JP2005112840A

JP2005112840A - 新規ピラゾールスルホニルウレア化合物および除草剤

Info

Publication number: JP2005112840A
Application number: JP2003424288A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Kita; 浩北; Yoshitake Tamada; 佳丈玉田; Tetsuhiko Yano; 哲彦矢野; Manabu Saeki; 学佐伯
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2003-09-16
Filing date: 2003-12-22
Publication date: 2005-04-28

Abstract

【課題】新規除草剤の提供
【解決手段】式（１）
【化１】

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-3アルキル基等を表し、Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-3アルキル基等を表し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-3アルキル基等を表し、ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ_1-3アルキル基等を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物または農薬として許容されるその塩、該化合物および塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬、除草剤、ならびに該有効成分を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、ピラゾールスルホニルウレア化合物およびそれらを有効成分とする農薬、特に除草剤およびこれを用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法に関するものである。

ピラゾール環上にヘテロ環が結合したピラゾールスルホニルウレア類が除草活性を有することは、いくつかの特許文献に開示されている（特許文献１ないし１６）。しかしながら、上記明細書にはピラゾール環上にイソオキサゾリン環が結合したピラゾールスルホニルウレア類に関する具体的な開示はない。

また、近年になって、従来のスルホニルウレア系除草剤で防除が困難なスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の出現が問題となっており、そのため、高い除草効果を有して、なおかつ抵抗性雑草も効果的に防除しうる除草剤の開発が望まれている。
特開昭６１−９３１８０号公報特開昭６１−１１２０７２号公報特開昭６２−３３１７３号公報特開昭６２−１９５３７６号公報特開昭６３−１８５９０６号公報特開平３−４１０７８号公報特開昭６２−１２０３８５号公報特開昭６２−１５５２７３号公報特開昭６２−１７８５８９号公報特開昭６３−２９９０号公報特開昭６３−１４６８７８号公報特開昭６３−２７４８９号公報特開平６−９３１４号公報特開平７−１１８２６９号公報欧州公開特許ＥＰ１７８１０１号公報欧州公開特許ＥＰ１８７４７０号公報号公報

ピラゾールスルホニルウレア化合物を有効成分とし、優れた効力を有する農薬、特に除草剤およびこれを用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法を提供すること。

本願発明者は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、新規なピラゾールスルホニルウレア化合物が除草活性および作物への選択性を有することを見いだし、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、式（１）：

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3アルキルチオ基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3アルキルチオＣ_1-3アルキル基、ホルミル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニルオキシ基、ジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはフェニル基を表し、
但し、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、およびＲ⁵とＲ⁶は結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成してもよく、
ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物（以下、「本発明化合物」という）または農薬として許容されるその塩、本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬、本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤、並びに本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法である。

また、本発明化合物および農薬として許容されるその塩は、ある種の除草剤との混合剤の形態で使用することにより、その除草剤との相乗的除草効果を奏する。

本発明のピラゾールスルホニルウレア化合物は、単に高い除草効果を有するばかりでなく、スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対しても高い除草効果を有する。

本発明化合物および本発明化合物の製造中間体の置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ＹおよびＺを具体的に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。但し、記号はそれぞれ以下の意味を示す。

Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ−ｎ：ノルマルプロピル基、Ｐｒ−ｉｓｏ：イソプロピル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｐｙ：ピリジル基
〔置換基Ｒ¹の具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨＭｅＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨＭｅＯＭｅ、Ｐｈ，２−Ｐｙ
〔置換基Ｒ²の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ
〔置換基Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨＣｌ₂、ＣＣｌ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＳＭｅ、ＳＥｔ、ＳＰｒ−ｎ、ＳＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨＭｅＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨＭｅＯＭｅ、ＣＨ₂ＳＭｅ、ＣＨ₂ＳＥｔ、ＣＨ₂ＳＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＳＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＥｔ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＭｅ、ＣＨＭｅＣＨ₂ＳＭｅ、ＣＨ₂ＣＨＭｅＳＭｅ、ＨＣ（Ｏ）、ＭｅＣ（Ｏ）、ＥｔＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｎ）Ｃ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｉｓｏ）Ｃ（Ｏ）、ＭｅＯＣ（Ｏ）、ＥｔＯＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｎ）ＯＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｉｓｏ）ＯＣ（Ｏ）、ＭｅＣ（Ｏ）Ｏ、ＥｔＣ（Ｏ）Ｏ、（Ｐｒ−ｎ）Ｃ（Ｏ）Ｏ、（Ｐｒ−ｉｓｏ）Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｍｅ₂Ｎ、Ｅｔ₂Ｎ、（Ｐｒ−ｎ）₂Ｎ、ＣＮ、ＮＯ₂、Ｐｈ

〔置換基Ｒ³とＲ⁴、置換基Ｒ⁴とＲ⁵および置換基Ｒ⁵とＲ⁶が結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成する場合の具体例〕

〔置換基ＸおよびＹの具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨＣｌ₂、ＣＣｌ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＦ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、ＯＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨＦ₂、ＯＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＯＣＨ₂ＣＦ₃、ＯＣＦ₂ＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｍｅ₂Ｎ、Ｅｔ₂Ｎ、（Ｐｒ−ｎ）₂Ｎ
〔置換基Ｚの具体例〕
Ｎ、ＣＨ
本発明化合物（１）には光学異性体が存在する場合もあり、その光学異性体はすべて本発明化合物に含まれる。

本発明化合物（１）は下記の反応式１ないし３に示す方法により製造できる。

〔反応式１〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表し、Ｒ⁷はＣ_1-3アルキル基またはフェニル基を表す。〕
反応式１はピラゾールスルホンアミド（２）を塩基存在下または非存在下、カーバメート（３）と反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（３）は（２）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（２）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１２０℃である。

反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。

〔反応式２〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表し、Ｒ⁸はＣ_1-3アルキル基またはフェニル基を表す。〕
反応式２はピラゾールスルホニルカーバメート（４）を塩基存在下または非存在下、式（５）で表されるピリミジンまたはトリアジンと反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（５）は（４）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（４）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

〔反応式３〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。〕
反応式３はピラゾールスルホニルイソシアナート（６）を塩基存在下または非存在下、式（５）で表されるピリミジンまたはトリアジンと反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（５）は（６）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（３）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

反応式１で示す方法で用いられるピラゾールスルホンアミド（２）は反応式４ないし６に示す方法で製造できる。

また、反応式２ないし３で示す方法で用いられるピラゾールスホニルカーバメート（４）およびピラゾールスルホニルイソシアナート（６）はピラゾールスルホンアミド（２）を原料として、特開昭５９−２１９２８１号公報および特開昭５５−１３２６６号公報に記載されている方法を参考にして合成できる。

〔反応式４〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記と同様の意味を表す。〕
反応式４は、ホルミルピラゾール（７）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（８）に変換し（Ａ工程）、（８）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（９）とし（Ｂ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（９）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（１０）とし（Ｃ工程）、（１０）を水硫化ナトリウムと反応させてメルカプトピラゾール（１１）とし（Ｄ工程）、（１１）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させてピラゾールスルホニルクロリド（１２）とし（Ｅ工程）、（１２）をアンモニア水または炭酸アンモニウムと反応させる（Ｆ工程）、ピラゾールスルホンアミド（２）の製造法を示す。

〔反応式５〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記と同様の意味を表す。〕
反応式５は、ホルミルピラゾール（７）を水素化ナトリウム等の塩基存在下、ベンジルメルカプタンと反応させてスルフィド（１４）に変換した後（Ｇ工程）、（１４）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（１５）に変換し（Ｈ工程）、（１５）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（１６）とし（Ｉ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（１６）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（１７）とし（Ｊ工程）、（１７）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させる（Ｋ工程）、ピラゾールスルホニルクロリド（１２）の製造法を示す。（１２）は反応式４のＦ工程によりピラゾールスルホンアミド（２）に誘導できる。

〔反応式６〕

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記と同様の意味を表す。〕
反応式６は、ホルミルピラゾール（１８）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（１９）に変換し（Ｌ工程）、（１９）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（２０）とし（Ｍ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（２０）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（２１）とし（Ｎ工程）、（２１）のピラゾール環上５位をｎ−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミド等によりリチオ化後、二酸化硫黄と反応させてピラゾールスルフィン酸リチウム（２２）とし（Ｏ工程）、（２２）をＮ−クロロコハク酸イミドと反応させる（Ｐ工程）、ピラゾールスルホニルクロリド（１２）の製造法を示す。（１２）は反応式４のＦ工程によりピラゾールスルホンアミド（２）に誘導できる。

以上の反応によって得られる目的物は、反応終了後、濾取、抽出、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶および蒸留等の操作により、単離および精製することができる。

以下に本発明化合物の合成例を実施例および参考例として具体的に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔実施例１〕
Ｎ−（（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル）−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミド（本発明化合物Ｎｏ．１）の合成

アセトニトリル（１ｍｌ）に１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミド（０．０７０ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）とＮ−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルバミン酸フェニル（０．０７１ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を溶解し、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（０．０７８ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１時間撹拌後、水（５ｍｌ）を加え、さらに１２％塩酸を加えてｐＨ１に調整し、析出した固体を濾取した。得られた固体を水および石油エーテルで順次洗浄後、乾燥して目的物（０．０７０ｇ）を得た。融点１６０−１６２℃。
〔参考例１〕
１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成
（１）５−ベンジルチオ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾールの合成

Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に５−クロロ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（４．０ｇ、２５ｍｍｏｌ）とベンジルメルカプタン（３．１ｇ、２５ｍｍｏｌ）を溶解し、５℃にて５５％水素化ナトリウム（１．２ｇ、２８ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて２時間撹拌後、反応混合物を水（５００ｍｌ）にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／２）で精製して、目的物（３．８ｇ）を得た。油状物質。
（２）５−ベンジルチオ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾールの合成

メタノール（１００ｍｌ）に５−ベンジルチオ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（３．８ｇ、１５ｍｍｏｌ）を溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（２．０ｇ、２９ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（２．３ｇ、２８ｍｍｏｌ）を加え室温で１８時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、クロロホルム（１００ｍｌ）を加え、室温にて０．５時間撹拌し、不溶物を濾別した。溶媒溜去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄、乾燥して目的物（４．０ｇ）を得た。無色固体。
（３）５−ベンジルチオ−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾールの合成

１，２−ジメトキシエタン（３０ｍｌ）に５−ベンジルチオ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾール（２．１ｇ、８．０ｍｍｏｌ）を溶解し、室温で次亜塩素酸ｔ−ブチル（０．９４ｇ、８．７ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間撹拌した。次に、イソブテン（１．３ｇ、２３ｍｍｏｌ）および炭酸水素ナトリウム（４．６ｇ、２３ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で１８時間撹拌した。不溶物を濾別後、溶媒溜去し、得られた残渣をシカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／３）で精製して、目的物（０．６４ｇ）を得た。油状物質。
（４）１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成

クロロホルム（１０ｍｌ）に５−ベンジルチオ−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（０．６４ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を溶解し、水（１０ｍｌ）と３５％塩酸１．１ｇ（１１ｍｍｏｌ）を加え、激しく撹拌しながら８％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（５．７ｇ、６．１ｍｍｏｌ）を５℃にて加えた。５℃にて、１時間撹拌後、クロロホルム層を分離し、水層をクロロホルムで抽出した。先に分離したクロロホルム層を合わせて、亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄した。得られたクロロホルム溶液を、２８％アンモニア水（０．６２ｇ、１０ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、５℃にて滴下し、室温で１時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、残渣に水（１５ｍｌ）と３５％塩酸を加えてｐＨ１に調整後、酢酸エチルにて抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイー（展開液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製して、目的物（０．０７ｇ）を得た。融点１１３−１１６℃。
〔参考例２〕
４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成
（１）５−クロロ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾールの合成

エタノール（２００ｍｌ）に５−クロロ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（１０．０ｇ、６３．１ｍｍｏｌ）を溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（４．６ｇ、６５ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（５．４ｇ、６６ｍｍｏｌ）を各々、水（２０ｍｌ）に溶解して加え、室温で１時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、水（１００ｍｌ）を加え、析出した固体を濾取した。得られた固体を水およびｎ−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物（９．２ｇ）を得た。融点１５３−１５６℃。
（２）５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４−ヒドロキサム酸クロリドの合成

クロロホルム（４０ｍｌ）に５−クロロ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾール（２．５ｇ、１４ｍｍｏｌ）を溶解し、室温で次亜塩素酸ｔ−ブチル（１．７ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。溶媒溜去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物（２．５ｇ）を得た。融点１５７−１５８℃。
（３）５−クロロ−４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾールの合成

５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４−ヒドロキサム酸クロリド（２．４ｇ、１２ｍｍｏｌ）の１，２−ジメトキシエタン（５０ｍｌ）溶液に、炭酸水素ナトリウム（６．９ｇ、８２ｍｍｏｌ）を加え、室温で激しく撹拌しながら、エチレン（２．１ｇ、７５ｍｍｏｌ）を５時間かけて導入した。不溶物を濾別後、溶媒溜去し、目的物（２．３ｇ）を得た。融点９７−１０３℃。
（４）４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−５−メルカプト−１，３−ジメチルピラゾールの合成

５−クロロ−４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール（２．２ｇ、１１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液に、７０％水硫化ナトリウム（２．６ｇ、３３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて６時間撹拌した。室温まで冷却後、水（１００ｍｌ）を加え、ジエチルエーテルで抽出した。次いで、水層に５％塩酸を加えてｐＨ５に調整後、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル）で精製して目的物（０．６６ｇ）を得た。油状物質。
（５）４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成

４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−５−メルカプト−１，３−ジメチルピラゾール（０．６６ｇ、３．３ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１５ｍｌ）溶液に、水（１５ｍｌ）と３５％塩酸（１．７ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、激しく撹拌しながら８％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（９．３ｇ、１０ｍｍｏｌ）を５℃にて、０．２５時間かけて滴下した。５℃にて、０．５時間撹拌後、クロロホルム層を分離し、さらに水層をクロロホルムで抽出した。先に分離したクロロホルム層と合わせて、亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解し、５℃で撹拌しながら、２８％アンモニア水（１．０ｇ、１７ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で０．５時間撹拌後、減圧下、溶媒溜去した。得られた残渣に水（３０ｍｌ）を加え、濾取、水洗、乾燥して目的物（０．４ｇ）を得た。融点１６８−１７１℃。

前記実施例および参考例と同様の方法を用いることにより合成された化合物の構造式と物性値を、前記実施例および参考例に記載された化合物とともに第１表、第２表および第３表に示す。但し、記号はそれぞれ以下の意味を示す。
ｓ：シングレット、ｄ：ダブレット、ｔ：トリプレット、ｑ：カルテット、ｍ：マルチプレット、ｂｒｓ：ブロードシングレット、Ｊ：カップリング定数。

〔第１表〕

―――――――――――――――――――――――――
Ｎｏ．Ｑ物性値（融点、℃）
―――――――――――――――――――――――――
１Ｑ１１６０−１６２
２Ｑ２樹脂状物質
３Ｑ３１４７−１５０
４Ｑ４１８６−１８９
５Ｑ５樹脂状物質
６Ｑ６１１３−１１５
７Ｑ７１５３−１５９
８Ｑ８１０３−１０５
９Ｑ９１４９−１５２
１０Ｑ１０１６６−１６８
１１Ｑ１１１３１−１３４
１２Ｑ１２１３５−１３７
１３Ｑ１３１５２−１５６
―――――――――――――――――――――――――
本発明化合物Ｎｏ．７はジアステレオマーの混合物である。

〔第２表〕

――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．Ｑ物性値（融点、℃）
――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体１Ｑ１１１３−１１６
製造中間体２Ｑ２樹脂状物質
製造中間体３Ｑ３樹脂状物質
製造中間体４Ｑ４樹脂状物質
製造中間体５Ｑ５樹脂状物質
製造中間体６Ｑ６樹脂状物質
製造中間体７Ｑ７樹脂状物質
製造中間体８Ｑ８樹脂状物質
製造中間体９Ｑ９樹脂状物質
製造中間体１０Ｑ１０１３１−１３６
製造中間体１１Ｑ１１１６８−１７１
製造中間体１２Ｑ１２樹脂状物質
製造中間体１３Ｑ１３樹脂状物質
――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．７はジアステレオマーの混合物である。

〔第３表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．
プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値（ＣＤＣｌ_３中）：δ（ｐｐｍ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体１
１．４８（ｓ，６Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），
３．０７（ｓ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．１６（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体３
１．１６−２．１５（ｍ，８Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ），
３．３６−３．４６（ｍ，１Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），
４．５０−４．６０（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体４
１．５０−１．８０（ｍ，５Ｈ），
２．１０−２．２０（ｍ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），
４．０７（ｓ，３Ｈ），４．０７−４．１８（ｍ，１Ｈ），５．１４−５．２１（ｍ，１Ｈ），６．１２（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体５
１．９１（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），
２．９８（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．６５（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
５．９２（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体６
１．０１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．６２−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ），
２．９２−３．００（ｍ，１Ｈ），
３．３５−３．４４（ｍ，１Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
４．６３−４．７３（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体７（ジアステレオマーＡ）
１．００（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．３５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），
３．５３−３．６２（ｍ，１Ｈ），４．０８（ｓ，３Ｈ），
４．７１−４．８０（ｍ，１Ｈ），６．１７（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体７（ジアステレオマーＢ）
１．１５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．４２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），
３．２３−３．３２（ｍ，１Ｈ），４．０７（ｓ，３Ｈ），
４．３７−４．４５（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体８
２．３２（ｓ，３Ｈ），３．２６−３．３６（ｍ，１Ｈ），
３．４５−３．５５（ｍ，１Ｈ），
３．６０−３．７４（ｍ，２Ｈ），４．０８（ｓ，３Ｈ），
４．９４−５．０３（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体９
１．５８（ｓ，３Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），
３．１０（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．４５（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５５−３．６８（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），
６．３４（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１０
１．６０−１．７０（ｍ，１Ｈ），
１．８２−１．９４（ｍ，１Ｈ），
２．２０−２．３０（ｍ，２Ｈ），
２．３５（ｓ，３Ｈ），２．５０−２．６０（ｍ，２Ｈ），
３．４０（ｓ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．１６（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１１
２．３４（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｔ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），
４．１３（ｓ，３Ｈ），４．４９（ｔ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），
６．１４（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１２
１．４２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），
２．８８−２．９６（ｍ，１Ｈ），３．３９−３．４８（ｍ，１Ｈ）４．０８（ｓ，３Ｈ），４．８３−４．９２（ｍ，１Ｈ）,
６．２０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１３
１．６２（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），
３．０６（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５１（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５７−３．７０（ｍ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．０１（ｂｒｓ，２Ｈ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
次に、本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成した化合物を含め第４表および第５表に示すが、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。但し、表中の記号は前記と同様の意味を表す。

〔第４表〕

―――――――――――――――――――――――――
Ｒ¹ Ｒ²
―――――――――――――――――――――――――
ＭｅＨ
ＭｅＭｅ
ＭｅＥｔ
ＭｅＰｒ−ｎ
ＭｅＰｒ−ｉｓｏ
ＭｅＣＨ₂Ｆ
ＭｅＣＨＦ₂
ＭｅＣＦ₃
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ
ＭｅＣＨ₂ＣＨＦ₂
ＭｅＣＨ₂ＣＦ₃
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ
ＭｅＯＭｅ
ＭｅＯＥｔ
ＭｅＯＰｒ−ｎ
ＭｅＯＰｒ−ｉｓｏ
ＭｅＦ
ＭｅＣｌ
ＭｅＢｒ
ＭｅＩ
ＥｔＨ
ＥｔＭｅ
ＥｔＥｔ
ＥｔＣＨ₂Ｆ
ＥｔＣＨＦ₂
ＥｔＣＦ₃
ＥｔＯＭｅ
ＥｔＦ
ＥｔＣｌ
ＥｔＢｒ
ＥｔＩ
Ｐｒ−ｎＨ
Ｐｒ−ｎＭｅ
Ｐｒ−ｉｓｏＨ
Ｐｒ−ｉｓｏＭｅ
ＣＨ₂ＦＨ
ＣＨ₂ＦＭｅ
ＣＨ₂ＦＣＨ₂Ｆ
ＣＨ₂ＦＣＨＦ₂
ＣＨ₂ＦＣＦ₃
ＣＨ₂ＦＯＭｅ
ＣＨ₂ＦＦ
ＣＨ₂ＦＣｌ
ＣＨ₂ＦＢｒ
ＣＨＦ₂ Ｈ
ＣＨＦ₂ Ｍｅ
ＣＨＦ₂ ＣＨ₂Ｆ
ＣＨＦ₂ ＯＭｅ
ＣＨＦ₂ Ｆ
ＣＨＦ₂ Ｃｌ
ＣＨＦ₂ Ｂｒ
ＣＦ₃ Ｈ
ＣＦ₃ Ｍｅ
ＣＦ₃ ＣＨ₂Ｆ
ＣＦ₃ ＯＭｅ
ＣＦ₃ Ｆ
ＣＦ₃ Ｃｌ
ＣＦ₃ Ｂｒ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＭｅ
ＣＨ₂ＣＨＦ₂ Ｈ
ＣＨ₂ＣＨＦ₂ Ｍｅ
ＣＨ₂ＣＦ₃ Ｈ
ＣＨ₂ＣＦ₃ Ｍｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂ Ｈ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂ Ｍｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃ Ｈ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃ Ｍｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣｌＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣｌＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＢｒＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＢｒＭｅ
ＣＨ₂ＯＭｅＨ
ＣＨ₂ＯＭｅＭｅ
ＣＨ₂ＯＭｅＥｔ
ＣＨ₂ＯＭｅＣＨ₂Ｆ
ＣＨ₂ＯＭｅＣＨＦ₂
ＣＨ₂ＯＭｅＣＦ₃
ＣＨ₂ＯＭｅＯＭｅ
ＣＨ₂ＯＭｅＦ
ＣＨ₂ＯＭｅＣｌ
ＣＨ₂ＯＭｅＢｒ
ＣＨ₂ＯＭｅＩ
ＣＨ₂ＯＥｔＨ
ＣＨ₂ＯＥｔＭｅ
ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎＨ
ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎＭｅ
ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏＨ
ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏＨ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅＭｅ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔＨ
ＣＨＭｅＣＨ₂ＯＭｅＭｅ
ＣＨ₂ＣＨＭｅＯＭｅＨ
ＰｈＨ
ＰｈＭｅ
ＰｈＥｔ
ＰｈＣＨ₂Ｆ
ＰｈＣＨＦ₂
ＰｈＣＦ₃
ＰｈＯＭｅ
ＰｈＦ
ＰｈＣｌ
ＰｈＢｒ
ＰｈＩ
２−ＰｙＨ
２−ＰｙＭｅ
２−ＰｙＥｔ
２−ＰｙＣＨ₂Ｆ
２−ＰｙＣＨＦ₂
２−ＰｙＣＦ₃
２−ＰｙＯＭｅ
２−ＰｙＦ
２−ＰｙＣｌ
２−ＰｙＢｒ
２−ＰｙＩ
―――――――――――――――――――――――――
〔第５表〕

――――――――――――――――――――
ＸＹＺ
――――――――――――――――――――
ＭｅＭｅＯＣＨ
ＭｅＭｅＣＨ
ＭｅＯＭｅＯＮ
ＭｅＭｅＯＮ
ＭｅＭｅＮ
ＣＨＦ₂ＯＣＨＦ₂ＯＣＨ
ＭｅＣＨＦ₂ＯＣＨ
ＣＨＦ₂ＯＣＨＦ₂ＯＮ
ＭｅＣＨＦ₂ＯＮ
ＭｅＥｔＣＨ
ＭｅＯＥｔＣＨ
ＭｅＰｒ−ｎＣＨ
ＭｅＰｒ−ｉｓｏＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＯＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＯＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＣＦ₃ Ｎ
ＭｅＯＣＦ₃ Ｎ
ＭｅＣＨ₂ＣｌＣＨ
ＭｅＣＨＣｌ₂ ＣＨ
ＭｅＣＣｌ₃ ＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＣＦ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＣｌＣＨ
ＭｅＣＨ₂ＣＨ₂ＢｒＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＯＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＯＣＦ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＦＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂ ＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃ ＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣｌＣＨ
ＭｅＯＣＨ₂ＣＨ₂ＢｒＣＨ
ＭｅＦＣＨ
ＭｅＯＦＣＨ
ＭｅＣｌＣＨ
ＭｅＯＣｌＣＨ
ＭｅＯＢｒＣＨ
ＭｅＯＩＣＨ
ＭｅＭｅ₂ＮＣＨ
ＭｅＯＭｅ₂ＮＣＨ
ＭｅＥｔ₂ＮＣＨ
ＭｅＯＥｔ₂ＮＣＨ
ＭｅＭｅ₂ＮＮ
ＭｅＯＭｅ₂ＮＮ
ＭｅＥｔ₂ＮＮ
ＭｅＯＥｔ₂ＮＮ
Ｍｅ（Ｐｒ−ｎ）₂ＮＣＨ
ＭｅＯ（Ｐｒ−ｎ）₂ＮＣＨ
ＭｅＯＥｔＯＣＨ
ＥｔＯＥｔＯＣＨ
ＭｅＯＥｔＯＮ
ＥｔＯＥｔＯＮ
――――――――――――――――――――
本発明化合物の除草剤としての施用薬量は適用場面、施用時期、施用方法、対象雑草および栽培作物等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘクタール（ｈａ）当たり０．００１ないし５０ｋｇ程度、好ましくは０．０１ないし１０ｋｇ程度が適当である。

本発明化合物は水田用の除草剤として、湛水下の土壌処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用できる。水田雑草としては、例えば、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）等に代表されるヒルムシロ科（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎａｃｅａｅ）雑草、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）およびオモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）等に代表されるオモダカ科（Ａｌｉｓｍａｔａｃｅａｅ）雑草、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｏｒｙｚｉｃｏｌａ）等に代表されるイネ科（Ｇｒａｍｉｎｅａｅ）雑草、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、シズイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）およびタマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）等に代表されるカヤツリグサ科（Ｃｙｐｅｒａｃｅａｅ）雑草、ウキクサ（Ｓｐｉｒｏｄｅｌａｐｏｌｙｒｈｉｚａ）およびアオウキクサ（Ｌｅｍｎａｐａｕｃｉｃｏｓｔａｔａ）等に代表されるウキクサ科（Ｌｅｍｎａｃｅａｅ）雑草、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａｋｅｉｓａｋ）等に代表されるツユクサ科（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ミズアオイ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）およびコナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｉｓ）等に代表されるミズアオイ科（Ｐｏｎｔｅｄｅｒｉａｃｅａｅ）雑草、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅｔｒｉａｎｄｒａ）等に代表されるミゾハコベ科（Ｅｌａｔｉｎａｃｅａｅ）雑草、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）およびキカシグサ（Ｒｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）等に代表されるミソハギ科（Ｌｙｔｈｒａｃｅａｅ）雑草、チョウジタデ（Ｌｉｄｗｉｇｉａｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）等に代表されるアカバナ科（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａｃｅａｅ）雑草、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍｊｕｎｃｅｕｍ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｐｙｘｉｄａｒｉａ）およびアメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｄｕｂｉａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、並びにアメリカセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓｆｒｏｎｄｏｓａ）およびタウコギ（Ｂｉｄｅｎｓｔｒｉｐａｒｔｉｔａ）等に代表されるキク科（Ｃｏｍｐｏｓｉｔａｅ）雑草等があげられる。

また、従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、アゼナおよびキカシグサ等を本発明化合物によって防除することができる。

また、本発明化合物は、畑地用の除草剤として、土壌処理、土壌混和処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用でき、水田、畑地および果樹園などの農園芸分野以外に運動場、空地および線路端など非農耕地における各種雑草の防除にも適用することができる。

本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤または共力剤などと混合施用しても良い。

特に、他の除草剤と混合施用することにより、施用薬量の減少による低コスト化、混合薬剤の相乗作用による殺草スペクトラムの拡大や、より高い殺草効果が期待できる。この際、同時に複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。

本発明化合物と混合使用されるのに好ましい除草剤としては、例えば、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ／一般名）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ／一般名）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ／一般名）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ／一般名）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ／一般名）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ／一般名）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ／一般名）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ／一般名）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ／一般名）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ／一般名）、ＣＮＰ（一般名）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ／一般名）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ／一般名）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ／一般名）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ／一般名）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ／一般名）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ／一般名）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ／一般名）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ／一般名）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ／一般名）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ／一般名）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ／一般名）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ／一般名）、ブテナクロール（ｂｕｔｅｎａｃｈｌｏｒ／一般名）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｌ／一般名）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ／一般名）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ／一般名）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ／一般名）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ／一般名）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ／一般名）、ブタミフォス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ／一般名）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ／一般名）、シンメスリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ／一般名）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ／一般名）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、エトベンズアニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ／一般名）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ／一般名）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、キノクラミン（ｑｕｉｎｏｃｌａｍｉｎｅ／一般名）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ／一般名）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ／一般名），ビスピリバック（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ）、ＨＳＡ−９６１（試験名）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ／一般名）、ＯＫ−７０１（試験名）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ／一般名）、ＤＡＳＨ−００１（試験名）、ＡＶＨ−３０１（試験名）ＫＵＨ−０２１（試験名）およびＴＨ−５４７（試験名）等があげられる。

本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては、一般には適当な固体担体または液体担体と混合して、更に所望により界面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤または分解防止剤等を添加し、液剤、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、粉剤または粒剤等任意の剤型にて実用に供することができる。

また、省力化および安全性向上の観点から、上記任意の剤型の製剤を水溶性包装体に封入して供することもできる。

固体担体としては、例えばカオリナイト、パイロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライトおよび珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウムおよび塩化カリウム等の無機塩類、合成珪酸、並びに合成珪酸塩等が挙げられる。

液体担体としては、例えば水、アルコール類（エチレングリコール、プロピレングリコール、イソプロパノール等）、芳香族炭化水素類（キシレン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン等）、エーテル類（ブチルセロソルブ等）、ケトン類（シクロヘキサノン等）、エステル類（γ−ブチロラクトン等）、酸アミド類（Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−オクチルピロリドン等）および植物油（大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等）等が挙げられる。

これら固体および液体担体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤、並びにアルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸または燐酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸または燐酸塩およびアルキルアミン塩等のイオン性界面活性剤が挙げられる。

これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤１００重量部に対し、通常０．０５ないし２０重量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

次に本発明化合物を用いる場合の製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は、これらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。
水和剤
本発明化合物０．１ないし８０部
固体担体５ないし９８．９部
界面活性剤１ないし１０部
その他０ないし５部
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等があげれらる。
乳剤
本発明化合物０．１ないし３０部
液体担体５５ないし９５部
界面活性剤４．９ないし１５部
フロアブル剤
本発明化合物０．１ないし７０部
液体担体１５ないし９８．８９部
界面活性剤１ないし１２部
その他０．０１ないし３０部
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。
ドライフロアブル剤
本発明化合物０．１ないし９０部
固体担体０ないし９８．９部
界面活性剤１ないし２０部
その他０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
液剤
本発明化合物０．０１ないし３０部
液体担体０．１ないし５０部
水５０ないし９９．８９部
その他０ないし１０部
その他として、例えば凍結防止剤等、展着剤等が挙げられる。
粒剤
本発明化合物０．０１ないし１０部
固体担体９０ないし９９．９９部
その他０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。

使用に際しては上記製剤をそのままで、または、水で１ないし１００００倍に希釈して散布する。

製剤例
次に具体的に本発明化合物を有効成分とする農薬製剤例を示すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。

〔配合例１〕水和剤
本発明化合物Ｎｏ．１２０部
パイロフィライト７６部
ソルポール５０３９２部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
カープレックス＃８０２部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

〔配合例２〕乳剤
本発明化合物Ｎｏ．１５部
キシレン７５部
Ｎ−メチルピロリドン１５部
ソルポール２６８０５部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
以上を均一に混合して乳剤とする。

〔配合例３〕フロアブル剤
本発明化合物Ｎｏ．１２５部
アグリゾールＳ−７１０１０部
（非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名）
ルノックス１０００Ｃ０．５部
（アニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）
キサンタンガム０．０２部
水６４．４８部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕してフロアブル剤とする。

〔配合例４〕ドライフロアブル剤
本発明化合物Ｎｏ．１７５部
ハイテノールＮＥ−１５５部
（アニオン性界面活性剤：第一工業製薬（株）商品名）
バニレックスＮ１０部
（アニオン性界面活性剤：日本製紙（株）商品名）
カープレックス＃８０１０部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥してドライフロアブル剤とする。

〔配合例５〕粒剤
本発明化合物Ｎｏ．１１部
ベントナイト５５部
タルク４４部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。

次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試験例において具体的に説明する。

〔試験例１〕湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播した後、２．５葉期のイネ苗を移植した。播種当日、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。カップを２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成し、薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を下記の判定基準に従い調査した。結果を第６表に示す。

判定基準
５ … 殺草率９０％以上（ほとんど完全枯死）
４ … 殺草率７０％以上９０％未満
３ … 殺草率４０％以上７０％未満
２ … 殺草率２０％以上４０％未満
１ … 殺草率５％以上２０％未満
０ … 殺草率５％以下（ほとんど効力なし）
〔試験例２〕湛水条件における雑草生育期処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播し、２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成した。ノビエ、ホタルイおよびコナギが１ないし２葉期に達したとき、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第７表に示す。

〔試験例３〕土壌処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、土壌表面へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第８表に示す。

〔試験例４〕茎葉処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、２５ないし３０℃の温室内において植物を育成した。１４日間育成したのち，配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、茎葉部へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第９表に示す。

〔試験例５〕湛水条件における雑草発生前処理によるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験（１）
１／１００００アールのプラスチック製ポットに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し水深４ｃｍの湛水条件とした。スルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、コナギおよびアゼナを上記のポットに混播した。また別のポットにスルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ、コナギおよびアゼナを混播した。播種当日に水面へ有効成分が所定の薬量になるように、配合例１に準じて調製した本発明化合物の水和剤を水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第１０表に示す。

〔試験例６〕湛水条件における雑草生育期処理によるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験
１／１００００アールのプラスチック製ポットに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し水深４cmの湛水条件とした。スルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ，コナギおよびアゼナを上記のポットに混播し、別のポットにスルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ，コナギおよびアゼナを混播した。２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成し、ホタルイが１．５葉期、コナギが１葉期，アゼナが子葉期に達したときに、水面へ有効成分が所定の薬量になるように、配合例１に準じて調製した本発明化合物の水和剤を水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理４週間後に、各種雑草に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第１１表に示す。

なお、第３ないし５表中の記号は以下の意味を表す。
Ａ：ノビエ、Ｂ：ホタルイ、Ｃ：コナギ、D：メヒシバ、E：エノコログサ、F：カラスムギ、G：ブラックグラス、H：イチビ、I：ブタクサ、J：アオゲイトウ、K：シロザ、L：イヌタデ、M：ハコベ、ａ：移植イネ、ｂ：トウモロコシ、ｃ：ダイズ、ｄ：直播イネ、ｅ：コムギ、ｆ：ビート
また、第６ないし１１表中の記号は以下の意味を表す。
Ａ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、：Ａ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ、Ｂ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のコナギ、Ｂ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のコナギ、Ｃ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のアゼナ、Ｃ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のアゼナ
また、比較化合物１は次式の化合物を表す。

比較化合物１は特開昭５９−１２２４８８号公報に記載されている化合物である。

〔第６表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＢＣａ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１０．６４４５５０
１２．５２４５５０
２０．６４０３３０
３０．６４００１０
４０．６４４４５０
５０．６４０３４０
６０．６４４５５０
７０．６４１４４０
８０．６４４５５０
９０．６４４５５０
１００．６４４５５０
１１０．０４３５５０
１２０．６４４５５０
―――――――――――――――――――――――――
〔第７表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＢＣ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１０．６４４５５
１２．５２５５５
２０．６４００１
３０．６４０１２
４０．６４３４４
５０．６４０１３
６０．６４４５５
７０．６４１５５
８０．６４５５５
９０．６４４５５
１００．６４３４４
１１０．０４４５４
１２０．６４４５５
―――――――――――――――――――――――――
〔第８表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＤＥＦＧＨＩＪＫＬＭｂｃｄｅｆ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１１．６００００３４ − ４３５４０２００５
１６．３５４３０５５ − ５５５５４３４０５
２１．６００００００３３０３００００００
４１．６００００１０５３２３３０１００４
５１．６００００００３２０３００００３
６１．６３３１０４４５５４５５１１０１５
７１．６２１００５３５５４５５０２４２５
８１．６１１１０３０５４５４５００００５
９１．６００００３０５４４４４００００４
１０１．６１０２０４４５４４４４１１００５
１１１．６５５５１５５５５３５５４４５４５
１２１．６５４５１４４５５５５４４４５０５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第８表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＤＥＦＧＨＩＪＫＬＭｂｃｄｅｆ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１１．６４３４０５５５５５５５５５００５
１６．３５５５１５５５５５５５５５２１５
２１．６０００００５４０１３３０４００４
３１．６２００００１３３０００２３００２
４１．６３３３１４４４４２４３４４２０５
５１．６０００００３４４１３２２２００３
６１．６５４３１５５５５５５５５４１２５
７１．６３３２２５５５５５５５５５５４５
８１．６５４４０４５５５４４５５００５
９１．６５３４０４５５５３４２４００５
１０１．６３３３０３５４４５５３４００５
１１１．６５５５４５５５５５５５４５４３５
１２１．６５５５０５５５５５５５５５２０５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第１０表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物Ｎｏ．処理薬量Ａ−ＲＡ−ＳＢ−ＲＢ−ＳＣ−ＲＣ−Ｓ
（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１０．０７５４５４５４４
１０．３５５５５４５
１１．２５５５５５５
１１０．１５５５５５５５
１２０．１５５５５５５５
比較化合物１０．０７５０５０５０５
比較化合物１０．３３５３５３５
比較化合物１１・２４５４５４５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第１１表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物Ｎｏ．処理薬量Ａ−ＲＡ−ＳＢ−ＲＢ−ＳＣ−ＲＣ−Ｓ
（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１０．０７５４５３４３３
１０．３５５５５３４
１１．２５５５５５５
１１０．１５５５５５５
１２０．１５５５５５４５
比較化合物１０．０７５０５ − ５０５
比較化合物１０．３３５３５３５
比較化合物１１．２４５４５４５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

Claims

式（１）：

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3アルキルチオ基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3アルキルチオＣ_1-3アルキル基、ホルミル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニルオキシ基、ジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはフェニル基を表し、
但し、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、およびＲ⁵とＲ⁶は結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成してもよく、
ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物または農薬として許容されるその塩。
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬。
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤。
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法。