JPH04297464A - カルバモイルトリアゾール誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なカルバモイルト
リアゾール誘導体、それを有効成分とする除草剤および
その中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、米国特許第３，９５２，００１号
明細書、米国特許第４，２８０，８３１号明細書および
特開昭５７−５８６７５号公報等に特定構造のカルバモ
イルトリアゾール誘導体が除草剤の有効成分として用い
うることが記載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、これ
ら公知の化合物は、除草効力が不充分であったり、作物
、雑草間の選択性に劣ったりすることから必ずしも満足
すべきものとは言い難い。本発明者らはカルバモイルト
リアゾール系化合物について除草活性の優れた化合物の
開発を目的に鋭意研究した結果、特定構造のカルバモイ
ルトリアゾール誘導体が上述のような欠点の少ない、優
れた除草効力を有し、かつ作物、雑草間に優れた選択性
を示す化合物であることを見い出し、本発明を完成する
に至った。

【０００４】

【問題を解決するための手段】本発明によれば一般式

【
０００５】

【化１３】 ［式中、Ｒ１およびＲ２は同一若しくは異なって低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルキル基また
は低級ハロアルケニル基を表わすか、Ｒ１およびＲ２が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ａは、

【０００６】

【化１４】

【０００７】

【化１５】 または

【０００８】

【化１６】 を表わし、ここでＸは水素原子、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級
ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル
カルボニル基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基
、ベンジルオキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカル
ボニル基、ニトロ基またはアセチルアミノ基を表わし、
ｍは１、２、３、４または５の整数を表わし、Ｙは水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロ
アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基
、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基またはアセチ
ルアミノ基を表わし、ｌは１、２、３、４または５の整
数を表わす］で表わされるカルバモイルトリアゾール誘
導体およびそれを有効成分とする除草剤が提供される。

【０００９】前記一般式［Ｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよ
びＹにおける低級アルキル基としては、炭素数１〜４、
好ましくはメチル基、エチル基およびｎ−プロピル基な
どが挙げられ、Ｒ１およびＲ２における低級アルケニル
基としては炭素数２〜４、好ましくは３〜４のものが挙
げられ、低級ハロアルキル基としては炭素数２〜４、好
ましくは、２−クロロエチル基などが挙げられ、Ｒ１お
よびＲ２が一緒になって低級アルキル基で置換されても
よい炭素数３〜６のアルキレン鎖としては、好ましくは
、Ｒ１およびＲ２が結合する窒素原子と共に２−メチル
ピペリジル環基、２，６−ジメチルピペリジル環基、お
よび２−エチルピペリジル環基などが挙げられる。

【００１０】またＸおよびＹにおけるハロゲン原子とし
てはフッ素原子、塩素原子および臭素原子、好ましくは
フッ素原子および塩素原子が挙げられ、低級アルケニル
基としては炭素数２〜４のものが挙げられ、低級アルコ
キシ基としては炭素数１〜３のものが挙げられ、低級ハ
ロアルキル基としては炭素数１〜２、好ましくはトリフ
ルオロメチル基などが挙げられ、低級ハロアルコキシ基
としては炭素数１〜３、好ましくはジフルオロメトキシ
基、トリフルオロエトキシ基およびテトラフルオロエト
キシ基などが挙げられ、低級アルキルカルボニル基およ
び低級アルコキシカルボニル基としてはそれぞれ炭素数
２〜３のものが挙げられる。

【００１１】ｍは１、２または３であるのが好ましく、
またｌは１、２または３であるのが好ましい。

【００１２】前記一般式［Ｉ］にて表わされる本発明化
合物の具体例を下記表１に例示する。

【００１３】尚、化合物番号は以後の記載において参照
される。

【００１４】

【化１７】

【００１５】

【化１８】

【００１６】

【表１】

【００１７】

【化１９】

【００１８】

【表２】

【００１９】

【化２０】

【００２０】

【表３】 前記一般式［ＩＩ］にて表わされる本発明化合物の具体
例を下記表２に例示する。

【００２１】尚、化合物番号は以後の記載において参照
される。

【００２２】

【化２１】

【００２３】

【表４】

【００２４】

【化２２】

【００２５】

【表５】

【００２６】

【化２３】

【００２７】

【表６】 本発明の化合物は下記の反応方法に従って製造すること
ができるが、本発明の化合物はこれらの方法によって製
造されたものに限定されない。

【００２８】

【化２４】 ［式中、Ｚはハロゲン原子、Ａ、Ｒ１およびＲ２は前記
一般式［Ｉ］と同じ意味を示す。］一般式［Ｉ］で示さ
れる本発明化合物は、一般式［ＩＩ］で示されるトリア
ゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］で示されるカルバモ
イルハライドとを塩基の存在下、好ましくは溶媒中で０
℃〜１６０℃の温度範囲で１０分〜２４時間反応させる
ことにより製造することができる。その際、反応に供さ
れる試剤の量は、トリアゾール誘導体［ＩＩ］１当量に
対してカルバモイルハライド［ＩＩＩ］は１〜１．５当
量、塩基は１〜５当量である。

【００２９】溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグ
ロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
等のケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニト
ロ化合物；アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニ
トリル類；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリ
ン等の第三級アミン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
の酸アミド；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物等、あるいはそれらの混合物があげられる。

【００３０】塩基としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩等；水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド等があげられる。

【００３１】反応終了後の反応液は、水を加えて、有機
溶媒抽出および浸漬等の通常の後処理を行ない、必要な
らば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精
製することもできる。

【００３２】また、一般式［ＩＩ］で示されるトリアゾ
ール誘導体は、それ自体新規化合物であり、本発明の一
部を構成する。この化合物［ＩＩ］は下記の方法に従っ
て製造することができるが、この下記の［ＩＩ］はこれ
らの方法によって製造された物に限定されない。

【００３３】

【化２５】 ［式中、Ｚはハロゲン原子、Ａは前記一般式［Ｉ］と同
じ意味を示す。］一般式［ＩＩ］で示される本発明化合
物は、一般式［ＩＶ］で示される化合物と、一般式［Ｖ
］で示される化合物とを塩基性物質の存在下に適当な溶
媒中で反応させることにより得ることができる。その際
、反応に供される試剤の量は、化合物［ＩＶ］１当量に
対して化合物［Ｖ］は１〜１．２当量である。

【００３４】溶媒としては、例えば、アセトンなどのケ
トン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルな
どのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル類；ジクロ
ロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロ
ロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムア
ミドなどの極性溶媒などを単独または混合して使用する
ことができる。更に、水と前記溶媒類との混合系も実施
可能である。溶媒の使用量には特別な制限はないが、通
常、化合物［ＩＶ］の量の５〜２０重量倍が適当である
。

【００３５】塩基性物質としては、例えば、炭酸アルカ
リ、苛性アルカリなどの無機物質、トリエチルアミン、
ピリジンなどのアミン類を使用することができる。塩基
性物質の使用量は、化合物［ＩＶ］に対し、通常１．０
〜５．０モル倍が適当である。

【００３６】反応温度は、氷冷下ないし溶媒の沸点の温
度範囲で任意に設定できる。

【００３７】反応時間は、設定条件によって変化するが
、通常、１〜２４時間で終了させることができる。

【００３８】生成物［ＩＩ］はそれ自体知られた方法に
より反応混合物から単離でき、再結晶、カラムクロマト
グラフィーなどにより容易に精製することができる。

【００３９】次に実施例を挙げて本発明を、更に具体的
に説明する。

【００４０】

【実施例】実施例１　　４−メチルフェニル−（１，２
，４−トリアゾール−３−イル）スルホネート（化合物
番号５０４）の製造； Ｐ−クレゾール１．９４ｇをテトラヒドロフラン２０ｍ
ｌに溶解し、撹拌しながらトリエチルアミン２．６０ｍ
ｌを加える。さらに氷冷下、撹拌しながら３−クロロス
ルホニル−１，２，４トリアゾール３．００ｇを徐々に
加え、室温で１４時間撹拌した。テトラヒドロフランを
減圧下で留去し、２Ｎ塩酸２０ｍｌを加え、粗結晶を得
た。これをｎ−ヘキサン−酢酸エチルから再結晶して標
題化合物を得た。

【００４１】収量２．４１ｇ（収率５６％）融点１５２
〜１５４℃ １Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３）δ、２．３０（３Ｈ
，ｓ）、７．０３（４Ｈ，ｓ）、８．３３（１Ｈ，ｓ）
実施例２　　２，６−ジメチルフェニル−（１，２，４
−トリアゾール−３−イル）スルホネート（化合物番号
５３９）の製造； ２，６−ジメチルフェノール３．７０ｇを塩化メチレン
１５ｍｌに溶解し、撹拌しながらトリエチルアミン４．
２ｍｌを加える。さらに氷冷下、撹拌しながら、３−ク
ロロスルホニル−１，２，４−トリアゾール４．６０ｇ
を徐々に加え、室温で１５時間撹拌した。実施例１と同
様の後処理をして、標題化合物を得た。 収量４．１５ｇ（収率６０％） 融点１７７〜１７９℃ １Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３）δ、２．３０（６Ｈ
，ｓ）、７．０４（３Ｈ，ｓ）、８．９３（１Ｈ，ｓ）
実施例３　　４−メチルフェニル−（１−ジエチルカル
バモイル−１，２，４−トリアゾール−３−イル）スル
ホネート（化合物番号１７）の製造； ４−メチルフェニル−（１，２，４−トリアゾール−３
−イル）スルホネート２．１８ｇとジエチルカルバモイ
ルクロライド１．３５ｇとをピリジン１５ｍｌに溶解し
、室温で１４時間撹拌した。ピリジンを減圧下で留去し
、２Ｎ塩酸２０ｍｌを加えて酢酸エチルで抽出した。 有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これをｎ−ヘ
キサン−酢酸エチルから再結晶して標題化合物を得た。

【００４２】収量２．８４ｇ（収率９２％）融点９２〜
９４．５℃ １Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３）δ、１．２３（６Ｈ
，ｔ）、２．３０（３Ｈ，ｓ）、３．５１（４Ｈ，ｑ）
、７．６０（４Ｈ，ｓ）、８．８５（１Ｈ，ｓ）実施例
４　　２，６−ジメチルフェニル−（１−ジエチルカル
バモイル−１，２，４−トリアゾール−３−イル）スル
ホネート（化合物番号１００）の製造； ２，６−ジメチルフェニル−（１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）スルホネート１．２０ｇとジエチルカル
バモイルクロライド０．７１ｇとをピリジン５ｍｌに溶
解し、室温で１４時間撹拌した。実施例３と同様の後処
理をして標題化合物を得た。

【００４３】収量１．５３ｇ（収率９２％）融点８４〜
８５℃ １Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３）δ、１．３０（６Ｈ
，ｔ）、２．２８（６Ｈ，ｓ）、３．６０（４Ｈ，ｑ）
、７．０４（３Ｈ，ｓ）、８．９３（１Ｈ，ｓ）同様の
方法により下記表３に記載の化合物を合成した。以下に
それらの化合物のＮＭＲデータを示す。

【００４４】

【表７】 本発明の除草剤は、前記一般式［Ｉ］で表される新規カ
ルバモイルトリアゾール誘導体を有効成分として含んで
成る。

【００４５】本発明の前記一般式［Ｉ］で表される化合
物を除草剤として用いる場合には、担体もしくは希釈剤
、添加剤及び補助剤等とそれ自体公知の手法で混合して
、通常農薬として用いられる製剤形態、例えば粉剤、粒
剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調製して
使用される。また他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、殺
ダニ剤、他の除草剤、植物生長調節剤及び肥料、土壌改
良剤等と混合または併用して使用することができる。 特に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を
減少させ、また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の
共力作用による殺草スペクトラムの拡大並びに相乗作用
による一層高い効果も期待できる。

【００４６】前記一般式［Ｉ］で表される本発明化合物
と混合して使用できる他の除草剤の具体例としては、例
えば、下記のものを挙げることができる。

【００４７】カーバメイト系除草剤： メチル　　３，４−ジクロロフエニルカーバメート（一
般名：スウェップ、Ｓｗｅｐ）、イソプロピル　　３−
クロロフェニルカーバメート（一般名：クロルプロファ
ム、Ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、Ｓ−（ｐ−クロロベ
ンジル）ジエチルチオカーバメート（一般名：ベンチオ
カーブ、Ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、Ｓ−エチル−Ｎ，
Ｎ−ヘキサメチレンチオカーバメート（一般名：モリネ
ート、Ｍｏｌｉｎａｔｅ）、Ｓ−（１−メチル−１−フ
ェニルエチル）ピペリジン−１−カルボチオエート（一
般名：ジメピペレート、Ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、
Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２−ジメチルプ
ロピル）チオールカーバメート（一般名：エスプロカル
ブ、Ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、［（メトキシカルボニル）
アミノ］フェニル（３−メチルフェニル）カーバメート
（一般名：フェンメジファム、Ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａ
ｍ）、エチル　　３−フェニルカーバモイルオキシフェ
ニルカーバメート（一般名：デスメジファム、Ｄｅｓｍ
ｅｄｉｐｈａｍ）、Ｏ−（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−Ｎ−（６−メトキシ−２−ピリジル）−Ｎ−メチ
ル−チオカバメート（一般名：ピリブチカルブ、Ｐｙｒ
ｉｂｕｔｙｃａｒｂ）等；ウレア系除草剤： １−（α，α−リジメチルベンジル）−３−（４−メチ
ルフェニル）ウレア（一般名：ダイムロン、Ｄｙｍｒｏ
ｎ）、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジ
メチルウレア（一般名：ジウロン、Ｄｉｕｒｏｎ）１，
１−ジメチル−３−（α，α，α−トリフルオロ−ｍ−
トリル）ウレア（一般名：フルオメツロン、Ｆｌｕｏｍ
ｅｔｕｒｏｎ）、３−［４−（４−クロロフェノキシ）
フェニル］−１，１−ジメチルウレア（一般名：クロロ
クスロン、Ｃｈｌｏｒｏｘｕｒｏｎ）、３−（３，４−
ジクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチルウレア
（一般名：リニュロン、Ｌｉｎｕｒｏｎ）、３−（４−
クロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチルウレア（
一般名：モノリニュロン、Ｍｏｎｏｌｉｎｕｒｏｎｅ）
、３−（４−ブロモ−３−クロロフェニル）−１−メト
キシ−１−メチルウレア（一般名：クロルブロムロン、
Ｃｈｌｏｒｂｒｏｍｒｏｎ）、１−（α，α−ジメチル
ベンジル）−３−（２−クロロベンジル）ウレア（コー
ド番号：ＪＣ−９４０）等； アミド系除草剤： ２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−メトキシメチ
ルアセトアニリド（一般名：アラクロール、Ａｌａｃｈ
ｌｏｒ）、Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ−２′，６
′−ジエチルアセトアニリド（一般名：ブタクロール、
Ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、２−クロロ−２′，６′−ジエ
チル−Ｎ−（２−プロポキシエチル）アセトアニリド（
一般名：プレチラクロール、Ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ
）、２−クロロ−Ｎ−イソプロピルアセトアニリド（一
般名：プロパクロール、Ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、３′
，４′−ジクロロプロピオンアニリド（一般名：プロパ
ニル、Ｐｒｏｐａｎｉｌ）、　　Ｎ−（１，１−ジメチ
ルベンジル）−２−ブロム−ｔｅｒｔ−ブチルアセトア
ミド（一般名：ブロモブチド、Ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ
）、２−ベンゾチアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−メチ
ルアセトアニリド（一般名：メフェナセット、Ｍｅｆｅ
ｎａｓｅｔ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルジフェニルアセトアミ
ド（一般名：ジフェナミド、Ｄｉｐｈｅｎａｍｉｄ）、
Ｎ−［２′−（３′−メトキシ）−チエニルメチル］−
Ｎ−クロロアセト−２，６−ジメチルアニリド（コード
番号：ＮＳＫ−８５０）、２′，６−ジエチル−Ｎ−［
（２−シス−ビテノオキシ）メチル］−２−クロロアセ
トアニリド（コード番号：ＫＨ−２１８）等； ジニトロフェニル系除草剤： ４，６−ジニトロ−ｏ−クレゾール（一般名：ＤＮＯＣ
）、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジニトロフェノー
ル（一般名：ジノタブ、Ｄｉｎｏｔｅｒｂ）、２−ｓｅ
ｃ−ブチル−４，６−ジニトロフェノール（一般名：ジ
ノセブ、Ｄｉｎｏｓｅｂ）、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，６
−ジニトロ−４−トリフルオロメチル−ｍ−フェニレン
ジアミン（一般名：ジニトラミン、Ｄｉｎｉｔｒａｍｉ
ｎｅ）、α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ
−Ｎ，Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン（一般名：トリ
フルラリン、Ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、４−メチルス
ルホニル−２，６−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアニ
リン（一般名：ニトラリン、Ｎｉｔｒａｌｉｎ）、Ｎ−
（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−３，４−
キシリジン（一般名：ペンディメタリン、Ｐｅｎｄｉｍ
ｅｔｈａｌｉｎ）等； フェノキシ系除草剤： ２，４−ジクロロフェノキシ酢酸（一般名：２，４−Ｄ
）、２，４，５−トリクロロフェノキシ酢酸（一般名：
２，４，５−Ｔ）、４−クロロ−ｏ−トリルオキシ酢酸
（一般名：ＭＣＰＡ）、４−（４−クロロ−ｏ−トリル
オキシ）酪酸（一般名：ＭＣＰＢ）、２，４−ジクロロ
フェノキシ酪酸（一般名：２，４−ＤＢ）、２−（４−
クロロ−ｏ−トリルオキシ）プロピオン酸（一般名：メ
コプロップ、Ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、２−（２，４−ジク
ロロフェノキシ）プロピオン酸（一般名：ジクロプロッ
プ、Ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、（ＲＳ）−２−［４−
（２，４−ジクロロフェノキシ）フェノキシ］プロピオ
ン酸（一般名：ジクロホップ、Ｄｉｃｌｏｆｏｐ）及び
そのエステル類、（ＲＳ）−２−［４−（５−トリフロ
ロメチル−２−ピリジルオキシ）フェノキシ］プロピオ
ン酸（一般名：フルアジホップ、Ｆｌｕａｚｉｆｏｐ）
及びそのエステル類、２−（２，４−ジクロロ−３−メ
チルフェノキシ）プロピオンアニリド（一般名：クロメ
プロップ、Ｃｒｏｍｅｐｒｏｐ）、Ｓ−エチル−４−ク
ロロ−２−メチルフェノキシチオアセテート（一般名：
フェノチオール、Ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、２−（２−
ナフトキシ）プロピオンアニリド（一般名：ナプロアニ
リド、Ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）等；カルボン酸系除
草剤： ２，２−ジクロロプロピオン酸（一般名：ダラポン、Ｄ
ａｌａｐｏｎｅ）、トリクロロ酢酸（一般名：ＴＣＡ）
、２，３，６−トリクロロ安息香酸（一般名：２，３，
６−ＴＢＡ）、３，６−ジクロロ−ｏ−アニシックアシ
ッド（一般名：ジカンバ、Ｄｉｃａｍｂａ）、３−アミ
ノ−２，５−ジクロロ安息香酸（一般名：クロルアムベ
ン、Ｃｈｌｏｒａｍｂｅｎ）等； 有機リン系除草剤： Ｏ−エチル−Ｏ−（２−ニトロ−５−メチルフェニル）
−Ｎ−ｓｅｃ−ブチルフォスフォロアミドチオエート（
一般名：ブタミフォス、Ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、Ｏ，Ｏ
−ジイソプロピル−Ｓ−（２−ベンゼンスルフォニルア
ミノエチル）フォスフォロジチオエート（一般名：ＳＡ
Ｐ）、Ｓ−（２−メチルピペリジン−１−イル）カルボ
ニルメチル−Ｏ，Ｏ−ジプロピルフォスフォロジチオエ
ート（一般名：ピペロフォス、Ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）
等；ベンゾニトリル系除草剤： ２，６−ジクロロベンゾニトリル（一般名：ジクロベニ
ル、Ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、３，５−ジブロモ−４
−ヒドロキシルベンゾニトリル（一般名：ブロモキシニ
ル、Ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、４−ヒドロキシ−３，５
−ジョードベンゾニトリル（一般名：イオキシニル、Ｉ
ｏｘｙｎｉｌ）等；ジフェニルエーテル系除草剤： ２，４−ジクロロフェニル−４−ニトロフェニルエーテ
ル（一般名：ニトロフェン、Ｎｉｔｒｏｆｅｎ）、２，
４，６−トリクロロフェニル−４′−ニトロフェニルエ
ーテル（一般名：クロルニトロフェン、Ｃｈｌｏｒｎｉ
ｔｒｏｆｅｎ）、５−（２，４−ジクロロフェノキシ）
−３−メトキシ−４−ニトロフェニルエーテル（一般名
：クロメトキシニル、Ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）
、メチル　　５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２
−ニトロベンゾエート（一般名：ビフェノックス、Ｂｉ
ｆｅｎｏｘ）、４−ニトロフェニル−α，α，α−トリ
フルオロ−２−ニトロ−ｐ−トリルエーテル（一般名：
フルオロジフェン、Ｆｌｕｏｒｏｄｉｆｅｎ）、２−ク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−エトキシ
−４−ニトロフェニルエーテル（一般名：オキシフルオ
ルフェン、Ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、５−（２−クロ
ロ−α，α，α−トリフルオロ−ｐ−トリルオキシ）−
２−ニトロ安息香酸（一般名：アシフルオルフェン、Ａ
ｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ）等； トリアジン系除草剤： ４−アミノ−３−メチル−６−フェニル−１，２，４−
トリアジン−５（４Ｈ）−オン（一般名：メタミトロン
、Ｍｅｔａｍｉｔｒｏｎ）、４−アミノ−６−ｔｅｒｔ
−ブチル−３−メチルチオ−１，２，４−トリアジン−
５（４Ｈ）−オン（一般名：メトリブジン、Ｍｅｔｒｉ
ｂｕｚｉｎ）、２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミ
ノ）−１，３，５−トリアジン（一般名：シマジン、Ｓ
ｉｍａｚｉｎｅ）、２−クロロ−４−エチルアミノ−６
−イソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン（一般
名：アトラジン、Ａｔｒａｚｉｎｅ）、２，４−ビス（
エチルアミノ）−６−メチルチオ−１，３，５−トリア
ジン（一般名：シメトリン、Ｓｉｍｅｔｏｒｙｎｅ）、
２，４−ビス（イソプロピルアミノ）−６−メチルチオ
−１，３，５−トリアジン（一般名：プロメトリン、Ｐ
ｒｏｍｅｔｒｙｎｅ）、２−メチルチオ−４−エチルア
ミノ−６−（１，２−ジメチルプロピルアミノ）−１，
３，５−トリアジン（一般名：ジメタメトリン、Ｄｉｍ
ｅｔａｍｅｔｒｙｎｅ）等；スルホニルウレア系除草剤
： ２−クロロ−Ｎ−［４−メトキシ−６−メチル−１，３
，５−トリアジン−２−イル）アミノカルボニル］ベン
ゼンスルフォンアミド（一般名：クロルスルフロン、Ｃ
ｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メチル　　２−｛［（（
４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカル
ボニル）アミノスルホニル］メチル｝ベンゾエート（一
般名：ベンスルフロンメチル、Ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ
ｍ　ｅｔｈｙｌ）、エチル　　２−［（（４−クロロ−
６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル
）アミノスルホニル］ベンゾエート（一般名：クロリム
ロンエチル、Ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ　ｅｔｈｙｌ）、
エチル　　５−［（（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル）アミノスルホニル］−１
−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（
一般名：ピラゾスルフロンエチル、Ｐｙｒａｚｏｓｕｌ
ｆｕｒｏｎ　ｅｔｈｙｌ）、２−（２−メトキシエトキ
シ）−Ｎ−［（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリ
アジン−２−イル）アミノカルボニル］ベンゼンスルフ
ォンアミド（一般名：シノスルフロン、Ｓｙｎｏｓｕｌ
ｆｕｒｏｎ）、２−クロロ−Ｎ−［（４，６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）アミノカルボニル］イミダゾ
［１，２−ａ］ピリジン−３−スルフォンアミド（コー
ド番号：ＴＨ−９１３）等； ジアジン系除草剤： ４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチ
ルピラゾール−５−イル−ｐ−トルエンスルホネート（
一般名：ピラゾレート、Ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、１，
３−ジメチル−４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−
５−フェナシルオキシピラゾール（一般名：ピラゾキシ
フェン、Ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、１，３−ジメチル
−４−（２，４−ジクロロ−３−メチルベンゾイル）−
５−（４−メチルフェナシルオキシ）ピラゾール（一般
名：ベンゾフェナップ、Ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）等； その他の除草剤： ３，６−ジクロロピリジン−２−カルボン酸（一般名：
クロピラリド、Ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、４−アミノ−
３，５，６−トリクロロピリジン−２−カルボン酸（一
般名：ピクロラム、Ｐｉｃｌｏｒａｍ）、５−アミノ−
４−クロロ−２−フェニルピリダジン−３（２Ｈ）−オ
ン（一般名：クロリダゾン、Ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）
、３−シクロヘキシル−１，５，６，７−テトラハイド
ロシクロペンタピリミジン−２，４（３Ｈ）−ジオン（
一般名：レナシル、Ｌｅｎａｃｉｌ）、５−ブロモ−３
−ｓｅｃ−ブチル−６−メチルウラシル（一般名：ブロ
マシル、Ｂｒｏｍａｃｉｌ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−
５−クロロ−６−メチルウラシル（一般名：ターバシル
、Ｔｅｒｂａｃｉｌ）、３−イソプロピル−（１Ｈ）−
２，１，３−ベンゾチアジアジン−４（３Ｈ）−オン２
，２−ジオキシド（一般名：ベンタゾン、Ｂｅｎｔａｚ
ｏｎｅ）、Ｎ−１−ナフチルフタラミン酸（一般名：ナ
プタラム、Ｎａｐｔａｌａｍ）、Ｓ，Ｓ−ジメチル−２
−（ジフルオロメチル）−４−（２−メチルプロピル）
−６−（トリフルオロメチル）−３，５−ピリミジンカ
ルボチオエート（コード番号：Ｍｏｎ−７２）、２，３
−ジヒドロ−３，３−ジメチル−５−ベンゾフラニルエ
タンスルフォネート（一般名：ベンフレセート、Ｂｅｎ
ｆｕｒｅｓａｔｅ）、５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２
，４−ジクロロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール−２（３Ｈ）−オン（一般名
：オキサジアゾン、Ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、エキソ−１
−メチル−４−（１−メチルエチル）−２−［（２−メ
チルフェニル）メトキシ］−７−オキサビシクロ［２，
２，１］ヘプタン（コード番号：ＳＫＨ−３０１）等。

【００４８】製剤に際して用いられる担体若くは希釈剤
としては、一般に農業上使用される固体ないしは液体の
担体が用いられる。固体担体としてはカオリナイト群、
モンモリロナイト群あるいはアパタルジャイト群等で代
表されるクレー類やタルク、雲母、ロウ石、軽石、バー
ミキュライト、石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、け
いそう土、マグネシウム石灰、りん石灰、ゼオライト、
無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウム等の無機物質；大豆
粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結
晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油
樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレ
ングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガ
ム、ダンマルガム等の合成または天然の高分子化合物；
そのほかカルナウバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるい
は尿素等が例示できる。

【００４９】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系もしくはナフテン系炭化水素；トルエン、キシレン
、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタレン等の芳香
族炭化水素ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類；アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセトフエノン、イソホロン
等のケトン類；酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリ
コールアセテート、ジエチレングリコールアセテート、
マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエステル類
；メタノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類；エチレングリコールエ
チルエーテル、エチレングリコールフエニルエーテル、
ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリ
コールブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒
あるいは水等が挙げられる。

【００５０】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性
改良、防錆等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用
することもできる。使用される界面活性剤の例としては
、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン
性のいずれの化合物も使用しうるが、通常は非イオン性
及び（又は）陰イオン性の化合物が使用される。

【００５１】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物、イソオクチルフエノール、
ノニルフエノール等のアルキルフエノールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物、ブチルナフトール、オ
クチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオ
キシドを重合付加させたもの、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを
重合付加させた化合物、ソルビタン等の多価アルコール
の高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物及びエチレンオキシドとプロピレン
オキシドをブロック重合付加させた化合物等が挙げられ
る。

【００５２】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩；イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。

【００５３】更に本発明の除草剤には製剤の性状を改善
し、除草効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、ア
ルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他
の補助剤を併用することもできる。

【００５４】上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
あるいは組み合わせて適宜使用される。

【００５５】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明化合物（有効成分）含有率は製剤形により種々
変化するものであるが、通常０．１〜９９重量％が適当
であり、とりわけ１〜８０重量％が最も好ましい。

【００５６】粉剤の場合は、たとえば有効成分化合物を
通常１〜２５重量％含有し、残部は固体担体である。

【００５７】水和剤の場合は、たとえば有効成分化合物
を通常２５〜９０重量％含有し、残部は固体担体、分散
湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤
等が加えられる。

【００５８】粒剤の場合は、たとえば有効成分化合物を
通常０．０１〜２０重量％含有し、残部は大部分が固体
担体及び界面活性剤等である。有効成分化合物は固体担
体と均一に混合されているか、あるいは混合されての表
面に均一に固着もしくは吸着されており、粒の径は約０
．２ないし１．５ｍｍである。

【００５９】乳剤の場合は、たとえば有効成分化合物を
通常５〜３０重量％含有しており、これに約５ないし２
０重量％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必
要に応じて防錆剤が加えられる。

【００６０】フロアブル剤の場合は、例えば有効成分化
合物を通常５〜５０％含有しており、これに３ないし１
０重量％の分散湿潤剤が含まれ残部は水であり必要に応
じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。

【００６１】本発明の新規なカルバモイルトリアゾール
誘導体は、一般式［Ｉ］の化合物のままあるいは上述し
た様な任意の調製形態で施用することができる。

【００６２】本発明の除草剤は、水田および畑地に生育
する発生前から生育期までの諸雑草の駆除または防除に
施用できる。その施用量は一般式［Ｉ］で表される化合
物量（有効成分量）として１ｈａ当り、０．００１〜５
ｋｇ程度、好ましくは０．０１〜１．２ｋｇ程度であり
、目的とする雑草の種類、生育段階、施用場所、施用時
期、天候等によって適宜に選択変更できる。

【００６３】次に本発明の化合物を用いた製剤例の数態
様を示す。下記製剤例中の「部」は重量基準である。

【００６４】製剤例１（粒剤） 化合物番号１７　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１部ベント
ナイト　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　５４部タルク　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　４０部ドデシルベン
ゼンスルホン酸ソーダ　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　２部リグニンスルホン酸ソーダ　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部ポ
リオキシエチレンスチリルフエニルエーテル　　　　　
　　　　　１部以上を充分に混合した後、適量の水を加
えて混練し、造粒機を用いて造粒して粒剤１００部を得
た。

【００６５】製剤例２（水和剤） 化合物番号１００　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部ケイソウ土
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　６０部ホワイトカーボ
ン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１５部リグニンスレホン酸ソーダ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　３部ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　２部以上を混合し、
ニーダーで均一に混合粉砕して水和剤１００部を得た。

【００６６】製剤例３（乳剤） 化合物番号２８　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０部キシレン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　５５部シクロヘキ
サノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　１０部ドデシルベンゼンスル
ホン酸カルシウム　　　　　　　　　　　　　　　　３
部ポリオキシエチレンスチリルフエニルエーテル　　　
　　　　　　　２部以上を均一に混合溶解して乳剤１０
０部を得た。

【００６７】上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用
いた薬剤がそれぞれ製剤できた。

【００６８】

【発明の効果】本発明の前記一般式［Ｉ］で表されるカ
ルバモイルトリアゾール誘導体は、文献未記載の新規な
化合物である。本発明の前記一般式［Ｉ］で表される化
合物は、１−カルバモイル−１，２，４−トリアゾール
環の３位にフェノキシスルホニルまたはナフチルオキシ
スルホニル基が結合した構造をとっていることが特徴で
あり、その構造的特徴によってこのカルバモイルトリア
ゾール誘導体に優れた除草性能が発現するものと考えら
れる。

【００６９】本発明の化合物および除草剤は農耕地に生
育する発生前からの生育期までの諸雑草を防除できる。 例えば、ノビエ、ホタルイ、ミズガヤツリ、コナギ、ア
ゼナ、ミズハコベ、キカシグサ、マツバイ、タマガヤツ
リ等の水田雑草や、メヒシバ、エノコログサ、オヒシバ
、スズメノヒエ、スズメノテッポウ、ハコベ、タデ類、
ヒユ類、イチビ、シロザ、アメリカキンコジカ、オナモ
ミ、ブタクサ、ナズナ、タネツケバナ、センダングサ、
ヤエムグラ、ソバカズラ等の畑地諸雑草を防除できる。 更に水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、芝生、非農
耕地においても使用することができる。

【００７０】次に本発明除草剤の効果を試験例をあげて
説明する。

【００７１】試験例１（水田土壌処理）面積１／５００
０アールのホグネルポットに適量の化成肥料を混合した
水田土壌を詰め、これに予め温室内で生育させた２葉期
の水稲（品種：コシヒカリ）を３株（２本１株）移植し
、更にノビエ、コナギ、アゼナ、タマガヤツリの種子を
播種した。

【００７２】水稲移植及び雑草播種３日後に、表４に示
す各化合物を製剤例１に準じて粒剤に調製し、有効成分
で１ｈａ当り１００ｇとなるように処理した。除草効果
及び薬害程度の調査は、薬剤処理３０日後に下記の基準
に従い行った。

【００７３】その結果を表４に示す。

【００７４】

【表８】

【００７５】

【表９】比較化合物Ａ：１−（ジエチルカルバモイル）
−３−ベンジルスルホニル−１，２，４−トリアゾール
（米国特許第４，２８０，８３１号公報記載；以下の表
においても同様） 試験例２（水田生育期処理） 面積１／５０００アールのワグネルポットに適量の化成
肥料を混合した水田土壌を詰め、これに予め温室内で生
育させた２葉期の水稲（品種：コシヒカリ）を３株（２
本１株）移植し、更にノビエ、コナギ、アゼナ、タマガ
ヤツリの種子を播種した。

【００７６】水稲移植及び雑草播種１４日後に、表５に
示す各化合物を製剤例１に準じて粒剤に調製し、有効成
分で１ｈａ当り３００ｇとなるように処理した。除草効
果及び薬害程度の調査は、薬剤処理３０日後に試験例１
の基準に従い行った。

【００７７】その結果を表５に示す。

【００７８】

【表１０】

【化２６】

【化２７】

【化２８】

【化２９】

【化３０】

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式 【化１】 ［式中、Ｒ１およびＲ２は同一若しくは異なって低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルキル基また
   は低級ハロアルケニル基を表わすか、Ｒ１およびＲ２が
   一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
   ３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ａは、 【化２】 【化３】 または 【化４】 を表わし、ここでＸは水素原子、ハロゲン原子、低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級
   ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル
   カルボニル基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基
   、ベンジルオキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカル
   ボニル基、ニトロ基またはアセチルアミノ基を表わし、
   ｍは１、２、３、４または５の整数を表わし、Ｙは水素
   原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロ
   アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基
   、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基またはアセチ
   ルアミノ基を表わし、ｌは１、２、３、４または５の整
   数を表わす］で表わされるカルバモイルトリアゾール誘
   導体。
2. 【請求項２】　　　　一般式 【化５】 ［式中、Ｒ１およびＲ２は同一若しくは異なって低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルキル基また
   は低級ハロアルケニル基を表わすか、Ｒ１およびＲ２が
   一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
   ３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ａは、 【化６】 【化７】 または 【化８】 を表わし、ここでＸは水素原子、ハロゲン原子、低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級
   ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル
   カルボニル基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基
   、ベンジルオキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカル
   ボニル基、ニトロ基またはアセチルアミノ基を表わし、
   ｍは１、２、３、４または５の整数を表わし、Ｙは水素
   原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロ
   アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基
   、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基またはアセチ
   ルアミノ基を表わし、ｌは１、２、３、４または５の整
   数を表わす］で表わされるカルバモイルトリアゾール誘
   導体を有効成分として含有することを特徴とする除草剤
   。
3. 【請求項３】　　一般式 【化９】 ［式中Ａは、 【化１０】 【化１１】 または 【化１２】 を表わし、ここでＸは水素原子、ハロゲン原子、低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級
   ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル
   カルボニル基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基
   、ベンジルオキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカル
   ボニル基、ニトロ基またはアセチルアミノ基を表わし、
   ｍは１、２、３、４または５の整数を表わし、Ｙは水素
   原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロ
   アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基
   、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基またはアセチ
   ルアミノ基を表わし、ｌは１、２、３、４または５の整
   数を表わす］で表わされるカルバモイルトリアゾール誘
   導体。