JPH0676387B2

JPH0676387B2 - ピラゾ−ル誘導体および除草剤

Info

Publication number: JPH0676387B2
Application number: JP60216163A
Authority: JP
Inventors: 廣志大山; 利治大野; 卓郎下園; 輝彦寺川
Original assignee: Hokko Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Hokko Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1985-10-01
Filing date: 1985-10-01
Publication date: 1994-09-28
Anticipated expiration: 2009-09-28
Also published as: JPS6277369A; KR870003982A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、新規なピラゾール誘導体に関するものであ
り、より詳しくは、後記の一般式（Ｉ）で表わされる新
規なN-アリールピラゾール誘導体並びに当該誘導体を含
有する除草剤に関するものであり、化学工業並びに農業
特に農薬製造業分野で有用である。

（従来の技術）これまである種のピラゾール誘導体が農薬としての生理
生活を有することは知られている。例えば、特公昭40-1
9958号公報には、次式（式中、R₁は水素原子またはフエニル基を、R₂は水素原
子または低級アルキル基を、R₃は水素原子、ニトロ基、
またはシアノ基を、R₄は低級アルキル基、アミノ基また
は低級アルコキシ基を表わす）で示されるN-フエニルピ
ラゾール誘導体が除草活性を有することが記載されてい
る。また特公昭42-14833号公報には、次式（式中ＸはClまたはＨで表わす）で示されるN-（ニトロ
置換フエニル）ピラゾール誘導体またはN-（クロロ‐ニ
トロ置換フエニル）ピラゾール誘導体が殺菌活性を有す
ることが記載されている。しかしながら、本発明にみる
ようなN-フエニルピラゾールのフエニル核の２位および
４位にハロゲン原子を且つ５位にオキシ誘導基を置換基
として有する特定のN-フエニルピラゾール誘導体は従来
全く知られていない。

（発明が解決しようとする問題点）従来公知のピラゾール誘導体、すなわち、特公昭40-199
58号公報、同42-14833号公報に記載の特定のピラゾール
化合物は、除草剤としての活性は極めて弱く、実用性が
ない。したがつて、本発明は、これら従来のピラゾール
誘導体に代り、水田用除草剤および畑作用除草剤として
実用性のある新規なピラゾール誘導体を開発することを
目的とするものである。

（問題を解決するための手段）本発明者らは、上記の目的を達成するために、数多くの
ピラゾール誘導体を合成し、それらの有用性について鋭
意検討した。その結果、一群の新規なN-フエニルピラゾ
ール誘導体が高い除草活性を有することを見出して特願
昭60-101459号（特開昭61-260065号公報参照）を出願し
た。今回、後記の一般式（Ｉ）で表わされる別の一群の
N-フエニルピラゾール誘導体が文献未記載の新規化合物
であり、これらの化合物が高い除草活性を有して除草剤
として実用できることを見出した。

従つて、第１の本発明の要旨とするところは、次の一般
式（Ｉ）（式中、R₁は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
ボニルアミノ基を示し、ｎは１から３までの整数を示す
が、但し少くとも１個のR₁はハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
ボニルアミノ基であり、R₂は水素原子、低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルコ
キシ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
基、低級アルキルカルボニル低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルチオカ
ルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、低級
アルキルスルホニル基、フエニルスルホニル基、ハロゲ
ン置換フエニルスルホニル基、または低級アルキル置換
フエニルスルホニル基を示し、ＸおよびＹは同じ又は相
異なるハロゲン原子を示す）で表わされるピラゾール誘
導体にある。

また、第２の本発明の要旨とするところは、上記の一般
式（Ｉ）のN-フエニルピラゾール誘導体を活性成分とし
て含有することを特徴とする除草剤にある。

本発明の化合物を示す一般式（Ｉ）において、R₁又はR₂
によつて示される低級アルキル基、低級アルキルチオ低
級アルキル基、又はシアノ低級アルキル基などの中の
「低級アルキル基」の例としてはメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第２級ブチ
ル、第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル
基などが挙げられる。また、R₁又はR₂によつて示される
低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、1-プロペ
ニル、2-メチル‐2-プロペニル、1-メチル‐2-プロペニ
ル、2-ブテニル、3-ブテニル、2-ペンデニル、２、4-ヘ
キサジエニル基などが挙げられる。また、低級アルキニ
ル基としては、エチニル、2-プロピニル、1-メチル‐2-
プロピニル、2-ブチニル、1-メチル‐2-ブチニル基など
が挙げられる。またハロゲン原子は、Cl,Br,F,Iであり
うる。したがつて、一般式（Ｉ）中のR₁,n,R₂,X,Yのそ
れぞれの置換基は、上記の各種の基の任意の組み合わせ
でありうる。

さらに、R₁がハロアルキル基である場合に、この中のア
ルキル基は低級アルキル基であるのが好ましい。

次に、一般式（Ｉ）の本発明化合物の代表的な具体例を
第１表に示す。

（発明の作用）一般式（Ｉ）の本発明化合物は、既知の類似化合物に比
較し、優れた除草活性を有する。すなわち、本発明化合
物はヒエ、コナギ、ヘラオモダカ、ホタルイ、アゼナ、
キカシクサなどの水田雑草に対して幅広く作用して、こ
れらの雑草に対して、10アール当たり50g以下の施用量
の処置で完全に除草することができる。また本発明の化
合物の特定例によつては、10アール当たり6.25gあるい
はそれ以下の薬量を施用して処理すれば完全に除草する
ことができる。さらにはメヒシバ、シロザ、イヌビユ、
イヌタデなどの各種の畑地雑草に対しても、10アール当
り50g以下の施用量の処理で完全に除草することができ
る。また化合物によつては12.5gあるいはそれ以下の薬
量を施用して処理することによつて、完全に除草しうる
ものである。しかも水稲、ダイズ、ビート、ダイコン、
コムギ、トウモロコシなどの有用作物には薬害を与えな
い。その上、人蓄毒性や魚毒性もない。したがつて、完
全に使用できる。

第１の本発明による一般式（Ｉ）の化合物の製造は、次
に説明する７つの方法、すなわち方法〔Ａ〕，方法
〔Ｂ〕，方法〔Ｃ〕，方法〔Ｄ〕，方法〔Ｅ〕，方法
〔Ｆ〕又は方法〔Ｇ〕の何れかによつて行い得る。

方法〔Ａ〕：一般式〔Ｉ〕においてR₁がハロアルキル
基、もしくはハロアルキル基と低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、または低級アルキニル基との組み合わせの
基であつて、R₂が水素以外の基である場合の本発明化合
物（I-A）は次式（II-A）の置換フエニルヒドラジン化
合物に、次式（III）のジカルボニル化合物、例えば、
1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオルペンタ‐2,4-ジオンまたは
3-トリフルオルメチル‐ペンタ‐2,4-ジオンなどを反応
させて環化することにより製造できる。

この縮合、環化反応は通常、各種の有機溶媒中で行いう
る。溶媒としては、炭化水素類、エーテル類、アルコー
ル類および水などが使用される。反応は室温でも進行す
るが、使用溶媒の沸点までの範囲で加温することが好ま
しい。反応後、反応液から溶媒を留去することによつて
所望の化合物が得られる。水とベンゼン、トルエン、テ
トラヒドロフラン、クロロホルムなどの有機溶媒を反応
液に加えて抽出し、目的物を分取し、溶媒を留去する反
応法によつても、本発明化合物（I-A）を得ることがで
きる。方法〔Ａ〕による製造例を実施例１および２に示
した。

方法〔Ｂ〕：本発明による一般式（Ｉ）でR₁が低級アル
キルカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルア
ミノ基、モノ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基ま
たはジ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基以外の基
であり、且つR₂が水素原子である場合の本発明化合物
（I-B）は、R₂が水素以外の基であつて、加水分解を受
けるとヒドロキシル基を残すような基である本発明化合
物（I-C）を加水分解することにより製造できる。

この加水分解反応は、化合物（I-C）を水と共に単に加
温しても行われるが、通常は当量又はそれ以上の塩基の
存在下に行われる。塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムな
どが使用できる。反応は室温でも、加温下でもよい。ま
た水溶液にアルコール類、ジオキサンなどのエーテル類
を加え均一溶液中で反応を進行させることにより反応速
度を増加できる。

反応終了後、塩酸あるいは硫酸などで反応液を酸性と
し、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロ
ホルムなどの有機溶媒で目的生成物を抽出し、溶媒を留
去することにより、化合物（I-B）を得ることができ
る。方法〔Ｂ〕による製造例を実施例‐３に示した。

方法〔Ｃ〕：一般式（Ｉ）でR₂が水素原子以外の基であ
る本発明化合物（I-D）は、R₂が水素原子である対応の
本発明化合物（I-E）に次式（IV）のハライド化合物、
例えばアルキルクロライド、アルケニルクロライド、ア
ルキルスルホニルクロライド等を反応させることによつ
て製造できる。

この置換反応は、酸結合剤の存在下に有機溶媒中で行わ
れる。この有機溶媒としては、ベンゼン、トルエンなど
の炭化水素類、エチル‐エーテル、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエス
テル類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドな
どのアミド類、およびジメチルスルホキシドなどが使用
できる。酸結合剤としては、水酸化ナトリウム、ナトリ
ウムアミド、炭酸カリウムなどの無機塩基、あるいはト
リエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が使用でき
る。反応は室温でも進行するが、溶媒の沸点までの範囲
で加温してもよい。反応終了後は、酸結合剤の塩類など
を別し、溶媒を留去することにより目的物を得ること
ができるが、水とベンゼン、トルエン、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルムなどの有機溶媒を加え、目的物を分
取し溶媒を留去することによつても本発明化合物（I-
D）を得ることができる。この方法〔Ｃ〕による製造例
を実施例４に示した。

方法〔Ｄ〕：一般式（Ｉ）において、R₁としてハロゲン
原子を含む本発明化合物（I-F）は、それに対応してハ
ロゲン原子を含まない又は導入すべきハロゲン原子と異
種の又はより少数のハロゲン原子をすでにR₁として含む
本発明化合物（I-G）に対して、導入すべきハロゲン原
子（Ｚ）を有するハロゲン化剤を反応させることによつ
て製造できる。

但しR₁,R₂,X,Yは前記と同じであり、ｌは１又は２であ
り、Ｚは導入されたハロゲン原子であり、ｍは２又は１
であつて（ｌ＋ｍ）は２〜３の整数である。

このハロゲン化反応は、通常、有機溶媒中で行うことが
でき、この溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、アミド
類および水などが使用できる。ハロゲン化剤としては塩
素、臭素などの元素態ハロゲン、スルフリルハライド、
ハロゲン化リンなどが使用できる。反応は室温から溶媒
の沸点までの範囲で適宜選択する。反応後は溶媒を留去
すれば目的物が得られる場合が多いが、必要により水と
有機溶媒を加え目的物を分取し、溶媒を留去すると本発
明化合物（I-F）が得られる。方法〔Ｄ〕による製造例
を実施例５に示した。

方法〔Ｅ〕：一般式（Ｉ）において、R₁としてニトロ基
を含む本発明化合物（I-H）は、それに対応してニトロ
基を含まない又はより少数のニトロ基をすでにR₁として
含む化合物（I-I）に対して、ニトロ化剤を反応させる
ことによつて製造できる。

但し、R₁,R₂,X,Yは前記と同じであり、ｐは0,1又は２で
あり、ｑは3,2又は１であつて（ｐ＋ｑ）は1-3の整数で
ある。このニトロ化反応は、通常、酸および水あるいは
それらの混合物を溶媒として行うことができ、酸として
は酢酸、硫酸などが使用できる。ニトロ化剤としては硝
酸および発煙硝酸が用いられる。反応は氷水冷から溶媒
の沸点までの範囲で適宜選択できる。反応終了後、反応
液に水を加え、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、およびクロロホルムなどの有機溶媒で目的物を分取
し、溶媒を留去すると本発明化合物（I-H）が得られ
る。方法（Ｅ）による製造例を実施例６に示した。

方法〔Ｆ〕：一般式（Ｉ）において、R₁としてアミノ基
を含む本発明化合物（I-J）は、これに対応したニトロ
化合物（I-H）を還元することによつて製造することが
できる。

但し、R₁,R₂,X,Y,p,qは前記に同じである。還元剤とし
ては鉄および錫が使用される。溶媒としては、通常、水
が使用されるが反応を促進するため少量の塩酸が添加さ
れる場合が多い。反応は氷水冷から水の沸点までの範囲
で適宜選択できるが、加温することにより反応時間が短
縮される。反応終了後、ベンゼン、トルエン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルムなどの有機溶媒で抽出し、溶
媒を留去すると本発明化合物（I-J）が得られる。方法
〔Ｆ〕による製造例を実施例７に示した。

方法〔Ｇ〕：一般式（Ｉ）において、R₁として低級アル
キルカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルア
ミノ基、モノ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基ま
たはジ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基を含むア
シルアミノ型の本発明化合物（I-K）は、それに対応し
たアミノ化合物（I-J）をアシル化することによつて製
造することができる。

但し、R₁,R₂,X,Y,p,qは前記に同じであり、アシルは低
級アルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル
基、モノ低級アルキルアミノカルボニル基またはジ低級
アルキルアミノカルボニル基である。

上記アシル化剤中のアシル基が低級アルキルカルボニル
基、低級アルコキシカルボニル基またはジ低級アルキル
アミノカルボニル基の場合、アシル化剤としてはそれぞ
れ、低級脂肪酸クロライド類、クロル蟻酸低級アルキル
類、またはジ低級アルキルカルバミン酸クロライド類を
使用し、酸結合剤としてトリエチルアミン、ピリジンな
どの有機塩基類または無水炭酸ナトリウム、無水炭酸カ
リウムなどの無機塩基を使用し、ベンゼンクロロホル
ム、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリルな
どの有機溶媒中で反応させる。反応温度は氷水冷から溶
媒の沸点までの範囲で適宜選択できる。反応終了後、水
とベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホ
ルムなどの有機溶媒を加え、有機層を分取して溶媒を留
去すると、本発明化合物が得られる。また上記アシル基
がモノ低級アルキルカルボニル基の場合、アシル化剤と
しては低級アルキルイソシアネート類を使用し、ベンゼ
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、アセトンなどの不
活性溶媒中で室温から溶媒の沸点までの温度範囲で反応
させる。この際トリエチルアミンなどの第３級アミン
類、ジブチル錫ジアセテートなどの錫化合物を触媒量加
えることにより反応が促進される。反応終了後溶媒を留
去すれば本発明化合物が得られる。本発明〔Ｇ〕による
製造例を実施例８に示した。

なお、前記の方法〔Ａ〕で用いた式（II-A）の置換フエ
ニルヒドラジン化合物は新規化合物であつて、R₂がスル
ホニル基又は置換スルホニル基である場合は式（Ｖ）の
置換フエノールから出発して下記の反応式の方法Ｈで調
製できる。

方法〔Ｈ〕：但し、上記の反応式中でＲは置換された又はされてない
アルキル基又はアリール基であり、中間体生成物（V
I），（VII），（VIII）も新規化合物である。

上記の反応式による方法〔Ｈ〕においては、置換フエノ
ール（Ｖ）に対して式RSO₂Cl又はBrのスルホニル・ハラ
イドを反応させることにより、フエノール性水酸基をス
ルホニル化すると、スルホニルオキシ化合物（VI）が得
られる。このスルホニル化反応は酸結合剤を兼ねたピリ
ジンを溶媒として行うのが好ましい。通常、氷水冷下、
ジハロフエノールとピリジンの混合物中にスルホニルハ
ライドを滴下し、滴下後に室温で撹拌することにより行
われる。反応が長時間を要す場合は、ピリジンの沸点ま
での範囲で加温し、反応時間を短縮できる。反応終了
後、折出したピリジンの塩を別し、ピリジンを除去す
ることによりスルホニルオキシ化合物（VI）が得られる
が、水とベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ク
ロロホルムなどの有機溶媒を加え、目的物（VI）を分取
し、塩酸水で洗滌しピリジンを除いた後、溶媒を留去し
てもスルホニルオキシ化合物（VI）が得られる。

得られたスルホニルオキシ化合物（VI）を硝酸でニトロ
化することによりニトロ化合物（VII）を得る。ニトロ
化反応は、常法通り混酸条件で行い、95％硫酸とスルホ
ニルオキシ化合物の混合物に当量の濃硝酸と95％硫酸の
混合物を氷水冷下滴下し、滴下後室温で撹拌することに
より行なわれる。反応終了後、反応液を氷に加え希釈後
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホル
ムなどの有機溶媒を加え、目的物を抽出し、溶媒を留去
することによりニトロ化合物が得られる。

得られたニトロ化合物（VII）を鉄で還元することによ
りアミノ化合物（VIII）を得る。還元反応は通常，水を
溶媒として行い、反応を促進するため少量の塩酸を添加
し、反応時間短縮のため50〜100℃に加温して行うこと
が好ましい。反応終了後はベンゼン、トルエン、テトラ
ヒドロフラン、クロロホルムなどの有機溶媒で抽出し、
溶媒を留去することによりスルホニルオキシアミノ化合
物が得られる。

次に、アミノ化合物（VIII）をジアゾ化し、次いで塩化
第一スズと塩酸で還元することによりヒドラジノ化合物
（III-A）を得る。上記のジアゾ化はアミノ化合物（VII
I）を塩酸水溶液に加え、−20℃付近で当量の亜硫酸ナ
トリウム水溶液を滴下することにより行う。その後の還
元は得られたジアゾニウム塩溶液を、あらかじめ塩化第
１スズの塩酸水溶液に氷水冷下加え室温で撹拌すること
により遂行される。反応終了後は、カ性ソーダ水溶液で
弱アルカリ性とした後、ベンゼン、トルエン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルムなどの溶媒で抽出し、溶媒を
留去することにより所望のヒドラジノ化合物（II-A′）
が得られる。

上記の方法〔Ｈ〕によるヒドラジノ化合物（II-A′）の
調製例は、後記の参考例１に示す。

更に、方法〔Ａ〕と同様の方法で製造されたR²がスルホ
ニル基型である化合物（I-A′）を原料として用い、前
記の各種の方法を利用して、R₁,R₂として他の所望の置
換基を有する本発明化合物を製造できる。参考例２に実
施例６の出発物質の方法〔Ａ〕と同様の方法による製造
例を示す。

また、第２の本発明の除草剤は、前記一般式（Ｉ）の化
合物を慣用の処方により、乳剤、水和剤、液剤、フロア
ブル（ゾル）剤、粉剤、ドリフトレス（DL）粉剤、粒
剤、微粒剤、錠剤などの適宜の形態として調製できる。
ここに使用される担体としては、農園芸薬剤に常用され
るものならば固体または液体のいずれでも使用でき、特
定のものに限定されるものではない。例えば、固体担体
としては、鉱物質粉末（カオリン、ベントナイト、クレ
ー、モンモリロナイト、タルク、珪藻土、雲母、バーミ
キユライト、石こう、炭酸カルシウム、リン灰石、ホワ
イトカーボン、消石灰、珪砂、硫安、尿素など）、植物
質粉末（大豆粉、小麦粉、木粉、タバコ粉、でんぷん、
結晶セルロースなど）、高分子化合物（石油樹脂、ポリ
塩化ビニル、ケトン樹脂、ダンマルガムなど）、アルミ
ナ、ケイ酸塩、糖重合体、高分散性ケイ酸、ワツクス類
などが挙げられる。また、液体担体としては、水、アル
コール類（メチルアルコール、エチルアルコール、n-プ
ロピルアルコール、iso-プロピルアルコール、ブタノー
ル、エチレングリコール、ベンジルアルコールなど）、
芳香族炭化水素類（トルエン、ベンゼン、キシレン、エ
チルベンゼン、メチルナフタレンなど）、ハロゲン化炭
化水素類（クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルメタ
ン、クロルエチレン、モノクロルベンゼン、トリクロル
フルオルメタン、ジクロルジフルオルメタンなど）、エ
ーテル類（エチルエーテル、エチレンオキシド、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなど）、ケトン類（アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロンなど）、エステル類（酢酸
エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールアセテート、
酢酸アミルなど）、酸アミド類（ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド）など、ニトリル類（アセト
ニトリル，プロピオニトリル，アクリロニトリルな
ど）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、
アルコールエーテル類（エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルな
ど）脂肪族または脂環式炭化水素類（n-ヘキサン、シク
ロヘキサンなど）、工業用ガソリン（石油エーテル、ソ
ルベントナフサなど）、石油留分（パラフイン類、灯
油、軽油など）が挙げられる。

また、入剤、水和剤、フロアブル剤などの製剤に際し
て、乳化、分散、可溶化、湿潤、発泡、潤滑、拡展など
の目的で各種の界面活性剤（または乳化剤）が使用され
る。このような界面活性剤としては非イオン型（ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキ
ルエステル、ソルビタンアルキルエステルなど）、陰イ
オン型（アルキルベンゼンスルホネート、アルキルスル
ホサクシネート、アルキルサルフエート、ポリオキシエ
チレンアルキルサルフエート、アリールスルホネートな
ど）、陽イオン型〔アルキルアミン類（ラウリルアミ
ン、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ア
ルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライドな
ど）、ポリオキシエチレンアルキルアミン類〕、両性型
〔カルボン酸（ベタイン型）、硫酸エステル塩など〕が
挙げられるが、もちろんこれらの例示のみに限定される
ものではない。また、これらのほかにポリビニルアルコ
ール、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポ
リビニルアセテート、ゼラチン、カゼイン、アルギン酸
ソーダ、トラガカントゴムなどの各種補助剤を使用する
ことができる。

本発明においては、前記した各種製剤を製造するに際し
て、製剤は本発明化合物を0001％〜95％（重量％、：以
下同じ）、好ましくは0.01％〜90％の範囲で含有するよ
うに製剤することができる。例えば、通常粉剤、DL粉
剤、微粉剤（Ｐ）の場合は0.01％‐５％、粒剤の場合は
0.01％〜10％、水和剤、乳剤、液剤の場合は１％〜75％
の範囲で含有できる。このように調製された製剤は、例
えば、粒剤の場合はそのまま土壌表面、土壌中または水
中に有効成分量として0.3g〜300g程度の範囲で散布すれ
ばよい。水和剤、乳剤およびゾル剤などの場合は、水ま
たは適当な溶剤に希釈し有効成分量として0.3g〜300g程
度の範囲で散布すればよい。

また本発明化合物を除草剤として使用するに際して、既
知の除草剤、殺虫剤あるいは植物調節剤などと混用して
適用性の拡大を計ることができ、また場合によつては相
乗効果を期待することもできる。特にこのような混用さ
れる除草剤としては、下記のようなものが挙げられる。

トリアジン系除草剤 6-クロロ‐N-エチル‐Ｎ′‐イソプロピル‐１、３、5-
トリアジンジイル‐２、4-ジアミン６−クロロ‐N,N′‐ジエチル‐１、３、5-トリアジン
‐2,4-ジイルジアミン N-エチル‐Ｎ′‐イソプロピル‐6-メチルチオ‐1,3,5-
トリアジン‐2,4-ジイルジアミン N,N′‐ジイソプロピル‐6-メチルチオ‐1,3,5,-トリア
ジン‐2,4-ジイルジアミン N,N′‐ジエチル‐6-メチルチオ‐1,3,5-トリアジン‐
2,4-ジイルジアミン N-（1,2-ジメチルプロピル）‐Ｎ′‐エチル‐6-メチル
チオ‐1,3,5-トリアジン‐2,4-ジイルジアミン 2-（4-クロロ‐6-エチルアミノ‐1,3,5-トリアジン‐2-
イルアミノ）‐2-メチルプロピオニトリル 3-シクロヘキシル‐6-ジメチルアミノ‐1-メチル‐1,3,
5-トリアジン‐2,4（1H,3H）‐ジオン 4-アミノ‐6-ターシヤリ‐ブチル‐3-メチルチオ‐1,2,
4-トリアジン‐５（4H）‐オン 4-アミノ‐3-メチル‐6-フエニル‐1,2,4-トリアジン‐
５（4H）‐オン（１）、など。

アミド系除草剤 2-クロロ‐２′,6′‐ジエチル‐N-メトキシメチルアセ
トアニリド 2-クロロ‐６′‐エチル‐N-（2-メトキシ‐1-メチルエ
チル）アセト‐オルソ‐トルイジン N-ブトキシメチル‐2-クロロ‐２′,6′‐ジエチルアセ
トアニリド 2-クロロ‐２′,6′‐ジエチル‐N-（2-プロポキシエチ
ル）アセトアニリド 2-クロロ‐N-イソプロピルアセトアニリド３′,4′‐ジ
クロロプロピオンアニリド N-1-ナフチルフタラミツクアミドエチルN-ベンゾイル‐N-（3,4-ジクロルフエニル）‐DL
-アラニネート N,N-ジメチルジフエニルアセトアミド 3,5-ジクロロ‐N-（1,1-ジメチルプロピニル）ベンズア
ミド５′‐（トリフルオロメタンスルホンアミド）アセト‐
２′,4′‐キシリダイド N-（α，α‐ジメチルベンジル）‐2-ブロモ‐3,3-ジメ
チルブタアミド N-メチル‐2-（ベンズチアゾール‐2-イルオキシ）アセ
トアニリド、など。

カーバメート系除草剤 S-4-クロロベンジルジエチル（チオカーバメイト） S-エチルアゼパン‐1-カルボチオエート S-プロピルジプロピル（チオカーバメイト） S-エチルジプロピル（チオカーバメイト） S-エチルジイソブチル（チオカーバメイト） S-プロピルブチル（エチル）チオカーバメイト S-エチル N-シクロヘキシル‐N-エチル（チオカーバメ
イト） S-2,3-ジクロロアリルジイソプロピル（チオカーバメ
イト）イソプロピルカーバニレートメチル3,4-ジクロルカーバニレートメチルスルフアニルカーバメートメチル 3-（3-メチルカーバニロイロキシ）カーバニレ
ート S-イソプロピルヘキサヒドロ‐1H-アゼピン‐1-カー
バチオエート S-3-クロロプロピル 3,6-ジメチルヘキサヒドロ‐1H-
アゼピン‐1-カーボチオエート S-α，α‐ジメチルベンジルピペリジン‐1-カーボチ
オエート、など。

ウレア系除草剤 3-（4-クロロフエニル）‐1,1-ジメチルウレア 3-（3,4-ジクロロフエニル）‐1-メトキシ‐1-メチルウ
レア 3-（3,4-ジクロロフエニル）‐1,1-ジメチルウレア 1,1-ジメチル‐3-（α，α，α‐トリフルオロ‐メタ‐
トリル）ウレア 3-（4-ブロモ‐3-クロロフエニル）‐1-メトキシ‐1-メ
チルウレア 3-（3-クロロ‐4-メトキシフエニル）‐1,1-ジメチルウ
レア 3-パラ‐クメニル‐1,1-ジメチルウレア 3-〔4-（4-クロロフエノキシ）フエニル〕‐1,1-ジメチ
ルウレア 1-（2-メチルシクロヘキシル）‐3-フエニルウレア 1-ベンゾチアゾール‐2-イル‐3-メチルウレア 1-ベンゾチアゾール‐2-イル‐1,3-ジメチルウレア 1-（5-ターシヤリ‐ブチル‐1,3,4-チアジアゾール‐2-
イル）‐1,3-ジメチルウレア 3-（5-ターシヤリ‐ブチル‐1,3,4-チアジアゾール‐2-
イル）‐4-ヒドロキシ‐1-メチル‐2-イミダゾリドン 1-（2-クロロフエニルスルホニル）‐3-（4-メトキシ‐
6-メチル‐1,3,5-トリアジン‐2-イル）ウレアメチル2-〔〔（4,6-ジメトキシ‐ピリミジン‐2-イル）
アミノカルボニル〕アミノスルホニルメチル〕ベンゾエ
ート 1-（α，α‐ジメチルベンジル）‐3-（パラートリル）
ウレア、など。

トルイジン系除草剤 α，α，α‐トリフルオロ‐2,6-ジニトロ‐N,N-ジプロ
ピル‐パラ‐トルイジン N-（1-エチルプロピル）‐2,6-ジニトロ‐3,4-キシリジ
ン N¹,N¹-ジエチル‐2,6-ジニトロ‐4-トリフルオロメチル
‐メタ‐フエニレンジアミン N-（2-クロロエチル）‐α，α，α‐トリフルオロ‐2,
6-ジニトロ‐N-プロピル‐パラ‐トルイジン 4-メチルスルホニル‐2,6-ジニトロ‐N,N-ジプロピルア
ニリン、など。

ダイアジン系除草剤 5-ターシヤリ‐ブチル‐3-（2,4-ジクロル‐5-イソプロ
キシフエニル）‐1,3,4-オキサジアゾール‐２（3H）‐
オン 2-（3,4-ジクロルフエニル）‐4-メチル‐1,2,4-オキサ
ジアゾリジン‐3,5-ジオン 3-イソプロピル‐（1H）‐2,1,3-ベンゾチアジアジン‐
４（3H）‐オン2,2-ジオキシド 4-（2,4-ジクロロベンゾイル）‐1,3-ジメチルピラゾー
ル‐5-イル‐パラトルエンスルホネート 1,3-ジメチル‐4-（2,4-ジクロルベンゾイル）‐5-フエ
ナシルオキシ‐ピラゾール、など。

ジフエニルエーテル系除草剤 5-（2-クロロ‐α，α，α‐トリフルオロ‐パラ‐トリ
ルオキシ）‐2-ニトロベンゾイツクアジド 2-クロロ‐1-（3-エトキシ‐4-ニトロフエノキシ）‐4-
（トリフルオロメチル）ベンゼン 2,4-ジクロロフエニル 3-メトキシ‐４′‐ニトロフエ
ニルエーテル 2,4,6-トリクロルフエニル‐４′‐ニトロフエニルエー
テルメチル 5-（2,4-ジクロルフエノキシ）‐2-ニトロベン
ゾエート、など。

フエノキシ系除草剤 2-メチル‐4-クロロフエノキシ酢酸もしくはその塩、エ
ステルまたはアミド誘導体 2,4-ジクロロフエノキシ酢酸もしくはその塩、エステル
またはアミド誘導体 ±‐2-（4-クロロ‐2-メチルフエノキシ）プロピオン酸
もしくはその塩、エステルまたはアミド誘導体 4-（4-クロロ‐0-トリロキシ）酷酸もしくはその塩、エ
ステルまたはアミド誘導体 S-エチル 4-クロロ‐0-トリルオキシチオアセテート 2-（2,4-ジクロル‐3-メチルフエノキシ）プロピオンア
ニリド α‐（2-ナフチルオキシ）プロピオンアニリド（RS）‐
N,N-ジエチル‐2-（1-ナフチルオキシ）プロピオンアミ
ド（RS）‐2-〔4-（2,4-ジクロロフエノキシ）フエノキ
シ〕プロピオン酸もしくはそのエステル誘導体（RS）‐2-〔4-（5-トリフルオロメチル‐2-ピリジルオ
キシ）フエノキシ〕プロピオン酸もしくはそのエステル
誘導体（RS）‐2-〔4-（3-クロル‐5-トリフルオルメチル‐2-
ピリジルオキシ）フエノキシ〕プロピオン酸もしくはそ
のエステル誘導体（RS）‐2-〔4-（3,5-ジクロロ‐2-ピリジルオキシ）フ
エノキシ〕プロピオン酸もしくはその塩、エステルまた
はアミド誘導体（RS）‐2-〔4-（6-クロロキノキサリニルオキシ）フエ
ノキシ〕プロピオン酸もしくはそのエステル誘導体、な
ど。

有機リン系除草剤 N-（ホスホノメチル）グリシンもしくはその塩誘導体 DL-ホモアラニン‐4-イル（メチル）ホスフイン酸もし
くはその塩誘導体 2-アミノ‐4-〔（ヒドロキシ）（メチル）ホスフイオニ
ル〕ブチリルアラニルアラニンもしくはその塩誘導体 0-エチル 0-6-ニトロ‐メタ‐トリルセカンダリーブ
チルホスホロアミドチオエート S-4-クロロ‐N-イソプロピルカルバニルオキシメチル
0,0-ジメチルホスホロジチオエート S-2-エチルピペリジノカルボニルメチル0,0-ジプロピル
ホスホロジチオエート S-2-ベンゼンスルホンアミドエチル 0,0-ジ‐イソプロ
ピルホスホロジチオエート、など。

ニトリル系除草剤 2,6-ジクロロベンゾニトリル 2,6-ジクロロ（チオベンズアミド） 3,5-ジブロモ‐4-ヒドロキシベンゾニトリル 4-ヒドロキシ‐3,5-ジ‐イオドベンゾニトリル、など。

ウラシル系除草剤 5-ブロモ‐3-セカンダリ‐ブチル‐6-メチルウラシル 3-シクロヘキシル‐1,5,6,7-テトラヒドロシクロペンタ
ピリミジン‐2,4（3H）‐ジオン 3-ターシヤリ‐ブチル‐5-クロロ‐6-メチルウラシル、
など。

安息香酸系除草剤 3-アミノ‐2,5-ジクロル安息香酸もしくはその塩誘導体 3,6-ジクロル‐オルソ‐アニシツク酸もしくはその塩誘
導体 2,3,5,6-テトラクロロテレフタール酸もしくはその塩、
エステルおよびアミド誘導体、など。

フエノール系除草剤 2-セカンダリーブチル‐4,6-ジニトロフエノールもしく
はその塩およびカルボン酸エステル誘導体 4,6-ジニトロ‐オルソクレゾールもしくはその塩および
カルボン酸エステル誘導体、など。

第４級アンモニウム系除草剤 1,1′‐ジメチル‐4,4′‐ビピリジニウムジクロライド 1,1′‐エチレン‐2,2′‐ビピリジリウムジブロミド、
など。

ピリダジン系除草剤 5-アミノ‐4-クロロ‐2-フエニルピリダジン‐３（2H）
‐オン 4-クロロ‐5-メチルアミノ‐2-（α，α，α‐トリフル
オロ‐メタ‐トリル）ピリダジン‐３（2H）‐オン、な
ど。

ピリジン系除草剤 4-アミノ‐3,5,6-トリクロルピリジン‐2-カルボン酸も
しくはその塩誘導体 3,5,6-トリクロロ‐2-ピリジルオキシ酢酸もしくはその
塩またはエステル誘導体 1-メチル‐3-フエニル‐5-（α，α，α‐トリフルオロ
‐メタ‐トリル）‐4-ピリドン，など。

その他の系統の除草剤 3-（クロロ‐2-アミノ‐1,4-ナフトキノンメチル3-〔1-
（アリロキシイミノ）ブチル〕‐4-ヒドロキシ‐6,6-ジ
メチル‐2-オキソシクロヘキサ‐3-エンカルボキシレー
トもしくはその塩誘導体（±）‐2-（1-エトキシイミノブチル）‐5-〔2-（エチ
ルチオ）プロピル〕‐3-ヒドロキシシクロヘキサ‐2-エ
ノン 1,2-ジメチル‐3,5-ジフエニルピラゾリウムメチルスル
フエート、など。

実施例１ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホ
ニルオキシフエニル）‐3,5-ジトリフルオルメチルピラ
ゾール（化合物No.25）の製造 2-フルオ‐4-クロル‐5-メチルスルホニルオキシフエニ
ルヒドラジン25.5g、1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオルペン
タ‐2,4-ジオン20.8g、エタノール100mlおよび水100ml
の混合物を１時間還流した。冷却後、トルエンを加えト
ルエン層を分取した。水洗後、減圧にて溶媒を留去する
と、標記化合物が淡茶色結晶として40.1g得られた。シ
クロヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶すると、白
色結晶となり融点87-89.5℃を示した。

実施例２ 1-（2,4-ジクロル‐5-イソプロポキシフエニ
ル）‐3,5-ジトリフルオルメチルピラゾール（化合物N
o.27）の製造 2,4-ジクロル‐5-イソプロポキシフエニルヒドラジン2
3.5gと1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオルペンタ‐2,4-ジオン
20.8gを混合し、徐々に加温し120℃に１時間保つた。冷
却後、トルエンを加え、希塩酸水溶液、次で水洗した。
減圧にて溶媒を留去すると、標記化合物が淡黄色油状物
として37.4g得られた。シリカゲルカラムクロマトグラ
フにより精製すると無色の油状物となり▲ｎ²³ _D▼1.547
8を示した。

実施例３ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-ヒドロキシフ
エニル）‐3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾール（化合物
No.37）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホニルオキシ
フエニル）‐3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾール36.5
g、2N-水酸化ナトリウム100mlおよびエタノール50mlを
混合し、40℃で30分撹拌した。冷却後、反応液を塩酸水
溶液で酸性とし、トルエンで抽出した。トルエン層を水
洗後、減圧にて溶媒を留去すると、標記化合物が淡黄色
結晶として28.1g得られた。ヘキサ／酢酸エチル混合溶
媒で再結晶すると白色結晶となり、融点157-158℃を示
した。

実施例４ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-プロパルギル
オキシフエニル）‐3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾール
（化合物No.47）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-ヒドロキシフエニル）‐
3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾール28.7g、臭化ピロパ
ルギル13.1g、無水炭酸カリウム15.2gおよびアセトニト
リル200mlの混合物を60℃で２時間撹拌した。冷却後、
結晶を別し、液を減圧で濃縮し、残渣にトルエンと
水を加えた。トルエン層を分取し、水洗後、減圧にて溶
媒を留去すると、標記化合物が淡黄色結晶として31.2g
得られた。ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶する
と白色結晶となり融点125-126.5℃を示した。

実施例５ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホ
ニルオキシフエニル）‐3-トリフルオルメチル‐4-クロ
ル‐5-メチルピラゾール（化合物No.81）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホニルオキシ
フエニル）‐3-トリフルオルメチル‐5-メチルピラゾー
ル37.3gをクロロホルム200mlに溶解し、60℃で塩素ガス
7.1gを20分間で導入した。減圧にて溶媒を留去すると標
記化合物が淡黄色油状物として40.2g得られた。室温で
間もなく結晶化し、ヘキサン／ベンゼン混合溶媒で再結
晶すると白色結晶となり融点72-74.5℃を示した。

実施例６ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホ
ニルオキシフエニル）‐3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾ
ール（化合物No.52）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホニルオキシ
フエニル）‐3,5-ジメチルピラゾール31.9gに95％硫酸3
5mlを加え、これに95％硫酸7.5mlと61％硝酸10.3gの混
合物を氷水冷下滴下し、室温で１時間撹拌した。反応液
を氷に加えトルエン抽出を行つた。トルエン層を1Nカ性
ソーダ水溶液、次で水にて洗滌後、減圧にて溶媒を留去
すると、標記化合物が黄褐色結晶として33.1g得られ
た。シクロヘキサン／アセトン混合溶媒で再結晶すると
淡黄色結晶となり融点150.5-152.5℃を示した。

実施例７ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-イソプロポキ
シフエニル）‐3,5-ジメチル‐4-アミノピラゾール（化
合物No.69）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-イソプロポキシフエニ
ル）‐3,5-ジメチル‐4-ニトロピラゾール32.8gと鉄33.
5gを水140mlに懸濁し、80℃に加温後35％塩酸3.2gを滴
下した。滴下後80℃で30分撹拌した。冷却後、カ性ソー
ダ水溶液で反応液のpHを９とした後、トルエンを加え抽
出した。有機層を水洗後減圧にて留去すると、標記化合
物が淡黄色油状物として27.7g得られた。室温で間もな
く結晶化し、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶す
ると白色結晶となり、融点94-96.5℃を示した。

実施例８ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-イソプロポキ
シフエニル）‐3,5ジメチル‐4-メチルアミノカルボニ
ルアミノピラゾール（化合物No.74）の製造 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-イソプロポキシフエニ
ル）‐3,5-ジメチル‐4-アミノピラゾール29.8gをテト
ラヒドロフラン100mlに溶解しトリエチルアミン１滴を
加えた。この液にメチルイソシアネート6.0gをテトラヒ
ドロフラン50mlに溶解し滴下した。滴下後室温に１時間
放置した後、減圧で溶媒を留去すると、標記化合物が白
色結晶として34.7g得られた。シクロヘキサン／アセト
ン混合溶媒で再結晶すると融点184-185℃を示した。

参考例１（イ）2-クロル‐4-フルオルフエニルメチルスルホネー
トの製造 2-クロル‐4-フルオルフエノール14.7gとメチルスルホ
ニルクロライド11.5gを混合し、氷冷下ピリジン30gを滴
下する。滴下後、室温で30分撹拌してメチルスルホニル
化を行つた。その後、減圧にてピリジンを留去する。残
渣にトルエンと水を加え、希塩酸水、次で水で洗滌後、
トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧にて
トルエンを留去すると、標記化合物が淡黄色油状物とし
て20.8g得られた。シリカゲルクロマトグラフイで精製
すると無色油状物となり、▲²³ _D▼＝1.5117を示した。

（ロ）2-クロル‐4-フルオル‐5-ニトロフエニルメチル
スルホネートの製造 2-クロル‐4-フルオルフエニルメチルスルホネート22.5
gに95％硫酸35mlを加え、これに95％硫酸7.5mlと61％硝
酸10.3gの混合物を氷水冷下に滴下してニトロ化反応を
行つた。滴下後、室温で30分撹拌した後、反応液を氷に
加えトルエンで抽出した。1Nカ性ソーダ水溶液、次で水
でトルエン層を洗滌後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧にてトルンエンを留去すると、標記化合物が淡
黄色結晶として25.9g得られ、融点64-65.5℃を示した。

（ハ）2-クロル‐4-フルオル‐5-アミノフエニルメチル
スルホネートの製造 2-クロル‐4-フルオル‐5-ニトロフエニルメチルスルホ
ネート27.0gと鉄33.5gを水140mlに懸濁し、加温してニ
トロ基を還元してアミノ基に転化した。反応液が80℃に
なつた時35％塩酸3.2gを加えた。冷却後、カ性ソーダを
加え反応液のpHを９とした後、トルエンとテトラヒドロ
フランを加え抽出した。有機層を水洗後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧で留去すると、標記化合物が淡黄
色抽出物として22.3g得られた。シリカゲルカラムクロ
マトグラフイで精製すると白色結晶となり融点79-80℃
を示した。

（ニ）2-クロル‐4-フルオル‐5-ヒドラジノフエニルメ
チルスルホネートの製造 2-クロル‐4-フルオル‐5-アミノフエニルメチルスルホ
ネート24.0g、35％塩酸63gおよび水48mlの混合物を60℃
で30分間撹拌した。次いでこれに亜硫酸ナトリウム9.1g
を水55mlに溶解した液を−20℃で滴下してジアゾ化反応
を行つた。この反応液を、あらかじめ35％塩酸52ml、水
100mlおよび塩化第一スズ水和物58gより調製し、−20℃
に冷却していた溶液に加えた。冷却下30分撹拌後、室温
に戻し、反応液をカ性ソーダ水溶液でpH8とし、トルエ
ンとテトラヒドロフランを加え抽出した。水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧にて溶媒を留去すると、
次式で示される標記化合物が黄色結晶として21.9g得られ
た。シクロヘキサンより再結晶する淡黄色結晶となり、
融点75〜77℃を示した。

参考例２ 1-（2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホ
ニルオキシフエニル）3,5-ジメチルピラゾールの製造 2-フルオル‐4-クロル‐5-メチルスルホニルオキシフエ
ニルヒドラジン25.5g、アセチルアセトン10.0g、エタノ
ール100mlおよび水100mlの混合物を２時間還流した。冷
却後、トルエンを加えトルエン層を分取した。水洗後、
減圧にて溶媒を留去すると、標記化合物が淡黄色結晶と
して29.3g得られた。ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で
再結晶すると白色結晶となり融点77.5-79℃を示した。

前記一般式（Ｉ）の本発明化合物を除草剤として製剤化
する方法について実施例9-12をもつて説明する。化合物
No.は前記の第１表に示したものである。本発明はこれ
らの実施例に限定されるものでなく、他の種々の添加物
と任意の割合で混合できまた前述のような他の除草剤な
どを任意の割合で混合し製剤することもできる。なお実
施例中で部とは、すべて重量部を示す。

実施例９（粒剤）化合物No.20の化合物１部、ラウリルサルフエート１
部、リグニンスルホン酸カルシウム１部、ベントナイト
30部、および白土67部に水15部を加えて、混練機で混練
した後、造粒機で造粒し、流動乾燥機で乾燥して、有効
成分１％を含む粒剤を得る。

実施例10（水和剤）化合物No.41の化合物15部、ホワイトカーボン15部、リ
グニンスルホン酸カルシウム３部、ポリオキシエチレン
ノニルフエニルエーテル２部、けいそう土５部、および
クレー60部を粉砕混合機で均一に混合して、有機成分15
％を含む水和剤を得る。

実施例11（乳剤）化合物No.47の化合物20部、ソルポール700H乳化剤（東
邦化学工業株式会社製品）20部、およびキシレン60部を
混合して、有効成分20％を含む乳剤を得る。

実施例12（粉剤）化合物No.81の化合物0.5部、無水珪酸微粉末0.5部、ス
テアリン酸カルシウム0.5部、クレー50部、およびタル
ク48.5部を均一に混合粉砕して有効成分0.5％を含む粉
剤を得る。

（発明の効果）一般式（Ｉ）の本発明化合物の除草活性を例証するため
に試験例1-4に示す。

試験例１水田雑草に対する除草効果および移植水稲に
対する薬害試験。

1/5000アールワグネルポツトに水田土壌（沖積壌土）を
つめ、その表層部にヒエ、ホタルイ、ヘラオモダカ、コ
ナギ、アゼナおよびキカシグサの種子を各50粒づつ均一
に播種した。播種１日後湛水し、水深を2cmに保つた。
播種３日後、水稲の４葉期苗１株２本植えで、ポツト当
り３株を移植した。水稲移植１日後、実施例11に準じて
調製して乳剤を水で希釈し、ポツト当り処理薬液10ml
（有効成分の施用量換算で10アール当り50g相当）を滴
下して施用することにより処理した。試験は１区２連制
で行い、薬剤処理30日後、以下に示す評価の指標に基づ
いて、除草効果および水稲の薬害程度を調査した。その
結果は第２表のとおりである。

殺草効果の評価値除草率（％）５ 100％４ 80〜100％未満３ 60〜80 〃２ 40〜60 〃１ 20〜40 〃０ 20 〃薬害の評価値薬害程度５枯死４薬害大３〃中２〃小１〃僅小０〃無試験例２水田雑草に対する除草効果および移植水稲に
対する薬害試験（低濃度処理）。

試験例１と同様の試験方法で低濃度処理をしたときの水
田雑草に対する除草効果および移植水稲に対する薬害を
調べた。結果は第３表に示した。

試験例３畑作雑草に対する除草効果および作物に対す
る薬害試験雑草に対する除草効果試験は次の操作による。すなわ
ち、1/5000アールの素焼製ポツトに畑土壌（沖積壌土）
をつめ、表層1cmの土壌とメヒシバ、シロバ、イヌビ
ユ、イヌタデの各雑草種子それぞれ50粒を均一に混合
し、表層を軽く押圧した。播種２日後に実施例11に準じ
て調製した乳剤を水で希釈し、10アール当り100の処
理薬液（有効成分の施用量換算で10アール当り100g相
当）土壌表面に噴霧して処理した。試験は１区２連制で
行い、薬剤処理30日後に除草効果を試験例１と同様の評
価の指標に基づいて調査した。

作物に対する薬害試験は次の操作による。すなわち1/1
0,000アールの素焼製ポットに畑土壌（沖積壌土）をつ
め、各作物の種子（ダイズ５粒、ビート10粒、ダイコン
10粒、コムギ10粒およびトウモロコシ５粒）をそれぞれ
別のポツトに播種し、表層を軽く押圧した。播種１日
後、実施例11に準じて調製した乳剤を水で希釈し、10ア
ール当り100の処理薬液（有効成分量で10アール当り1
00g相当）を土壌表面に噴霧した。試験は１区２連制で
行い、薬剤処理30日後に各作物に対する薬害を、試験例
１と同様の評価指標に基づいて調査した。その結果は第
４表の通りである。

試験例４畑作雑草に対する除草効果および作物に対す
る薬害試験（低濃度処理）。

試験例２と同様の試験方法で低濃度処理したときの畑作
雑草に対する除草効果および移植水稲に対する薬害を調
べた。結果は第５表に示した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（式中、R₁は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
ボニルアミノ基を示し、ｎは１から３までの整数を示す
が、但し少くとも１個のR₁はハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
ボニルアミノ基であり、R₂は水素原子、低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルコ
キシ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
基、低級アルキルカルボニル低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルチオカ
ルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ハロゲ
ン置換フェニルスルホニル基、または低級アルキル置換
フェニルスルホニル基を示し、ＸおよびＹは同じ又は相
異なるハロゲン原子を示す）で表わされるピラゾール誘
導体。
【請求項２】一般式（式中、R₁は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基または低級アルキルアミノカルボ
ニルアミノ基を示し、ｎは１から３までの整数を示す
が、但し少くとも１個のR₁はハロアルキル基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキルアミ
ノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
ボニルアミノ基であり、R₂は水素原子、低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルコ
キシ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
基、低級アルキルカルボニル低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルチオカ
ルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、低級
アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ハロゲ
ン置換フェニルスルホニル基、または低級アルキル置換
フェニルスルホニル基を示し、ＸおよびＹは同じ又は相
異なるハロゲン原子を示す）で表わされるピラゾール誘
導体を活性成分として含有することを特徴とする除草
剤。