JPH0439469B2 - - Google Patents
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- JPH0439469B2 JPH0439469B2 JP58136930A JP13693083A JPH0439469B2 JP H0439469 B2 JPH0439469 B2 JP H0439469B2 JP 58136930 A JP58136930 A JP 58136930A JP 13693083 A JP13693083 A JP 13693083A JP H0439469 B2 JPH0439469 B2 JP H0439469B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
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- C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
-
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次式（）
（ここで、Ｒは１〜４個の炭素原子を持つアル
キル基を表わし、R1，R2及びR3のそれぞれは同
一又は異なつていてよく、水素原子又は１〜４個
の炭素原子を持つアルキル基を表わす） のα−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸誘導体の
製造法を主題とする。
キル基を表わし、R1，R2及びR3のそれぞれは同
一又は異なつていてよく、水素原子又は１〜４個
の炭素原子を持つアルキル基を表わす） のα−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸誘導体の
製造法を主題とする。
これらの化合物は、製薬用化合物、特に抗炎症
性化合物の製造に有用な中間体化合物である。
性化合物の製造に有用な中間体化合物である。
式（）の化合物から出発し、そしてF.
Clemence氏他によりEur.J.Med.Chem.1974(9)、
390に又は仏国特許第2167334号に記載の方法によ
り次式(A) の化合物を製造することができる。この方法は、
温和な金属還元剤、例えば塩酸中の塩化第一すず
を用いることを特徴とする。
Clemence氏他によりEur.J.Med.Chem.1974(9)、
390に又は仏国特許第2167334号に記載の方法によ
り次式(A) の化合物を製造することができる。この方法は、
温和な金属還元剤、例えば塩酸中の塩化第一すず
を用いることを特徴とする。
式(A)のこれらの化合物は、薬理学的性質を持つ
目的化合物を変換することができる。このような
変換は、例えば、既に示した仏国特許第2068525
号及び同2167334号に記載されている。
目的化合物を変換することができる。このような
変換は、例えば、既に示した仏国特許第2068525
号及び同2167334号に記載されている。
先に示した文献のEur.J.Med.Chem.1974(9)，
p.390には、式（）の化合物の製造法が記載さ
れている。この方法は下記の通りである。
p.390には、式（）の化合物の製造法が記載さ
れている。この方法は下記の通りである。
ここに、２−ハロケオフエンと次式
の酸から出発して式（）の誘導体の新製造法が
開発された。
開発された。
これらの二つの化合物は容易に入手でき、また
反応は中間体化合物を単離することなく行うこと
ができる。
反応は中間体化合物を単離することなく行うこと
ができる。
本発明の目的をなすこの方法は、次式（）
（ここでＸはハロゲン原子を表わす）
の化合物に次式（）
（ここでＲは既に示した意味を有し、Ａは水素
原子、アルカリ金属原子又は当量のマグネシウム
若しくはアルカリ土金属原子を表わす） の化合物を作用させ、マグネシウム基を加水分解
した後、所期の式（）の化合物を得ることを特
徴とする。
原子、アルカリ金属原子又は当量のマグネシウム
若しくはアルカリ土金属原子を表わす） の化合物を作用させ、マグネシウム基を加水分解
した後、所期の式（）の化合物を得ることを特
徴とする。
置換基Ｒ、R1、R2及びR3が表わすことのでき
る意味としては、低級アルキル基、即ちメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル又はｔ−ブチルがあげられ
る。Ｘは塩素、よう素又は臭素原子を表わすこと
ができる。臭素原子が好ましい。
る意味としては、低級アルキル基、即ちメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル又はｔ−ブチルがあげられ
る。Ｘは塩素、よう素又は臭素原子を表わすこと
ができる。臭素原子が好ましい。
Ａは、水素の他に、ナトリウム、カリウム又は
リチウム原子を表わすことができる。水素又はリ
チウムが好ましく、特にリチウムが好ましい。ま
た、Ａは当量のマグネシウム又はカルシウム若し
くはバリウムのようなアルカリ土金属原子を表わ
すこともできる。
リチウム原子を表わすことができる。水素又はリ
チウムが好ましく、特にリチウムが好ましい。ま
た、Ａは当量のマグネシウム又はカルシウム若し
くはバリウムのようなアルカリ土金属原子を表わ
すこともできる。
式（）の化合物に作用させる式（）のマグ
ネシウム化合物は、好ましくは、テトラヒドロフ
ラン又はエチルエーテルのような有機溶媒中で必
要時に即座に製造される。
ネシウム化合物は、好ましくは、テトラヒドロフ
ラン又はエチルエーテルのような有機溶媒中で必
要時に即座に製造される。
アルカリ金属塩、好ましくはリチウム塩が式
（）の化合物として用いられるときは、この塩
は、トルエン又はテトラヒドロフランのような有
機溶媒中で必要時に即座に製造することもでき
る。ベンゼン又はエチルエーテルのようなエーテ
ルも用いることができる。
（）の化合物として用いられるときは、この塩
は、トルエン又はテトラヒドロフランのような有
機溶媒中で必要時に即座に製造することもでき
る。ベンゼン又はエチルエーテルのようなエーテ
ルも用いることができる。
反応は、マグネシウムの製造が行われた上記の
ような溶媒又は溶媒混合物中で行われる。
ような溶媒又は溶媒混合物中で行われる。
マグネシウム化合物の加水分解は、水性酸媒体
中で行われ、そして用いられる酸は塩酸、硫酸又
は酢酸である。操作は、塩化アンモニウムの存在
下に行うこともできる。
中で行われ、そして用いられる酸は塩酸、硫酸又
は酢酸である。操作は、塩化アンモニウムの存在
下に行うこともできる。
特に、ハロゲン化２−チエニルマグネシウムよ
り出発して方法を上記のように実施することを特
徴とする次式（′） （ここでＲは前記の意味を有する） の化合物の製造法を主題とする。
り出発して方法を上記のように実施することを特
徴とする次式（′） （ここでＲは前記の意味を有する） の化合物の製造法を主題とする。
さらに詳しくは、本発明は、Ｒがメチル又はエ
チル基を表す式（）の化合物を上記の方法に用
いることを特徴とするＲがメチル又はエチル基を
表わす式（′）の化合物の製造法を主題とする。
チル基を表す式（）の化合物を上記の方法に用
いることを特徴とするＲがメチル又はエチル基を
表わす式（′）の化合物の製造法を主題とする。
さらに、本発明の主題をなす方法は、前記の方
法に、R1、R2及びR3のそれぞれが水素原子を表
わす式（）の化合物とＲがメチル基を表わす式
（）の化合物を用いることを特徴とするα−メ
チル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸の製
造に係る。
法に、R1、R2及びR3のそれぞれが水素原子を表
わす式（）の化合物とＲがメチル基を表わす式
（）の化合物を用いることを特徴とするα−メ
チル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸の製
造に係る。
好ましくは、Ｘが臭素原子を表わす式（）の
化合物及びＡが水素又はリチウム原子を表わす式
（）の化合物が本発明の主題をなす方法の出発
物質として用いられる。
化合物及びＡが水素又はリチウム原子を表わす式
（）の化合物が本発明の主題をなす方法の出発
物質として用いられる。
得られたマグネシウム化合物の加水分解は、水
性酸媒体中で行われる。
性酸媒体中で行われる。
最後に、本発明の主題は、特に、臭化２−チエ
ニルマグネシウムをピルビン酸リチウムに作用さ
せ、得られた生成物を塩酸水溶液により加水分解
することを特徴とするα−メチル−α−ヒドロキ
シ−２−チオフエン酢酸の製造法に係る。
ニルマグネシウムをピルビン酸リチウムに作用さ
せ、得られた生成物を塩酸水溶液により加水分解
することを特徴とするα−メチル−α−ヒドロキ
シ−２−チオフエン酢酸の製造法に係る。
下記の例は本発明を例示するもので、これを何
ら制限しない。
ら制限しない。
例１
α−メチル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン
酢酸 ａ） ピルビン酸リチウムの製造 7.9Kgの炭酸リチウムを210のトルエンに加え
てなる懸濁液を加熱沸騰させ、内部温度を105〜
108℃の間の温度に保ち且つ生成する水をデカン
テーシヨンしながら撹拌下に２時間で24.6Kgのピ
ルビン酸を導入する。この混合物を１時間半還流
させると共に４の生成水とピルビン酸との混合
物がデカンテーシヨンされた。
酢酸 ａ） ピルビン酸リチウムの製造 7.9Kgの炭酸リチウムを210のトルエンに加え
てなる懸濁液を加熱沸騰させ、内部温度を105〜
108℃の間の温度に保ち且つ生成する水をデカン
テーシヨンしながら撹拌下に２時間で24.6Kgのピ
ルビン酸を導入する。この混合物を１時間半還流
させると共に４の生成水とピルビン酸との混合
物がデカンテーシヨンされた。
次いで、この混合物を常圧で約30分間蒸留して
最後の微量の水と酸を除去する。これにより35
のトルエン−酸−水混合物を集めた。
最後の微量の水と酸を除去する。これにより35
のトルエン−酸−水混合物を集めた。
ｂ） 臭化マグネシウムチエニルの製造
アルゴン雰囲気下に5.74Kgのマグネシウム片を
81.5のテトラヒドロフランに導入し、続いて約
2.5ｇの昇華させたよう素を入れる。これを20〜
25℃の間で10分間かきまぜ、次いで35Kgの２−ブ
ロムチオフエンを60のテトラヒドロフランに溶
解してなる溶液の約５を導入する。開始後温度
は35℃に上昇する。安定したならば、上で調製し
た２−ブロムチオフエン溶液の残りを同じ温度を
維持しながら１時間30分にわたり徐々に導入す
る。導入が終つたならば、温度を30〜35℃に保ち
ながら混合物をアルゴン雰囲気下に２時間かきま
ぜる。
81.5のテトラヒドロフランに導入し、続いて約
2.5ｇの昇華させたよう素を入れる。これを20〜
25℃の間で10分間かきまぜ、次いで35Kgの２−ブ
ロムチオフエンを60のテトラヒドロフランに溶
解してなる溶液の約５を導入する。開始後温度
は35℃に上昇する。安定したならば、上で調製し
た２−ブロムチオフエン溶液の残りを同じ温度を
維持しながら１時間30分にわたり徐々に導入す
る。導入が終つたならば、温度を30〜35℃に保ち
ながら混合物をアルゴン雰囲気下に２時間かきま
ぜる。
ｃ） 縮合
上記ａ）で得たピルビン酸リチウムの懸濁液を
かきまぜながら−15℃に冷却し、上記のｂ）で調
製したマグネシウム溶液を窒素圧力により移動さ
せることにより約５分間で徐々に導入すると同時
に懸濁液を−15〜−20℃の温度の塩水の外部循環
により冷却する。温度は約45℃に上昇する。導入
中にマグネシウム溶液は激しい撹拌により分散さ
れる。懸濁液を35のテトラヒドロフランで洗
い、次いで約30分間で内部温度を徐々に20〜25℃
に低下させ、混合物をこの温度で窒素下に約46時
間かきまぜる。
かきまぜながら−15℃に冷却し、上記のｂ）で調
製したマグネシウム溶液を窒素圧力により移動さ
せることにより約５分間で徐々に導入すると同時
に懸濁液を−15〜−20℃の温度の塩水の外部循環
により冷却する。温度は約45℃に上昇する。導入
中にマグネシウム溶液は激しい撹拌により分散さ
れる。懸濁液を35のテトラヒドロフランで洗
い、次いで約30分間で内部温度を徐々に20〜25℃
に低下させ、混合物をこの温度で窒素下に約46時
間かきまぜる。
この懸濁液を140Kgの砕氷と47の塩酸との混
合物に約15分間で注ぐ。内部温度を必要なら氷を
加えて25℃に保つ。装置を50の水で洗い、PHを
塩酸により１に調節する。溶解し終るまで20〜25
℃にかきまぜた後、有機相を分離し、水性相を３
回抽出する（それぞれ20のトルエン）。有機相
を一緒にし、次いで12の水を加え、PH４まで約
1.5のアンモニアをゆつくりと入れる。デカン
テーシヨンし、再び12の蒸留水で洗い、次いで
少量のアンモニアをPH４まで加え、有機相を分離
し、減圧下で122の容積まで濃縮させ、内部温
度を40℃以下に保つて、テトラヒドロフラン及び
水を含有する約175のトルエンを集める。３回
の連続蒸留をそれぞれ70のトルエンを用いて同
じ条件で行う。０℃に冷却し、この温度で２時間
かきまぜた後、得られた生成物を分離し、35の
０℃のトルエンで２回洗い、オープンで乾燥す
る。27.35Kgの所期生成物を得た。MP＝115℃。
合物に約15分間で注ぐ。内部温度を必要なら氷を
加えて25℃に保つ。装置を50の水で洗い、PHを
塩酸により１に調節する。溶解し終るまで20〜25
℃にかきまぜた後、有機相を分離し、水性相を３
回抽出する（それぞれ20のトルエン）。有機相
を一緒にし、次いで12の水を加え、PH４まで約
1.5のアンモニアをゆつくりと入れる。デカン
テーシヨンし、再び12の蒸留水で洗い、次いで
少量のアンモニアをPH４まで加え、有機相を分離
し、減圧下で122の容積まで濃縮させ、内部温
度を40℃以下に保つて、テトラヒドロフラン及び
水を含有する約175のトルエンを集める。３回
の連続蒸留をそれぞれ70のトルエンを用いて同
じ条件で行う。０℃に冷却し、この温度で２時間
かきまぜた後、得られた生成物を分離し、35の
０℃のトルエンで２回洗い、オープンで乾燥す
る。27.35Kgの所期生成物を得た。MP＝115℃。
応用：α−メチル−２−チオフエン酢酸
75の22゜Be′塩酸と75Kgの塩化第一すずとの混
合物を窒素下に40℃に加熱し、これに125の氷
酢酸を一度に加える。溶解し終つたならば、50Kg
のα−メチル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン
酢酸を窒素パージし且つかきまぜながら徐々に導
入する。窒素パージし且つかきまぜながら温度を
40℃に保つ。次いで20〜25℃に冷却し、150の
脱塩水と100Kgの砕氷との混合物に15分間で注入
し、再び15分間かきまぜた後に、水性相を50の
20℃±２℃のジクロルエタンで６回抽出する。ジ
クロルエタン抽出物を8.5の22゜Be塩酸を42.5
の水に入れたもので４回、次いで50の水で３回
洗う。ジクロルエタン溶液を40℃を越えないよう
にして減圧下に濃縮する。約225のジクロルエ
タンを集め、そして45.3Kgの所期の粗製酸を得
た。
合物を窒素下に40℃に加熱し、これに125の氷
酢酸を一度に加える。溶解し終つたならば、50Kg
のα−メチル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン
酢酸を窒素パージし且つかきまぜながら徐々に導
入する。窒素パージし且つかきまぜながら温度を
40℃に保つ。次いで20〜25℃に冷却し、150の
脱塩水と100Kgの砕氷との混合物に15分間で注入
し、再び15分間かきまぜた後に、水性相を50の
20℃±２℃のジクロルエタンで６回抽出する。ジ
クロルエタン抽出物を8.5の22゜Be塩酸を42.5
の水に入れたもので４回、次いで50の水で３回
洗う。ジクロルエタン溶液を40℃を越えないよう
にして減圧下に濃縮する。約225のジクロルエ
タンを集め、そして45.3Kgの所期の粗製酸を得
た。
この生成物を0.7トールの圧力下に120℃を越え
ないように蒸留する。39.45Kgの所期生成物を得
た。
ないように蒸留する。39.45Kgの所期生成物を得
た。
例２
α−メチル−α−ヒドロキシ−２−チオフエン
酢酸 375ｇの２−ブロムチオフエンを500mlのテトラ
ヒドロフランに溶解してなる溶液の50c.c.を、59.3
ｇのマグネシウム片と750c.c.のテトラヒドロフラ
ンとの混合物に導入する。よう素結晶を加える。
反応開始後、ブロムチオフエン溶液の残部を35℃
でかきまぜながら１時間で導入する。導入後２時
間かきまぜ続けると共に温度を25℃に低下させ
る。
酢酸 375ｇの２−ブロムチオフエンを500mlのテトラ
ヒドロフランに溶解してなる溶液の50c.c.を、59.3
ｇのマグネシウム片と750c.c.のテトラヒドロフラ
ンとの混合物に導入する。よう素結晶を加える。
反応開始後、ブロムチオフエン溶液の残部を35℃
でかきまぜながら１時間で導入する。導入後２時
間かきまぜ続けると共に温度を25℃に低下させ
る。
次いで、102ｇのピルビン酸を500c.c.のテトラヒ
ドロフランに溶解してなる溶液を25℃で45分間に
わたり加える。この混合物を25℃で18時間かきま
ぜ、次いで130c.c.の66゜Be′塩酸を含有する2.6の
氷水混合物に注加し、10分間かきまぜる。有機相
をデカンテーシヨンし、260c.c.の酢酸エチルで４
回再抽出する。有機相を260c.c.の脱塩水で２回洗
い、次いでまず520c.c.、次いで260c.c.（３回）の
2N冷水酸化ナトリウムで再抽出する。ナトリウ
ム液を260c.c.の酢酸エチルで４回洗い、氷の存在
下にかきまぜながら120c.c.の22゜Be塩酸を添加し
てPH１まで酸性化する。まず520c.c.、次いで260c.c.
（３回）の酢酸エチルで抽出することによつて、
生じた有機相を260c.c.の脱塩水で２回洗い、硫酸
ナトリウムで乾燥し、約10ｇの活性炭を加える。
分離した後、溶媒を減圧下に蒸発させ、145.5ｇ
の所期生成物を得た。
ドロフランに溶解してなる溶液を25℃で45分間に
わたり加える。この混合物を25℃で18時間かきま
ぜ、次いで130c.c.の66゜Be′塩酸を含有する2.6の
氷水混合物に注加し、10分間かきまぜる。有機相
をデカンテーシヨンし、260c.c.の酢酸エチルで４
回再抽出する。有機相を260c.c.の脱塩水で２回洗
い、次いでまず520c.c.、次いで260c.c.（３回）の
2N冷水酸化ナトリウムで再抽出する。ナトリウ
ム液を260c.c.の酢酸エチルで４回洗い、氷の存在
下にかきまぜながら120c.c.の22゜Be塩酸を添加し
てPH１まで酸性化する。まず520c.c.、次いで260c.c.
（３回）の酢酸エチルで抽出することによつて、
生じた有機相を260c.c.の脱塩水で２回洗い、硫酸
ナトリウムで乾燥し、約10ｇの活性炭を加える。
分離した後、溶媒を減圧下に蒸発させ、145.5ｇ
の所期生成物を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式（） （ここで、Ｒは１〜４個の炭素原子を持つアル
キル基を表わし、R1，R2及びR3のそれぞれは同
一又は異なつていてよく、水素原子又は１〜４個
の炭素原子を持つアルキル基を表わす） のα−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸誘導体を
製造するにあたり、次式（） （ここでＸはハロゲン原子を表わす） の化合物に次式（） （ここでＲは既に示した意味を有し、Ａは水素
原子、アルカリ金属原子又は当量のマグネシウム
若しくはアルカリ土金属原子を表わす） の化合物を作用させ、マグネシウム基を加水分解
した後、所期の式（）の化合物を得ることを特
徴とするα−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸誘
導体の製造法。 ２ ハロゲン化２−チエニルマグネシウムより出
発して特許請求の範囲第１項記載の方法を実施し
て次式（′） （ここでＲは特許請求の範囲第１項で既に示し
た意味を有する） の化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ３ Ｒがメチル又はエチル基を表す式（）の化
合物を特許請求の範囲第１項記載の方法で用いて
Ｒがメチル又はエチル基を表わす特許請求の範囲
第２項記載の式（′）の化合物を得ることを特
徴とする特許請求の範囲第１又は２項記載の方
法。 ４ R1，R2及びR3がそれぞれ水素原子を表わす
式（）の化合物とＲがメチル基を表わす式
（）の化合物を特許請求の範囲第１項記載の方
法で用いてα−メチル−α−ヒドロキシ−２−チ
オフエン酢酸を得ることを特徴とする特許請求の
範囲第１〜３項のいずれかに記載の方法。 ５ Ｘが臭素原子を表わす式（）の化合物とＡ
が水素又はリチウム原子を表わす式（）の化合
物より出発して特許請求の範囲第１項記載の方法
を実施することを特徴とする特許請求の範囲第１
〜４項のいずれかに記載の方法。 ６ マグネシウム基の加水分解を水性酸媒体中で
行うことを特徴とする特許請求の範囲第１〜５項
のいずれかに記載の方法。 ７ ピルビン酸リチウムに臭化２−チエニルマグ
ネシウムを作用させ、得られた生成物を塩酸水溶
液により加水分解してα−メチル−α−ヒドロキ
シ−２−チオフエン酢酸を得ることを特徴とする
特許請求の範囲第１〜６項のいずれかに記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8307021 | 1983-04-28 | ||
| FR8307021A FR2545085B1 (fr) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | Nouveau procede de preparation de derives de l'acide a-hydroxy 2-thiophene acetique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204185A JPS59204185A (ja) | 1984-11-19 |
| JPH0439469B2 true JPH0439469B2 (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=9288331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58136930A Granted JPS59204185A (ja) | 1983-04-28 | 1983-07-28 | α−ヒドロキシ−２−チオフエン酢酸誘導体の新製造法 |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204185A (ja) |
| KR (1) | KR900006558B1 (ja) |
| AT (1) | AT392786B (ja) |
| AU (1) | AU559749B2 (ja) |
| BE (1) | BE897362A (ja) |
| CA (1) | CA1201443A (ja) |
| CH (1) | CH655316A5 (ja) |
| DE (1) | DE3325456A1 (ja) |
| DK (1) | DK157493C (ja) |
| ES (1) | ES8404345A1 (ja) |
| FI (1) | FI832473L (ja) |
| FR (1) | FR2545085B1 (ja) |
| GB (1) | GB2139215B (ja) |
| HU (1) | HU194206B (ja) |
| IE (1) | IE55905B1 (ja) |
| IT (1) | IT1171855B (ja) |
| LU (1) | LU84931A1 (ja) |
| NL (1) | NL8302564A (ja) |
| NZ (1) | NZ205514A (ja) |
| PT (1) | PT77010B (ja) |
| SE (1) | SE451018B (ja) |
| ZA (1) | ZA835613B (ja) |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1067828A (fr) * | 1951-01-19 | 1954-06-18 | Sterling Drug Inc | Perfectionnements relatifs à un procédé de préparation de produits chimiques organiques |
| GB806710A (en) * | 1955-07-05 | 1958-12-31 | Metal & Thermit Corp | Reactions of organomagnesium chloride complexes |
| GB820083A (en) * | 1955-07-05 | 1959-09-16 | Metal & Thermit Corp | Reactions of organomagnesium chloride reagents |
| FR2068425B1 (ja) * | 1969-11-12 | 1973-01-12 | Roussel Uclaf | |
| FR2167334A1 (en) * | 1972-01-13 | 1973-08-24 | Roussel Uclaf | 4-aroyl-5-alkylthiophene-2-acetic acids - with analgesic and antiinflammatory activity |
| GB1584120A (en) * | 1977-07-21 | 1981-02-04 | Sagami Chem Res | Process for the preparation of thiophene derivatives and thiophene derivatives obtained therethrough |
| GB2030131B (en) * | 1978-09-12 | 1982-12-22 | Taiyo Pharma Ind | Process for producing 2-(4-(2-thienyl-carbonyl) phenyl) propionic acid |
| JPS5835145A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-03-01 | Taisho Pharmaceut Co Ltd | α−アリ−ルアルカン酸エステルの製造法 |
-
1983
- 1983-04-28 FR FR8307021A patent/FR2545085B1/fr not_active Expired
- 1983-07-04 DK DK307583A patent/DK157493C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-07-05 FI FI832473A patent/FI832473L/fi not_active Application Discontinuation
- 1983-07-06 HU HU832431A patent/HU194206B/hu unknown
- 1983-07-07 SE SE8303887A patent/SE451018B/sv not_active IP Right Cessation
- 1983-07-11 PT PT77010A patent/PT77010B/pt not_active IP Right Cessation
- 1983-07-14 DE DE19833325456 patent/DE3325456A1/de active Granted
- 1983-07-18 NL NL8302564A patent/NL8302564A/nl active Search and Examination
- 1983-07-22 CH CH4036/83A patent/CH655316A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1983-07-25 BE BE0/211226A patent/BE897362A/fr unknown
- 1983-07-26 AU AU17309/83A patent/AU559749B2/en not_active Ceased
- 1983-07-27 LU LU84931A patent/LU84931A1/fr unknown
- 1983-07-27 KR KR1019830003476A patent/KR900006558B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1983-07-28 JP JP58136930A patent/JPS59204185A/ja active Granted
- 1983-08-01 ES ES524648A patent/ES8404345A1/es not_active Expired
- 1983-08-01 ZA ZA835613A patent/ZA835613B/xx unknown
- 1983-08-08 IT IT48823/83A patent/IT1171855B/it active
- 1983-08-08 AT AT2868/83A patent/AT392786B/de not_active IP Right Cessation
- 1983-08-22 CA CA000435081A patent/CA1201443A/fr not_active Expired
- 1983-09-01 GB GB08323492A patent/GB2139215B/en not_active Expired
- 1983-09-02 IE IE2074/83A patent/IE55905B1/en not_active IP Right Cessation
- 1983-09-07 NZ NZ205514A patent/NZ205514A/en unknown
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