JP2760003B2 - スルホンアミド類およびこれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

スルホンアミド類およびこれを有効成分とする除草剤

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なスルホンアミド類およびこれを有効成
分とする除草剤に関する。
〔従来技術〕
従来、数多くのスルホンアミド系化合物が除草剤とし
て提案されており、たとえば特公昭56−8027号公報に
は、Ｎ−メチル−Ｎ−α，α−ジメチルベンジルベンゼ
ンスルホンアミドが示されている。又、本発明者等は先
に選択性除草剤としてＮ−（2,3−エポキシプロピレ
ン）−Ｎ−α−メチルベンジルベンゼンスルホンアミド
等のＮ−（2,3−エポキシプロピレン）−Ｎ−アラルキ
ルスルホンアミド類を提案した（特開昭58−131977）。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、従来公知のスルホンアミド系化合物に比
べ、更に除草活性が高く、しかもノビエ等の雑草の発生
前から、生育の進んだ段階迄の長期間にわたって除草活
性を有する除草剤を提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表わされるスル
ホンアミド類およびこれを有効成分とする除草剤に存す
る。
（上記式中、Ａは置換されていてもよいフェニル基を示
し、Ｂは置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｒは
低級アルキル基、低級アルコキシ基または低級ハロアル
キル基を示し、Ｗは水酸基またはハロゲン原子を示し、
Ｚはハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル
スルホニルオキシ基または置換されていてもよいフェニ
ルスルホニルオキシ基を示す） 以下、本発明を詳しく説明する。
本発明において除草剤として用いられるスルホンアミ
ド類は前示一般式（Ｉ）で示される。一般式（Ｉ）中、
好ましくはＡは 〔式中、Ｘは同一または相異なり、ハロゲン原子、低級
アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルスルホニル基、ニトロ基またはシアノ基を
示し、ｎは０または１〜３の整数を示すか相隣る２つの
Ｘは互いに結合して で表わされる基（基中、r1およびr2はそれぞれ独立に水
素原子または低級アルキル基を示し、好ましくは水素原
子またはメチル基であり、更に好ましくは水素原子であ
る。l1は０または１を示し、l2は２〜４の整数を示し、
かつl1およびl2の和は３または４である。）を示す。更
に好ましくは、Ｘは弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1
〜C6の低級アルキル基、C1〜C2の低級ハロアルキル基、
C1〜C6の低級アルコキシ基、C1〜C2の低級アルキルスル
ホニル基、ニトロ基またはシアノ基を示し、ｎは０また
は１〜３の整数を示すか、または相隣る２つのＸは互い
に結合して で表わされる基（基中、l1,l2,r1,r2は前記と同じ）で
ある。特に好ましくは、Ｘは弗素原子、塩素原子、C1〜
C4の低級アルキル基、C1〜C4の低級アルコキシ基、トリ
フルオロメチル基またはシアノ基を示し、ｎは0,1また
は２の整数を示すか、相隣る２つのＸは互いに結合して で表わされる基（基中、l1,l2は前記と同じ）であ
る。〕で表わされるフェニル基である。
一般式（Ｉ）において、Ｂは好ましくは 〔式中、Ｙは同一または相異なり、ハロゲン原子、低級
アルキル基、低級ハロアルキル基または低級アルコキシ
基であり、好ましくは、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、C1〜C3の低級アルキル基、C1〜C2の低級ハロアルキ
ル基またはC1〜C3の低級アルコキシ基、更に好ましくは
弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基
またはメトキシ基を示し、ｍは0,1または２を示す〕で
表わされるフェニル基を示す。Ｒは低級アルキル基、低
級アルコキシ基または低級ハロアルキル基であり、好ま
しくはC1〜C3の低級アルキル基、メオキシ基、または１
〜５個の弗素原子で置換されているC1〜C2のハロアルキ
ル基であり、更に好ましくはC1〜C2の低級アルキル基、
メトキシ基またはジフルオロメチル基である。Ｗは水酸
基またはハロゲン原子であり、好ましくは水酸基または
臭素原子である。Ｚはハロゲン原子、置換されていても
よい低級アルキルスルホニルオキシ基または置換されて
いてもよいフェニルスルホニルオキシ基であり、好まし
くは、塩素原子、臭素原子、沃素原子、１個またはそれ
以上のハロゲン原子で置換されていてもよいC1〜C4の低
級アルキルスルホニルオキシ基、またはハロゲン原子、
低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルコキシ基で置換されていてもよいフェ
ニルスルホニルオキシ基であり、更に好ましくは、臭素
原子、沃素原子、１〜５個のハロゲン原子で置換されて
いてもよいC1〜C2の低級アルキルスルホニルオキシ基
（特に好ましくは１〜３個の弗素原子または塩素原子で
置換されていてもよいメタンスルホニルオキシ基）、ま
たはハロゲン原子または低級アルキル基で置換されてい
てもよいフェニルスルホニルオキシ基（特に好ましくは
メチル基で置換されていてもよいフェニルスルホニルオ
キシ基）を示す。
一般式（Ｉ）で表わされる本発明化合物は、たとえば
下記反応式に従って合成することができる。
（上記反応式中、Z1はハロゲン原子を示し、他は前記と
同義を示す。） 上記反応は、二重結合への次亜ハロゲン酸の付加反
応、即ち、オレフィン化合物からのハロヒドリン形成反
応によって達成される。本反応は、水或いは水性溶媒
中、次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩類、亜ハロゲン酸ア
ルカリ金属塩類、Ｎ−ハロゲノコハク酸イミド類或いは
塩素、臭素、沃素等を、酸および／または酸化剤の存在
下または非存在下に作用せしめることによって好適に行
われる。反応温度は−30〜100℃、好ましくは−10〜60
℃の範囲であり、反応時間は0.1〜24時間、通常0.5〜６
時間である。
尚、原料化合物（II）はたとえば、以下の反応式によ
り得られる。
（上記反応式中、はハロゲン原子を示し、他は前記と
同義を示す。） （上記反応式中、Ｖはハロゲン原子またはZ21に定義す
るスルホニル基に対応するスルホニルオキシ基を示し、
Z21は置換されていてもよい低級アルキルスルホニル基
または置換されていてもよいフェニルスルホニル基を示
し、Z2は置換されていてもよい低級アルキルスルホニル
オキシ基または置換されていてもよいフェニルスルホニ
ルオキシ基を示す） 上記スルホニル化反応は、無溶媒または溶媒中、塩基
類の存在下または非存在下に行われる。溶媒を用いる場
合、適当な溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルプロリドン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、1,2−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエ
ン、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルム等があげ
られる。塩基類としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、N,N−ジメチル（ジエチル）アニリン、炭酸水素ナ
トリウム（カリウム）、炭酸ナトリウム（カリウム）、
水酸化ナトリウム（カリウム）、水素化ナトリウム等が
あげられる。反応温度は−20〜100℃、好ましくは０〜6
0℃の範囲であり、反応時間は通常１〜24時間である。
尚、原料化合物（Ｖ）はたとえば以下の反応式により
得られる。
本反応は、有機合成化学上、オレフィン類の1,2−ジ
オール類への酸化反応に区分される。該反応については
多くの出版物に記載があるが、たとえばAlan H.Haines
著「Methods for the Oxidation of Organic Compound
s」,pp.73−93（1985）,ACADEMIC PRESSに記載されてい
る。
（上記反応式中、G1は水素原子または低級アルキル基を
示し、G2は置換されていてもよいフェニル基または低級
アルキル基を示し、A,BおよびＲは前記と同義を示
す。） なお、保護体（VIII）は以下の反応式に従って得るこ
とができる。
（上記反応式中、A,B,G1およびG2は前記と同義を示
す。） （上記反応式中、A,BおよびＲは前記と同義を示す。） 尚、エポキシド（VI）は、以下の反応式に従って容易
に得ることができる。
または、 （上記反応式中、A,B,Rおよびは前記と同義を示
す。） 上記エポキシド（VI）とハロゲン化水素類またはスル
ホン酸類との反応は、水、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベ
ンゼン、トルエン、ジクロルメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、N,N−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、酢酸エチル、２−プロパノール、２−メチル
−２−プロパノール等の溶媒中または混合溶媒中、ハロ
ゲン化水素類またはスルホン酸類を、有機または無機の
塩基類の存在下または非存在下に作用せしめることによ
って行われる。反応温度は−120〜150℃、好ましくは−
60〜80℃の範囲であり、反応時間は0.1〜48時間、通常
0.5〜12時間である。
（上記反応式中、W1およびZ3はそれぞれハロゲン原子を
示す。） 本反応は、オレフィン（II）へのハロゲンの付加反応
であり、反応に悪影響を与えない任意の溶媒中、−50〜
150℃、通常は０〜50℃にて行われる。
かくして得られる本発明化合物には光学異性体が存在
し、通常、ラセミ体として得られるが不斉合成等応の既
知の方法で各対掌体を得ることも可能であり、本発明化
合物は、ラセミ体でも各異性体単独でも除草剤として使
用できる。
本発明化合物を除草剤として適用するには原体そのも
のを施用してもよいし、適当な担体あるいは界面活性剤
等を用いて、常法に従って水和剤、粒剤、乳剤、フロア
ブル剤等の形態をとることも可能である。担体及び界面
活性剤としては、例えば、特開昭60−25986号に記載の
ものが使用できる。更に本発明化合物を含む除草剤は、
同一分野に用いる他の農薬、例えば殺虫剤、殺菌剤、除
草剤、生長調節剤または肥料等と混合施用することも可
能である。
本発明除草剤の施用量は、使用される化合物の種類、
対象雑草、処理時期、処理方法または土壌の性質の状況
によって異なるが、通常有効成分として１アール当り0.
25〜40グラム、好ましくは１〜20グラムの範囲が適当で
ある。
〔作 用〕
本発明化合物は修飾官能基の種類や置換位置によって
生理活性に若干の変動が見られるが、いずれも水田での
水稲栽培上、最も有害雑草であるノビエに対して発生前
から生育の進んだ固体に極めて強力な殺草活性を有し、
かつ、水稲に対して著しく薬害が少ない。
また、本発明化合物の殺草スペクトラムは、ノビエに
対して最も高く、さらにタマガヤツリ、ホタルイ、マツ
バイ等のカヤツリグサ科雑草およびキカシグサ、コナギ
等の一年生広葉雑草に対しても有効であり、また強害多
年生雑草であるミズガヤツリにも感受性が高い。
本発明化合物は除草活性成分として、特に低薬量で雑
草の発生前から生育の進んだ各種雑草に有効であり、使
用上好ましい広い処理敵期幅を有しており、また、湛水
土壌処理活性のみならず畑地土壌処理活性をも有してい
る。
また、本発明化合物は生育の進んだ一年生広葉雑草お
よび多年生広葉雑草（ウリカワ等）に対する活性はやや
低いが、これらの雑草に有効な除草剤を混合使用するこ
とによって、殺草スペクトラムの幅を著しく拡大するこ
とが可能であり、かつ、効果をより安定化させることも
できる。
この場合に好適に混合することができる除草剤として
は以下のものがあげられる。
ピラゾール系除草剤:4−（2,4−ジクロロベンゾイル）
−1,3−ジメチルピラゾール−５−イルｐ−トルエンエ
スルホネート、４−（2,4−ジクロロベンゾイル）−1,3
−ジメチル−５−フェナシルオキシピラゾール、４−
（2,4−ジクロロ−３−メチルベンゾイル）−1,3−ジメ
チル−５−（４−メチルフェナシルオキシ）ピラゾー
ル、４−（2,4−ジクロロベンゾイル−１−メチル−５
−フェナシルオキシピラゾール等 スルホニルウレア系除草剤：メチル２−（4,6−ジメト
キシピリミジン−２−イルカルバモイルアミノスルホニ
ルメチル）ベンゾエート、エチル５−（4,6−ジメトキ
シピリミジン−２−イルカルバモイルアミノスルホニ
ル）−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレート等 フェノキシ系除草剤:2,4−ジクロロフェノキシ酢酸およ
びその誘導体、４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸
およびその誘導体、４−（４−クロロ−２−メチルフェ
ノキシ）酪酸およびその誘導体、４−クロロ−２−メチ
ルフェノキシチオ酢酸Ｓ−エチル、２−（２−ナフトキ
シ）プロピオンアニリド、２−（2,4−ジクロロ−３−
メチルフェノキシ）プロピオンアニリド、２−〔４−
（５−トリフルオロメチル−２−ピリジルオキシ）フェ
ノキシ〕プロピオン酸ブチル等 ハロアセトアニリド系除草剤:2−クロロ−２′,6′−ジ
エチル−Ｎ−ブトキシメチルアセトアニリド、２−クロ
ロ−２′,6′−ジエチル−Ｎ−プロポキシエチルアセト
アニリド、Ｎ−クロロアセチル−Ｎ−（2,6−ジエチル
フェニル）アミノ酢酸エチル等 酸アミド系除草剤:3′,4′−ジクロロプロピオンアニリ
ド、２′,3′−ジクロロ−４−エトキシメトキシベンズ
アニリド、２−ブロモ−3,3−ジメチル−Ｎ−（α，α
−ジメチルベンジル）酪酸アミド、２−ベンゾチアゾー
ル−２−イルオキシ−Ｎ−メチルアセトアニリド、
２′,4′−ジフルオロ−２−（３−トリフルオロメチル
フェノキシ）ニコチン酸アニリド等 カーバメイト系除草剤:S−（４−クロロベンジル）−N,
N−ジエチルチオールカーバメイト、Ｓ−エチル−N,N−
ヘキサメチレンチオールカーバメイト、N,N−ヘキサメ
チレン−Ｓ−イソプロピルチオールカーバメイト、Ｓ−
ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（1,2−ジメチルプロピ
ル）チオールカーバメイト、Ｓ−（１−メチル−１−フ
ェネチル）−ピペリジン１−カルボチオエート、Ｏ−
（３−ｔ−ブチルフェニル）−Ｎ−（６−メトキシピリ
ジン−２−イル）−Ｎ−メチルチオカーバメイト等 ウレア系除草剤:1−（α，α−ジメチルベンジル）−３
−（４−メチルフェニル）尿素、３−（ベンジチアゾー
ル−２−イル）−1,3−ジメチル尿素、３−（3,4−ジク
ロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチル尿素、３−
（3,4−ジクロロフェニル）−1,1−ジメチル尿素、３−
〔４−（４−メチルフェネチルオキシ）フェニル〕−１
−メトキシ−１−メチル尿素、１−（２−置換ベンジ
ル）−３−（α，α−ジメチルベンジル）尿素類等 ジフェニルエーテル系除草剤:2,4,6−トリクロロ−４′
−ニトロジフェニルエーテル、2,4−ジクロロ−３−メ
トキシ−４′−ニトロジフェニルエーテル、メチル５−
（2,4−ジクロロフェノキシ）−２−ニトロベンゾエー
ト、３−〔５−（２−クロロ−４−トリフルオロメチル
フェノキシ）−２−ニトロフェノキシ〕テトラヒドロフ
ラン等 トリアジン系除草剤:2−クロロ−４−エチルアミノ−６
−イソプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス
（エチルアミノ）−６−メチルチオ−1,3,5−トリアジ
ン、２−エチルアミノ−４−（1,2−ジメチルプロピル
アミノ）−６−メチルチオ−1,3,5−トリアジン、2,4−
ビス（イソプロピルアミノ）−６−メチルチオ−1,3,5
−トリアジン、４−アミノ−６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルチオ−1,2,4−トリアジン−５（4H）−オン等 ジニトロアニリン系除草剤:2,6−ジニトロ−N,N−ジプ
ロピル−４−トリフルオロメチルアニリン、Ｎ−（１−
エチルプロピル）−3,4−ジメチル−2,6−ジニトロアニ
リン、3,5−ジニトロ−N,N−ジプロピルスルファニルア
ミド系 ニトリル系除草剤:4−ヒドロキシ−3,5−ジヨードベン
ゾニトリル、3,5−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニ
トリル、2,6−ジクロロベンゾニトリル等 含リン除草剤:O−エチル−Ｏ−（５−メチル−２−ニト
ロフェニル）−Ｎ−sec−ブチルホスホロアミデート、
Ｓ−（２−ベンゼンスルホニルアミノエチル）−O,O−
ジイソプロピルホスホロジチオエート、Ｓ−（２−メチ
ルピペリジン−１−イル）カルボニルメチル−O,O−ジ
プロピルホスホロジチオエート、Ｎ−（ホスホノメチ
ル）グリシン、アンモニウム（３−アミノ−３−カルボ
キシ）プロピルメチルホスフィネート、ナトリウム（２
−アミノ−４−メチルホスフィノ）ブチリルアラニルア
ラニネート等 ４級アンモニウム塩系除草剤:1,1′−エチレン−2,2′
−ビピリジリウムジプロミド、1,1′−ジメチル−4,4′
−ビピリジリウムジクロリド等 その他の除草剤:3,6−ジクロロ−２−メトキシ安息香
酸、3,7−ジクロロキノリン−８−カルボン酸、ペンタ
クロロフェノール、２−sec−ブチル−4,6−ジニトロフ
ェノール、２−アミノ−３−クロロ−1,4−ナフトキノ
ン、1,2−ジヒドロピリダジン−3,6−ジオン、３−（２
−メチルフェノキシ）ピリダジン、３−イソプロピル−
1H−2,1,3−ベンゾチアジアジン−４（3H）−オン2,2−
ジオキシド、2,2−ジクロロプロピオン酸、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロピオン酸、メチル６−（４−イソプロ
ピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリン−２
−イル）−３（４）−メチルベンゾエート、２（４−イ
ソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリ
ン−２−イル）ニコチル酸およびその塩、２−（４−イ
ソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリ
ン−２−イル）キノリン−３−カルボン酸、１−メチル
−４−（１−メチルエチル）−２−（２−メチルフェニ
ルメトキシ）−７−オキサビシクロ〔2,2,1〕ペプタ
ン、１−（３−メチルフェニル）−５−フェニル−1H−
1,2,4−トリアゾール−３−カルボキサミド、２−（Ｎ
−エトキシブチルイミドイル）−５−（２−エチルチオ
プロピル）−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１
−オン、２−（3,5−ジクロロフェニル）−２−（2,2,2
−トリクロロエチル）オキシラン、Ｎ−〔４−（４−ク
ロロベンジルオキシ）フェニル〕−3,4,5,6−テトラヒ
ドロフタルイミド、Ｎ−（４−クロロ−２−フルオロ−
５−プロパルギルオキシフェニル）−3,4,5,6−テトラ
ヒドロフタルイミド、３−（2,4−ジクロロ−５−イソ
プロポキシフェニル）−５−ｔ−ブチル−1,3,4−オキ
サジアゾール−２（3H）−オン、４−メトキシ−3,3′
−ジメチルベンゾフェノン、２−エトキシ−2,3−ジヒ
ドロ−3,3−ジメチル−５−ベンゾフラニルメタンスル
ホネート、１−メチル−３−フェニル−５−（３−トリ
フルオロメチルフェニル）ピリジン−４（1H）−オン等 これらを複数混合して使用することも可能である。
〔実施例〕
次に、本発明を参考例および実施例をあげて、更に具
体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、
以下の実施例に限定されるものではない。
参考例１ ４−フルオロ−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−フェ
ニル−２−プロペニル）ベンゼンスルホンアミドの合成 ４−フルオロ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド5.
0gr、α−（ブロモメチル）スチレン5.8gr、臭化テトラ
ｎ−ブチルアンモニウム0.17grおよびトルエン15mlの混
合物に、50％水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、80℃
にて２時間撹拌した。冷後酢酸エチル60mlにて抽出し、
有機層を水洗、芒硝乾燥を経て減圧濃縮した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸
エチル−ｎ−ヘキサン）により精製して表題の化合物6.
8grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3060、1595、1500、1465、13
40、1300、1240、11651 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.60（3H,s.）、
4.05（2H,s.）、5.20（1H,s.）、5.50（1H,s.）、7.15
−7.50（7H,m.）、7.80（2H,dd.） 参考例２ ４−シアノ−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−フェニ
ル−２−プロペニル）ベンゼンスルホンアミドの合成 ４−シアノ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド2.30
gr、α−（ブロモメチル）スチレン2.40grおよびN,N−
ジメチルホルムアミド20mlの混合物中に氷冷下撹拌しつ
つ50％水素化ナトリウム（油性）0.63grを徐々に加えた
後、室温にて６時間撹拌した。溶媒を減圧下に留去した
後、残渣に酢酸エチルを加え水洗し、芒硝乾燥した。溶
媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）により
精製して、表題の化合物1.70grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3100、2925、2220、1460、13
40、1160 NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.65（3H,s.）、4.10
（2H,s）、5.22（1H,s.）、5.50（1H,s.）、7.38（5H,
m.）、7.82（4H,s.） 参考例３ Ｎ−ジフルオロメチル−４−メチル−Ｎ−
（２−フェニルプロペン−３−イル）ベンゼンスルホン
アミドの合成 ４−メチル−Ｎ−（２−フェニルプロペン−３−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド1.24gr、水酸化ナトリウム
1.24gr、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム1.24grおよ
びシクロヘキサン40mlの混合物を撹拌しつつ加熱還流し
これにクロロジフルオロメタンを１時間通した。室温迄
冷却した後、水を加えてこれをエーテルにて抽出した。
有機層を無水硫酸ナトリウムにより乾燥した後、溶媒を
留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：酢酸エチル−ｎ−ヘキサン1:5）により精製して表
題の化合物0.92grを得た。
IRスペクトル（neat）cm-1:1360、1160、1110、1090、1
0151 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.45（3H,s.）、
4.24（2H,s.）、5.36,5.42（each 1H,s.）、7.09（1H,
t.）、7.30,7.70（each 2H,d.）、7.3（5H,s.） 参考例１〜３に準じて合成した化合物を表−１に示
す。
参考例４ 2,5−ジメチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（2,3−エ
ポキシ−２−フェニルプロピル）ベンゼンスルホンアミ
ドの合成 2,5−ジメチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−フェニルプ
ロペン−３−イル）ベンゼンスルホンアミド3.0grをク
ロロホルム30mlに溶解させた後、酢酸ナトリウム３水和
物0.70grおよび40％過酢酸5.3mlを加え、60℃にて３時
間撹拌した。反応混合物を10％亜硫酸水素ナトリウム水
溶液、10％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、芒
硝乾燥を経て減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サン）により精製して表題の化合物2.5grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3040、2975、1330、11651 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.35（3H,s.）、
2.36（3H,s.）、2.72（1H,d.）、2.83（3H,s.）、3.07
（1H,d）、3.34（1H,d.）、4.08（1H,d）、7.0−7.5（7
H,m.）、7.65（1H,m.） 参考例５ Ｎ−メチル−Ｎ−（2,3−エポキシ−２−フ
ェニルプロピル）−ｐ−トルエンスルホンアミドの合成 Ｎ−メチル−Ｎ−（２−フェニルプロペン−３−イ
ル）−ｐ−トルエンスルホンアミド9.8gr、ｍ−クロロ
過安息香酸9.63grおよびクロロホルム280mlの混合物を6
0℃にて３時間撹拌した。冷後、10％亜硫酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムによる乾燥を経て、溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）により精
製して表題の化合物7.7grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3050、2980、1595、1450、13
45、11651 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.44（3H,s.）、
2.74（3H,s.）、2.76（1H,d.）、3.09（1H,d.）、3.15
（1H,d.）、4.01（1H,d.）、7.2−7.7（9H,m.） 参考例６ Ｎ−〔２−（３−クロロフェニル）−2,3−
エポキシプロピル〕−４−シアノ−Ｎ−メチルベンゼン
スルホンアミドの合成 ４−シアノ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド10.0
grおよび1,2−ジメトキシエタン100mlの混合物中に、撹
拌しつつ60％油性水素化ナトリウム3.5grを徐々に加え2
0分間撹拌した後氷冷した。これに２−クロロメチル−
２−（３−クロロフェニル）オキシシラン16.1grを、徐
々に加えた後室温に戻し、次いで７時間加熱還流した。
冷後、不要物を別し、液を減圧濃縮した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸
エチル−ｎ−ヘキサン）により精製して、表題の化合物
11.5grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3095、2240、1345、1160、11
35、10851 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.72（1H,d.）、
2.80（3H,s.）、3.03（1H,d.）、3.14（1H,d.）、4.19
（1H,d.）、7.32（4H,m.）、7.82（4H,s.） 参考例７ Ｎ−〔２−（３−クロロフェニル）−2,3−
エポキシプロピル〕−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホ
ンアミドの合成 Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド0.88gr、２
−（３−クロロフェニル）−1,3−ジクロロ−２−プロ
パノール1.04grおよびN,N−ジメチルホルムアミド5mlの
混合物中に、撹拌しつつ水素化ナトリウム0.19grを徐々
に加え、４時間撹拌した。不溶部を別し、液を減圧
濃縮した後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）により精
製して、表題の化合物0.32grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3060、1335、1165、11601 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.46（3H,s.）、
2.68（1H,d.）、2.75（3H,s.）、3.09（1H,d.）、3.10
（1H,d.）、4.05（1H,d.）、 7.20−7.45（6H,m.）、7.50−7.70（2H,m.） 参考例８ ４−ブロモ−Ｎ−〔２−（３−クロロフェニ
ル）−2,3−エポキシプロピル〕−Ｎ−メチルベンゼン
スルホンアミドの合成 ４−ブロモ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド2.0g
r、２−（３−クロロフェニル）−1,3−ジクロロ−２−
プロパノール1.9gr、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウ
ム0.05grおよびトルエン5mlの混合物中に、40％水酸化
ナトリウム水溶液5mlを加え、80℃にて７時間撹拌し
た。冷後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗し、芒
硝乾燥をへて減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サン）により精製して、表題の化合物1.02grを得た。
IRスペクトル（KBr）cm-1:3070、1340、1165、11551 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.76（3H,s.）、
2.76（1H,d.）、3.06（1H,d.）、3.09（1H,d.）、4.12
（1H,d.）、7.15−7.50（4H,m.）、7.67（4H,s.） 参考例４〜８に準じて合成した化合物を表−２に示
す。
参考例９ ３−〔Ｎ−（４−クロロフェニルスルホニ
ル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２−フェニルプロパン−1,
2−ジオールの合成 ４−クロロ−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−フェニル−２−
プロペニル）ベンゼンスルホンアミド1.60g、ジクロロ
メタン3ml,88％ギ酸3.60gおよび30％過酸化水素0.79gの
混合物を40〜50℃にて３時間撹拌した。反応混合物より
溶媒を留去した残留物にトリエチルアミン2ml、水2ml、
メタノール4mlを加え、室温にて４時間撹拌した。反応
混合物より溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホルム−酢酸エチ
ル10:1）により精製して、表題の化合物1.09gを得た。
mp 122−123゜ IRスペクトル（KBr）cm-1:3500、3425、2930、1580、14
70、1390、1325、1155、10901 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.50（3H,s.）、
2.61（1H,dd）、3.19,3.51（2H,ABq）、3.57（1H,s）、
3.7−4.2（2H,ABqd）、7.3−7.8（9H,m.） 参考例10 ２−（３−クロロフェニル）−３−〔Ｎ−
（４−シアノフェニルスルホニル）−Ｎ−メチルアミ
ノ〕プロパン−1,2−ジオールの合成 Ｎ−〔（３−クロロフェニル）−２−プロペニル〕−
４−シアノ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド5.80
g、および88％ギ酸20mlの混合物を60〜70゜にて６時間
撹拌した。反応混合物より溶媒を留去した残留物にトリ
エチルアミン10ml、水10ml、メタノール30mlを加え、40
゜にて４時間撹拌した。反応混合物より溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；クロロホルム−酢酸エチル5:1）により精製して表
題の化合物4.56gを得た。
▲ｎ25 D▼ 1.5746 IRスペクトル（neat）cm-1:3500、2930、2235、1595、1
5701 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.63（3H,s）、2.
76（1H,br）、3.22,3.57（2H,ABq）、3.65（1H,s）、3.
8−4.1（2H,m）、7.34（3H,br）、7.54（1H,br）、7.90
（4H,s） 参考例11 ３−〔Ｎ−（2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２−フェニルプロパン−
1,2−ジオールの合成 ａ） １−アセトキシ−３−〔Ｎ−（2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２−フェニ
ル−２−プロパノールの調製 参考例１に準じて調製した1,2−エポキシ−２−フェ
ニル−３−〔Ｎ−（2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−Ｎ−メチルアミノ〕プロパン5.30g、無水酢酸ナ
トリウム3.30gおよび酢酸50mlの混合物を100〜110゜に
て２日間撹拌した。反応混合物より溶媒を留去した後、
残留物をベンゼン150mlに溶解し、水、飽和重曹水、飽
和食塩水で順次洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒;n−ヘキサン−酢酸エ
チル5:1）により精製して表題化合物3.60gを得た。
mp 84〜85℃ IRスペクトル（neat）cm-1:3490、2930、1740、1490、1
445、1375、1320、11451 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.03（3H,s）、2.
36（3H,s）、2.53（3H,s）、2.64（3H,s）、3.35,3.82
（2H,ABq）、3.72（1H,s）、4.47（2H,s）、7.2−7.7
（8H,m） ｂ） ３−〔Ｎ−（2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２−フェニルプロパン−1,
2−ジオールの調製 上記の如く調製した１−アセトキシ−３−〔Ｎ−（2,
5−ジメチルフェニルスルホニル）Ｎ−メチルアミノ〕
−２−フェニル−２−プロパノール3.50gr、トリエチル
アミン3ml、水3mlおよびメタノール6mlの混合物を室温
にて４時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベンゼン−酢
酸エチル4:1）により精製して表題の化合物2.80grを得
た。
mp 114〜115℃ IRスペクトル（KBr）cm-1:3400、2915、1485、1445、13
40、1280、12051 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.38（3H,s）、2.
56（6H,s）、2.63（1H,t）、3.41,3.75（2H,ABq）、3.7
1（1H,s）、3.7−4.2（2H,ABqd）、7.3−7.7（8H,m） 参考例12 ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼ
ンスルホニル）−Ｎ−ジフルオロメチル〕−1,2−ジヒ
ドロキシ−２−フェニルプロパンの合成 ａ） ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンス
ルホニル）〕アミノ−２−フェニルプロペンの調製 ３−アミノ−２−フェニルプロペン35g、95％水酸化
ナトリウム11.0g、および水500mlの混合物に氷冷下４−
クロロ−３−メチルベンゼンスルホニルクロライド59g
を加え、１時間撹拌した。析出した結晶を取し、水洗
後乾燥し、79.2gの表題化合物を得た。
mp 73〜74℃1 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.4（3H,s）、4.0
3（2H,s）、5.2（1H,s）、5.36（1H,s）、7.2−7.7（8
H,m） ｂ） ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンス
ルホニル）〕アミノ−1,2−ジヒドロキシ−２−フェニ
ルプロパンの調製 30％過酸化水素水36.3mlおよびギ酸350mlの混合物中
に、３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンスル
ホニル）〕アミノ−２−フェニルプロペン69.0gを加え
て50〜60℃で３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮
し、残渣にトリエチルアミン50ml、水50ml、およびメタ
ノール400mlを加えて60〜70℃で３時間撹拌した。反応
混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；クロロホルム／酢酸エチル5:
1）により精製し、26.7gの表題化合物を得た。
mp 105〜106℃1 H−NMRスペクトル（CDCl3,DMSO−d6−TMS）:2.4（3H,
s）、3.1−3.5（2H,ABqd）、3.73（1H,s）、3.6−3.8
（2H,m）、4.30（1H,s）、6.26（1H,t）、7.2−7.8（8
H,m） ｃ） ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンス
ルホニル）−Ｎ−ジフルオロメチル〕アミノ−1,2−ジ
ヒドロキシ−２−フェニルプロパンの調製 ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンスルホ
ニル）〕アミノ−1,2−ジヒドロキシ−２−フェニルプ
ロパン24.0g,2,4−ジメトキシベンズアルデヒド12.3g、
ｐ−トルエンスルホン酸0.25g、およびトルエン200mlの
混合物を４時間還流し、共沸する水を除いた。反応混合
物を冷却後、トルエン150mlを追加し飽和重曹水、水、
および飽和食塩水で順次洗浄し、次いで無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。このトルエン溶液中にテトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムブロマイド0.5gおよび50％水酸化ナト
リウム水溶液20gを加え、80℃で撹拌しつつクロロジフ
ルオロメタンガスを30分間吹き込んだ。反応混合物を冷
却後、水および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した残
渣に80％酢酸100mlを加えて40℃で３時間撹拌した。反
応混合物にクロロホルム500mlを加え、水、2N水酸化ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、次いで
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ク
ロロホルム／酢酸エチル25:1）により精製し、表題化合
物13.8gを得た。
mp 77〜78℃1 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.15（1H,t）、2.
46（3H,s）、3.53,3.73（2H,ABqd）、3.85（2H,s）、3.
93（1H,s）、6,87（1H,t）、7.3−7.7（8H,m） 参考例９〜12に準じて合成した化合物を表−３に示
す。
尚、参考例１〜12は本発明に係る合成中間体並びに合
成中間体の合成法に関する例示であり、本発明はその要
旨を越えない限り、何らこれら例示に限定されるもので
はない。
実施例１ １−ブロモ−３−〔Ｎ−（４−クロロフェニ
ルスルホニル）−Ｎ−メチルアミノ）〕−２−フェニル
−２−プロパノールの合成 参考例１に準じて調製した４−クロロ−Ｎ−（２−フ
ェニル−２−プロペニル）ベンゼンスルホンアミド0.70
g、Ｎ−ブロモコハク製イミド2.2g、テトラヒドロフラ
ン6ml、および水4mlの混合物を室温にて１時間撹拌し
た。反応混合物に10％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去した後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ベンゼン−酢酸エチル20:1）により精製
して表−４記載の化合物No.4 0.65gを得た。
mp 84〜85℃ IRスペクトル（KBr）cm-1:3530、3100、3070、1585、14
75、1335、1165、1095、9851 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.68（3H,s）、3.
17（1H,s）、3.14,3,68（2H,ABq）、4.03（2H,s）、7.2
−7.7（9H,m） 実施例２ １−ブロモ−３−〔Ｎ−メチル−Ｎ−（４−
メチルフェニルスルホニル）アミノ〕−２−フェニル−
２−プロパノールおよびＮ−（2,3−ジブロモ−２−フ
ェニルプロピル）−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホン
アミドの合成 参考例２に準じて調製したＮ−メチル−４−メチル−
Ｎ−（２−フェニル−２−プロペニル）ベンゼンスルホ
ンアミド0.70g、Ｎ−ブロモコハク酸イミド2.2g、テト
ラヒドロフラン6ml、水4ml、およびジメチルスルホキシ
ド1mlの混合物を室温にて１時間撹拌した。反応混合物
に10％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで
抽出し、水、飽和食塩水で順次洗浄し、次いで無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロ
ロホルム−酢酸エチル30:1）により精製して表−４記載
の化合物No.8 0.52gおよび表−４記載の化合物No.12 0.
40gを得た。
（化合物No.8） ▲ｎ25 D▼ 1.5727 IRスペクトル（neat）cm-1:3500、3030、2930、1595、1
570、1430、1340、1160、10901 H−NMRスペクトル（CTCl3−TMS）δ:2.41（3H,s）、2.
70（3H,s）、3.11,3.64（2H,ABq）、3.32（1H,s）、4.0
0（2H,s）、7.2−7.7（9H,m） （化合物No.12） mp 83〜84℃ IRスペクトル（neat）cm-1:3025、2925、1595、1570、1
475、1430、1340、11601 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.43（6H,s）、3.
62,3.98（2H,ABq）、4.24,4.53（2H,ABq）、7.2−7.7
（9H,m） 実施例３ １−ブロモ−３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−
メチルフェニルスルホニル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２
−フェニル−２−プロパノールの合成 参考例１に準じて調製した４−クロロ−Ｎ−メチル−
３−メチル−Ｎ−（２−フェニル−２−プロペニル）ベ
ンゼンスルホンアミド3.0gr、テトラヒドロフラン12m
l、酢酸3mlおよび水3mlの混合物中に、臭化ナトリウム
1.38gr、水3mlおよび次亜鉛素酸ナトリウム水溶液13.4m
lの混合物を滴加し、室温にて２時間撹拌した。反応混
合物に酢酸エチル100mlを加え、10％チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベン
ゼン−酢酸エチル20:1）により精製して表−４記載の化
合物No.32 1.60grを得た。
mp 100.5〜101.5℃ IRスペクトル（KBr）cm-1:3550、3030、1445、1340、12
10、1160、1100、1045、9801 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.43（3H,s）、2.
70（3H,s）、3.17,3.70（2H,ABq）、3.20（1H,s）、4.0
4（2H,s）、7.3−7.7（8H,m） 実施例４ １−クロロ−３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−
メチルフェニルスルホニル）−Ｎ−メチルアミノ〕−２
−フェニル−２−プロパノールの合成 ４−クロロ−Ｎ−メチル−３−メチル−Ｎ−（２−フ
ェニル−２−プロペニル）ベンゼンスルホンアミド1.0
g、テトラヒドロフラン4ml、酢酸1ml、および水1mlの混
合物に次亜塩素酸ナトリウム水溶液4.5mlを加え、室温
にて10時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えて
10％チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去した後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ベンゼン−酢酸エチル20:1）により精製
して表−４記載の化合物No.31 0.35gを得た。
mp 105〜107℃ IRスペクトル（neat）cm-1:3500、2925、1580、1560、1
490、1465、1380、1335、11551 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.43（3H,s）、2.
68（3H,s）、3.17,363（2H,ABq）、3.27（1H,s）、4.12
（2H,s）、7.3−7.7（8H,m） 実施例５ １−メチルスルホニルオキシ−３−〔Ｎ−メ
チル−Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニル）アミノ〕
−２−フェニル−２−プロパノールの合成 参考例９に準じて調製した３−〔Ｎ−メチル−Ｎ−
（４−メチルフェニルスルホニル）アミノ〕−２−フェ
ニルプロパン−1,2−ジオール0.60g、メタンスルホニル
クロライド0.3gおよびピリジン3mlの混合物を０〜５℃
にて一晩放置した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、1N塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄し、次
いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した
後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒；クロロホルム−酢酸エチル15:1）により精製し
て表−４記載の化合物No.9 0.46gを得た。
mp 98〜99℃ IRスペクトル（KBr）cm-1:3475、3030、2940、1595、15
70、1490、1090、10401 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.43（3H,s）、2.
61（3H,s）、3.03（3H,s）、3.12（1H,d）、3.63（1H,
d）、4.01（1H,s）、4.54（2H,s）、7.2−7.8（9H,m） 実施例６ Ｎ−（2,3−ジブロモ−２−フェニルプロピ
ル）−４−クロロ−３−メチル−Ｎ−メチルベンゼンス
ルホンアミドの合成 ４−クロロ−Ｎ−メチル−３−メチル−Ｎ−（２−フ
ェニル−２−プロペニル）ベンゼンスルホンアミド1.0g
およびクロロホルム5mlの混合物に臭素0.50gを滴下し
た。反応混合物にクロロホルムを加え、水、10％チオ硫
酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、次
いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した
後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒；ベンゼン−酢酸エチル20:1）により精製して表
−４記載の化合物No.36 1.12gを得た。
▲ｎ25 D▼ 1.6046 IRスペクトル（neat）cm-1:3060、2980、2925、1580、1
565、1490、1465、1440、13801 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.37（3H,s）、2.
45（3H,s）、3.65,4.05（2H,ABq）、4.28,4.58（2H,AB
q）、7.3−7.8（8H,m） 実施例７ １−ブロム−３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−
メチルベンゼンスルホニル）−Ｎ−ジフルオロメチル〕
アミノ−２−フェニル−２−プロパノールの合成 ３−〔Ｎ−（４−クロロ−３−メチルベンゼンスルホ
ニル）−Ｎ−ジフルオロメチル〕アミノ−2,3−エポキ
シ−２−フェニルプロペン6.7g、ピリジン臭化水素塩3.
04g、クロロホルム60ml、およびN,N−ジメチルホルムア
ミド6mlの混合物を５時間還流した。反応液を冷却後、
水および飽和食塩水で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒;n−ヘキサン／
酢酸エチル20:1）により精製して表４記載の化合物No.3
3 3.4gを得た。
mp 90〜92℃ IRスペクトル（KBr）cm-1:3520、1145、1350、1205、11
60、1125、11001 H−NMRスペクトル（CDCl3−TMS）δ:2.45（3H,s）、3.
57（1H,s）、3.60,3.78（2H,ABqd）、3.92（2H,s）、6.
89（1H,t）、7.3−7.7（8H,m） 表−４記載のその他の化合物も、実施例No.欄に記載
した方法によって合成し、いずれの場合もその構造をIR
スペクトルおよび1H−NMRスペクトルによって確認し
た。
次に本発明化合物の製剤例を示す。なお、以下に
「部」、「％」とあるのは、それぞれ「重量部」、「重
量％」を意味する。
製剤例1:水和剤 表−４の本発明化合物No.8 40部、カーブレックス＃8
0（塩野義製薬社、商標名）20部、N,Nカオリンクレー
（土屋カオリン社、商標名）35部、高級アルコール硫酸
エステル系界面活性剤ソルボール8070（東邦化学社、商
標名）５部を配合し、均一に混合粉砕して、有効成分40
％を含有する水和剤を得た。
製剤例2:粒剤 表−４の本発明化合物No.24 4部、クレー（日本タル
ク社製）42部、ベントナイト（豊順洋行社製）52部、サ
クシネート系界面活性剤エヤロールCT−１（東邦化学
社、商標名）２部を配合し、混合粉砕したのち水を20部
加えて捏和した。更に、これを押し出し造粒機を用いて
直径0.6mmの穴から押し出し、60℃で２時間乾燥した
後、１〜2mmの長さに切断して、有効成分４％を含有す
る粒剤を得た。
製剤例4:乳剤 表−４の本発明化合物No.8 30部をキシレン30部およ
びジメチルホルムアミド25部からなる混合溶媒に溶解さ
せ、これにポリオキシエチレン系界面活性剤ソルボール
3005X（東邦化学社、商標名）15部を加えて、有効成分3
0％を含有する乳剤を得た。
製剤例4:フロアブル剤 表−４の本発明化合物No.1 30部を、あらかじめ混合
しておいたエチレングリコール８部、ソルボールAC3032
（東邦化学社、商標名）５部、キサンタガム0.1部、水5
6.9部に良く混合分散させた。次にこのスラリー状混合
物をダイノーミル（シンマルエンタープライゼス社）で
湿式粉砕して、有効成分30％を含有する安定なフロアブ
ル剤を得た。
試験例１ 湛水土壌処理試験 5000分の１アールの樹脂製ポットに水田沖積埴壌土を
充填し、施肥後適量の水を加えて代掻きを行ない、ノビ
エ、キカシグサ、ホタルイの各雑草種子を播種した。こ
の種子を土壌表層1cm内に良く混合し、さらに2.1葉期の
水稲苗（品種：アキニシキ、草丈:13.5cm、苗質：良）
をポット当り２本２株を挿入深度約1cmの浅植えを行っ
た。その後、3.5cmの水深を保ち、この土壌表面にミズ
ガヤツリの塊茎をポット当り３個体置床した。
次に移植後翌日と７日目に製剤例２により得られた本
発明化合物の化合物No.1の粒剤および製剤例２と同様に
して得た化合物No.2から43を有効成分とする粒剤および
比較剤として製剤例２と同様にして得た４−ｎ−プロピ
ル−Ｎ−（2,3−エポキシ−２−フェニルプロピル）−
Ｎ−α−メチルベンジルベンゼンスルホンアミド（以
下、比較剤Ａと略記する。）およびＮ−（2,3−エポキ
シプロピレン−Ｎ−α−メチルベンジルベンゼンスルホ
ンアミド（以下、比較剤Ｂと略記する。）を有効成分と
する粒剤を有効成分量として１アール当り10、5gとなる
様に所定量湛水面に落下処理を行なった。各処理時の雑
草の葉令は以下の通りであった。
移植後翌日処理区；各雑草全て未発生 移植後７日目処理区；ノビエ１〜1.5 キカシグサ、ホタルイ１ ミズガヤツリ３〜5cm 薬剤処理後、２日間3cm/日の漏水を行い、28日目に除
草効果と水稲に対する薬害程度を調査し、その結果を表
−5,6に示した。
なお、除草効果の評価は を求め、下記の基準による除草効果計数で表わした。
また、水稲に対する薬害程度は下記の基準により評価
した。
〔発明の効果〕 本発明のスルホンアミド類は、優れた除草活性を有
し、その価値は高い。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 307/79 Ｃ０７Ｄ 307/79 (72)発明者 池田 修 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 渡辺 久雄 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 竹松 哲夫 栃木県宇都宮市峰町３丁目612番地 (72)発明者 米山 弘一 栃木県宇都宮市陽南４丁目10番５号 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 311/15,311/29,311/48 C07D 303/36,307/79 A01N 41/06 ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表わされるスルホンア
    ミド類。 （上記式中、Ａは 〔式中、Ｘは同一または相異なり、ハロゲン原子、低級
    アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、
    低級アルキルスルホニル基、ニトロ基またはシアノ基を
    示し、ｎは０または１〜３の整数を示すか相隣る２つの
    Ｘは互いに結合して で表わされる基（基中、r1およびr2はそれぞれ独立に水
    素原子または低級アルキル基を示し、l1は０または１を
    示し、l2は２〜４の整数を示し、かつl1およびl2の和は
    ３または４である。）〕で表されるフェニル基を示し、
    Ｂは 〔式中、Ｙは同一または相異なり、ハロゲン原子、低級
    アルキル基、低級ハロアルキル基または低級アルコキシ
    基であり、ｍは０、１または２を示す〕で表わされるフ
    ェニル基を示し、Ｒは低級アルキル基、低級アルコキシ
    基または低級ハロアルキル基を示し、Ｗは水酸基または
    ハロゲン原子を示し、Ｚはハロゲン原子、１個またはそ
    れ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アル
    キルスルホニルオキシ基、またはハロゲン原子、低級ア
    ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低
    級ハロアルコキシ基で置換されていてもよいフェニルス
    ルホニルオキシ基を示す）
  2. 【請求項２】請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表わされ
    るスルホンアミド類を有効成分とする除草剤。
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