を測定した。測定は、常温常湿で
行ない、結果を表１５に示す。

【表１５】

【００６５】実施例１９〜２７ 外径４０ｍｍのＡｌシリンダー上に下記組成の各塗工液
を塗布、乾燥し、厚さ２μｍの下引層、厚さ２０μｍの
共晶錯体感光層、厚さ２μｍの保護層を順次設けた。 〔下引き層塗工液〕 ＴｉＯ₂粉末 １５部 （石原産業(株)製、タイペークＲ−６７０） アルコール可溶性ナイロン ７部 （帝国化学産業製トレジン） エタノール １５０部 〔共晶錯体感光層塗工液〕 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２，６−ジフ ェニルチアピリリウムパークロレート １部 ポリカーボネート（ＧＥ社製レキサン−１４１） ２０部 表１６に示す正孔輸送性物質 ２０部 表１６に示す酸化防止剤 ０．１部 塩化メチレン ６５０部 〔保護層塗工液〕 スチレン−メタクリル酸−Ｎメチロール メタクリルアミド樹脂 １０部 酸化アンチモン１０％含有酸化スズ ３０部 トルエン ８０部 ｎ−ブタノール ７０部 上記感光層に用いたものと同じ酸化防止剤 ０．２部

【００６６】比較例１９〜２７ 実施例１９〜２７において酸化防止剤を添加しないほか
はすべて同じ条件にて比較例１９〜２７の電子写真感光
体を作成した。

【表１６】

【００６７】つぎに、実施例１９〜２７と比較例１９〜
２７の感光体を、画像露光々源をヘリウムネオンレーザ
ーに変更したレーザープリンターＬＰ−１０６０ＳＰ−
３の搭載し、３０℃、湿度９０％の条件下で５０００枚
の連続複写を行なった。この時の非画像部の黒斑点（黒
ポチ）を目視検査にて５段階に評価した。ただし、ラン
ク５を良、ランク１を不良とした。１枚目と５０００枚
目の結果を表−１７に示す。

【表１７】

【００６８】実施例２８〜３６ 外径８０ｍｍのＡｌシリンダー上に、下記組成の各塗工
液を塗布、乾燥し、厚さ１７μｍの共晶錯体感光層、厚
さ３μｍの保護層を順次設けた。 〔共晶錯体感光層塗工液〕 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２，６−ジフ ェニルセレナピリリウムテトラフルオロボレート ２部 ポリカーボネート（帝人化成(株)製パンライトＬ−１２５０） ３０部 表１８に示す正孔輸送性物質 ２５部 塩化メチレン ５００部 クロルベンゼン １２０部 〔保護層用塗工液〕 スチレン〜メチルメタクリレート〜２−ヒドロキシエチル メタクリレート〜トリフロロエチルメタクリレート共重合体 １０部 導電性酸化チタン ８部 トルエン １００部 ｎ−ブタノール ５０部 表１８に示す酸化防止剤 ０．４部

【００６９】比較例２８〜３６ 実施例２８〜３６において酸化防止剤を添加しないほか
はすべて同じ条件にて比較例２８〜３６の電子写真感光
体を作成した。

【表１８】

【００７０】実施例２８〜３６と比較例２８〜３６の各
感光体を二酸化チッ素暴露試験機中でＮＯ₂濃度５ｐｐ
ｍ、２５０℃、湿度３５％の条件下で５日間疲労させ
た。各感光体を疲労前と疲労後にリコピーＦＴ６５５０
に搭載して、画像濃度をマクベス濃度計で測定した。そ
の結果を表１９に示す。

【表１９】

【００７１】

【発明の効果】本発明の電子写真用感光体は、繰り返し
使用によっても帯電々位の低下が抑制され、高感度なも
のであり、ポジ−ポジ現像においては画像濃度の低下が
防止でき、ネガ−ポジ現像においては地肌部の汚れが防
止できる。また、本発明の感光体は複写機等の中におけ
る耐環境性（耐反応ガス性）にも優れるため高耐久性で
異常画像の発生を防止し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の模式断面図である。

【図２】本発明の別の電子写真感光体の模式断面図であ
る。

【図３】図１において、保護層を設けた本発明の電子写
真感光体の模式断面図である。

【図４】図２において、保護層を設けた本発明の電子写
真感光体の模式断面図である。

【図５】図５（ａ）〜（ｂ）は更に別の本発明に係る電
子写真感光体の模式断面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上にピリリウム系染料、電気
   絶縁性重合体および正孔輸送性物質を主成分とする感光
   層が設けられた電子写真感光体において該感光体中に酸
   化防止剤を含有させてなることを特徴とする電子写真感
   光体。