JPS63216054A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G5/06142—Amines arylamine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、電子写真感光体に関し、詳しくは、共晶錯体
感光層中に特定の構造を有する特質を添加した電子写真
用感光体に関する。
感光層中に特定の構造を有する特質を添加した電子写真
用感光体に関する。
ピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とからなる共晶錯
体及び必要あればトリフェニルメタン系増感剤を加えた
組成物を光導電層とした電子写真用感光体は公知である
(例えば特公昭46−22518号公報、同46−22
519号公報、同51−1129号公報、特開昭47−
10785号公報、同51−88226号公報、同51
−93324号公報、同53−87227号公報等)。
体及び必要あればトリフェニルメタン系増感剤を加えた
組成物を光導電層とした電子写真用感光体は公知である
(例えば特公昭46−22518号公報、同46−22
519号公報、同51−1129号公報、特開昭47−
10785号公報、同51−88226号公報、同51
−93324号公報、同53−87227号公報等)。
これらの感光体は、実用上、差支えない程度の電子写真
感度を持ってはいるが、未だ充分満足するまでには到っ
ていない。
感度を持ってはいるが、未だ充分満足するまでには到っ
ていない。
本発明は、優れた電子写真感度殊に正帯電時において優
れた電子写真感度を有する電子写真用感光体を提供する
ことを目的とする。
れた電子写真感度を有する電子写真用感光体を提供する
ことを目的とする。
本発明者らは、ピリリウム系染料および電気絶縁性重合
体(電気絶縁性フィルム形成性重合体物質)からなる共
晶錯体に、下記一般式(1)で示されるベンジン化合物 (ただし、R1は、メチル、メトキシ、塩素原子を表わ
し、nは、0〜4の整数を表わす6R2、R1は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、または塩素原子を表わす。) を添加することにより、極めて優れた電子写真感度が得
られることを見い呂し、本発明に到った。
体(電気絶縁性フィルム形成性重合体物質)からなる共
晶錯体に、下記一般式(1)で示されるベンジン化合物 (ただし、R1は、メチル、メトキシ、塩素原子を表わ
し、nは、0〜4の整数を表わす6R2、R1は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、または塩素原子を表わす。) を添加することにより、極めて優れた電子写真感度が得
られることを見い呂し、本発明に到った。
従って、本発明の電子写真用感光体は、ピリリウム系染
料、電気絶縁性重合体および、一般式(1)で示される
ベンジン化合物を主成分とする光導電層(共晶錯体感光
層)が、導電性基板上に設けられていることを特徴とす
るものである。
料、電気絶縁性重合体および、一般式(1)で示される
ベンジン化合物を主成分とする光導電層(共晶錯体感光
層)が、導電性基板上に設けられていることを特徴とす
るものである。
以下、図面にそって、本発明をさらに説明する。
第1図は、本発明の電子写真用感光体の構成例を示す断
面図であり、導電性基体11上に、共晶錯体感光層15
が設けられている。
面図であり、導電性基体11上に、共晶錯体感光層15
が設けられている。
第2図は、本発明の別の構成例であり、導電性基体と共
晶錯体感光層との間に下引層14を設けたものである。
晶錯体感光層との間に下引層14を設けたものである。
また、第3図に、本発明の応用として電子写真用複合感
光体を示す。導電性基体上に、共晶錯体感光層を透過す
る光に対して感度を有する感光層12(以下、第2感光
層という)を設け、さらにその上に共晶錯体感光層を設
けたものである。
光体を示す。導電性基体上に、共晶錯体感光層を透過す
る光に対して感度を有する感光層12(以下、第2感光
層という)を設け、さらにその上に共晶錯体感光層を設
けたものである。
第4図は、電子写真用複合感光体の別の構成例を示すも
のであり、第2感光層と、共晶錯体感光層の間に中間層
13を、設けてなるものである。
のであり、第2感光層と、共晶錯体感光層の間に中間層
13を、設けてなるものである。
導電性基体11としては、体積抵抗1010Ω■以下の
導電性を示すもの1例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム
、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板およ
びそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した
管等を使用することができる。
導電性を示すもの1例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム
、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板およ
びそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した
管等を使用することができる。
前述した様に、共晶錯体感光層15は、共晶錯体と、一
般式(1)で示される導電性物質を主成分として形成さ
れている。この共晶錯体は、ピリリウム系染料と、電気
絶縁性重合体とからつくられるものである。
般式(1)で示される導電性物質を主成分として形成さ
れている。この共晶錯体は、ピリリウム系染料と、電気
絶縁性重合体とからつくられるものである。
ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩及びセレナピリリウム塩の3種があり、下記一般式を
有している。
塩及びセレナピリリウム塩の3種があり、下記一般式を
有している。
上式ニオuNテR”、 R’、 Re、 R’及ヒRe
ハ夫々。
ハ夫々。
(a)水素原子
(b)アルキル基、代表的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル。
ル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル。
ドデシルなどのC□〜Ctsのアルキル基(C)メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ。
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ。
アミロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキシ
基 (d)フェニル、4−ジフェニル、4−エチルフェニル
、4−プロビルフヱニルなどのアルキルフェニル類;4
−エトキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−アミ
ロキシフェニル、2−ヘキソキシフェニル、2−メトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニルなどのアルコ
キシフェニル類;2−ヒドロキシエトキシフェニル、3
−ヒドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロキシア
ルコキシフェニル類;4−ヒドロキシフェニル、2,4
−ジクロロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、4−
クロロフェニル、3,4−ジクロロフェニルなどのハロ
フェニル類;アジドフェニル。
基 (d)フェニル、4−ジフェニル、4−エチルフェニル
、4−プロビルフヱニルなどのアルキルフェニル類;4
−エトキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−アミ
ロキシフェニル、2−ヘキソキシフェニル、2−メトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニルなどのアルコ
キシフェニル類;2−ヒドロキシエトキシフェニル、3
−ヒドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロキシア
ルコキシフェニル類;4−ヒドロキシフェニル、2,4
−ジクロロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、4−
クロロフェニル、3,4−ジクロロフェニルなどのハロ
フェニル類;アジドフェニル。
ニトロフェニル、4−ジエチルアミノフェニル、4−ジ
メチルアミノフェニルなどのアミノフェニル類;ナフチ
ル、スチリル、メトキシスチリル、ジェトキシスチリル
、ジメチルアミノスチリル、1−ブチル−4−P−ジメ
チルアミノフェニル−1,3−ブタジェニル、β−エチ
ル−4−ジメチルアミノスチリル等のビニル置換アリー
ル基のような置換アリール基を含めたアリール基、 を表わし、Xは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
z9はバークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩
化物、臭化物、硫酸塩、適法化物、p−トルエンスルホ
ネート、ヘキサフルオロホスフェートなどの陰イオン官
能基である。
メチルアミノフェニルなどのアミノフェニル類;ナフチ
ル、スチリル、メトキシスチリル、ジェトキシスチリル
、ジメチルアミノスチリル、1−ブチル−4−P−ジメ
チルアミノフェニル−1,3−ブタジェニル、β−エチ
ル−4−ジメチルアミノスチリル等のビニル置換アリー
ル基のような置換アリール基を含めたアリール基、 を表わし、Xは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
z9はバークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩
化物、臭化物、硫酸塩、適法化物、p−トルエンスルホ
ネート、ヘキサフルオロホスフェートなどの陰イオン官
能基である。
更にR’、 Rb、 R’、 R’及びReは共同して
ピリリウム核に融合したアリール環を完成するに必要な
原子であってもよい。
ピリリウム核に融合したアリール環を完成するに必要な
原子であってもよい。
このようなピリリウム系染料の代表例を下記に示す。
化合物Nα 化 合 物 名
1 4−C4−ビス−2(クロロエチル)アミノフェ
ニル〕−2・6−シフエニルチアピリリウムパークロレ
ート 2 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
シフエニルチアピリリウムパークロレート3 4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−シフエニルチ
アピリリウムフルオロボレート 4 4−(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル
)−2・6−ジフェニルピリリウムバークロレート 5 4−(4−ビス(2−クロロエチル)アミノフェ
ニル)−2−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル
チアピリリウムバークロレート 6 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
シフエニルチアピリリウムサルフエート 7 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
ジフェニルチアピリリウムp−トルエンスルホネート 8 4−(4−ジメチルアミノフェニル)2・6−シ
フエニルピリリウムーP−トルエンスルホネート 9 2−(2・4−ジメトキシフェニル)−4−(4
−ジメチルアミノフェニル)−ベンゾ(b)ピリリウム
バークロレート 102・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
ジメチルアミノフェニル)チアピリリウムバークロレー
ト 11 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−メトキシフェニル)−6−フェニルチアピリリウム
バークロレート 12 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−エトキシフェニル)−6−フェニルチアピリリウム
バークロレート 13 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−メトキシフェニル)−6−(4−メチルフェニル)
−ピリリウムバークロレート 14 4−(4−ジフェニルアミノフェニル)−2・
6−シフエニルチアピリリウムバークロレート 15 2−4−6−ドリフエニルピリリウムパークロ
レート 16 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−ジフ
ェニルピリリウムバークロレート 17 4−(2・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルピリリウムバークロレート 18 4−(3・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルピリリウムバークロレート 19 2−6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
フェニルピリリウムバークロレート 20 6−(4−メトキシフェニル)−2・4−ジフ
ェニルピリリウムバークロレート 21 2−(3・4−ジクロロフェニル)−4−(4
−メトキシフェニル)−6−フェニルピリリウムバーク
ロレート 22 4−(4−アミロキシフェニル)−2・6−ビ
ス(4−エチルフェニル)ピリリウムバークロレート 23 4−(4−アミロキシフェニル)−2・6−ビ
ス(4−メトキシフェニル)ピリリウムパーク口レート 242・4・6−ドリフエニルピリリウムフルオロボレ
ート 252・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニルピリリウムバークロレート262・6
−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−メトキシフ
ェニル)ピリリウムフルオロボレート 27 6−(3・4−ジェトキシスチリル)−2・4
・ジフェニルピリリウムバークロレート 28 6−(3・4−ジェトキシ−β−アミルスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 29 6−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 30 6−(1−n−アミル−4−p−ジメチルアミ
ノフェニル−1・3−ブタジェニル)−2・4−ジフェ
ニルピリリウムフルオロボレート 31 6−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
・ジフェニルピリリウムフルオロボレート 32 6−(α−エチル−β・β−ビス(ジメチルア
ミノフェニル)ビニレン〕−2・4−ジフェニルピリリ
ウムフルオロボレート 33 6−(1−ブチル−4−P−ジメチルアミノフ
ェニル−1・3−ブタジェニル)−2・4−ジフェニル
ピリリウムフルオロボレート 34 5−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
−ジフェニルピリリウムバークロレート 35 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン)−2・4−ジフェニルピリリウムバー
クロレート 362・6−ビス(4−ジメチルアミノスチリル)−4
−フェニルピリリウムバークロレート 37 6−(β−メチル−4−ジメチルアミノスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 38 6−[1−エチル−4−(4−ジメチルアミノ
フェニル)−1・3−フタジェニル]−2・4−ジェニ
ルピリリウムフルオロボレート 39 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−2・4−ジフェニルピリリウムフル
オロボレート 40 6−[1−メチル−4−(4−ジメチルアミノ
フェニルート3−ブタジェニル]−2・4−シフエルピ
リリウムフルオロボレート 41 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルピリリウムバークロレート 422・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−フェニ
ルピリリウムバークロレート 432・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−メトキ
シフェニルチアピリリウムフルオロボレート 442・4・6−ドリフエニルチアピリリウムパークロ
レート 45 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−ジフ
ェニルチアピリリウムバークロレート 46 6−(4−メトキシフェニル)−2・4−ジフ
ェニルチアピリリウムバークロレート 47 2−6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
フェニルチアピリリウムバークロレート 48 4−(2・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルチアピリリウムバークロレート 492・4・6−トリ(4−メトキシフェニル)チアピ
リリウムバークロレート 502・6−ヒス(4−エチルフェニル)−4−フェニ
ルチアピリリウムバークロレート 51 4−(4−アミルオキシフェニル)−2・6−
ビス(4−エチルフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 52 6−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
−ジフェニルチアピリリウムバークロレート532・4
・6−ドリフエニルチアピリリウムフルオロボレート 542・4・6−ドリフエニルチアピリリウムサルフエ
ート 55 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−シフ
エニルチアピリリウムフルオロポレート 562・4・6−ドリフエニルチアピリリウムクロライ
ド 57 2−(4−アミルオキシフェニル)−4・6−
ジフエニルチアピリリウムフルオロポレート58 4
−(4−アミルオキシフェニル)−2・6−ビス(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレート 592・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレート 604−アニシルー2・6−ビス(4−n−アミルオキ
シフェニル)チアピリリウムクロライド 61 2−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−4・6−ジフェニルチアピリリウム
バークロレート 62 6−(β−エチル−4−ジメチルアミノスチリ
ル)−2・4−ジフェニルチアピリリウムバークロレー
ト 63 2−(3・4−ジェトキシスチリル)−4・6
−ジフェニルチアピリリウムバークロレート 642・4・6−ドリアニシルチアピリリウムパークロ
レート 656−ニチルー2・4−ジフェニルピリリウムフルオ
ロボレート 662・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムクロライド 67 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−2・4−ジ(4−エチルフェニル)
ピリリウムバークロレート 682・6−ビス(4−アミルオキシフェニル)−4−
(4−メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレー
ト) 69 6−(3・4−ジェトキシ−β−エチルスチリ
ル)=2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 70 6−(4−メトキシ−β−エチルスチリル)−
2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 71 2−(4−エチルフェニル)−4・6−ジフェ
ニルチアピリリウムバークロレート 722・6−ジフェニル−4−(4−メトキシフェニル
)チアピリリウムバークロレート 732・6−ジフェニル−4−(4−メトキシフェニル
)チアピリリウムフルオロボレート 742・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
n−アミルオキシフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 752・6−ビス(4−メトキシフェニル)4−(4−
n−アミルオキシフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 762・4・6−トリス(4−メトキシフェニル)チア
ピリリウムフルオロボレート 772・4−ジフェニル−6−(3・4−ジェトキシス
チリル)ピリリウムバークロレート 78 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−フ
ェニルベンゾ(b)セレナピリリウムバークロレート 79 2−(2・4−ジメトキシフェニル)−4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−ベンゾ(b)セレナピ
リリウムバークロレート 80 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−シフエニルセレナピリリウムパークロレー81 4
−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−エトキ
シフェニル)−6−フェニルセレナピリリウムバークロ
レート 82 4−(4−ビス(2−クロロエチル)アミノフ
ェニル〕−2・6−シフエニルセレナピリリウムパーク
ロレート 83 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ビス(4−エチルフェニル)−セレナピリリウムバー
クロレート 84 4−(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニ
ル)−2・6−シフエニルセレナピリリウムパークロレ
ート 85 3−(4−ジメチルアミノフェニル)ナフト(
2・1−b)セレナピリリウムバークロレート86
4−(4−ジメチルアミノスチリル)−2−(4−メト
キシフェニル)ベンゾ(b)セレナピリリウムバークロ
レート 872・6−ジ(4−ジエチルアミノフェニル)−4−
フェニルセレナピリリウムバーク口レー88 4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−エトキシフ
ェニル)−6−フェニルチアピリリウムフルオロボレー
ト 89 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルピリリウムへキサフルオロフォスフェート 90 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルチアピリリウムへキサフルオロフォスフェ
ート 91 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルセレナピリリウムへキサフルオロフォスフ
ェート 特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもので
ある。
ニル〕−2・6−シフエニルチアピリリウムパークロレ
ート 2 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
シフエニルチアピリリウムパークロレート3 4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−シフエニルチ
アピリリウムフルオロボレート 4 4−(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル
)−2・6−ジフェニルピリリウムバークロレート 5 4−(4−ビス(2−クロロエチル)アミノフェ
ニル)−2−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル
チアピリリウムバークロレート 6 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
シフエニルチアピリリウムサルフエート 7 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6−
ジフェニルチアピリリウムp−トルエンスルホネート 8 4−(4−ジメチルアミノフェニル)2・6−シ
フエニルピリリウムーP−トルエンスルホネート 9 2−(2・4−ジメトキシフェニル)−4−(4
−ジメチルアミノフェニル)−ベンゾ(b)ピリリウム
バークロレート 102・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
ジメチルアミノフェニル)チアピリリウムバークロレー
ト 11 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−メトキシフェニル)−6−フェニルチアピリリウム
バークロレート 12 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−エトキシフェニル)−6−フェニルチアピリリウム
バークロレート 13 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(
4−メトキシフェニル)−6−(4−メチルフェニル)
−ピリリウムバークロレート 14 4−(4−ジフェニルアミノフェニル)−2・
6−シフエニルチアピリリウムバークロレート 15 2−4−6−ドリフエニルピリリウムパークロ
レート 16 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−ジフ
ェニルピリリウムバークロレート 17 4−(2・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルピリリウムバークロレート 18 4−(3・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルピリリウムバークロレート 19 2−6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
フェニルピリリウムバークロレート 20 6−(4−メトキシフェニル)−2・4−ジフ
ェニルピリリウムバークロレート 21 2−(3・4−ジクロロフェニル)−4−(4
−メトキシフェニル)−6−フェニルピリリウムバーク
ロレート 22 4−(4−アミロキシフェニル)−2・6−ビ
ス(4−エチルフェニル)ピリリウムバークロレート 23 4−(4−アミロキシフェニル)−2・6−ビ
ス(4−メトキシフェニル)ピリリウムパーク口レート 242・4・6−ドリフエニルピリリウムフルオロボレ
ート 252・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニルピリリウムバークロレート262・6
−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−メトキシフ
ェニル)ピリリウムフルオロボレート 27 6−(3・4−ジェトキシスチリル)−2・4
・ジフェニルピリリウムバークロレート 28 6−(3・4−ジェトキシ−β−アミルスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 29 6−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 30 6−(1−n−アミル−4−p−ジメチルアミ
ノフェニル−1・3−ブタジェニル)−2・4−ジフェ
ニルピリリウムフルオロボレート 31 6−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
・ジフェニルピリリウムフルオロボレート 32 6−(α−エチル−β・β−ビス(ジメチルア
ミノフェニル)ビニレン〕−2・4−ジフェニルピリリ
ウムフルオロボレート 33 6−(1−ブチル−4−P−ジメチルアミノフ
ェニル−1・3−ブタジェニル)−2・4−ジフェニル
ピリリウムフルオロボレート 34 5−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
−ジフェニルピリリウムバークロレート 35 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン)−2・4−ジフェニルピリリウムバー
クロレート 362・6−ビス(4−ジメチルアミノスチリル)−4
−フェニルピリリウムバークロレート 37 6−(β−メチル−4−ジメチルアミノスチリ
ル)−2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 38 6−[1−エチル−4−(4−ジメチルアミノ
フェニル)−1・3−フタジェニル]−2・4−ジェニ
ルピリリウムフルオロボレート 39 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−2・4−ジフェニルピリリウムフル
オロボレート 40 6−[1−メチル−4−(4−ジメチルアミノ
フェニルート3−ブタジェニル]−2・4−シフエルピ
リリウムフルオロボレート 41 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルピリリウムバークロレート 422・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−フェニ
ルピリリウムバークロレート 432・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−メトキ
シフェニルチアピリリウムフルオロボレート 442・4・6−ドリフエニルチアピリリウムパークロ
レート 45 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−ジフ
ェニルチアピリリウムバークロレート 46 6−(4−メトキシフェニル)−2・4−ジフ
ェニルチアピリリウムバークロレート 47 2−6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
フェニルチアピリリウムバークロレート 48 4−(2・4−ジクロロフェニル)−2・6−
ジフェニルチアピリリウムバークロレート 492・4・6−トリ(4−メトキシフェニル)チアピ
リリウムバークロレート 502・6−ヒス(4−エチルフェニル)−4−フェニ
ルチアピリリウムバークロレート 51 4−(4−アミルオキシフェニル)−2・6−
ビス(4−エチルフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 52 6−(4−ジメチルアミノスチリル)−2・4
−ジフェニルチアピリリウムバークロレート532・4
・6−ドリフエニルチアピリリウムフルオロボレート 542・4・6−ドリフエニルチアピリリウムサルフエ
ート 55 4−(4−メトキシフェニル)−2・6−シフ
エニルチアピリリウムフルオロポレート 562・4・6−ドリフエニルチアピリリウムクロライ
ド 57 2−(4−アミルオキシフェニル)−4・6−
ジフエニルチアピリリウムフルオロポレート58 4
−(4−アミルオキシフェニル)−2・6−ビス(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレート 592・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレート 604−アニシルー2・6−ビス(4−n−アミルオキ
シフェニル)チアピリリウムクロライド 61 2−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−4・6−ジフェニルチアピリリウム
バークロレート 62 6−(β−エチル−4−ジメチルアミノスチリ
ル)−2・4−ジフェニルチアピリリウムバークロレー
ト 63 2−(3・4−ジェトキシスチリル)−4・6
−ジフェニルチアピリリウムバークロレート 642・4・6−ドリアニシルチアピリリウムパークロ
レート 656−ニチルー2・4−ジフェニルピリリウムフルオ
ロボレート 662・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
メトキシフェニル)チアピリリウムクロライド 67 6−(β・β−ビス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)ビニレン〕−2・4−ジ(4−エチルフェニル)
ピリリウムバークロレート 682・6−ビス(4−アミルオキシフェニル)−4−
(4−メトキシフェニル)チアピリリウムバークロレー
ト) 69 6−(3・4−ジェトキシ−β−エチルスチリ
ル)=2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 70 6−(4−メトキシ−β−エチルスチリル)−
2・4−ジフェニルピリリウムフルオロボレート 71 2−(4−エチルフェニル)−4・6−ジフェ
ニルチアピリリウムバークロレート 722・6−ジフェニル−4−(4−メトキシフェニル
)チアピリリウムバークロレート 732・6−ジフェニル−4−(4−メトキシフェニル
)チアピリリウムフルオロボレート 742・6−ビス(4−エチルフェニル)−4−(4−
n−アミルオキシフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 752・6−ビス(4−メトキシフェニル)4−(4−
n−アミルオキシフェニル)チアピリリウムバークロレ
ート 762・4・6−トリス(4−メトキシフェニル)チア
ピリリウムフルオロボレート 772・4−ジフェニル−6−(3・4−ジェトキシス
チリル)ピリリウムバークロレート 78 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−フ
ェニルベンゾ(b)セレナピリリウムバークロレート 79 2−(2・4−ジメトキシフェニル)−4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−ベンゾ(b)セレナピ
リリウムバークロレート 80 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−シフエニルセレナピリリウムパークロレー81 4
−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−エトキ
シフェニル)−6−フェニルセレナピリリウムバークロ
レート 82 4−(4−ビス(2−クロロエチル)アミノフ
ェニル〕−2・6−シフエニルセレナピリリウムパーク
ロレート 83 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ビス(4−エチルフェニル)−セレナピリリウムバー
クロレート 84 4−(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニ
ル)−2・6−シフエニルセレナピリリウムパークロレ
ート 85 3−(4−ジメチルアミノフェニル)ナフト(
2・1−b)セレナピリリウムバークロレート86
4−(4−ジメチルアミノスチリル)−2−(4−メト
キシフェニル)ベンゾ(b)セレナピリリウムバークロ
レート 872・6−ジ(4−ジエチルアミノフェニル)−4−
フェニルセレナピリリウムバーク口レー88 4−(
4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−エトキシフ
ェニル)−6−フェニルチアピリリウムフルオロボレー
ト 89 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルピリリウムへキサフルオロフォスフェート 90 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルチアピリリウムへキサフルオロフォスフェ
ート 91 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2・6
−ジフェニルセレナピリリウムへキサフルオロフォスフ
ェート 特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもので
ある。
式中R1及びR3はC1〜C6のアルキル基及び01〜
CGのアルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置換
基を有する置換フェニル基のようなアリール基であり、
R3はアルキル部分が01〜C1のアルキルアミノ置換
フェニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキル
アミノ置換フェニル基でもよい。Xは酸素又は硫黄原子
、zeは前述の通りである。
CGのアルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置換
基を有する置換フェニル基のようなアリール基であり、
R3はアルキル部分が01〜C1のアルキルアミノ置換
フェニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキル
アミノ置換フェニル基でもよい。Xは酸素又は硫黄原子
、zeは前述の通りである。
電気絶縁性重合体としては主鎖(繰返し単位)中に下記
式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有するも
のが特に有用である。
式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有するも
のが特に有用である。
式中R4及びR5は夫々、水素原子、トリフルオロメチ
ルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどの
アルキル基、ハロゲン、01〜C6のアルキル基のよう
な置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナ
フチルなどのアリール基であり、またR4とR5とは共
同してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノ
ルボルニルのような゛ポリシクロアルカン類を含む環式
炭化水素基を形成するに必要な炭素原子であってもよい
。
ルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどの
アルキル基、ハロゲン、01〜C6のアルキル基のよう
な置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナ
フチルなどのアリール基であり、またR4とR5とは共
同してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノ
ルボルニルのような゛ポリシクロアルカン類を含む環式
炭化水素基を形成するに必要な炭素原子であってもよい
。
R8及びR7は水素、01〜C5のアルキル基又はクロ
ル。
ル。
ブロム、沃素などのハロゲンであり、またR、はまた下
記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩重合体類(ポリ
カーボネート)も有用で好ましいものである。
記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩重合体類(ポリ
カーボネート)も有用で好ましいものである。
式中、Rはハロ置換フェニレン基類及びアルキル置換フ
ェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR4及び
R5は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,
028,365号、同3,317,466号に開示され
ている。好ましくは、ビスフェノールAから製造される
ような、繰返し単位にアルキリデンジアリーレン部分を
含有しジフェニルカーボネートと2.2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンとの間のエステル交換によ
って生成した重合体を含むポリカーボネート類が有用で
ある。このような重合体はUSP2,999,750号
、同3,038,874号、同3,038,880号。
ェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR4及び
R5は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,
028,365号、同3,317,466号に開示され
ている。好ましくは、ビスフェノールAから製造される
ような、繰返し単位にアルキリデンジアリーレン部分を
含有しジフェニルカーボネートと2.2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンとの間のエステル交換によ
って生成した重合体を含むポリカーボネート類が有用で
ある。このような重合体はUSP2,999,750号
、同3,038,874号、同3,038,880号。
同3,106,544号、同3,106,545号、同
3,106,546号等に開示されている。いずれにし
てもフィルム形成性ポリカーボネート樹脂類は広範囲に
使用できる。特に約0.5〜1.8の固有粘度を有する
ものを使用すると、満足し得る結果が得られる。
3,106,546号等に開示されている。いずれにし
てもフィルム形成性ポリカーボネート樹脂類は広範囲に
使用できる。特に約0.5〜1.8の固有粘度を有する
ものを使用すると、満足し得る結果が得られる。
電気絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。
覆号 里二鉱JLJ二且
I ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレン−
CO−1、4−シクロヘキシルージメチル力−ボネート
) 2 ポリ(3,3’−エチレンジオキシフェニレンチオ
カーボネート) 3 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート−別−テレフタレート) 4 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート) 5 ポリ(4,4’−イソプロピリデンフェニレンチオ
カーボネート 6 ポリ(2,2−ブタンビス−4−フェニレンカーボ
ネート) 7 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート−ブロック−エチレンオキシド)8 ポリ(
4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
−プロツク−テトラメチレンオキシド) 9 ポリ[4,4’−イソプロピリデンビス(2−メチ
ルフェニレン)カーボネート〕 10 ポリ(4,4’−イソプロピリデンフェニレン
−別−1,4−フェニレンカーボネート)11 ポリ
(4,4’−イソプロピリデンジフェニレン−別−1,
3−フェニレンカーボネート)12 ポリ(4,4’
−イソプロピリデンジフェニレン−CO−4,4’−ジ
フェニレンカーボネート)13 ポリ(4,4’〜イ
ソプロピリデンジフエニレン−Go−4,4’−オキシ
ジフェニレンカーボネート) 14 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−Co−4,4’−カルボニル−ジフェニレンカーボ
ネート) 15 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−Co−4,4’−エチレンジフェニレンカーボネー
ト) 16 ポリ(4,4’−メチレンビス(2−メチルフ
ェニレン)カーボネート〕 17 ポリ(1,1−(P−ブロモフェニルエタン
)−ビス(4−フェニレン)カーボンネート〕18
ポリ(4,4’−イソプロピリチンジフェニレン−別−
スルホニル−ビス(4−フェニレン)カーボネート〕 19 ポリで1,1−シクロヘキサンビス(4−フェ
ニレン)カーボネート〕 20 ポリ(4,4’−イソプロピリデンビス(2−
クロロフェニレン)カーボネート〕 21 ポリ(ヘキサフルオロインプロピリデンジー4
−フェニレンカーボネート) 22 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−4,4’−イソプロピリデンジベンゾエート)23
ポリ(4,4’−イソプロピリチンジベンジル−4
,4′−イソプロピリチンジベンゾエート)24 ポ
リ(2,2−(3−メチルブタン)ビス−4−フェニレ
ンカーボネート) 25 ポリ(2,2−(3,3−ジメチルブタン)ビ
ス−4−フェニレンカーボネート〕 26 ポリ(1,1−(1−(1−ナフチル)〕〕ビ
スー4−フェニレンカーボネート 27 ポリ(2,2−(4−メチルペンタン)ビス−
4−フェニレンカーボネート〕 28 ポリC4,4’−C2−ノルボルニリデン)ジ
フェニレンカーボネート〕 29 ポリ(4,4’−(ヘキサヒドロ−4,7−メ
タツインタン−5−イリデン)−ジフェニレンカーボネ
ート〕 30 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ンカーボネート−ブロック−オキシテトラメチレン) また一般式(I)で示される化合物の代表例を、下記に
示す。
CO−1、4−シクロヘキシルージメチル力−ボネート
) 2 ポリ(3,3’−エチレンジオキシフェニレンチオ
カーボネート) 3 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート−別−テレフタレート) 4 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート) 5 ポリ(4,4’−イソプロピリデンフェニレンチオ
カーボネート 6 ポリ(2,2−ブタンビス−4−フェニレンカーボ
ネート) 7 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカ
ーボネート−ブロック−エチレンオキシド)8 ポリ(
4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
−プロツク−テトラメチレンオキシド) 9 ポリ[4,4’−イソプロピリデンビス(2−メチ
ルフェニレン)カーボネート〕 10 ポリ(4,4’−イソプロピリデンフェニレン
−別−1,4−フェニレンカーボネート)11 ポリ
(4,4’−イソプロピリデンジフェニレン−別−1,
3−フェニレンカーボネート)12 ポリ(4,4’
−イソプロピリデンジフェニレン−CO−4,4’−ジ
フェニレンカーボネート)13 ポリ(4,4’〜イ
ソプロピリデンジフエニレン−Go−4,4’−オキシ
ジフェニレンカーボネート) 14 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−Co−4,4’−カルボニル−ジフェニレンカーボ
ネート) 15 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−Co−4,4’−エチレンジフェニレンカーボネー
ト) 16 ポリ(4,4’−メチレンビス(2−メチルフ
ェニレン)カーボネート〕 17 ポリ(1,1−(P−ブロモフェニルエタン
)−ビス(4−フェニレン)カーボンネート〕18
ポリ(4,4’−イソプロピリチンジフェニレン−別−
スルホニル−ビス(4−フェニレン)カーボネート〕 19 ポリで1,1−シクロヘキサンビス(4−フェ
ニレン)カーボネート〕 20 ポリ(4,4’−イソプロピリデンビス(2−
クロロフェニレン)カーボネート〕 21 ポリ(ヘキサフルオロインプロピリデンジー4
−フェニレンカーボネート) 22 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ン−4,4’−イソプロピリデンジベンゾエート)23
ポリ(4,4’−イソプロピリチンジベンジル−4
,4′−イソプロピリチンジベンゾエート)24 ポ
リ(2,2−(3−メチルブタン)ビス−4−フェニレ
ンカーボネート) 25 ポリ(2,2−(3,3−ジメチルブタン)ビ
ス−4−フェニレンカーボネート〕 26 ポリ(1,1−(1−(1−ナフチル)〕〕ビ
スー4−フェニレンカーボネート 27 ポリ(2,2−(4−メチルペンタン)ビス−
4−フェニレンカーボネート〕 28 ポリC4,4’−C2−ノルボルニリデン)ジ
フェニレンカーボネート〕 29 ポリ(4,4’−(ヘキサヒドロ−4,7−メ
タツインタン−5−イリデン)−ジフェニレンカーボネ
ート〕 30 ポリ(4,4’−イソプロピリデンジフェニレ
ンカーボネート−ブロック−オキシテトラメチレン) また一般式(I)で示される化合物の代表例を、下記に
示す。
本発明の共晶錯体感光層15をつくるには、上記のピリ
リウム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式(1)
で示される化合物を適当な溶媒、例えば、テトラヒドロ
フラン、トルエン、1,2−ジクロルエタン、塩化メチ
レン、クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体11
上に塗布し、50〜130℃で乾燥して、膜厚5〜50
μmの光導電層(共晶錯体感光層)15を形成すればよ
い。
リウム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式(1)
で示される化合物を適当な溶媒、例えば、テトラヒドロ
フラン、トルエン、1,2−ジクロルエタン、塩化メチ
レン、クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体11
上に塗布し、50〜130℃で乾燥して、膜厚5〜50
μmの光導電層(共晶錯体感光層)15を形成すればよ
い。
塗布は、浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコート
法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアーナ
イフなどを用いて行なえる。
法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアーナ
イフなどを用いて行なえる。
この塗布乾燥がなされる間に、ピリリウム系染料と電気
絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。
絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。
共晶錯体感光層15における各成分の割合は、ピリリウ
ム系染料1重量部に対して、電気絶縁性重合体5〜80
重量部、一般式(1)で示される化合物1〜50重量部
が適当である。
ム系染料1重量部に対して、電気絶縁性重合体5〜80
重量部、一般式(1)で示される化合物1〜50重量部
が適当である。
また、この層15を形成する際に、シリコーンオイルな
どのレベリング剤を塗工液に添加してもよい、その使用
量は、電気絶縁性重合体に対して0〜1重景%程度が適
当である。
どのレベリング剤を塗工液に添加してもよい、その使用
量は、電気絶縁性重合体に対して0〜1重景%程度が適
当である。
さらに、層15を設けるに際して、結着剤が必要により
使用されてもよい。
使用されてもよい。
ここでの結着剤材料としてはポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリブタジェン、スチレン−ブタジェン共重合体、
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体
及び共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルキッド樹脂、セ
ルロース系樹脂やポリ−N−ビニルカルバゾール及びそ
の誘導体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などの
ハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するも
の)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ピ
レン−ホルムアルデヒド縮重合体及びその誘導体(例え
ばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基などの置
換基を有するもの)、ポリーγ−カルバゾリルエチル−
L−グルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリエチレ
ン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげられる。
ン、ポリブタジェン、スチレン−ブタジェン共重合体、
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体
及び共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルキッド樹脂、セ
ルロース系樹脂やポリ−N−ビニルカルバゾール及びそ
の誘導体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などの
ハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するも
の)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ピ
レン−ホルムアルデヒド縮重合体及びその誘導体(例え
ばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基などの置
換基を有するもの)、ポリーγ−カルバゾリルエチル−
L−グルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリエチレ
ン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげられる。
この結着材には、可塑材を併用することができる。可塑
材としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート
など、一般に樹脂の可塑材として使用されているものが
そのまま使用できる。
材としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート
など、一般に樹脂の可塑材として使用されているものが
そのまま使用できる。
その使用量は、樹脂結着材に対してO〜30重量%程度
が適当である。
が適当である。
なお、本発明の共晶錯体感光層15を形成するに際して
は、塗工液を重ね塗り方法(特開昭56−40837号
公報)や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウム
系染料に浸漬後、乾燥する方法(特開昭56−8005
2号公報)を用いてもよく、また層15中のピリリウム
系染料の濃度を導電性基体側と、表面付近で異にするよ
うに形成(特開昭56−121(142号公報)しても
よい。
は、塗工液を重ね塗り方法(特開昭56−40837号
公報)や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウム
系染料に浸漬後、乾燥する方法(特開昭56−8005
2号公報)を用いてもよく、また層15中のピリリウム
系染料の濃度を導電性基体側と、表面付近で異にするよ
うに形成(特開昭56−121(142号公報)しても
よい。
本発明において、第2図に示されるように導電性基体と
、共晶錯体感光層の間に、下引層14を設けることによ
り、帯電性、接着性を改良することができる。
、共晶錯体感光層の間に、下引層14を設けることによ
り、帯電性、接着性を改良することができる。
下引層14には、Sin、 AΩZOa等の無機材料を
蒸着、スパッタリング、陽極酸化などの方法で設けたも
のや、ポリアミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂
、水溶性ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂などの樹脂層を用いるこができる。
蒸着、スパッタリング、陽極酸化などの方法で設けたも
のや、ポリアミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂
、水溶性ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂などの樹脂層を用いるこができる。
また、上記樹脂下引層にZnO1Tie2、ZnS等の
顔料粒子を分散したものも、下引層として用いることが
できる。
顔料粒子を分散したものも、下引層として用いることが
できる。
更に、本発明の下引層14として、シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。
下引層14の膜厚は0〜5μmが適当である。
また、本発明において、共晶錯体感光層15上に保護層
や絶縁層を設けることも可能である。
や絶縁層を設けることも可能である。
本発明の応用例として、第3図、第4図に示す様な電子
写真用複合感光体が挙られる。
写真用複合感光体が挙られる。
第2感光層12および中間層13には、公知の材料(例
えば特開昭56−121044号公報)を用いることが
でき、第1感光層には、前述した共晶錯体感光層15を
用いることができる。
えば特開昭56−121044号公報)を用いることが
でき、第1感光層には、前述した共晶錯体感光層15を
用いることができる。
この様にしてなる電子写真用複合体には、公知のプロセ
ス(例えば特開昭56−121044)を適用して画像
形成することができる。
ス(例えば特開昭56−121044)を適用して画像
形成することができる。
本発明の電子写真用感光体は、前記構成からなり、光導
電性層として、ピリリウム系染料、電気絶縁性重合体及
び前記一般式(1)で示されるベンジン化合物を用いた
ことから、従来のものとは異なり、正帯電時において優
れた電子写真感度を有するので、鮮明な電子写真画像を
作成することができる。
電性層として、ピリリウム系染料、電気絶縁性重合体及
び前記一般式(1)で示されるベンジン化合物を用いた
ことから、従来のものとは異なり、正帯電時において優
れた電子写真感度を有するので、鮮明な電子写真画像を
作成することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
塩化メチレン 650重量部下記構
造式で示される(1)式の化合物(化合物Nα20) の組成よりなる塗工液を、AQを蒸着したポリエチレン
テレフタレート・フィルム上に塗布・乾燥し、乾燥膜厚
16μmの共晶錯体感光層を形成した。
造式で示される(1)式の化合物(化合物Nα20) の組成よりなる塗工液を、AQを蒸着したポリエチレン
テレフタレート・フィルム上に塗布・乾燥し、乾燥膜厚
16μmの共晶錯体感光層を形成した。
比較例−1
実施例−1、における(1)式の化合物の代りに、下記
構造式の化合物を使用した他は、すべて実施例−1と同
様にして、感光層を形成した。
構造式の化合物を使用した他は、すべて実施例−1と同
様にして、感光層を形成した。
以上の様にした得られた感光体を、エレクトロスタティ
ック・ペーパーアナライザ[5P−428浦川口電機製
作所製]に取りつけ、コロナ放電々圧−5,5kVまた
は、+6.OKVで帯電10秒後の電位Vm(V)。
ック・ペーパーアナライザ[5P−428浦川口電機製
作所製]に取りつけ、コロナ放電々圧−5,5kVまた
は、+6.OKVで帯電10秒後の電位Vm(V)。
暗減衰10秒後の電位Vo(V)、強度10 fl u
xでの露光15秒後の残留電位Vrn)、さらに電位V
oを175に減衰させるのに必要な露光量E115(Q
ux、5ec)を測定した。
xでの露光15秒後の残留電位Vrn)、さらに電位V
oを175に減衰させるのに必要な露光量E115(Q
ux、5ec)を測定した。
電位保持率を次の様に定義する。
m
また、上記条件の帯電と露光を同時に連続1時間行なっ
て、感光体を疲労させた後、さらに上記と同様にして感
光体特性を測定した。
て、感光体を疲労させた後、さらに上記と同様にして感
光体特性を測定した。
結果を表1に示す。
去」1生旦:づ−先
厚さ0.2nnのA[板上に、以下の組成の下引層塗工
液および共晶錯体感光層塗工液を塗布、乾燥し。
液および共晶錯体感光層塗工液を塗布、乾燥し。
下引yfA(膜厚0.3μm)および共晶錯体感光層(
膜厚15μm)を形成して、第2図に示される電子写真
感光体を作成した。
膜厚15μm)を形成して、第2図に示される電子写真
感光体を作成した。
(1)下引層塗工液
エタノール 300重量部(2)共
晶錯体感光層塗工液 表−3に示す(1)式の化合物 25重量部塩化メチレ
ン 500重量部クロロホルム
150重量部比較例−2 実施例8〜14における(1)式の化合物の代りに比較
例−1で用いたトリフェニルメタン化合物を使用した他
は、すべて、実施例8〜14と同様にして感光体を作成
した。
晶錯体感光層塗工液 表−3に示す(1)式の化合物 25重量部塩化メチレ
ン 500重量部クロロホルム
150重量部比較例−2 実施例8〜14における(1)式の化合物の代りに比較
例−1で用いたトリフェニルメタン化合物を使用した他
は、すべて、実施例8〜14と同様にして感光体を作成
した。
感光体特性の測定結果を表−3に示す。
第1図〜第4図は1本発明の電子写真用感光体構成例を
示す模式断面図である。 11・・・・・・導電性基体 12・・・・・・第2感光層 13・・・・・・中間層 14・・・・・・下引層 15・・・・・・共晶錯体感光層 特許畠願大 株式会社 リ コ −第 1
図 第 2 間第 3 図
第 4 図特許庁長官 小
川 邦 夫 殿 1.事件の表示 昭和62年特許願第49775号 2、発明の名称 電子写真用感光体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都大田区中馬込1丁目3番6号氏 名
(674) 株式会社 リ コ −代表者 浜
1) 広 4、代理人〒151 5、補正命令の日付 自発 6、補正により増加する発明の数 07、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄 8、補正の内容 本願明細書中において、以下の通り補正を行います。 (1)特許請求の範囲を別紙の通り訂正します。 (2)第2頁第4行の「有する特質を」を、「有する物
質を」に訂正します。 (3)第3頁第5行の「ベンジン化合物」を、「ベンジ
ジン化合物」に訂正します。 (4)第3頁末行のrベンジン化合物」を、「ベンジジ
ン化合物」に訂正します。 (5)第31頁第1行の「ポリブタジェン」を、「ポリ
ブタジェン」に訂正します。 (6)第31頁第5行の「シリコン樹脂」を、「シリコ
ーン樹脂」に訂正します。 (7)第32頁下から第2行の「こができる。」を、
「ことができる。」に訂正します。 (8)第34頁第1行乃至第第2行の「ベンジン化合物
」を、「ベンジジン化合物」に訂正します。 (9)第34頁下から第4行の「2重量部」を、「3重
量部」に訂正します。 (10)第35頁第1行の[下記構造式で示される(1
)式の化合物」を、「下記構造で示される(1)式の化
合物 20重量部」に訂正します。 「特許請求の範囲 (1)導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重
合体および、下記一般式(1)で示されるベンジジン化
合物を主成分とする光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真用感光体。 (ただし、R1は、メチル、メトキシ、塩素原子を表わ
し、nは、0〜4の整数を表わす。
示す模式断面図である。 11・・・・・・導電性基体 12・・・・・・第2感光層 13・・・・・・中間層 14・・・・・・下引層 15・・・・・・共晶錯体感光層 特許畠願大 株式会社 リ コ −第 1
図 第 2 間第 3 図
第 4 図特許庁長官 小
川 邦 夫 殿 1.事件の表示 昭和62年特許願第49775号 2、発明の名称 電子写真用感光体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都大田区中馬込1丁目3番6号氏 名
(674) 株式会社 リ コ −代表者 浜
1) 広 4、代理人〒151 5、補正命令の日付 自発 6、補正により増加する発明の数 07、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄 8、補正の内容 本願明細書中において、以下の通り補正を行います。 (1)特許請求の範囲を別紙の通り訂正します。 (2)第2頁第4行の「有する特質を」を、「有する物
質を」に訂正します。 (3)第3頁第5行の「ベンジン化合物」を、「ベンジ
ジン化合物」に訂正します。 (4)第3頁末行のrベンジン化合物」を、「ベンジジ
ン化合物」に訂正します。 (5)第31頁第1行の「ポリブタジェン」を、「ポリ
ブタジェン」に訂正します。 (6)第31頁第5行の「シリコン樹脂」を、「シリコ
ーン樹脂」に訂正します。 (7)第32頁下から第2行の「こができる。」を、
「ことができる。」に訂正します。 (8)第34頁第1行乃至第第2行の「ベンジン化合物
」を、「ベンジジン化合物」に訂正します。 (9)第34頁下から第4行の「2重量部」を、「3重
量部」に訂正します。 (10)第35頁第1行の[下記構造式で示される(1
)式の化合物」を、「下記構造で示される(1)式の化
合物 20重量部」に訂正します。 「特許請求の範囲 (1)導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重
合体および、下記一般式(1)で示されるベンジジン化
合物を主成分とする光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真用感光体。 (ただし、R1は、メチル、メトキシ、塩素原子を表わ
し、nは、0〜4の整数を表わす。
Claims (1)
- (1)導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重
合体および、下記一般式( I )で示されるベンジン化
合物を主成分とする光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真用感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、R_1は、メチル、メトキシ、塩素原子を表
わし、nは、0〜4の整数を表わす。 R_2、R_3は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、または塩素原
子を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62049775A JPS63216054A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62049775A JPS63216054A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63216054A true JPS63216054A (ja) | 1988-09-08 |
Family
ID=12840544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62049775A Pending JPS63216054A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63216054A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5773743A (en) * | 1980-08-27 | 1982-05-08 | Xerox Corp | Photorecepter for reflection and exposure |
JPS57144555A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-07 | Fuji Xerox Co Ltd | Electrophotographic receptor |
JPS61132955A (ja) * | 1984-12-01 | 1986-06-20 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPS62112164A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
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1987
- 1987-03-04 JP JP62049775A patent/JPS63216054A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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