JP2007217336A

JP2007217336A - スルホニルウレア化合物および除草剤

Info

Publication number: JP2007217336A
Application number: JP2006039204A
Authority: JP
Inventors: Toshio Niki; 俊夫仁木; Tetsuhiko Yano; 哲彦矢野
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2006-02-16
Filing date: 2006-02-16
Publication date: 2007-08-30

Abstract

【課題】新規除草剤の提供。
【解決手段】下記の式：

で表わされる化合物を含む、ジオキサジン環上に置換基が結合したスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩。
【選択図】なし

Description

本発明は、スルホニルウレア化合物およびそれらを有効成分とする農薬、特に除草剤に関するものである。

分子内にジオキサジン環を有するスルホニルウレア類が除草活性を有することは特許文献１および特許文献２に開示されている。しかしながら、特許文献１にはジオキサジン環上に置換基が結合したスルホニルウレア類に関する具体的な開示はない。また、特許文献２には、ジオキサジン環が結合したピラゾールを有する化合物が開示されている。
特開平７−１１８２６９号公報国際特許出願公開２００５／１０３０４４号パンフレット

スルホニルウレア化合物を有効成分とし、優れた効力を有する農薬、特に除草剤を提供すること。

本願発明者は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、新規なスルホニルウレア化合物が除草活性および作物への選択性を有することを見いだし、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、式（１）：

〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、ジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基またはＣ_1-3アルキルアミノ基を表し、
Ｚは窒素原子またはメチン基を表し、
Ｇは

を表し、
Ｇ−Ｊ−はＧＪ−１からＧＪ−６を表し、ここでＧＪ−１からＧＪ−６は次の意味、

を表し、
Ｅは−ＣＨ₂−、−Ｏ−または−ＮＨ−を表し、
Ｒ¹はＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、ハロゲン原子、−ＮＨＣＨＯまたは−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＣＨ₃を表し、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-3アルキル基またはＣ_1-3ハロアルキル基を表し、但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち、少なくともひとつはＣ_1-3アルキル基またはＣ_1-3ハロアルキル基を表す。〕で表されるスルホニルウレア化合物（以下、「本発明化合物」という）および農薬として許容されるその塩、本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬、並びに本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤に関するものである。

また、本発明化合物および農薬として許容されるその塩は、ある種の除草剤との混合剤の形態で使用することにより、その除草剤との相乗的除草効果を奏する。

本発明のスルホニルウレア化合物は、雑草に対して優れた除草効果を有すると同時に、イネやムギに薬害を示さない優れた水稲用およびムギ用選択性除草活性化合物である。

本発明化合物および本発明化合物の製造中間体の置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ＹおよびＺを具体的に例示する。但し、記号はそれぞれ以下の意味を示す。

Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ−ｎ：ノルマルプロピル基、Ｐｒ−ｉｓｏ：イソプロピル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｐｙ：ピリジル基
〔置換基Ｒ¹の具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＥｔ、ＣＨＭｅＣＨ₂ＯＭｅ、ＣＨ₂ＣＨＭｅＯＭｅ、Ｐｈ，２−Ｐｙ
〔置換基Ｒ²の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ
〔置換基Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨＣｌ₂、ＣＣｌ₃、ＣＨ₂Ｂｒ、ＣＨ₂Ｉ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ
〔置換基ＸおよびＹの具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＯＣＨ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₃、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ₂Ｆ、ＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨＣｌ₂、ＣＣｌ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＦ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、ＯＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨＦ₂、ＯＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＯＣＨ₂ＣＦ₃、ＯＣＦ₂ＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｆ、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨＦ₂、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｂｒ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｍｅ₂Ｎ、Ｅｔ₂Ｎ、（Ｐｒ−ｎ）₂Ｎ、ＭｅＮＨ、ＥｔＮＨ、（Ｐｒ−ｎ）ＮＨ
〔置換基Ｚの具体例〕
Ｎ、ＣＨ
本発明化合物（１）には光学異性体が存在する場合もあり、その光学異性体はすべて本発明化合物に含まれる。

本発明化合物（１）は下記の反応式１ないし３に示す方法により製造できる。

〔反応式１〕

〔式中、Ｇ、Ｊ、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。〕
反応式１は（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）を塩基存在下または非存在下、２−フェノキシカルボニルアミノピリミジン（またはトリアジン）（３）と反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（３）は（２）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（２）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１２０℃である。

反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。

〔反応式２〕

〔式中、Ｇ、Ｊ、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。〕
反応式２は（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルカーバメート（４）を塩基存在下または非存在下、２−アミノピリミジン（またはトリアジン）（５）と反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（５）は（４）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（４）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

〔反応式３〕

〔式中、Ｇ、Ｊ、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。〕
反応式３は（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルイソシアナート（６）を塩基存在下または非存在下、２−アミノピリミジン（またはトリアジン）（５）と反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。

本反応において、（５）は（６）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（３）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

反応式１で示す方法で用いられる（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）は反応式４ないし６に示す方法で製造できる。

また、反応式２ないし３で示す方法で用いられる（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルカーバメート（４）および（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルイソシアナート（６）は（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）を原料として、特開昭５９−２１９２８１号公報および特開昭５５−１３２６６号公報に記載されている方法を参考にして合成できる。

〔反応式４〕

〔式中、ＧおよびＪは前記と同様の意味を表す。〕
反応式４は、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールクロリド（７）を水硫化ナトリウムと反応させて（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルフィド（８）とし（工程Ａ）、（８）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させて（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルクロリド（９）とし（工程Ｂ）、（９）をアンモニア水または炭酸アンモニウムと反応させて（工程Ｃ）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）を製造する方法を示す。

工程Ａの反応において、水硫化ナトリウムは（７）に対して通常１．０ないし１０倍モル、好ましくは２ないし５倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

工程Ｂの反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは（８）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは２ないし１０倍モル使用される。

本反応は、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応温度は通常−９０ないし１００℃、好ましくは−１０ないし５０℃である。

工程Ｃの反応において、アンモニアまたは炭酸アンモニウムは（９）に対して通常１．０ないし１００倍モル、好ましくは２ないし５倍モル使用される。

反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１００℃である。

〔反応式５〕

〔式中、ＧおよびＪは前記と同様の意味を表す。〕
反応式５は、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールベンジルスルフィド（１０）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させ、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルクロリド（９）を製造する方法を示す。

本反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは（１０）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは２ないし１０倍モル使用される。

（９）は反応式４の工程Ｃにより、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）に誘導できる。

〔反応式６〕

〔式中、ＧおよびＪは前記と同様の意味を表す。〕
反応式６は、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリール（１１）のピラゾール環上５位をｎ−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミド等によりリチオ化後、二酸化硫黄と反応させて（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルフィン酸リチウム（１２）とし（工程Ｄ）、（１２）をＮ−クロロコハク酸イミドと反応させて（工程Ｅ）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルクロリド（９）を製造する方法を示す。

工程Ｄの１）の反応において、ｎ−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミドは（１１）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応温度は通常−１２０ないし１００℃、好ましくは−７８ないし１０℃である。

工程Ｄの２）の反応において、二酸化硫黄は（１１）に対して通常１．０ないし１００倍モル、好ましくは１ないし１０倍モル使用される。

工程Ｅの反応において、Ｎ−クロロコハク酸イミドは（１２）に対して通常１．０ないし１００倍モル、好ましくは１ないし１０倍モル使用される。

本反応に使用される溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。
（９）は反応式４の工程Ｃにより、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）に誘導できる。

反応式１ないし６に示す方法で用いられる（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホンアミド（２）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールスルホニルカーバメート（２）（２’）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールクロリド（７）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリールベンジルスルフィド（１０）および（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリール（１１）は反応式７ないし１５に示す方法で製造できる。

〔反応式７〕

〔式中、Ｇ、Ｊ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記と同様の意味を表し、Ｘ¹はハロゲン原子を表し、Ｌはスルホニルカーバメート、塩素原子、ベンジルチオ基または水素原子を表す。〕
反応式７は、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸（１３）を隣接ジハロゲン化アルキル（１４）と反応させて（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリール（２）、（２’）、（７）、（１０）または（１１）を製造する方法を示す。

本反応において、（１４）は（１３）に対して通常１．０ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（１３）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

〔反応式８〕

〔式中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記と同様の意味を表し、Ｊ−Ｌは下記

から選ばれる構造を表し、
Ｘ²はハロゲン原子、Ｃ_1-3アルキルスルホニルオキシ基またはＣ_1-3ハロアルキルスルホニルオキシ基を表す。〕
反応式８は、（ヘテロ）アリールカルボン酸クロリド（１５）をアルコキシアミン（１６）と反応させて（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７）とし（工程Ｆ）、（１７）を塩基と反応させて（工程Ｇ）、（５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−（ヘテロ）アリール（７）、（１０）または（１１）を製造する方法を示す。

工程Ｆの反応において、（１６）は（１５）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは２ないし５倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（１５）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

工程Ｇの反応において使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（１７）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。

〔反応式９〕

〔式中、Ｊ、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ¹およびＬは前記と同様の意味を表し、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立して水素原子またはＣ_1-3アルキル基を表す。〕
反応式９は、（ヘテロ）アリールカルボン酸クロリド（１５）をアリルオキシアミン（１６ａ）と反応させて（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７ａ）とし（工程Ｈ）、（１７ａ）をハロゲンまたはＮ−ハロゲン化コハク酸イミドと反応させて４−（５−ハロアルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ａ）、（２’ａ）、（７ａ）、（１０ａ）または（１１ａ）とし（工程Ｉ）、（２ａ）、（２’ａ）、（７ａ）、（１０ａ）または（１１ａ）を還元して(工程Ｊ）、（５−アルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｂ）、（２’ｂ）、（７ｂ）、（１０ｂ）または（１１ｂ）を製造する方法を示す。

工程Ｈの反応において、（１６ａ）は（１５）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは２ないし５倍モル使用される。

工程Ｉの反応において、ハロゲンまたはＮ−ハロゲノコハク酸イミドは（１７ａ）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチルまたは酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

工程Ｊの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム／液体アンモニア、金属リチウム／液体アンモニアおよび金属ナトリウム／ｔ−ブチルアルコール−テトラヒドロフラン混合溶媒等のアルカリ金属を用いる系、亜鉛／酢酸および亜鉛／水酸化カリウム／水等の金属亜鉛を用いる系、水素化トリフェニルスズ、水素化ジフェニルスズ、水素化トリｎ−ブチルスズ、水素化ジｎ−ブチルスズ、水素化トリエチルスズおよび水素化トリメチルスズ等の有機スズ水素化物を用いる系、前記有機スズ化合物とアゾビスイソブチロニトリル等の遊離基開始剤を組み合わせた系、トリクロロシラン、トリエチルシランおよびトリメチルシラン等のシラン類を用いる系、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物を用いる系、ジボラン、トリメチルアミン−ボランおよびピリジン−ボラン等のボラン誘導体を用いる系、並びに、水素／パラジウム−炭素および水素／ラネーニッケル等の接触還元系があげられる。

還元剤は、（２ａ）、（２’ａ）、（７ａ）、（１０ａ）または（１１ａ）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本還元反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は上記各還元系に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチルまたは酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒があげられる。

反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは−７８ないし１００℃である。

〔反応式１０〕

〔式中、Ｊ、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｘ²およびＬは前記と同様の意味を表す。〕
反応式１０は、（５−ハロアルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｃ）、（２’ｃ）、（７ｃ）、（１０ｃ）または（１１ｃ）を塩基存在下または非存在下、脱ハロゲン化水素化して、各々対応する（５−アルキリデン−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｄ）、（２’ｄ）、（７ｄ）、（１０ｄ）または（１１ｄ）とし（工程Ｋ）、（２ｄ）、（２’ｄ）、（７ｄ）、（１０ｄ）または（１１ｄ）を還元して(工程Ｌ）、各々対応する（５−アルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｅ）、（２’ｅ）、（７ｅ）、（１０ｅ）または（１１ｅ）を製造する方法を示す。

工程Ｋの反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（２ｃ）、（２’ｃ）、（７ｃ）、（１０ｃ）または（１１ｃ）に対して通常０ないし１００倍モル、好ましくは０ないし５倍モル使用される。

工程Ｌの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム／液体アンモニア、金属リチウム／液体アンモニアおよび金属リチウム／エチルアミン等のアルカリ金属を用いる系、アルミニウム−水銀／ジエチルエーテル−水およびアルミニウム−ニッケル／水酸化ナトリウム／水等の金属アルミニウムを用いる系、水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム化合物を用いる系、トリエチルシラン−トリフルオロ酢酸およびポリメチルヒドロシロキサン／パラジウム−炭素等のヒドロシラン類を用いる系、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物を用いる系、ジボラン、トリメチルアミン−ボランおよびピリジン−ボラン等のボラン誘導体を用いる系、抱水ヒドラジン／空気、抱水ヒドラジン／ヘキサシアノ鉄（III）酸カリウムおよびヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸／水酸化ナトリウム等の反応系内に発生させたジイミドを用いる系、水素／パラジウム−炭素および水素／ラネーニッケル等の不均一系接触還元系、並びに、水素／クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（I）、水素／ヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（I）、水素／酢酸ロジウム（II）および水素／酢酸ルテニウム（II）等均一系接触還元系があげられる。

〔反応式１１〕

〔式中、Ｊ、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＬは前記と同様の意味を表す。〕
反応式１１は、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７ａ）または（１７ｂ）を酸（Ｈ＋）と反応させて（５−アルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｂ）、（２’ｂ）、（７ｂ）、（１０ｂ）または（１１ｂ）を製造する方法を示す。

本反応に使用される酸としては塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸またはｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類があげられる。酸は（１７ａ）または（１７ｂ）に対して通常０．０１ないし１００倍モル、好ましくは０．０５ないし１０倍モル使用される。

〔反応式１２〕

〔式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＸ²は前記と同様の意味を表す。〕
反応式１２は、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸（１３）を塩基存在下または非存在下、ハロゲン化アリル（１８）と反応させて、反応式９および反応式１１で用いられる（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７ａ）を製造する方法を示す。

本反応において、（１８）は（１３）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（１３）に対して通常０ないし１００倍モル、好ましくは０ないし５倍モル使用される。

〔反応式１３〕

〔式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＸ²は前記と同様の意味を表す。〕
反応式１３は、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸（１３）を塩基存在下または非存在下、ハロヒドリン（１９）またはオキシラン（２０）と反応させて、反応式１１で用いられる（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７ｂ）を製造する方法を示す。

本反応において、（１９）または（２０）は（１３）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは２ないし５倍モル使用される。

〔反応式１４〕

〔式中、Ｊ、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＬは前記と同様の意味を表す。〕
反応式１４は、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸（１３）を塩基存在下または非存在下、エピハロヒドリン（２１）と反応させて、（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸エステル（１７ｃ）とし（工程Ｌ）、（１７ｃ）を酸または塩基で処理して、（５−ヒドロキシアルキル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｆ）、（２’ｆ）、（７ｆ）、（１０ｆ）または（１１ｆ）とし（工程Ｍ）、次に、（２ｆ）、（２’ｆ）、（７ｆ）、（１０ｆ）または（１１ｆ）をハロゲン化またはアルキルスルホニル化する（工程Ｎ）ことにより、各々対応する、（５−ハロアルキル（またはアルキルスルホニルオキシアルキル）−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）（ヘテロ）アリール（２ｃ）、（２’ｃ）、（７ｃ）、（１０ｃ）または（１１ｃ）を製造する方法を示す。（２ｃ）、（２’ｃ）、（７ｃ）、（１０ｃ）または（１１ｃ）は反応式１０で使用される。

工程Ｌの反応において、（２１）は（１３）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

工程Ｍの反応において使用される酸または塩基としては、塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。酸または塩基は（１７ｃ）に対して通常０ないし１００倍モル、好ましくは０ないし５倍モル使用される。

工程Ｎの反応において、ハロゲン化剤またはアルキルスルホニル化剤は（２ｆ）、（２’ｆ）、（７ｆ）、（１０ｆ）または（１１ｆ）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応に使用されるハロゲン化剤としては、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素等のハロゲン化水素酸、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リンおよび三臭化リン等のハロゲン化リン、ホスホン酸トリフェニル／塩化ベンジルおよびトリフェニルホスフィン／四塩化炭素等の系、塩化メタンスルホニルおよび塩化ｐ−トルエンスルホニル等のハロゲン化スルホニウム、並びに塩化チオニルおよび臭化チオニル等のハロゲン化チオニルがあげられる。

本反応に使用されるアルキルスルホニル化剤としては、塩化メタンスルホニルおよび塩化ｐ−トルエンスルホニル等のハロゲン化スルホニウムがあげられる。

〔反応式１５〕

反応式１５は、（ヘテロ）アリール−カルボン酸クロリド（１５）を塩基存在下または非存在下、ヒドロキシアミンと反応させて、反応式７、反応式１２ないし１４で用いられる（ヘテロ）アリールヒドロキサム酸（１３）を製造する方法を示す。

本反応において、ヒドロキシルアミンは（１５）に対して通常１ないし１００倍モル、好ましくは１ないし５倍モル使用される。

本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンおよび１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（１５）に対して通常０ないし１００倍モル、好ましくは０ないし５倍モル使用される。

以上の反応によって得られる目的物は、反応終了後、濾取、抽出、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶および蒸留等の操作により、単離および精製することができる。

以下に本発明化合物の合成例を実施例および参考例として具体的に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔実施例１〕
Ｎ−（（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル）−２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）ベンジルスルホンアミド（本発明化合物Ｎｏ．１）の合成

アセトニトリル（３ｍｌ）に２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）ベンジルスルホンアミド（０．３４ｇ、１．４ｍｍｏｌ）とＮ−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルバミン酸フェニル（０．３７ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を溶解し、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（０．２１ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。水（１０ｍｌ）を加えた後、１２％塩酸を加えてｐＨ１に調整し、クロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム溶液を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル／アセトニトリル＝１／１／０．５）にて精製後、ジイソプロピルエーテルで洗浄、乾燥して目的物（０．２５ｇ）を得た。融点１２８−１２９℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．４２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），３．７２（ｓ，６Ｈ），３．８０（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２４（ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），４．６７（ｍ，１Ｈ），５．０５（ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，１Ｈ），５．３７（ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｓ，１Ｈ），７．３６−７．６３（ｍ，５Ｈ），１２．１０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
〔実施例２〕
Ｎ−（（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル）−２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（本発明化合物Ｎｏ．２）の合成

原料に２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（０．３９ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１と同様にして目的物（０．４２ｇ）を得た。融点１４４−１４５℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．３８（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），３．６７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｓ，６Ｈ），４．１５（ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．５０（ｍ，１Ｈ），５．７８（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），１２．６３（ｂｒｓ，１Ｈ）。
〔実施例３〕
Ｎ−（（４−メチル−６−メトキシトリアジン−２−イル）アミノカルボニル）−２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（本発明化合物Ｎｏ．３）の合成

トルエン（１０ｍｌ）にＮ−メトキシカルボニル−２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（０．５５ｇ、１．７ｍｍｏｌ）と２−アミノ−４−メチル−６−メトキシピリミジン（０．２４ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を加え、副生してくるメタノールを留去しながら４時間加熱還流した。同温度でトルエンを１５ｍｌ留去した後、ジイソプロピルエーテルで洗浄、乾燥して目的物（０．１６ｇ）を得た。融点１６１−１６３℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．４１（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．０７（ｓ，３Ｈ），４．２６（ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．５８（ｍ，１Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｂｒｓ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），１２．４０（ｂｒｓ，１Ｈ）。
〔参考例１〕
（１）２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−安息香酸メチルエステルの合成

ジクロロメタン（５０ｍｌ）に２−（アミノスルホニルメチル）−安息香酸メチルエステル（３．３ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）と４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（３．５１ｇ，２８．８ｍｍｏｌ）を溶解し、次いで二炭酸ジ−ｔ−ブチル（４．７ｇ，２１．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水１００ｍｌを加えクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を２規定ＨＣｌ水溶液および水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し目的物（４．７５ｇ）を得た。融点７１−７２℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．５２（ｓ，９Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），５．２９（ｓ，２Ｈ），７．３９−８．００（ｍ，４Ｈ）。
（２）２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−カルボヒドロキサム酸の合成

水（６０ｍｌ）に２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−安息香酸メチルエステル（４．７ｇ，１４．３ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン硫酸塩２．３５ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）および水酸化カルシウム（４．２３ｇ，５７．１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応液に２規定塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄乾燥し、目的物（１．４５ｇ）を得た。融点１１７−１１８℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．５３（ｓ，９Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），７．４４−７．５８（ｍ，４Ｈ）。
（３）２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−カルボヒドロキサム酸２−ヒドロキシプロピルエステルの合成

水（１５ml）に２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−カルボヒドロキサム酸（１．４ｇ，４．２４ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（０．５６ｇ，８．４８ｍｍｏｌ）およびプロピレンオキシド（０．４９ｇ，８．４８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応液に２規定塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、目的物（１．５ｇ）を得た。融点６４−６５℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．１３（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．５３（ｓ，９Ｈ），３．４０−４．２０（ｍ，３Ｈ），５．００（ｓ，２Ｈ），７．４２−７．５３（ｍ，４Ｈ）。
（４）２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−ベンジルスルホンアミドの合成

無水テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に２−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニルメチル）−カルボヒドロキサム酸２−ヒドロキシプロピルエステル（１．４ｇ，３．６１ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン（１．０４ｇ，３．９７ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下４０％アゾジカルボン酸ジエチルエステルトルエン溶液（１．７３ｇ，３．９７ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を室温まで昇温し、１８時間撹拌した。反応液に水（１００ml）を加え酢酸エチルで抽出後、得られた酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、目的物（０．７ｇ）を得た。無色油状物。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．４４（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），１．５０（ｓ，９Ｈ），３．７５−３．８３（ｍ，１Ｈ），４．２０−４．２６（ｍ，１Ｈ），４．６０−４．６８（ｍ，１Ｈ），５．０７（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），５．２７（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３５−７．７０（ｍ，４Ｈ）。
（５）２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−ベンジルスルホンアミドの合成

２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−ベンジルスルホンアミドにトリフルオロ酢酸（５ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌した後、トリフルオロ酢酸を留去し、得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、目的物（０．３５ｇ）を得た。無色油状物。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．４５（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），３．７４−３．８０（ｍ，１Ｈ），４．２４−４．２９（ｍ，１Ｈ），４．６２−４．６９（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），７．４２−７．７０（ｍ，４Ｈ）。

〔参考例２〕
（１）３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルエステルの合成

ジクロロメタン（８０ｍｌ）に３−（アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルエステル（３．５ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）と４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（３．８６ｇ，３１．６ｍｍｏｌ）を溶解し、次いで二炭酸ジ−ｔ−ブチル（５．１７ｇ，２３．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水１００ｍｌを加えクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を２規定塩酸および水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し目的物（５．１５ｇ）を得た。融点１２８−１２９℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．３８（ｓ，９Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）。
（２）３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボヒドロキサム酸の合成

水（６０ｍｌ）に３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルエステル（５．１ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン硫酸塩２．２．５９ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）および水酸化カルシウム（４．６８ｇ，６３．２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応液に２規定塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄乾燥し、目的物（５．１ｇ）を得た。
無色油状物。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ（ｐｐｍ）（ＣＤＣｌ₃中）１．４０（ｓ，９Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ）。
（３）３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボヒドロキサム酸２−ヒドロキシプロピルエステルの合成

水（６５ml）に３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボヒドロキサム酸（５．１ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（２．０８ｇ，３１．６ｍｍｏｌ）およびプロピレンオキシド（１．８３ｇ，３１．６ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応液に２規定塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、目的物（５．５ｇ）を得た。固体。
（４）２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３−チオフェンスルホンアミドの合成

無水テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に３−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノスルホニル）−２−チオフェンカルボヒドロキサム酸２−ヒドロキシプロピルエステル（５．５ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン（４．５６ｇ，１７．４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下４０％アゾジカルボン酸ジエチルエステルトルエン溶液（７．５６ｇ，１７．４ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を室温まで昇温し、１８時間撹拌した。反応液に水（１００ml）を加え酢酸エチルで抽出後、得られた酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、目的物（１．４ｇ）を得た。淡黄色油状物。
（５）２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミドの合成

２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３−チオフェンスルホンアミドにトリフルオロ酢酸（１０ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌した後、トリフルオロ酢酸を留去し、得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、目的物（０．８０ｇ）を得た。固体。
（４）２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−Ｎ−（ｔ−メトキシカルボニル）−３−チオフェンスルホンアミドの合成

アセトニトリル（４ｍｌ）に２−（５−メチル−５Ｈ，６Ｈ−１，４，２−ジオキサジン−３−イル）−３−チオフェンスルホンアミド（０．４ｇ，１．５３ｍｍｏｌ）、無水炭酸カリウム（０．２１ｇ，１．５３ｍｍｏｌ）およびクロロギ酸メチル（０．１５ｇ，１．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応液に２規定塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、目的物（０．６ｇ）を得た。無色油状物。

次に、本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成した化合物を含め第１表ないし第５表に示すが、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。但し、表中の記号は前記と同様の意味を表す。

〔第１表〕

―――――――――――――――――――――――――――――――
Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＨＭｅＨＨＨ
ＨＨＨＭｅＨ
ＨＭｅＭｅＨＨ
ＨＭｅＨＭｅＨ
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５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＭｅＭｅＨＨ
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５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＨＨＭｅＭｅ
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５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＭｅＨＭｅＭｅ
５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＭｅＭｅＭｅＭｅ
５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＣＨ₂ＩＨＨＨ
５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＣＨ₂ＩＭｅＨＨ
５−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＭｅＥｔＨＨＨ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第２表〕

―――――――――――――――――――――――――――――――
Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＨＭｅＨＨＨ
ＨＨＨＭｅＨ
ＨＭｅＭｅＨＨ
ＨＭｅＨＭｅＨ
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５−ＣＦ₃ ＭｅＭｅＭｅＨ
５−ＣＦ₃ ＭｅＨＭｅＭｅ
５−ＣＦ₃ ＭｅＭｅＭｅＭｅ
５−ＣＦ₃ ＣＨ₂ＩＨＨＨ
５−ＣＦ₃ ＣＨ₂ＩＭｅＨＨ
５−ＣＦ₃ ＥｔＨＨＨ
―――――――――――――――――――――――――――――――
〔第３表〕

―――――――――――――――――――――――――――――――
Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＨＭｅＨＨＨ
ＨＨＨＭｅＨ
ＨＭｅＭｅＨＨ
ＨＭｅＨＭｅＨ
ＨＨＨＭｅＭｅ
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―――――――――――――――――――――――――――――――
〔第４表〕

―――――――――――――――――――――――――――――――
Ｒ¹ Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＭｅＨＭｅＨＨＨ
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ＭｅＨＭｅＭｅＨＨ
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２−ＰｙＣｌＥｔＨＨＨ
２−ＰｙＢｒＥｔＨＨＨ
２−ＰｙＯＭｅＥｔＨＨＨ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第５表〕

―――――――――――――――――――――――――――――――
Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＨＭｅＨＨＨ
ＨＨＨＭｅＨ
ＨＭｅＭｅＨＨ
ＨＭｅＨＭｅＨ
ＨＨＨＭｅＭｅ
ＨＭｅＭｅＭｅＨ
ＨＭｅＨＭｅＭｅ
ＨＭｅＭｅＭｅＭｅ
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ＨＣＨ₂ＩＭｅＨＨ
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ＣｌＭｅＭｅＨＨ
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ＭｅＣＨ₂ＩＨＨＨ
ＭｅＣＨ₂ＩＭｅＨＨ
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ＣＦ₃ ＭｅＨＨＨ
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ＣＦ₃ ＭｅＨＭｅＭｅ
ＣＦ₃ ＭｅＭｅＭｅＭｅ
ＣＦ₃ ＣＨ₂ＩＨＨＨ
ＣＦ₃ ＣＨ₂ＩＭｅＨＨ
ＣＦ₃ ＥｔＨＨＨ
―――――――――――――――――――――――――――――――
本発明化合物の除草剤としての施用薬量は適用場面、施用時期、施用方法、対象雑草および栽培作物等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘクタール（ｈａ）当たり０．００１ないし５０ｋｇ程度、好ましくは０．０１ないし１０ｋｇ程度が適当である。

本発明化合物は水田用の除草剤として、湛水下の土壌処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用できる。水田雑草としては、例えば、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）等に代表されるヒルムシロ科（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎａｃｅａｅ）雑草、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）およびオモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）等に代表されるオモダカ科（Ａｌｉｓｍａｔａｃｅａｅ）雑草、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｏｒｙｚｉｃｏｌａ）等に代表されるイネ科（Ｇｒａｍｉｎｅａｅ）雑草、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、シズイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）およびタマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）等に代表されるカヤツリグサ科（Ｃｙｐｅｒａｃｅａｅ）雑草、ウキクサ（Ｓｐｉｒｏｄｅｌａｐｏｌｙｒｈｉｚａ）およびアオウキクサ（Ｌｅｍｎａｐａｕｃｉｃｏｓｔａｔａ）等に代表されるウキクサ科（Ｌｅｍｎａｃｅａｅ）雑草、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａｋｅｉｓａｋ）等に代表されるツユクサ科（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ミズアオイ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）およびコナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｉｓ）等に代表されるミズアオイ科（Ｐｏｎｔｅｄｅｒｉａｃｅａｅ）雑草、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅｔｒｉａｎｄｒａ）等に代表されるミゾハコベ科（Ｅｌａｔｉｎａｃｅａｅ）雑草、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）およびキカシグサ（Ｒｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）等に代表されるミソハギ科（Ｌｙｔｈｒａｃｅａｅ）雑草、チョウジタデ（Ｌｉｄｗｉｇｉａｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）等に代表されるアカバナ科（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａｃｅａｅ）雑草、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍｊｕｎｃｅｕｍ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｐｙｘｉｄａｒｉａ）およびアメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｄｕｂｉａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、並びにアメリカセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓｆｒｏｎｄｏｓａ）およびタウコギ（Ｂｉｄｅｎｓｔｒｉｐａｒｔｉｔａ）等に代表されるキク科（Ｃｏｍｐｏｓｉｔａｅ）雑草等があげられる。

また、本発明化合物は、畑地用の除草剤として、土壌処理、土壌混和処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用できる。畑地雑草としては、例えば、イヌホウズキ（Ｓｏｌａｎｕｍｎｉｇｒｕｍ）、チョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）等に代表されるナス科（Ｓｏｌａｎａｃｅａｅ）雑草、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａｓｐｉｎｏｓａ）等に代表されるアオイ科（Ｍａｌｖａｃｅａｅ）雑草、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｐｕｒｐｕｒｅａ）等のアサガオ類（Ｉｐｏｍｏｅａｓｐｐｓ．）、ヒルガオ類（Ｃａｌｙｓｔｅｇｉａｓｐｐｓ．）等に代表されるヒルガオ科（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌａｃｅａｅ）雑草、イヌビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｌｉｖｉｄｕｓ）、アオビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）等に代表されるヒユ科（Ａｍａｒａｎｔｈａｃｅａｅ）雑草、オナモミ（ｘａｎｔｈｉｕｍｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａａｒｔｅｍｉｓｉａｅｆｏｌｉａ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓａｎｎｕｕｓ）、ハキダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａｃｉｌｉａｔａ）、セイヨウトゲアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍａｒｖｅｎｓｅ）、ノボロギク（Ｓｅｎｅｃｉｏｖｕｌｇａｒｉｓ）、ヒメジョン（Ｅｒｉｇｅｒｏｎａｎｎｕｓ）等に代表されるキク科（Ｃｏｍｐｏｓｉｔａｅ）雑草、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａｉｎｄｉｃａ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（ＣａｐｓｅｌｌａＢｕｒｓａｐａｓｔｏｒｉｓ）等に代表されるアブラナ科（Ｃｒｕｃｉｆｅｒａｅ）雑草、イヌタデ（ＰｏｌｙｇｏｎｕｍＢｌｕｍｅｉ）、ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）等に代表されるタデ科（Ｐｏｌｙｇｏｎａｃｅａｅ）雑草、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｏｌｅｒａｃｅａ）等に代表されるスベリヒユ科（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｃｅａｅ）雑草、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍａｌｂｕｍ）、コアカザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍｆｉｃｉｆｏｌｉｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａｓｃｏｐａｒｉａ）等に代表されるアカザ科（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉａｃｅａｅ）雑草、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍｅｄｉａ）等に代表されるナデシコ科（Ｃａｒｙｏｐｈｙｌｌａｃｅａｅ）雑草、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｐｅｒｓｉｃａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｏｍｍｕｎｉｓ）等に代表されるツユクサ科（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）等に代表されるシソ科（Ｌａｂｉａｔａｅ）雑草、コニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｓｕｐｉｎａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｍａｃｕｌａｔａ）等に代表されるトウダイグサ科（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｃｅａｅ）雑草、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍｓｐｕｒｉｕｍ）、アカネ（Ｒｕｂｉａａｋａｎｅ）等に代表されるアカネ科（Ｒｕｂｉａｃｅａｅ）雑草、スミレ（Ｖｉｏｌａｍａｎｄｓｈｕｒｉｃａ）等に代表されるスミレ科（Ｖｉｏｌａｃｅａｅ）雑草、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）等に代表されるマメ科（Ｌｅｇｕｍｉｎｏｓａｅ）雑草等の広葉雑草（Ｂｒｏａｄ−ｌｅａｖｅｄｗｅｅｄｓ）。

野生ソルガム（Ｓｏｒｇｈａｍｂｉｃｏｌｏｒ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、ジョンソングラス（Ｓｏｒｇｈｕｍｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、ヒメイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｐｒａｔｉｃｏｌａ）、栽培ビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｕｔｉｌｉｓ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａｃｉｌｉａｒｉｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａｆａｔｕａ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｆａｂｅｒｉ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓａｅｇｕａｌｉｓ）等に代表されるイネ科雑草（Ｇｒａｍｉｎａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｒｏｔｕｎｄｕｓ，Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）等に代表されるカヤツリグサ科雑草（Ｃｙｐｅｒａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）等が挙げられる。

本発明化合物は水田、畑地および果樹園などの農園芸分野以外に運動場、空地および線路端など非農耕地における各種雑草の防除にも適用することができる。

本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤または共力剤などと混合施用しても良い。

特に、他の除草剤と混合施用することにより、施用薬量の減少による低コスト化、混合薬剤の相乗作用による殺草スペクトラムの拡大や、より高い殺草効果が期待できる。この際、同時に複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。

本発明化合物と混合使用されるのに好ましい除草剤としては、例えば、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ／一般名）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ／一般名）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ／一般名）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ／一般名）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ／一般名）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ／一般名）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ／一般名）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ／一般名）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ／一般名）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ／一般名）、ＣＮＰ（一般名）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ／一般名）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ／一般名）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ／一般名）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ／一般名）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ／一般名）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ／一般名）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ／一般名）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ／一般名）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ／一般名）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ／一般名）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ／一般名）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ／一般名）、ブテナクロール（ｂｕｔｅｎａｃｈｌｏｒ／一般名）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｌ／一般名）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ／一般名）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ／一般名）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ／一般名）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ／一般名）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ／一般名）、ブタミフォス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ／一般名）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ／一般名）、シンメスリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ／一般名）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ／一般名）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、エトベンズアニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ／一般名）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ／一般名）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、キノクラミン（ｑｕｉｎｏｃｌａｍｉｎｅ／一般名）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ／一般名）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ／一般名），ビスピリバック（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ）、ＨＳＡ−９６１（試験名）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ／一般名）、ＯＫ−７０１（試験名）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ／一般名）、ＤＡＳＨ−００１（試験名）、ＡＶＨ−３０１（試験名）、ＫＵＨ−０２１（試験名）およびＴＨ−５４７（試験名）等があげられる。

本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては、一般には適当な固体担体または液体担体と混合して、更に所望により界面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤または分解防止剤等を添加し、液剤、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、粉剤または粒剤等任意の剤型にて実用に供することができる。

また、省力化および安全性向上の観点から、上記任意の剤型の製剤を水溶性包装体に封入して供することもできる。

固体担体としては、例えばカオリナイト、パイロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライトおよび珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウムおよび塩化カリウム等の無機塩類、合成珪酸、並びに合成珪酸塩等が挙げられる。

液体担体としては、例えば水、アルコール類（エチレングリコール、プロピレングリコール、イソプロパノール等）、芳香族炭化水素類（キシレン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン等）、エーテル類（ブチルセロソルブ等）、ケトン類（シクロヘキサノン等）、エステル類（γ−ブチロラクトン等）、酸アミド類（Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−オクチルピロリドン等）および植物油（大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等）等が挙げられる。

これら固体および液体担体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤、並びにアルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸または燐酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸または燐酸塩およびアルキルアミン塩等のイオン性界面活性剤が挙げられる。

これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤１００重量部に対し、通常０．０５ないし２０重量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

次に本発明化合物を用いる場合の製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は、これらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。
水和剤
本発明化合物０．１ないし８０部
固体担体５ないし９８．９部
界面活性剤１ないし１０部
その他０ないし５部
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等があげられる。
乳剤
本発明化合物０．１ないし３０部
液体担体５５ないし９５部
界面活性剤４．９ないし１５部
フロアブル剤
本発明化合物０．１ないし７０部
液体担体１５ないし９８．８９部
界面活性剤１ないし１２部
その他０．０１ないし３０部
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。
ドライフロアブル剤
本発明化合物０．１ないし９０部
固体担体０ないし９８．９部
界面活性剤１ないし２０部
その他０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
液剤
本発明化合物０．０１ないし３０部
液体担体０．１ないし５０部
水５０ないし９９．８９部
その他０ないし１０部
その他として、例えば凍結防止剤等、展着剤等が挙げられる。
粒剤
本発明化合物０．０１ないし１０部
固体担体９０ないし９９．９９部
その他０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。

使用に際しては上記製剤をそのままで、または、水で１ないし１００００倍に希釈して散布する。

製剤例
次に具体的に本発明化合物を有効成分とする農薬製剤例を示すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。

〔配合例１〕水和剤
本発明化合物Ｎｏ．１２０部
パイロフィライト７６部
ソルポール５０３９２部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
カープレックス＃８０２部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

〔配合例２〕乳剤
本発明化合物Ｎｏ．１５部
キシレン７５部
Ｎ−メチルピロリドン１５部
ソルポール２６８０５部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
以上を均一に混合して乳剤とする。

〔配合例３〕フロアブル剤
本発明化合物Ｎｏ．１２５部
アグリゾールＳ−７１０１０部
（非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名）
ルノックス１０００Ｃ０．５部
（アニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）
キサンタンガム０．０２部
水６４．４８部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕してフロアブル剤とする。

〔配合例４〕ドライフロアブル剤
本発明化合物Ｎｏ．１７５部
ハイテノールＮＥ−１５５部
（アニオン性界面活性剤：第一工業製薬（株）商品名）
バニレックスＮ１０部
（アニオン性界面活性剤：日本製紙（株）商品名）
カープレックス＃８０１０部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥してドライフロアブル剤とする。

〔配合例５〕粒剤
本発明化合物Ｎｏ．１１部
ベントナイト５５部
タルク４４部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。

なお、上記のＤＢＳＮはドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを意味する。

次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試験例において具体的に説明する。

〔試験例１〕湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播した後、２．５葉期のイネ苗を移植した。播種当日、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。カップを２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成し、薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を下記の判定基準に従い調査した。結果を第６表に示す。

判定基準
５ … 殺草率９０％以上（ほとんど完全枯死）
４ … 殺草率７０％以上９０％未満
３ … 殺草率４０％以上７０％未満
２ … 殺草率２０％以上４０％未満
１ … 殺草率５％以上２０％未満
０ … 殺草率５％以下（ほとんど効力なし）
〔試験例２〕湛水条件における雑草生育期処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播し、２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成した。ノビエ、ホタルイおよびコナギが１ないし２葉期に達したとき、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第７表に示す。

〔試験例３〕土壌処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、土壌表面へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第８表に示す。

〔試験例４〕茎葉処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、２５ないし３０℃の温室内において植物を育成した。１４日間育成したのち，配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、茎葉部へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第９表に示す。

なお、第６ないし９表中の記号は以下の意味を表す。
Ａ：ノビエ、Ｂ：ホタルイ、Ｃ：コナギ、D：メヒシバ、E：エノコログサ、F：カラスムギ、G：ブラックグラス、H：イチビ、I：ブタクサ、J：アオゲイトウ、K：シロザ、L：イヌタデ、M：ハコベ、ａ：移植イネ、ｂ：トウモロコシ、ｃ：ダイズ、ｄ：直播イネ、ｅ：コムギ、ｆ：ビート
〔第６表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＢＣａ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１０．６４４５５３
２０．６４５５５４
３０．６４４５５４
―――――――――――――――――――――――――
〔第７表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＢＣ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１０．６４４５５
２０．６４５５５
３０．６４５５５
―――――――――――――――――――――――――
〔第８表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＤＥＦＧＨＩＪＫＬＭｂｃｄｅｆ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１１．６４４２０５４４３５３４００４３３
２１．６５５５５５５５５５５５３０５５５
３１．６５４４３４５５５５５５５５５４５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第９表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物処理薬量ＡＤＥＦＧＨＩＪＫＬＭｂｃｄｅｆ
Ｎｏ．（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１１．６４４３１５５４４５４２４５３４３
２１．６５５４５５５５５５５５４５４４５
３１．６４４３５５５５５５５５５４３５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

本願発明のピラゾールスルホニルウレア化合物は、水稲用およびムギ用選択性除草剤として有用である。

Claims

式（１）：

〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、ジ（Ｃ_1-3アルキル）アミノ基またはＣ_1-3アルキルアミノ基を表し、
Ｚは窒素原子またはメチン基を表し、
Ｇは

を表し、
Ｇ−Ｊ−はＧＪ−１からＧＪ−６を表し、ここでＧＪ−１からＧＪ−６は次の意味、

を表し、
Ｅは−ＣＨ₂−、−Ｏ−または−ＮＨ−を表し、
Ｒ¹はＣ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシＣ_1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、ハロゲン原子、−ＮＨＣＨＯまたは−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＣＨ₃を表し、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-3アルキル基またはＣ_1-3ハロアルキル基を表し、但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち、少なくともひとつはＣ_1-3アルキル基またはＣ_1-3ハロアルキル基を表す〕で表されるスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶がそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち、少なくともひとつはメチル基を表し、ＸおよびＹがメトキシ基またはメチル基を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す、請求項１記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−１を表し、Ｒ²が水素原子、メチル基、ヨウ素原子、トリフルオロメチル基、フッ素原子、塩素原子、−ＮＨＣＨＯまたは−ＣＨ₂ＮＨＳＯ₂ＣＨ₃を表す、請求項２記載の化合物及び農薬として許容されるその塩
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−２を表し、Ｅが−ＣＨ₂−、−Ｏ−または−ＮＨ−を表し、Ｒ²が水素原子を表す、請求項２記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−３を表し、Ｒ²が水素原子またはトリフルオロメチル基を表す、請求項２記載の化合物及び農薬として許容されるその塩
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−４を表し、Ｒ²が水素原子を表す、請求項２記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−５を表し、Ｒ¹がメチル基を表し、Ｒ²が水素原子、メチル基または塩素原子を表す、請求項２記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｇ−Ｊ−がＧＪ−６を表し、Ｒ²が水素原子、メチル基または塩素原子を表す、請求項２記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
Ｒ³がメチル基を表し、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が水素原子を表す、請求項３から請求項８記載の化合物および農薬として許容されるその塩。
請求項１記載のスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬。
請求項１記載のスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤。