JPH03102360A

JPH03102360A - 電子写真用感光体

Info

Publication number: JPH03102360A
Application number: JP24154589A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Niimi; 達也新美; Minoru Umeda; 実梅田
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1989-09-18
Filing date: 1989-09-18
Publication date: 1991-04-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、電子写真感光体に関し、詳しくは、共晶錯体
感光層中に特定の構造を有する特質を添加した電子写真
用感光体に関する。

〔従来の技術〕

ピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とからなる共晶錯
体及び必要あればトリフエニルメタン系増感剤を加えた
組戊物を光導電層とした電子写真用感光体は公知である
（例えば特公昭４６−２２５１８号公報、同４６−２２
５１９号公報、同５１−１１２９号公報、特開昭４７−
１０７８５号公報，同５１−８８２２６号公報、同５１
−９３３２４号公報，同５３−８７２２７号公報等）。

これらの感光体は、実用上、差支えない程度の電子写真
感度を持ってはいるが、未だ充分満足するまでには到っ
ていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、優れた電子写真感度殊に正帯電時において優
れた電子写真感度を有する電子写真用感光体を提供する
ことを課題とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、ピリリウム系染料および電気絶縁性重合
体（電気絶縁性フィルム形成性重合体物質）からなる共
晶錯体に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物Ａ−ＣＨ，ＣＨ２−Ａｒ”−ＣＨ．ＣＨ．−Ａ　　　　
　　　　　　（丁）〔上式中、Ａｒ１は置換もしくは無
置換の芳香族炭化水素基または複素環基を表わし、Ａは
置換もしくは無置換のＮ−置換力ルバゾリル基または炭
化水素基または複素環基であり、Ｒ１及びＲ２は置換も
しくは無置換のアルキル基，または置換もしくは無置換
のアリール基である）を表わす〕を添加することにより
、極めて優れた電子写真感度が得られることを見い出し
、本発明に到った。

従って、本発明の電子写真用感光体は、ピリリウム系染
料、電気絶縁性重合体および，一般式（１）で示される
化合物を主或分とする光導電層（共品錯体感光層）が、
導電性基板上に設けられていることを特徴とするもので
ある。

以下、図面にそって、本発明をさらに説明する。

第ｌ図は、本発明の電子写真用感光体の構成例を示す断
面図であり、導電性基体ｌ１上に、共晶錯体感光層１５
が設けられている。

第２図は、本発明の別の構威例であり、導電性基体と共
晶錯体感光層との間に下引層１４を設けたものである．また、第３図に、本発明の応用として電子写真用複合感
光体を示す。導電性基体上に，共晶錯体感光層を透過す
る光に対して感度を有する感光層１２（以下、第２感光
層という）を設け、さらにその上に共晶錯体感光層を設
けたものである。

第４図は、電子写真用複合感光体の別の構成例を示すも
のであり、第２感光層と、共晶錯体感光層の間に中間層
１３を、設けてなるものである。

導電性基体１１としては、体積抵抗１０１０Ω個以下の
導電性を示すもの、例えば，アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙に被覆したもの，あるいは、アルミニウム
、アルミニウム合金、ニッケル，ステンレス等の板およ
びそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．！．，押出し、引抜き等の工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した
管等を使用することができる。

前述した様に、共晶錯体感光層ｌ５は，共晶鉗体と、一
般式（１）で示される導電性物質を主成分として形或さ
れている。この共晶錯体は、ピリリウム系染料と、電気
絶縁性重合体とからつくられるものである。

ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩及びセレナピリリウム塩の３種があり，下記一般式を
有している。

上式ニオイテＲａ，Ｒｂ，ＲＣ，Ｒｄ及ヒＲ０ハ夫々、
（ａ）水素原子（ｂ）アルキル基，代表的にはメチル、エチル，プロビ
ル、イソプロビル、ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの
Ｃエ〜ＣＸＳのアルキル基（ｃ）メトキシ、エトキシ、
プロボキシ、ブトキシ、アミロキシ、ヘキソキシ、オク
トキシなどのアルコキシ基（ｄ）フェニル、４−ジフェニル、４−エチルフェニル
、４−プロビルフェニルなどのアルキルフェニル類；４
−エトキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−アミ
ロキシフェニル、２−ヘキソキシフェニル，２−メトキ
シフェニル、３，４−ジメトキシフェニルなどのアルコ
キシフェニル類；２−ヒドロキシエトキシフェニル、３
−ヒドロキシエトキシフェニルなどのβ一ヒドロキシア
ルコキシフェニル類；４−ヒドロキシフェニル、２，４
〜ジクロロフェニル、３，４−ジブロモフェニル、４−
クロロフェニル、３，４−ジクロロフェニルなどのハロ
フェニル類；アジドフェニル、ニトロフェニル、４−ジ
エチルアミノフェニル、４一ジメチルアミノフェニルな
どのアミノフェニル類：ナフチル、スチリル、メトキシ
スチリル，ジエトキシスチリル、ジメチルアミノスチリ
ル、■−ブチルー４−Ｐ−ジメチルアミノフェニル−１
，３−ブタジェニル、β一エチル−４−ジメチルアミノ
スチリル等のビニル置換アリール基のような置換アリー
ル基を含めたアリール基、を表わし、Ｘは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
Ｚ−はパークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩
化物、臭化物、硫酸塩、過沃化物，Ｐ一トルエンスルホ
ネート，ヘキサフルオロホスフエートなどの陰イオン官
能基である。

更にＲａ，　Ｒｂ，　ＲＣ，　Ｒｄ及びＲ０は共同して
ピリリウム核に融合したアリール環を完或するに必要な
原子であってもよい。

このようなピリリウム系染料の代表例を下記に示す。

化合物ＮＣＬ１２３４５６７化　　合　　物　　名４−〔４−ビス−２（グロ口エチル）アミノフエニル〕
−２・６−ジフェニルチアピリリウムパーグロレート４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２・６−ジフェ
ニルチアピリリウムバーグロレート４−（４−ジメチル
アミノフエニル）−２・６−シフェニルチアピリリウム
フルオ口ボレート４−（４−ジメチルアミノー２−メチルフエニル）−２
・６−ジフェニルピリリウムパークロレート４−　（４−ビス（２−クロロエチル）アミノフエニル
）−２−（４−メトキシフエニル）−６−フエニルチア
ピリリウムパーク口レート４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２・６−ジフェ
ニルチアピリリウムサルフエート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２・６−ジフェ
ニルチアピリリウムｐ−トルエンスルホネート８９１０１１１２１３１４４−（４−ジメチルアミノフェニル）２・６−ジフェニ
ルピリリウムーＰ一トルエンスルホネート２−（２・４−ジメトキシフェニル）−４−（４−ジメ
チルアミノフェニル）一ベンゾ（ｂ）ピリリウムパーク
口レート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４−（４−ジメ
チルアミノフェニル）チアピリリウムパーク口レート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−メト
キシフェニル）−６−フエニルチアピリリウムパーク口
レート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−エト
キシフエニル）−６−フエニルチアピリリウムパークロ
レート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−メト
キシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）ーピリリ
ウムパークロレート４−（４−ジフェニルアミノフエニル）−２・６ジフェ
ニルチアピリリウムパークロレーｌ５１６１７１８１９２０２ｌ２２２３２−４−６−　トリフェニルピリリウムパークロレート４−　（４−メトキシフェニル）−２・６−ジフェニル
ピリリウムパーク口レート４−（２・４−ジクロロフェニル）−２・６−ジフェニ
ルピリリウムパークロレート４−（３・４−ジグロロフェニル）−２・６−ジフェニ
ルピリリウムパークロレート２−６−ビス（４−メトキシフェニル）−４−フェニル
ピリリウムパークロレート６−　（４−メトキシフェニル）−２・４−ジフェニル
ピリリウムパークロレート２−（３・４−ジクロ口フェニル）−４−（４−メトキ
シフェニル）−６−フェニルピリリウムパークロレート４−（４−アミ口キシフェニル）−２・６−ビス（４−
エチルフェニル）ピリリウムパーク口レート４−（４−アミロキシフェニル）−２・６−ビス（４−
メトキシフェニル）ピリリウムパーク口レート２・４・６−トリフェニルピリリウムフルオロボレート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４−（４−メト
キシフェニルピリリウムパーク口レート２・６−ビス（
４−エチルフエニル）−４−（４−メトキシフェニル〉
ピリリウムフルオ口ボレート６−（３・４＝ジエトキシスチリル）−２・４・ジフェ
ニルピリリウムバークロレート６−（３・４−ジエトキシーβ−アミルスチリル）一２
・４−ジフェニルピリリウムフルオ口ボレート６−（４−ジメチルアミノーβ一エチルスチリル）−２
・４−ジフェニルピリリウムフルオ口ボレート６−（１−ｎ−アミルー４−Ｐ−ジメチルアミノフェニ
ルーｌ・３−ｊ）ｉジエニル）−２・４−シフェニルピ
リリウムフルオ口ボレート３ｌ３２３３３４３５３６３７３８６−（４−ジメチルアミノスチリル）−２・４・ジフェ
ニルピリリウムフルオロボレート６−〔α一エチルーβ・β−ビス（ジメチルアミノフェ
ニル）ビニレン〕−２・４−ジフエニルピリリウムフル
オロボレート６−（１−ブチル−４−ｐ−ジメチルアミノフエニル−
１・３−ブタジエニル）−２・４−ジフェニルピリリウ
ムフルオロボレート５−（４−ジメチルアミノスチリル）−２・４−ジフエ
ニルピリリウムパークロレート６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノフエニル）ビ
ニレン〕−２・４−ジフェニルピリリウムパーク口レー
ト２・６−ビス（４−ジメチルアミノスチリル）−４−フ
ェニルピリリウムパークロレート６−（β−メチル−４−ジメチルアミノスチリル）−２
・４−ジフェニルピリリウムフルオ口ボレート６−〔１−エチル−４−（４−ジメチルアミノフェニル
）−１・３−ブタジエニル〕−２・４−ジエニルピリリ
ウムフルオ口ボレート６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ビ
ニレン〕−２・４−ジフェニルピリリウムフルオ口ボレ
ート６−（１−メチル−４−（４−ジメチルアミノフェニル
〜ｌ・３−ブタジェニル〕−２・４〜ジフェルピリリウ
ムフルオ口ボレート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２・６−ジフェ
ニルピリリウムパーク口レート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４〜フェニルピ
リリウムパークロレート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４−メトキシフ
ェニルチアピリリウムフルオ口ボレート２・４・６−トリフェニルチアピリリウムパーク口レー
ト４−　（４−メトキシフェニル）−２・６−ジフェニル
チアピリリウムパークロレート６−（４−メトキシフェニル）−２・４−ジフェニルチ
アピリリウムバーク口レート４７４８４９５０５１５２５３５４５５５６２−６−ビス（４−メトキシフェニル）−４−フエニル
チアピリリウムパーク口レート４−（２・４−ジクロロフェニル）−２・６−ジフェニ
ルチアピリリウムパーク口レート２・４・６−トリ（４−メトキシフェニノレ）チアピリ
リウムパーク口レート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４−フエニルチ
アピリリウムパーク口レート４−（４−アミルオキシフェニル）−２・６−ビス（４
−エチルフェニル）チアピリリウムハークロレート６−（４−ジメチルアミノスチリル）−２・４−ジフェ
ニルチアピリリウムパーグロレート２・４・６−トリフ
ェニルチアピリリウムフルオ口ボレート２・４・６−トリフエニルチアピリリウムサルフェート４−（４−メトキシフェニル）−２・６−ジフェニルチ
アピリリウムフルオロポレート２・４・６−トリフェニルチアピリリウムクロライド２−（４−アミルオキシフエニル）−４・６−ジフェニ
ルチアピリリウムフルオ口ポレート４−（４−アミルオ
キシフエニル）−２・６−ビス（４−メトキシフェニル
）チアピリリウムバークロレート２・６−ビス（４−エチルフエニル）−４−（４−メト
キシフェニル）チアピリリウムパーク口レート４−アニシルー２・６−ビス（４−ｎ−アミルオキシフ
ェニル）チアピリリウムクロライド２−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノフエニル）ビ
ニレン〕−４・６−ジフエニルチアピリリウムパーク口
レート６−（β一エチル−４−ジメチルアミノスチリル）−２
・４−ジフェニルチアピリリウムパークロレート２−（３・４−ジエトキシスチリル）−４・６−ジフェ
ニルチアピリリウムパークロレート２・４・６−ドリアニシルチアピリリウムバー６５６６６７６８６９７０７１クロレート６−エチル−２・４−ジフェニルピリリウムフルオロボ
レート２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４−（４−メト
キシフェニル）チアピリリウムクロライド６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ビ
ニレン〕−２・４−ジ（４−エチルフェニル）ピリリウ
ムパーク口レート２・６−ビス（４−アミルオキシフェニル）−４−（４
−メトキシフェニル）チアピリリウムパーク口レート）６−（３・４−ジエトキシーβ一エチルスチリル）−２
・４−ジフェニルピリリウムフルオ口ボレート６−（４−メトキシーβ一エチルスチリル）−２・４一
ジフェニルピリリウムフルオ口ボレー１ト２−　（４−エチルフェニル）−４・６−ジフェニルチ
アピリリウムバークロレート２・６−ジフェニル−４−　（４−メトキシフエニル）
チアピリリウムパークロレート２・６−ジフェニル−４−（４−メトキシフエニル）チ
アピリリウムフルオロボレート２・６−ビス（４−エチルフエニル）−４−（４−ｎ−
アミルオキシフェニル）チアピリリウムノＳーク口レー
ト２・６−ビス（４−メトキシフエニル）４−　（４−ｎ
−アミルオキシフエニル）チアピリリウムパーク口レー
ト２・４・６−トリス（４−メトキシフエニル）チアピリ
リウムフルオロボレート２・４−ジフェニル−６−（３・４−ジエトキシスチリ
ル）ピリリウムパーク口レート４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２−フエニルベ
ンゾ（ｂ）セレナピリリウムノ｛−ク１ロレート２−（２・４−ジメトキシフエニル）−４−（４−ジメ
チルアミノフエニル）一ベンゾ（ｂ）セレナピリリウム
パーク口レート８０８１８２８３８４８５８６４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２・６−ジフェ
ニルセレナピリリウムバークロレート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（４−エト
キシフェニル）−６−フエニノレセレナピリリウムパー
グロレート４−　（４−ビス（２−クロロエチル）アミノフェ１ニ
ル〕−２・６−ジフエニルセレナピリリウムパークロレ
ート４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２・６−ビス（
４−エチノレフェニル）一セレナピリリウｌムパーク口
レート４−（４−ジメチルアミノー２−メチルフェニル）−２
・６−ジフェニルセレナピリリウムパーク口レート３−（４−ジメチルアミノフェニル）ナット（２・１−
ｂ）セレナピリリウムバーク口レート４−（４−ジメチ
ルアミノスチリル）−２−（４−メトキシフェニル）ベ
ンゾ（ｂ）セレナピリリウムパーグロレート８７２・６−ジ（４−ジエチルアミノフェニル）−４一
フ二二ルセレナピリリウムパーク口レート８８　　４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２−（
４−エトキシフェニル）−６−フエニルチアピリリウム
フルオ口ボレート８９　　４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２・６
−ジ１フェニルピリリウムへキサフルオ口フオスフェー
ト９０　　４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２・６
−ジフェニルチアピリリウムへキサフルオロフォスフェ
ート９１　　４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２・６
−ジフェニルセレナピリリウムへキサフルオ口フオスフ
ェート特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもので
ある。

？中Ｒエ及びＲ２はＣ１〜Ｃ６のアルキル基及びＣ■〜
Ｃ，のアルコキシ基から選ばれた少なくとも１つの置換
基を有する置換フェニル基のようなアリール基であり、
Ｒ３はアルキル部分がＣ１〜Ｃ，のアルキルアミノ置換
フェニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキル
アミノ置換フェニル基でもよい．Ｘは酸素、硫黄又はセ
レン原子，２″′は前述の通りである。

電気絶縁性重合体としては主鎖（繰返し単位）中に下記
式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有するも
のが特に有用である。

Ｋ５式中Ｒ４及びＲｓは夫々、水素原子、トリフルオロメチ
ルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロ
ビル、イソプロビル、ブチル、ｔ−ブチル，ペンチル、
ヘキシル、へ、プチル、オクチル、ノニル、デシルなど
のアルキル基、ハロゲン、Ｃエ〜Ｃ，のアルキル基のよ
うな置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及び
ナフチルなどのアリール基であり、またＲ４とＲ．．と
は共同してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及
びノルボルニルのようなポリシクロアルカン類を含む環
式炭化水素基を形戒するに必要な炭素原子であってもよ
い。

Ｒ，及びＲ７は水素、Ｃエ〜Ｃｓのアルキル基又はクロ
ル、ブロム、沃素などのハロゲンであり、またＲ．はま
た下記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩重合体類（
ポリカーボネート）も有用で好ましいものである。

式中、Ｒはハロ置換フェニレン基類及びアルキル置換フ
ェニレン基類を含むフェニレン基であり、またＲ．及び
Ｒ，は前述の通りである。これらの重合体はＵＳＰ３，
０２８，３６５号、同３，３１７，４６６号に開示され
ている。好ましくは、ビスフェノー／Ｌ／Ａから製造さ
れるような、繰返し単位にアルキリデンジアリーレン部
分を含有しジフェニルカーボネートと２．２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパンとの間のエステル交換
によって生威した重合体を含むポリカーボネート類が有
用である。このような重合体はＵＳＰ２，９９９，７５
０号、同３，０３８，８７４号、同３，０３８，８８０
号、同３，１０６，５４４号、同３，１０６，５４５号
、同３，１０６，５４６号等に開示されている。いずれ
にしてもフィルム形成性ポリカーボネート樹脂類は広範
囲に使用できる。特に約０．５〜１．８の固有粘度を有
するものを使用すると、満足し得る結果が得られる。

電気絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。

社　　　　　　１二Ｕ駐一社１　ポリ（４．４’−イソプロピリデンジフェニレン−
Ｃｏ−１　．　４−シクロヘキシルージメチル力ーボネ
ート）ポリ（３．３’一エチレンジオキシフェニレンチオカー
ボネート）ポリ（４．４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボ
ネート一〇〇一テレフタレート）ポリ（４．４’−イソ
プロピリデンジフェニレンカーボネート）ポリ（４．４’−イソプロピリデンフェニレンチオカー
ボネートポリ（２，２−ブタンビスー４−フェニレンカーボネー
ト）ポリ（４．４’＝イソプロピリデンジフエニレンカーざ
ネートーブロックーエチレンオキシド）ポリ（４．４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボ
ネートーブロックーテトラメチレンオキシド）ポリ（４．４’−イソプロピリデンビス（２〜メチルフ
ェニレン）カーボネート〕ポリ（４．４’−イソプロピリデンフェニレン−１１１２ｌ３１４１５１６１７１８Ｃｏ−１　，　４−フェニレンカーボネート）ポリ（４
．４’−イソプロピリデンジフェニレン−Ｃｏ−１　．
　３−フェニレンカーボネート）ポリ（４．４’−イソ
プロピリデンジフェニレン−Ｃｏ−４．４’−ジフェニ
レンカーボネート）ポリ（４．４’−イソプロピリデン
ジフェニレン−Ｃｏ−４．４’−オキシジフェニレンカ
ーボネート）ポリ（４．４’−イソプロビリデンジフェニレン−Ｃｏ
−４．４’一カルポニルージフェニレンカーボネート）ポリ（４．４’−イソプロピリデンジフエニレン−Ｃｏ
−４．４’一エチレンジフェニレンカーボネート）ポリ（４．４’−メチレンビス（２−メチルフェニレン
）カーボネート〕ポリ（１．１−（Ｐ−プロモフェニルエタン）一ビス（
４−フェニレン）カーボンネート〕ポリ（４．４’−イソプロピリテンジフェニレンーＣＯ
−スルホニルービス（４−フェニレン）カ一ボネート〕ポリ〔１，１−シク口ヘキサンビス（４−フエニレン）
カーボネート〕ポリ（４　．　４　’−イソプロピリデンビス（２−ク
ロフェニレン）カーボネート〕ポリ（ヘキサフルオ口インプ口ビリデンジ−４−フエニ
レンカーボネート）ボリＥ４，４’−イソプロピリデンジフエニレン−４．
４’−イソプロピリデンジベンゾエート）ポリ（４．４
’−イソプロピリテンジベンジルー４，４′−イソプロ
ピリテンジベンゾエート）ポリ（２．２−（３−メチル
ブタン）ビス−４−フエニレンカーボネート）ポリ（２，２−（３，３−ジメチルブタン）ビス−４−
フェニレンカーボネート〕ポリ（１．１−（１−（１−ナフチル）〕ビス−４−フ
エニレンカーボネート）ボリ（２，２−（４−メチルペンタン）ビス−４−フエ
ニレンカーボネート〕ポリ（４，４’−（２−ノルボルニリデン）ジフエニ２
９３０レンカーボネート〕ポリ（４．４’−（ヘキサヒド口−４．７−メタノイン
タン−５−イリデン）一ジフエニレンカーボネート〕ポリ（４　．　４　’−イソプロピリデンジフエニレン
カーボネートーブロックーオキシテトラメチレン）また一般式（１）で示される化合物の代表例を下記に示
す。

Ａ−ＣＨ．ＣＨ，−Ａ　ｒ’−ＣＨ２ＣＨ，−Ａ　　　
　　（　Ｉ　）〔上式中、Ａｒ″は置換もしくは無置換
の芳香族炭化水素基または複素環基を表わし、Ａは置換
もしくは無置換のＮ−置換力ルバゾリル基またはＡ−Ｃ
Ｈ，ＣＨ．＋ＣＨ．ＣＨ．−ｐ．炭化水素基または複素
環基であり、Ｒ１及びＲ２は置換もしくは無置換のアル
キル基，または置換もしくは無置換のアリール基である
）を表わす〕Ａ　　ＣＨ，ＣＨ＝−Ａｒ”　　ＣＨ２Ｃ
Ｈ２　　Ａｒ１）Ａ−ＣＨ，ＣＨ２−Ａｒ１−ＣＨ２ＣＨ２−Ａ本発明の
共晶錯体感光層１５をつくるには，上記のピリリウム系
染料，電気絶縁性重合体、および一般式ＣＩ）で示され
る化合物を適当な溶媒、例えば、テトラヒド口フラン、
トルエン、１，２−ジクロルエタン，塩化メチレン、ク
ロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、
ベンゼンなどに溶解し，これを導電性基体１１上に塗布
し、５０〜１３０℃で乾燥して、膜厚５〜５０μｍの光
導電Ｍ（共品錯体感光＃）１５を形成すればよい。

塗布は、浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコート
法や，ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアーナ
イフなどを用いて行なえる。

この塗布乾燥がなされる間に、ピリリウム系染料と電気
絶縁性重合体とで共晶錯体を形或する。

共晶錯体感光Ｊ’ｌｌ５における各或分の割合は，ピリ
リウム系染料１重量部に対して、電気絶縁性重合体５〜
８０重量部、一般式（１）で示される化合物１〜５０重
量部が適当である、また、この／ＩＦ１５を形或する際に、シリコーンオイ
ルなどのレベリング剤を塗工液に添加してもよい。その
使用量は、電気絶縁性重合体に対して０〜１重量％程度
が適当であ、る．さらに、層１５を設けるに際して、結着剤が必要により
使用されてもよい。

ここでの結着剤材料としてはポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリブタジエン，スチレンーブタジエン共重合体、
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体
及び共重合体，ポリエステル、ボリアミド、エポキシ樹
脂，ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、
セルロース系樹脂やポリーＮ−ビニル力ルバゾール及び
その誘導体（例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素など
のハロゲン、メチル基，アミノ基などの置換基を有する
もの）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、
ビレンーホルムアルデヒド縮重合体及びその誘導体（例
えばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基などの
置換基を有するもの）、ポリーγ一カルバゾリルエチル
ーＬ−ダルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリエチ
レン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげられる
。

この結着材には，可塑材を併用することができる。可塑
材としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート
など、一般に樹脂の可塑材として使用されているものが
そのまま使用できる。

その使用量は，樹脂結着材に対して０〜３０重量％程度
が適当である。

なお、本発明の共晶錯体感光層１５を形成するに際して
は、塗工液を重ね塗り方法（特開昭５６−４０８３７号
公報）や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウム
系染料に浸漬後、乾燥する方法（特開昭５６−８００５
２号公報）を用いてもよく、また層ｌ５中のピリリウム
系染料の濃度を導電性基体側と、表面付近で異にするよ
うに形或（特開昭５６−１２１０４２号公報）してもよ
い。

本発明において、第２図に示されるように導電性基体と
、共晶錯体感光層の間に，下引層１４を設けることによ
り，帯電性、接着性を改良することができる．下引層１４には，　ＳｉＯ、ＡＱ２０３等の無機材料を
蒸着、スパッタリング、陽極酸化などの方法で設けたも
のや、ポリアミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂
、水溶性ポリ、ビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂などの樹脂層を用いる？とができる。

また、上記樹脂下引層にＺｎＯ．　ＴｉＯ■、ＺｎＳ等
の顔料粒子を分散したものも，下引層として用いること
ができる。

更に，本発明の下引層工４として、シランカツプリング
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。

下引Ｍ１４の膜厚はＯ〜５μ甑が適当である。

また，本発明において、共品錯体感光層１５上に保護層
や絶Ｒ層を設けることも可能である。

保護層は感光体の表面保護の目的で設けられ、これに使
用される材料としてはＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフ
ィンービニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、
アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート，ポリア
リルスルホン、ポリブチレン，ポリプチレンテレフタレ
ート，ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、
アクリル樹脂，ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、
ボリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン
，ＡＳ樹脂，ブタジエンースチレン共重合体，ポリウレ
タン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ
樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩耗
性を向上する目的でポリテトラトラフルオ口エチレンの
ような弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれら樹脂に酸
化チタン、酸化錫，チタン酸カリウム等の無機材料を分
散したもの等を添加することができる。保護層の形成法
としては通常の塗布法が採用される。なお保護層の厚さ
は０．５〜１０７ｎ程度が適当である。

絶ＲＪＩには，先に挙げた共晶錯体感光層に使用しても
よい結着剤材料がそのまま使用でき，結着剤材料を含ん
だ溶液を塗布し、設けることができる。この他、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン，ポリエステル，ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニリデン，ポリエチレン、塩化ゴム、テ
フロンなどの熱収縮フィルムもしくはチューブを用いる
こともできる．本発明の応用例として、第３図、第４図に示す様な電子
写真用複合感光体が挙られる。

第２感光［１２および中間層ｌ３には、公知の材料（例
えば特開昭５６−１２１０４４号公報）を用いることが
でき、第１感光層には、前述した共品錯体感光層１５を
用いることができる。

この様にしてなる電子写真用複合体には、公知のプロセ
ス（例えば特開昭５６−１２１０４４）を適用して画像
形成することができる。

〔効　　果〕

本発明の電子写真用感光体は、前記構戊からなり，光導
電性層として，ピリリウム系染料、電気絶縁性重合体及
び前記一般式（１）で示される化合物を用いたことから
、従来のものとは異なり，正帯電時において優れた電子
写真感度を有するので，鮮明な電子写真画像を作戊する
ことができる。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する．失し１１二七４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２．６−ジフェ
ニルチアピリリウムパークロレート２重量部塩化メチレン　　　　　　　　　　６５０重量部下記構
造式で示される（１）式の化合物（化合物ＮＱ２４）例−ｌと同様にして、感光層を形成した。

以上の様にした得られた感光体を、エレクトロスタティ
ック・ペーパーアナライザ［ＳＰ−４２８！Ｉ＄ｌ川口
電機製作所製］に取りつけ、コロナ放電々圧−５．５ｋ
Ｖまたは，　＋６．０Ｋｖテ帯電１０秒後の電位Ｖｍ（
Ｖ）、暗減衰１０秒後の電位Ｖｏ（Ｖ）．強度１０ｕｕ
ｘでの露光１５秒後の残留電位Ｖｒ（Ｖ）、さらに電位
Ｖｏを１／５に減衰させるのに必要な露光量Ｅｌ／５［
　Ｑ　ｕｘ．ｓｅｃ］を測定した。

電位保持率を次の様に定義する。

の組成よりなる塗工液を、ｉを蒸着したポリエチレンテ
レフタレート・フィルム上に塗布・乾燥し、乾燥膜厚ｌ
６μｍの共晶錯体感光層を形威した．凰紋鮭二よ実施例−１における（１）式の化合物の代りに，下記構
造式の化合物を使用した他は，すべて実施Ｖｍまた、上記条件の帯電と露光を同時に連続１時間行なっ
て、感光体を疲労させた後、さらに上記と同様にして感
光体特性を測定した。

結果を表１に示す。

ト二去１自生１：」一矢厚さ０．２ｍのｌｌ板上に，以下の組戊の下引層塗工液
および共晶錯体感光層塗工液を塗布５乾燥し、下引層（
膜厚０，３μｍ〉および共Ｘ；ｎ錯体感光Ｍ（膜厚１５
μ耐を形成して、第２図に示される電子写真感光体を作
威した。

（１）下づ１層塗工液アルコール可溶性ナイロン　　３重量部（東レ時製アミ
ランＣＭ−８０００）エタノール　　　　　　　　　３００重量部クロロホル
ム　　　　　　　　１５０重量部生鮫園二主実施例８〜１４における（１）式の化合物の代りに比較
例−１で用いたトリフェニルメタン化合物を使用した他
は、すべて、実施例８〜ｌ４と同様にして感光体を作威
した。

感光体特性の測定結果を表−３に示す。

（２）共品錯体感光暦塗工液４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２．６−ジフエ
ニルチアピリリウムヘキサフルオロフオスフエート１重
量部ポリカーボネート　　　　　　２５重量部（ＧＥＩｔ製
レキサン−１４１）表−３に示す（１）式の化合物２５重量部塩化メチレン　　　　　　　５００重量部

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は、本発明の電子写真用感光体構成例を
示す模式断面回である。１１・・・・・・導電性基体１２・・・・・・第２感光層１３・・・・・・中間層１４・・・・・・下引層１５・・・・・・共晶錯体感光層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重
合体および、下記一般式（ I ）で示される化合物を主
成分とする光導電層が設けられていることを特徴とする
電子写真用感光体。Ａ−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−Ａｒ＾１−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−
Ａ（ I ）〔上式中、Ａｒ＾１は置換もしくは無置換の
芳香族炭化水素基または複素環基を表わし、Ａは置換も
しくは無置換のＮ−置換カルバゾリル基または▲数式、
化学式、表等があります▼（ただし、Ａｒ＾２は置換も
しくは無置換の芳香族炭化水素基または複素環基であり
、Ｒ＾１及びＲ＾２は置換もしくは無置換のアルキル基
、または置換もしくは無置換のアリール基である）を表
わす〕