JPH0476285B2 - - Google Patents
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- JPH0476285B2 JPH0476285B2 JP26324086A JP26324086A JPH0476285B2 JP H0476285 B2 JPH0476285 B2 JP H0476285B2 JP 26324086 A JP26324086 A JP 26324086A JP 26324086 A JP26324086 A JP 26324086A JP H0476285 B2 JPH0476285 B2 JP H0476285B2
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- varnish
- resin
- vacuum
- solvent
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- Expired
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は化粧板用基材、積層板用基材へのワニ
ス含浸方法に関するものである。 〔背景技術〕 従来、紙、布、ガラス織布等の化粧板用基材や
積層板用基材にワニスを含浸、乾燥してプリプレ
グを製造する場合、一般に含浸性に向上せしめる
ためワニス槽内の浸漬ロールの数を増加したり、
ロール間距離を長くしたり、基材速度を遅くした
り、加圧ロールを用いたり、超音波をかけたりし
ていたが各れの方法でも含浸性を大きく向上せし
めることはできなかつた。又、真空含浸において
は連続化が難しく、連続化されても空気の流入が
多く動力費のアツプ、シート部品の消耗、基材の
反りネジレの多発、真空含浸装置の大型化に伴う
費用アツプと保守の困難さ等が問題になつてい
た。 〔発明の目的〕 本発明の目的とするところは、連続化が容易で
含浸装置が簡素化された基材へのワニス含浸方法
を提供することにある。 〔発明の開示〕 本発明は基材を減圧脱泡処理した溶剤に含浸
後、減圧脱泡処理した樹脂ワニスを所要回数含浸
させ、スクイズロールを径て移動させることを特
徴とする基材へのワニス含浸方法のため、空気を
含有しなく空気溶解力の大きい溶剤や樹脂ワニス
が基材に残存する空気の周囲を通過した時、基材
の残存空気を強力に吸収し基材外に放出し基材内
の残存空気を皆無にするため、基材内に均質に樹
脂ワニスを侵透させ、基材内の樹脂未含浸部をな
くすることができるものである。以下本発明を詳
細に説明する。 本発明に用いる基材はガラス、アスベスト等の
無機繊維やポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、アクリル等の有機合成繊維や木綿
等の天然繊維からなる織布、不織布、マツト或は
紙又はこれらの組合せ基材等で好ましくは厚さが
0.1〜0.3mmの基材が望ましいことである。溶剤と
しては好ましくは20〜25℃における蒸気圧が150
mmHg以下であるメチルセロソルブ、ジメチルホ
ルムアミド等を用いることが望ましい。溶剤及び
樹脂ワニスの減圧脱泡処理は減圧度150Torr以上
で含浸時間は10秒以上であることが好ましい。樹
脂ワニスとしてはフエノール樹脂、クレゾール樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリイミド、ポリブタジエン、ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、ポ
リフエニレンサルフアイド、ポリフエニレンオキ
サイド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルエーテルケトン、弗化樹脂等の単独、変性
物、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に
水、メチルアルコール、アセトン、シクロヘキサ
ノン、スチレン等の溶媒を添加したもので、溶剤
と同じく減圧脱泡処理してから用いるもので、同
一樹脂ワニス又は異種樹脂ワニスを所要回数含浸
させるものである。なおワニスが含浸された基材
の乾燥、巻取り、切断等は通常のプリプレグの製
造で用いられるものを用いることができる。更に
樹脂含浸基材を無圧乃至加圧で連続積層加熱成形
することもできるものである。 以下本発明の一実施例を図面により説明する。 実施例 メチルセロソルブ1を溶剤減圧釜2で減圧度20
〜25Torrで30分間脱泡処理した後、溶剤含浸槽
3に送り、該溶剤に厚さ0.18mm、重量200g/m2
のガラス布4を15秒間含浸させた後、樹脂ワニス
減圧釜5で減圧度20〜25Torrで30分間脱泡処理
した樹脂量70重量%のエポキシ樹脂ワニス6をキ
ツスロール含浸槽7で樹脂量が15重量%になるよ
うに含浸させ、更に上記と同じ減圧脱泡処理した
エポキシ樹脂ワニスを樹脂ワニス含浸槽8で合計
樹脂量が45重量%になるようにスクイズロール9
で調整含浸させた後、乾燥してプリプレグを得
た。 比較例 メチルセロソルブ及びエポキシ樹脂ワニスを減
圧脱泡処理せずに用いた以外は実施例と同様に処
理してプリプレグを得た。 〔発明の効果〕 実施例及び比較例のプリプレグの残存空気泡数
は第1表で明白なように本発明のものの泡数は少
なく、本発明の基材へのワニス含浸方法の優れて
いることを確認した。 【表】
ス含浸方法に関するものである。 〔背景技術〕 従来、紙、布、ガラス織布等の化粧板用基材や
積層板用基材にワニスを含浸、乾燥してプリプレ
グを製造する場合、一般に含浸性に向上せしめる
ためワニス槽内の浸漬ロールの数を増加したり、
ロール間距離を長くしたり、基材速度を遅くした
り、加圧ロールを用いたり、超音波をかけたりし
ていたが各れの方法でも含浸性を大きく向上せし
めることはできなかつた。又、真空含浸において
は連続化が難しく、連続化されても空気の流入が
多く動力費のアツプ、シート部品の消耗、基材の
反りネジレの多発、真空含浸装置の大型化に伴う
費用アツプと保守の困難さ等が問題になつてい
た。 〔発明の目的〕 本発明の目的とするところは、連続化が容易で
含浸装置が簡素化された基材へのワニス含浸方法
を提供することにある。 〔発明の開示〕 本発明は基材を減圧脱泡処理した溶剤に含浸
後、減圧脱泡処理した樹脂ワニスを所要回数含浸
させ、スクイズロールを径て移動させることを特
徴とする基材へのワニス含浸方法のため、空気を
含有しなく空気溶解力の大きい溶剤や樹脂ワニス
が基材に残存する空気の周囲を通過した時、基材
の残存空気を強力に吸収し基材外に放出し基材内
の残存空気を皆無にするため、基材内に均質に樹
脂ワニスを侵透させ、基材内の樹脂未含浸部をな
くすることができるものである。以下本発明を詳
細に説明する。 本発明に用いる基材はガラス、アスベスト等の
無機繊維やポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、アクリル等の有機合成繊維や木綿
等の天然繊維からなる織布、不織布、マツト或は
紙又はこれらの組合せ基材等で好ましくは厚さが
0.1〜0.3mmの基材が望ましいことである。溶剤と
しては好ましくは20〜25℃における蒸気圧が150
mmHg以下であるメチルセロソルブ、ジメチルホ
ルムアミド等を用いることが望ましい。溶剤及び
樹脂ワニスの減圧脱泡処理は減圧度150Torr以上
で含浸時間は10秒以上であることが好ましい。樹
脂ワニスとしてはフエノール樹脂、クレゾール樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリイミド、ポリブタジエン、ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、ポ
リフエニレンサルフアイド、ポリフエニレンオキ
サイド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルエーテルケトン、弗化樹脂等の単独、変性
物、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に
水、メチルアルコール、アセトン、シクロヘキサ
ノン、スチレン等の溶媒を添加したもので、溶剤
と同じく減圧脱泡処理してから用いるもので、同
一樹脂ワニス又は異種樹脂ワニスを所要回数含浸
させるものである。なおワニスが含浸された基材
の乾燥、巻取り、切断等は通常のプリプレグの製
造で用いられるものを用いることができる。更に
樹脂含浸基材を無圧乃至加圧で連続積層加熱成形
することもできるものである。 以下本発明の一実施例を図面により説明する。 実施例 メチルセロソルブ1を溶剤減圧釜2で減圧度20
〜25Torrで30分間脱泡処理した後、溶剤含浸槽
3に送り、該溶剤に厚さ0.18mm、重量200g/m2
のガラス布4を15秒間含浸させた後、樹脂ワニス
減圧釜5で減圧度20〜25Torrで30分間脱泡処理
した樹脂量70重量%のエポキシ樹脂ワニス6をキ
ツスロール含浸槽7で樹脂量が15重量%になるよ
うに含浸させ、更に上記と同じ減圧脱泡処理した
エポキシ樹脂ワニスを樹脂ワニス含浸槽8で合計
樹脂量が45重量%になるようにスクイズロール9
で調整含浸させた後、乾燥してプリプレグを得
た。 比較例 メチルセロソルブ及びエポキシ樹脂ワニスを減
圧脱泡処理せずに用いた以外は実施例と同様に処
理してプリプレグを得た。 〔発明の効果〕 実施例及び比較例のプリプレグの残存空気泡数
は第1表で明白なように本発明のものの泡数は少
なく、本発明の基材へのワニス含浸方法の優れて
いることを確認した。 【表】
図面は本発明の方法の一実施例を示す簡略工程
図である。 1は溶剤、2は溶剤減圧釜、3は溶剤含浸槽、
4は基材、5は樹脂ワニス減圧釜、6は樹脂ワニ
ス、7はキツスロール含浸槽、8は樹脂ワニス
槽、9はスクイズロール、10は真空ポンプであ
る。
図である。 1は溶剤、2は溶剤減圧釜、3は溶剤含浸槽、
4は基材、5は樹脂ワニス減圧釜、6は樹脂ワニ
ス、7はキツスロール含浸槽、8は樹脂ワニス
槽、9はスクイズロール、10は真空ポンプであ
る。
Claims (1)
- 1 基材を減圧脱泡処理した溶剤に含浸後、減圧
脱泡処理した樹脂ワニスを所要回数含浸させ、ス
クイズロールを径て移動させることを特徴とする
基材へのワニス含浸方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26324086A JPS63116808A (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26324086A JPS63116808A (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63116808A JPS63116808A (ja) | 1988-05-21 |
JPH0476285B2 true JPH0476285B2 (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=17386723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26324086A Granted JPS63116808A (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 基材へのワニス含浸方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63116808A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012097366A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Toyobo Co Ltd | 低通気度織物の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3385000B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2003-03-10 | 株式会社ハッコー | 接着剤自動含浸方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-11-05 JP JP26324086A patent/JPS63116808A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012097366A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Toyobo Co Ltd | 低通気度織物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63116808A (ja) | 1988-05-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |