JPS6277369A - ピラゾ−ル誘導体および除草剤 - Google Patents

ピラゾ−ル誘導体および除草剤

Info

Publication number
JPS6277369A
JPS6277369A JP60216163A JP21616385A JPS6277369A JP S6277369 A JPS6277369 A JP S6277369A JP 60216163 A JP60216163 A JP 60216163A JP 21616385 A JP21616385 A JP 21616385A JP S6277369 A JPS6277369 A JP S6277369A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lower alkyl
alkyl group
compound
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60216163A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0676387B2 (ja
Inventor
Hiroshi Ooyama
大山 廣志
Toshiji Ono
利治 大野
Takuro Shimozono
下園 卓郎
Teruhiko Terakawa
輝彦 寺川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hokko Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Hokko Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hokko Chemical Industry Co Ltd filed Critical Hokko Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP60216163A priority Critical patent/JPH0676387B2/ja
Priority to US06/860,870 priority patent/US4752326A/en
Priority to CA000508852A priority patent/CA1274834A/en
Priority to CN86103259.4A priority patent/CN1017678B/zh
Priority to BR8602201A priority patent/BR8602201A/pt
Priority to DE8686401043T priority patent/DE3687130D1/de
Priority to EP86401043A priority patent/EP0202169B1/en
Priority to AR303966A priority patent/AR241082A1/es
Priority to KR1019860008224A priority patent/KR870003982A/ko
Publication of JPS6277369A publication Critical patent/JPS6277369A/ja
Publication of JPH0676387B2 publication Critical patent/JPH0676387B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新劫、なピラゾール誘導体に関するものであ
り、より詳しくは、後記の一般式(r)で表わさnる新
規なN−アリールピラゾール誘導体並びに当該R導体を
含耳する除草剤に関するものであり、化学工業並びに農
業特VC農薬製造粟分野で有用である。
(従来の技術) これまである種のピラゾール誘導体が農薬としての生理
活性を有することは知られている。例えば、特公昭μ0
−/タタ!ざ号公報1/mU、次式(式中、R−1は水
素原子またはフェニル基金、R2は水素原子または低級
アルキル基’(H,R311−I水素原子、ニトロ基、
またはシアン基k * R4に低級アルキル基、アミン
基または低級アルコキシ基を表わす〕で示さnるN−フ
ェニルピラゾール誘導体が除草活性を有することが記載
さnている。また特公昭4t2−741133号公報ニ
ハ1次式(式中x FiatまπはHで表わす)で示さ
nるN−(ニトロ直換フェニルピラゾール誘導体または
N−(’/ロルーニトロ置換フェニルフヒラゾールB4
体が殺菌活性を有することが記載さnている。
しかしながら、本発明にみるようなN−フェニルピラゾ
ールのフェニル核のコ位およヒ4’位に〕・ロゲン原子
を且つ5位にオキシ誘4基を妬換基として有する特定の
へ一フェニルピラゾール誘導体は従来全く知らnでいな
い。
(発明が解決しようとする問題点) 従来公知のピラゾール誘導体、すなわち、特公昭弘0−
/タタ!r号公報、四442−メクサ33号公報に記載
の特定のピラゾール化付物は、除草剤と1.ての活性は
極めて弱く、実用性がない。したがって1本発明は、こ
nら従来のピラゾール誘導体に代り、水田用除草剤およ
び畑作用除草剤として実用性のある新規なピラゾール誘
導体を開発することを目的とするものである。
(問題を解決するための手段) 本発明者らは、上記の目的を達成するために。
数多くのピラゾール誘導体を甘成し、そfらの有用性に
ついて鋭意検討した。その結果、一群の新規なN−フェ
ニルピラゾール誘導体が高い除草活性を有することを見
出して特願昭t O−10/4Ljり号を出願した。今
回、後記の一般式(T)で表わさnる別の一群のN−フ
ェニルピラゾール誘導体が文献法記載の新規化合物であ
り、これらの化付物が高い除草活性を有して除草剤とし
て実用できることを見出した。
従って、第1の本発明の要旨とするところは。
次の一般式(I) (馬)n (式中、R1は低級アルキル基、低級アルケニル基。
低級アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニ
トロ基、アミン基、低級アルキルカルボニルアミノ基、
低級アルコキシカルボニル了ミノ基。
モノ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基またはジ低
級アルキルアミノカルボニルアミノ基金示し、nは1か
ら3゛までの整数金示すが、但し少くとも1個のIt、
flハロアルキル基ゎニトロ基、アミン基、低級アルキ
ルカルゼニルアミノ基、低Mアルコキシ力ルゼニルアミ
ノ基、モノ低級アルキルカルブニルアミノ基またはジ低
級アルキルアミノカルボニルアミノ基であジ&R2は水
素原子、低級アルキルM、 低級アルキルチオ低級アル
キル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキル
チオ低級アルキル基、低級アルキルカルボニル低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低
級アルキルチオカル丹?ニル低糾アルキル茫、シアノ低
級アルキル基、低級アルキルスルホニル基、フェニルス
ルホニル基、ハロゲン置換フェニルスルホニル基、また
は低級アルキルiPV換フェニルスルホニル基全示し、
XおよびYH同じ又は相異なるハロゲン原子を示す)で
表わさnるピラゾール誘導体にある。
また%第一の本発明の要旨とするところは、上記の一般
式(1)のN−フェニルピラゾール誘導体全活性成分と
して含有することを特徴とする除草剤にある°。
本発明の化付物を示す一般式(1) において、R7又
はR2によって示さnる低級アルキル基、低級アルキル
チオ低級アルキル基、又はシアノ低級アルキル基などの
中の「低級アルキル基」の例としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第2級
ブチル、第3級ブチル。
ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル基などが挙けら九る
。また、R,1又はR2によって示さfLる低級アルケ
ニル基としては、ビニル、アリル、y−フ。
ベニル、2−メチルーコープロペニル、l−メチルーコ
ープロペニル J 、、、フチニル、3−iテニル、+
2−ベンゾニル、2.41−ヘキサジェニル基などが挙
げらnる。また、低級アルキニル基としてハ、エチニル
、2−プロピニル、l−メチルーコープロビニル、コー
ブチニル、l−メチル−2−ブチニル−基などが挙げら
nる。またハロゲン原子は、Ot、Br、F、Iであり
うる。したがって。
一般式(1)中のR1,n、R2,X、Yのそn −f
:’ n ノ置換基は、上記の各種の基の任意の組み会
わせでありうる。
さらに、R1がハロアルキル基である場せに、この中の
アルキル基は低級アルキル基であるのが好ましい。
次に、一般式(1)の本発明化合物の代表的な具体例f
:第1表に示す。
(発明の作用ノ 一般式(1)の本発明化合物は、既知の類似化付物に比
較し、優f′Lだ除草活性を有する。すなわち。
本発明イヒ付物にヒエ、コナギ、ヘラオモグ力、ホタル
イ、アゼナ、キカシクサなどの水田雑草に対して幅広く
作用(−1て、こnらの雑草に対して、 10アール当
たりsoy以下の施用量の処理で完全に除草することが
できる。また本発明の化付物の特定例によっては、10
アール当たり2.コj2あるいはそn以下の薬量を施用
して処理丁nは完全に除草することができる。さらには
メヒシバ、シロザ、イヌビュ、イヌタデなどの各種の畑
地雑草に対しても、10アール当りjQ2以下の施用量
の処理で完全に除草することができる。また化付物によ
っては/ uj fあるいに千n以下の薬量を施用して
処理することによって、完全に除草しうるものである。
しかも水稲、ダイズ、ビート、fイコン、コムギ、トウ
モロコシなどの有用作物には薬害を与えない。その上1
人畜毒性や魚毒性もない。したがって、安全に使用でき
る。
第1の本発明による一般式(1)の化合物の製造は。
次に説明する7つの方法、すなわち方法〔A〕、方法〔
B〕、方法〔C〕、方法〔D)、方法〔E〕、方法C1
=’ )又は方法CG)の何れかによって行い得る。
方m [A] ニ一般式(■)においてR1がハロアル
キル基、もしくはハロアルキル基と低級アルキル基。
低級アルケニル基、または低級アルキニル基との組み甘
わせの基であって、R2が水素以外の基である場合の本
発明fヒせ物CI−A)は次式(II−AJの置換フェ
ニルヒドラジン化付物に1次式(■)のジカルゼニル化
付物1例えば、/、/、/、j、!!、!、−ヘキサフ
ルオルペンタ−2,IA−)オンまたは3−トリフルオ
ルメチル−ペンタ−294mジオンなどを反応させて環
化することにより製造できる。
(Il−八)         (川。
この縮曾、環化反応に通常、各種の有機溶媒中で行いう
る。溶媒としては、炭化水素類、エーテル類、アルコー
ル類および水などが使用さfる。
反応に室温でも進行するが、使用溶媒の沸点までの範囲
で加温することが好せしい。反応後1反応液から溶媒を
留去することによって所望σ)化合物が得らnる。水と
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホル
ムなどの有機溶媒?反応液に加えて抽出し、目的物全分
取し、溶媒を留去する反応法によっても、本発明fヒ曾
物(1−A)を得ることができる。方法(Allによる
製造例を実施例1およびjに示しπ。
方法〔B〕二本発明による一般式(しで馬が低級アルキ
ルカルd?ニルアミノ基、低級アルコキシ力ルヂニルア
ミノ基、モノ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基ま
たはジ低級アルキルアミノカルチニルアミノ基以外の基
であり、且つR2が水素原子である場合の本発明化合物
(1−BJは、R2が水素以外の基であって、加水分解
を受けるとヒドロキシル基を残すような基である本発明
化合物(I−C)全加水分解することにより製造できる
(1−0)               (J−10
この加水分解反応は、化付物(I−C)i水と共に単に
加温しても行わnるが、通常は当量又はそれ以上の塩基
の存在下に行わnる。塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸fヒカリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ムなどが使用できる。反応は室温でも、加温下でもよい
。また水溶液にアルコール類、ジオキサンなどのエーテ
ル類を加え均一溶液中で反応を進行させることにより反
応速度を増加できる。
反応終了後、塩酸あるいは硫酸などで反応液を酸性とし
、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホ
ルムなどの有機溶媒で目的生成物を抽出[2,溶媒を留
去することにより、化付物< I−8>を得ることがで
きる。方法[8)による製造例を実施例−jvc示した
方法〔C〕;一般式(IJでR2が水素原子以外の基で
ある本発明化付物<T−D)に、R2が水素原子である
対応の本発明化付物(1−E)に次式(IVJのハライ
ド化付物1例えばアルキルクロライド、アルケニルクロ
ライド、アルキルスルホニルクロライド等を反応させる
ことによって製造できる。
この置換反応は、酸結曾剤の存在下に有機溶媒中で行わ
れる。この有機溶媒としては、パンゼン。
トルエンなどの炭化水素類、エチル−エーテル、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、アセトン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル
などのニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミFなどのアミド類、およびジメチルスルホキシ
ドなどが使用できる。酸結せ剤としては、水酸化す) 
11ウム、ナトリウムアミド、炭酸カリウムなどの無機
塩基、あるいはトリエチルアミン、ピリジンなどの有機
塩基が使用できる。反応に室温でも進行するが、溶媒の
沸点までの範囲で加温してもよい。
反応終了後は、酸結会剤の塩類などを戸別り、、R3媒
を留去することにより目的物を得ることができるが、水
トベンゼン、トルエン、テトラ上1口フラン、クロロホ
ルムなどの有機溶媒を加え、目的物を分取し溶媒を留去
することによっても本発明化付物(1−D)′fc得る
ことができる。この方法Co)による、製造例を実施例
弘に示した。
方法〔D〕ユニ一式(Hにおいて、R1として)・ロゲ
ン原子を含む本発明化付物(T−F)は、そnに対応し
てハロゲン原子全台まない又は導入すべきノ・ロゲン原
子と異種の又はより少数の・・ロゲン原子を丁でにR1
として含む本発明化付物(、I−G)に対して、導入す
べきハロゲン原子(Z)を有するノ・ロゲン化剤を反応
させることによって製造できる。
(IG)                     
        (■−F)但しR1,R2,X、Yけ
紡記と同じであり、tはl又はコであり、ZFi導入さ
f′したハロゲン原子であり1mはコ又はlであって(
14m )に2〜3の整数である。
このハロゲン化反応は1通常、有機溶媒中で行うことが
でき、この溶媒としては、・・ロゲン化炭化水素、アミ
ド類および水などが使用できる。ハロゲン化剤としては
塩素、臭素などの元素前ハロゲン、スルフリルハライド
、ハロゲン化リンナトが使用できる。反応は室温から溶
媒の沸点までの範囲で適宜選択する。反応後は溶媒を留
去丁nげ目的物が得られる場合が多いが、必要により水
と有機溶媒を加え目的物を分取し、溶媒を留去すると本
発明化付物(1−F)が得らnる。方法〔D〕による製
造例會実施例jに示した。
方法〔E〕コニ一式(しにおいて、R1と17てニトロ
基を含む本発明化付物(I−H)は、そnに対応してニ
トロ基を含まない又はより少数のニトロ基をすてにR1
として含む化付物(1−IJ K対して、ニトロ化剤を
反応させることりこよって製造できる。。
(1−Iノ                    
             (1−H)但し、 Itl
、R,2,’X、Y  に前記と同じであり1.は0、
/又は2であり、qは3.2又は/であって(p+q)
(Jt=3の整数である。このニトロ化反応に、通常、
酸および水あるいはそnらの清付物全溶媒と1.て行う
ことができ、酸としては酢酸。
硫酸などが使用できる。ニトロ化剤と(7ては硝酸およ
び発煙硝酸が用いらnる。反応は氷水冷から溶媒の沸点
までの範囲で適宜選択できる。反応終了後、反応液に水
を加え、ベンゼン、トルエン。
テトラヒドロフラン、およびクロロホルムなどの有機溶
媒で目的物を分取し、溶媒を留去すると本発明化付物(
IJIJが得らfる。方fF(E)VCよる製造例全実
施例乙に示した。
方法〔F〕、一般式(しにおいて、R1としてアミノ基
を含む本発明化合物<I−J) n、そnに対応しタニ
トロ化会物(11りを還元すること(によって製造する
ことができる。
(1−H]                    
             (1−JJ但し、 R1、
R2、X+Y+I)+Q Vi前記に同じである。
還元剤としては鉄および錫が使用さnる。溶媒とし7て
は1通常、水が使用さnるが反応を促進するため少量の
塩酸が添加さnる場合が多い。反応は氷水冷から水の沸
点までの範囲で適宜選択できるが、加温することにより
反応時開が短縮さfる。
反応終了後、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン
、クロロホルムなどの有機溶媒で抽出し。
溶媒を留去すると本発明化合物CI−J)が得ら九る。
方法〔F〕による製造例を実施例7[示した。
方法〔G〕ユニ一式(I)において、R1として低級ア
ルギルカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニル
アミノ基、モノ低級アルキルアミノカルボニルアミノ基
またはジ低級アルキルアミノカル前ニルアミノ基を含む
アシルアミノ型の本発明化合物(IKJ汀、そnに対応
したアミン化付物(トJ)kアシル化することによって
製造することができる。
伊1−1rt、、R2□X、Y、p、qは前記に同じで
あり。
アンルは低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ力
ルゼニルX、モノ低級アルキルアミノカルボニル基オフ
?Jj、ジ低級アルキルアミノカルボニル井である。
上記アシル化剤中のアシル基が低級アルキルカルボニル
基、低級アルコキシカルボニル基’tyci=ゴジ低級
アルキルアミノカルボニル基の埠せ、アシル化剤として
はそnぞ:n、低級賭肪酸クロりイ+y類、クロル蟻酸
低級アルキル類&またはジ低級アルキルカルバミン酸ク
ロライド類を使甲し、グ結台剤とじてトリエチルアミン
、セ11ジンなどの有機塩基類ま?Cは無水炭酸す) 
IIウム、無水炭酸カリウムなどの無機塩基を使用し、
ベンゼンクロロホルム、テトラヒドロフラン、アセトン
、アセトニトリルなどの有機溶媒中で反応させる。反応
温度に氷水冷から溶媒の沸点までの範囲で適宜選択でき
る。反応終了後、水とベンゼン、トルエン。
テトラヒドロフラン、クロロホルムなどの有機溶媒を加
え、】11機層を分取して溶媒を留去すると、本発明化
合物がイ4らnる。′!、π上記アシル鵡がモノ低級ア
ルキルカル日ンニル基の場合、アシル化剤としては低級
アルキルイソシアネート類ヲ使用シ、、ベンゼン、エー
テル、テトラヒドロフラン、アセトンなどの不活件溶菊
中で室温から溶媒の沸点までの温度範囲で反応させる。
この際トリエチルアミンなどの第3級アミン類、ジブチ
ル錫ジアセテ−トなどの錫化合物を触媒量加えることに
より反応が促進さnる。反応終了後溶媒全留去すnは本
発明化合物が得らnる。方法〔G〕による製造例を実施
例gに示した。
なお、@記の方法[A)で用いた式(It−AJの置換
フェニルヒドラジン化付物は新規化合物であって、R2
カスルホニル基又は置換スルホニル基である場合は式(
v)の置換フェノールから出発して下記の反応式の方法
Hで調製できる。
(V)                   (M)
                   (■)(■[
)                   (IT−A
勺但し、上記の反応式中でRは置換さiた又はさねてな
いアルキル基又はアリール基であり、中間体生成物(V
IJ 、 (■]、(■)も新規化合物である。
上記の反応式による方法〔I]〕においては、置換フェ
ノール(VJに対して式R8o2ct 又はBrのスル
ホニル・ハライドを反応させることにより、フェノール
性水酸基をスルホニル化すると、スルホニルオキシ化合
物(VIJが得ら九る。このスルホニル化反応は酸結せ
剤を兼ねたピリジンを溶媒として行うのが好ましい。通
常、氷水冷下、ジハロフェノールとピリジンのm AJ
−物中にスルホニルハライドを滴下し1滴下後に室温で
攪拌することにより行わnる。反応が長時間を要す場合
は、ピリジンの沸点までの範囲で加温し2反応時間を短
縮できる。反応終了後、析出したピリジンの塩を炉別し
ビl17ンを除去することによりスルホニルオキシ化付
物(M)が得らnるが、水とベンゼン、トルエン、テト
ラヒドロフラン、クロロホルムなどの有機溶媒を加え、
目的物(VJを分取し、塩酸水で洗かしピリジンを除い
た後、溶媒を留去してもスルホニルオキシ化合物(MU
が得らnる。
イ()らf′Lだスルホニルオキシ化合物(M)’!i
=硝酸でニトロ化することによりニトロ化合物(■)k
得る。
ニトロ化反応は、常法通!ll清酸条件で行い、りj係
硫酸とスルホニルオキシ化合物の渭付物に当量の濃硝酸
と9夕憾硫酸の渭付物を氷水冷下滴下し。
滴下後室温で攪拌することにより行なわfる。反応終了
後6反応液を氷に加え希釈後ベンゼン、トルエン、テト
ラヒドロフラン、クロロホルムナトの有機溶媒を加え、
目的物を抽出し、溶媒を留去することによりニトロ化合
物が得らハる。
得らfしたニトロ化合物(■りを鉄で還元することによ
りアミン化付物(Vlff )k得る。還元反応id通
常。
水を溶媒として行い1反応を促進するため少量の塩酸を
添加し1反応時間短縮のためりO〜io。
℃に加温して行うことが好ましい。反応終了後はベンゼ
ン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルムなど
の有機溶媒で抽出し、溶媒を留去することによりスルホ
ニルオキシアミノ化合物が得らnる。
次VC,アミノ化付物(■)をジアゾ化シフ、次いで埴
化第−スズと塩酸で還元することによりヒドラジノ化付
物(ITI−A)k得る。上記のジアゾfヒにアミノ化
付物(■)を塩酸水溶液に加え、−20℃付近で当量の
亜硝酸ナトリウム水溶#、を滴下することにより行う。
その後の還元は得らf′したジアゾニウム塩溶iを、あ
らかじめ塩化第1スズの塩酸水溶液に氷水冷下加え室温
で攪拌することによf)遂行さハる。反応終了後は、力
性ソーダ水溶液で弱アルカリ性トシπ後、ベンゼン、ト
ルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルムなどの溶媒
で抽出し。
溶媒を留去することにより所望のヒドラジノ化合物(n
 −A’) が得らハる。
上記の方法[H)によるヒドラジノ化付物(II−A′
Jの調製例は、後記の参考例/V?−示す。
更に、方法〔A〕と同様の方法で製造され7CRがスル
ホニル基型である化付物(■〜A’J ’!i?原料と
して用い、前記の各科の方法を利用して、R1,R2と
して仙の所望の置換基を有する本発明化付物全製造でき
る。参考例−に実施例乙の出発物質の方法〔八〕とP1
様の方法による製造例を示す。
脣た。第2の本発明の除草剤は、前記一般式(T)の化
付物全忙用の処方により、乳剤2水和剤、液剤、フロア
ブル(ゾルノ剤、粉剤、ドリフトレス(OL)4’r>
剤、粉剤、微粒剤2錠剤などの適宜の形態として訳製で
きる。ここに使用さnる担体としては、JP園芸祭剤に
譜用さnるものならば1i51体ま7こに液体のいずn
でも使用でき、特定のものに限′?さnるものではない
。例えば、固体相体として(つ、鉱物質粉末(カオリン
、ベントナイト、クレー、モンモリロナイト、タルク、
珪藻土、雲母。
バーミキュライト、石こう、炭酸カルシウム、リン灰石
、ホワイトカーゼン、消石灰、珪砂、硫安、尿素など〕
、植物質粉末(大豆粉、小麦粉、木粉。
タバコ粉、でんぷん、結晶セルロースなト)、高分子化
付物(石油樹脂、ポリ塩化ビニル、ケトン樹脂、ダンマ
ルガムなど)、アルミナ、ケイ酸塩。
糖IJ台体、窩分散性ケイ酸、ワックス類などが誉げら
nる。また、液体担体とし−Ca 、水、アルコ”a 
(メチA/アルコール、エチルアルコール。
n−プロピルアルコール、  1so−フロビルアルコ
ール、フタノール、エチレンクリコール、ベンジルアル
コールなど)、芳香族炭化水素類(トルエン、ベンゼン
、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレンなど)
、ハロゲン化炭化水素類(クロロホルム、 四m化炭y
、−、tクロルメタン、クロルエチレン、モノクロルベ
ンゼン、トリクロルフルオルメタン、ジクロルジフルオ
ルメタンなト)、:X−一テル類(エチルエーテル、エ
チレンオキシド。
ジオキサン、テトラヒドロ7ランなど)、ケトン類(ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサツノ、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロンなとり、エステル類(
酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールアセテー
ト、酢酸アミルなどプ。
酸アミドM(ジメチルホルムアミド、−)メチルアセト
アミトノなど、ニトリル類(アセトニトリル。
プロピオニトリル、アクリロニトリルなど)、スルホキ
シド類(ジメチルスルホキシPなど)、アルコールエー
テル類(エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルなど)脂肪族または
吋環式炭化水素類(n−へキサン、シクロヘキサンなど
)、工栗用ガソリン(石油エーテル、ソルベントナフサ
など)。
石油留分(パラフィン類、灯油、軽油など)が挙げられ
る。
また、乳剤、水利剤、フロアブル剤などの製剤に際して
、乳化1分散、可溶化&湿鰐1発泡、潤滑、拡展などの
目的で各科の界面活性剤(ま7!:は乳化剤ンが使用さ
nる。このような界面活性剤として11非イオン型(ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルエステル。
ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル。
ソルビタンアルキルエステルなど)、陰イオン型(アル
キルインゼンスルホネート、アルキルスルホサクシネー
ト、アルキルサルフェート、ポリオキシエチl/ンアル
キルサルフエート、アリールスルホイ、−トナど)%陽
イオン型〔アルキルアミン類(ラウリルアミン、ステア
11ルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライドなど〕、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン類〕、両性型〔カルゼン酸
〔ベタイン型)、硫酸エステル塩など〕が挙げらfるが
、もちろんこiらの例示のみに限定さnるものではない
。また、とnらのほかにポリビニルアルコール、カルゼ
キシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアセ
テート、ゼラチン、カゼイン、アルギン酸ソーダ、トラ
ガカントゴムなどの各種補助剤を使用することができる
本発明においては、前記した各種製剤全製造するに際(
7て、製剤は本発明化付物を0.00 /壬〜タタ%(
重量係、二以下同じ)、好ましくは0,07%〜90%
の範囲で含有するようVCf剤することができる。例え
ば2通常粉剤、DL粉剤、微粉剤(P)の場付は0.0
 /壬−J′係、粒剤の場せは0.0/壬〜lO係、水
利剤、乳剤、M剤の場せは1%〜7!係の範囲で含有で
きる。このようVC調製さねπ製剤は1例えば、粒剤の
場せはそのまま土塀表面、土壌中1罠は水中に有効成分
量として0.EV〜3009程度の範囲で散布すnばよ
い。水利剤。
乳剤およびゾル剤などの場せは、水または適当な溶剤に
希釈し有効成分量として0.32〜3009程度の範囲
で散布すnばよい。
また本発明化付物を除草剤として使用するに際して、既
知の除草剤、殺虫剤あるいは植物調節剤などと混用して
適用性の拡大を計ることができ、甘だ場会によっては相
乗効果を期待することもできる。特にこのようfx混用
さnる除草剤としては。
下記のようなものが挙げられる。
J−クロロ−N−エチル−N’−’(77”ロヒルー/
、3.jt−トリアジンジイル−2,弘−ジアミン6−
クロロ−N 、 N’−ジエチル−/、3.j−トリア
ジン−2,4t−ジイルジアミンN−エチル−N′−イ
ソプロピル−6−メチルチオ−/、!、jt−トリアジ
ンー2.4t−ジイルジアミン N 、 N’−ジイソプロピル−6−メチルチオ−/。
3、j−トリアジンーコ、4t−ジイルジアミンN 、
 N’−ジエチル−6−メチルチオ−7,3゜!−トリ
アジンー2.41−ジイルジアミンN−(/、2−ジメ
チルプロピルノーN′−エチル−2−メチルチオ−7,
3,タートリアジン−コツグージイルジアミン 、2−(&−クロロー2−エチルアミノー〆、31!−
トリアジンーーーイルアミノ)−2−メチルプロピオニ
トリル 3−シクロヘキシル−6−ジメチルアミノ−t−メチル
−/、3.j−トリアジン−2,≠(lH、j H)−
ジオン l−アミノ−乙−ターシャリ−ブチル−3−メチルチオ
−7,2,μ−トリアジンータ(gHツノ−ン μmアミノ−3−メチル−t−フェニル−l。
λ、μ−トリアジンー! (! HJ −オン(1)、
など。
ノークロロ−2′、t′−ジエチル−N−メトキシメチ
ルアセトアニリド 2−クロロ−t′−エチル−N−(2−メトキシ−/−
メチルエチルノアセトーオルソートルイジンN−−1ト
キシメチルーコークロロ−2′、t′−ジエチルアセト
アニリド 2−クロロー21.4/−ジエチル−N−(2−プロポ
キシエチルノアセトアニリド ノークロロ−N−イソプロピルアセトアニリド3′、μ
′−ジクロロプロピオンアニリドN−/−ナフチルフタ
ラミック アミドエチル N−ペンソイル−N−(J、
μmジクロルフェニル)−DL−アラニネート N、N−)メチルジフェニルアセトアミド3、!−ジク
ロローfsI−(/、/−ジメチルプロピニルノ4ンズ
アミド t′−(トリフルオロメタンスルホンアミド〕アセト−
2′、μ′−キシリダイド N−(α、a−ツノ−ルベンジル)−2−プロモー3.
3−ジメチルブタアミド N−ytチル−2−Cベンズチアゾールーコーイルオキ
シノアセトアニリド、など。
カーバメート系除草剤 S−<Z−クロロベンジルジエチル(チオカーノマメイ
トノ S−エチルアセ/ξンーl−カルヂチオエートS−プロ
ピル ・ジプロピル(チオカーパメイ)JS−エチル 
ジプロピル(チオカーパメイWS−工≠ル シイツブ千
ル(チオカ〜パメイトJS−プロピルブチル(エチルノ
チオカーパメイトS−エチル N−シクロへキシル−N
−エチル(チオカーパメイトノ S−J、J−ジクロロアリル ジイソプロピル(チオカ
ーバメイトフ インプロピル カーパニレート メチル 3,4t−ジクロルカーパニレートメチルスル
ファニリルカーパメート メチル J−(J−メチルカーパニロイロキシノカーパ
ニレート S−イソプロピルへキサヒドロ−lH−アゼピン−7−
カーゼチオエート 5−j−クロロプロピル 3゜乙−ジメチルへキサヒド
ロ−/)(−アゼピン−/−カーボチオエートF3−a
、cl−ジメチルベンジル ピペリジン−/−カーゼチ
オエート、など。
ウレア系除草剤 3−(l−クロロフェニルノー/、/−、)メチルウレ
ア 3−(3,4t−ジクロロフェニルノー/−メトキシ−
/−メチルウレア 3−(3,41−ジクロロフェニルノーl、/−ジメチ
ルウレア /、/−ジメチル−3−(a 、 a 、 a −ト1
ノフルオローメタートリルノウレア 3−(41−ブロモ−3−クロロフェニルノー/−メト
キシ−l−メチルウレア J −(3−りoローq−メトキシフェニルノー/、/
−ジメチルウレア 3−ノξラークメニルー7./−ジメチルウレア3−〔
μm(4L−クロロフェノキジノフェニル〕−/、/−
ジメチルウレア /−(、!−メチルシクロヘキシルノー3−フェニルウ
レア /−ペンゾチアゾールーコーイルー3−メチルウレア l−ペンゾチアゾールーーーイルー/、3−ジメチルウ
レア l−(!−ターシャリーブチルー/、!、4t−チアジ
アゾール−2−イル)−/、3−ジメチルウレア 3−(ターターシャリ−ブチル−/ 、 3 、 &、
 +チアジアゾールー2−イルノークーヒドロキシ−/
−メチル−1−イミダゾリトン i−<r−クロロフェニルスルホニル)−3−(4t−
メトキシ−2−メチル−/、3.タート)ノアジン−2
−イルノウレア メチル2−CCC4t、t−ジメトキシーピリミジンー
ーーイルクアミノ力ルボニル〕アミンスルホニルメチル
〕ベンゾエート /−(αツノ−,)メチルベンジル) −3−(/ぐラ
ートリルノウレア、など。
a、a、α−トリフルオロ−+2.t−ジニトロ−N、
N−ジプロピルーノξラートルイジンN−(/−エチル
プロピル)−2,t−ジニトロ−3,4t−キシリジン N  、N−ジエチル−J、A−ジニトロ−4−トリフ
ルオロメチル−メタ−7エニレンジアミンN−(,2−
クロロエチルノーα、α、α−トリフルオロ−,2,t
−)ニトロ−N−プロピルーツぐラートルイジン クーメチルスルホニル−+2.&−ジニトロ−N。
N−ジプロピルアニリン&など。
ダイアジン系除草剤 j−ターシャリ−ブチル−3−(2,II−ジクロル−
!−イソプロキシフェ= ル) −/ 、 3 、 I
J−オギサジアゾールー、2 (3H)−オン、2−(
3,η−ジクロルフェニル)−J−)チルー/12.グ
ーオキサジアゾリジン−3,!−ジオン 3−イソプロピル−(i’n)−、:z、i、3−ベン
ゾチアノアジン−4’ (3Nノーオン 、!+2−ジ
オキシド μm(〕、 g −−)クロロベンゾイル)−/、3ス
ルホネート /、j−・ジメチル−4−(2,4L−ジクロルベンゾ
イルノーターフェナシルオキシ−ビラゾール。
など。
!−(2−クロロ−a、α、a−トリフルオローノξラ
ートリルオキシフーー−二トロペンソイックアジド 2−クロロ−/−(、、?−エトキシーμmニトロフェ
ノキシJ−4’−()リフルオロメチルノベンゼン x、g−ジクロロフェニル3−メトキシ−a/−ニトロ
フェニルエーテル 2 、41 、7− ) IJ クロルフェニル−q′
−二トロフェニルエーテル メチル s−<2.p−、)クロルフェノキシノー2−
二104ンゾエート、など。
コーメチルーグークロロフエノキシ酢酸もしく!、4t
−ジクロロフェノキシ酢酸もしくにその塩、エステル捷
たはアミド誘導体 土−2−(μmクロロ−2−メチルフエノキシノプロビ
オン酸もしくばその塩、エステルまたはアミ ド誘導体 μm(4t−クロロ−o−トリロキシノ酪酸もしくはそ
の塩、エステル寸たにアミド誘導体S−エチル μmク
ロロ−o−トリルオキシチオアセテート j−(J、4’−ジクロル−3−メチルフエノキシノプ
ロビオンアニリド α−(2−ナフチルオキシノプロビオンアニリト(R8
)−N 、 N−ジエチルーコ−(l−ナフチルオキシ
ラプロピオンアミド (R8)−2−〔グー(2,4t−ジクロロフェノキジ
ノフェノキシフプロピオン酸もしクハソのエステル誘導
体 (RSノー2−〔μm(よ−トリフルオロメチル−!−
ピリジルオキシノフェノキシ〕プロピオン酸もしく(′
jそのエステル誘導体 (RSノーコー(g−(3−クロル−s−トリフルオル
メチル−コービリジルオキシノフェノキシ〕ゾロピオン
酸もしくけそのエステル誘導体(R8ノー2−〔グー(
3,タージクロロ−2−ピリジルオキシノフェノキシ〕
プロピオン酸もしくはその塩、エステルまたはアミド誘
導体(R8)−2−〔q−(乙−クロロキノキサリニル
オキシノフエノキシ〕プロピオン酸もしくはそのエステ
ル誘導体、など。
有機リン系除草剤 N−(ホスホノメチルノブリシンもしくはその塩誘導体 DL−ホモアラニン−〃−イル(メチル〕ホスフィン酸
もしくにその塩誘導体 2−アミノーμm〔(ヒドロキシ)(メチルノホスフイ
オニル〕ブチリルアラニルアラニンもしくはその塩誘導
体 O−エチル 0−1−ニトロ−メタ−トリルセカンダリ
−ブチルホスホロアミドチオエートB−a−クロロ−N
−イソプロピルカルバニルオキシメチル 01O−ジメ
チルホスホロジチオエート 5−j−メチルビペリジノ力ルゼニルメチル0.0−ジ
プロピルホスホロジチオエートS−,2−ヘンゼンスル
ホンアミドエチル O,O−ジ−イソプロピル ホスホ
ロジチオエート、など。
r、6−、)クロロベンゾニトリル 2、t−ジクロロ(チオベンズアミトノ3、s−)プロ
モーμm上1口ギシベンゾニトリル t−ヒドロキシ−3,!−ジーイオドペンゾニトリル、
など。
ウラシル系除草剤 !−ブロモー3−セカンダリーブチル−t−メチルウラ
シル 3−シクロへキシル−/、!r、t、7−チトラヒドロ
シクロペンタビリミジンー2.≠<3l−1)−ジオン 3−ターシャリ−ブチル−!−りコロ−t−メチルウラ
シル、など。
3−アミノ−2,タージクロル安息香酸もしくはその塩
誘導体 、3,1.−−)クロルーオルソーアニシック酸モジく
はその塩誘導体 2、.3.!、t−テトラクロロテレフタール酸もしく
にその塩、エステルおよびアミド誘導体。
など。
2−セカンダリ−ブチル−μ、乙−ジニトロフェノール
もしくはその塩およびカルボン酸エステル誘導体 4t、4−ジニトロ−オルソクレゾールもしくはその塩
およびカルボン酸エステル誘導体、など。
/ 、 /’−ジメチルーμ、4t′−ビピリジニウム
ジクロライド l、/′−エチレンー2 、.2’−ピビリジリウムジ
プロミド、など。
ピリダノン系除草剤 ターアSノーμmクロローノーフェニルビリダジン−!
 (,2H)−オン μmクロローターメチルアミンーー−(α、a。
a−トリフルオローメタート1jルンビリダノン−3(
コIT〕−オン、など。
グーアミノ−3,夕、を一トリクロルピリジンー2−カ
ルゼン酸もしくはその塩誘導体3 、 J′、 J −
トIJクロロー2−ビ+Jジルオキシ酢酸もしくはその
塩またはエステル銹導体/−メチルー3−フx=ルーj
−(n 、 a 、 a−トリフルオロ−メタートリル
ノーμmビリPン。
など。
3−(クロロ−ノーアミノ−1,μmナフトキノンメチ
ル3−CI−Cア1ノロキシイミノノブチル〕−μmヒ
ドロキシ−A、J−ジメチル−J−オキフシクロヘキサ
−3−エンカルボキシレートもしくけその塩誘導体 (至)−λ−(l−エトキシイミノブチル)−!−〔ノ
ー(エチルチオノフロ♂ル〕−3−ヒドロキシシクロヘ
キサ−ノーエノン /、−一ジメチルー3.!−ジフェニルピラゾリウムメ
チルスルフェート、など。
実施例/ l−(+2−フルオル−μmクロル−ターメ
チルスルホニルオキシフェニルノ ー3.タージトリフルオルメチルピラ ゾール(化付物階コ!〕の製造 +2−フルオル−グークロル−!−メチルスルホニルオ
キシフェニルヒドラジン2r、sy、i、〆。
/、!、j、ターヘキサフルオルベンター2,4t−ジ
オン20J?、xタノーk / 00 #I/および水
100−の混せ物を2時間還流した。冷却後、トルエン
を加えトルエン層全分取した。水洗後、減圧にて溶媒を
留去すると、標記化付物が淡茶色結晶として4t O0
/ f 得らf′Lり。シクロヘキサン/酢酸エチル混
仕溶媒で再結晶すると、白色結晶となり融点17−1’
り、5℃を示した。
実施例2  /−(、!、4t−ジクロル−ターインプ
ロポキシフェニル)−3,r−)トリ フルオルメチルピラゾール(化付物随 27)の製造 2、μmジクロル−!−インプロポキシフェニルヒドラ
ジン233 tと/、/、/、!、j、!−へキサフル
オルペンターコ、≠−ジオンコo3りを混合し、徐々に
加温し120℃に1時間保った。冷却後、トルエンを加
え、希塩酸水溶液、次で水洗した。減圧にて溶媒全留去
すると、標記化付物が淡黄色油状物として37.弘?得
ら趣1シリカゲルカラムクロマトグラフにより精製する
と無色の油状物となりnfi3/、j弘71を示した。
実m例3 /−(−2−フルオル−μmクロル−ターヒ
ドロキシフェニル)−3,!−) メチル−l−二トロピラゾール(化付 物Naj7)の製造 /−(j−2ルオル一μmクロルーよ一メチルスルホニ
ルオキシフェニル)−3,jt−ジ)tチに一弘一二ト
ロビラゾール3tjf、2N−水酸化ナトリウム100
dおよびエタノール!0rdf混合し、4tQ℃で30
分攪拌した。冷却後、反応液を塩酸水溶液で酸性とし、
トルエンで抽出した。
トルエン層を水洗後、減圧にて溶媒を留去すると、標記
化付物が淡黄色結晶としてコ!、/2傅らfした。
ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶すると白色結晶
となり、融点/!7−/!r’cを示した。
実施例4t/−(+?−フルオルーμmクロルー!−プ
ロノぐルギルオキシフェニルノ−3゜!−ジメチルーl
−二トロビラゾール (化会物随グア〕の製造 /−(J−フルオル−μmクロル−ターヒドロキシフェ
ニル)−3,jt−ジメチル−q−二トロピラゾール2
 J’、7 F 、臭化プロパルギル/ 3./り。
無水炭酸カリウム/ タ、2 fおよびアセトニトリル
−200mlの混付物をto℃で2時間攪拌した。冷却
後、結晶を戸別し、P液を減圧で濃縮し、残渣にトルエ
ンと水を加えた。トルエン層全分取し。
水洗後、減圧にて溶媒を留去すると、標記化付物が淡黄
色結晶としてJ /、、2 f得ら:n*。ヘキサン/
酢酸エチル混合溶媒で再結晶すると白色結晶となジ融点
/ 2 j −/ 、! A、夕℃を示し穴。
実施例j  /−(+2−フルオル−7−クロル−!−
メチルスルホニルオキシフエニ/I/ )−3−トリフ
ルオルメチル−t−クロ ル−ターメチルピラゾール(化付物階 r/)の製造 /−(J−フルオル−μmクロル−ターメチルスルホニ
ルオキシフェニル)−3−トリフルオルメチル−5−メ
チルピラゾール37.3f′!il−クロロホルム20
0m1K溶解し、10℃で塩素ガス7、/2全−Q分間
で導入し罠。減圧にて溶媒を留去すると、標記でヒせ物
が淡黄色油状物としてμO,−2を得ら創り室温で間も
なく結晶化し、ヘキサン/ベンゼン混せ溶媒で再結晶す
ると白色結晶となp融点7コー7μ、r ℃を示しπ。
実施例乙 /−(ノーフルオルー弘−クロルーj−メチ
ルスルホニルオキシフェニルン ー3.5−ジメチル−弘−:トロピラ ゾール(fヒ曾物随!2)の製造 1−(2−フルオル−μmクロル−ターメチルスルホニ
ルオキシフェニル) −J 、 j −、)メチルピラ
ゾール3 /、り2にり!係硫酸3!−を加え。
こnにり!係硫fi7..tdト&/CI)硝1p /
 0.3 ? ノ混合物を氷水冷下滴下し、室温で1時
間樗拌した。
反応液を氷に加えトルエン抽出ケ行った。トルエン層を
IN力性ソーダ水溶液2次で水にて洗鮭後。
群圧にて溶媒を留去すると、標記化合物が黄褐色結晶と
して33.tt得らnπ。シクロヘキサン/アセトン混
@溶媒で再結晶すると淡黄色結晶となり融点/3’0.
ター15コJ℃i示しπ。
実施fl17  /−(ノーフルオルーμmクロルータ
ーインプロポキシフェニル)−3,タ ージメチル−弘−アミノピラゾール (fヒせ物NatP)の製造 /−(,2−フルオル−μmクロル−よ−イソプロポキ
シフェニル)−3,r−Jメチル−μ−二トロビラゾー
ルJ2jfと鉄j 3.! f f水/ltOゴに懸濁
し、20℃に加温後3!係塩酸3.22全滴下した。滴
下後VO℃で30分攪拌した。冷却後、力性ソーダ水溶
液で反応液のpHff1りとした後。
トルエンを加え抽出し罠。有m、層全水洗後減圧にて留
去すると、標記イヒ伊物が淡黄色油状物としてコア、7
f徊ら1π。室温で間もなく結晶化し、ヘキサン/酢酸
エチル渭@溶媒で再結晶すると白色結晶となり、融点9
a−qA、s℃を示しπ。
害ts例r  t−<2−フルオル−弘−クロル−オー
インプロポキシフェニル)−J、、tジメ千ルー弘−メ
チルアミノカルミニ ルアミノピラゾール(化付物膳74A)の製造 1−(s−フルオル−μmクロル−!−イソゾロボキシ
フェニル)−3,Z−)メチルーターアミノピラゾール
コタ、rPiテトラヒドロフラン/ 00 rnlに溶
解しト1)エチルアミン1滴を加えπ。
この液にメチルインシアネートt、Of fテトラヒド
ロフラン!0trtVc溶解し滴下した。滴下後室温に
7時間放置しIL減圧で溶媒を留去すると。
標記化合物が白色結晶として744.7 F得らf′し
た。
シクロヘキサン/アセトン混8′溶媒で再結晶−;−ル
と剃!点11g−/rj℃に示シた7 参考例1 ((”l 2−クロル−グーフルオルフェニルメチルス
ルホネートの製造 2−クロル−弘−フルオルフェノール/ &、79とメ
チルスルホニルクロライド/ /i funし。
水冷下ピリジン30fを滴下する。滴下後、室温で30
分攪拌してメチルスルホニルfヒ全行った。
その後、減圧((てビ1)ジンを留去する。残渣にトル
エンと水を加え、希jπ酸水1次で水で洗峰後。
トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥しに0減圧にて
トルエンを留去すると、標記化合物が淡黄色油状物とし
てコO3rり得ら:rした。シリカゲルクロマトグラフ
ィで精製すると無色油状物となり。
n23=、、夕//7を示し友。
(ロ)、2−クロル−u−フルオル−j−二トロフェニ
ルメチルスルホネートの製造 ノークロルーグーフルオルフェニルメチルスルホネート
ココ、!りにり5%硫酸3 j rnlを加え、こnに
り!チ硫酸7jmeと&/’Z硝酸IQ、3りの混合物
を氷水冷下に滴下してニトロ化反応を行った。
滴下後、室温で30分(e拌した後1反応g、を氷に力
nえトルエンで抽出した。/Nカ性ソーダ水溶液。
次で水でトルエン層を洗滌後、無水硫酸す) +1ウム
で乾燥した。減圧にてトルエン全留去すると。
標記化合物が淡黄色結晶と(7てコ!、タタ得らf’L
融点乙<4−A夕、夕℃を示した。
(ハ)ノークロルーグーフルオルーターアミノフェニル
メチルスルホネートの製造 !−クロルーx−フルオルー!−二)0フエニルメチル
スルホネー) 27,0りと鉄33.!r f f水l
弘0m1K懸濁し、加温してニトロ基を還元してアミン
基に転化した。反応液が20℃になった時3夕係塩酸3
.2ノを加えた。冷却後、力性ソーダを加え反応液のp
Hkりとしに後、トルエンとテトラ上1″ロフランを加
え抽出E2だ。有機層を水洗後。
無水硫酸す) IIウムで乾燥し、減圧で留去すると。
標記化付物が淡黄色油状物として、22.3 f得られ
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すると白
色結晶となり融点7ターざ0℃を示した。
(ロ)!−クロルーt−フルオルーよ一ヒドラジノフェ
ニルメチルスルホネートの製造 ノークロル−μmフルオル−j−アミノフェニルメチル
スルホネート、!μ、OF、3夕%[酸632および水
りとmtの混合物をto℃で3部分間攪拌し、た。次で
これに亜硝酸ナトリウムタ、72を水!!rmeに溶解
した液を一コO℃で滴下(7てジアゾfく反応を行つπ
。この反応液を、あら力・じめ3タチ坦酸j2mp、水
/ 00 mlおよび塩化第一スズ水和物夕J’Pより
調製1−、、、 −20℃に冷却していた溶液に加えた
。冷却下305+攪拌後、室温に戻し。
反応液を力性ソーダ水m液でpHrとシ1、トルエンと
テトラ上1フ0フランを加え抽出し左。水洗後。
無水硫酸ナト11ウムで乾燥シ1、減圧にて溶媒を留去
すると1次式 黄色結晶として2/、り2得らfした。シクロヘキサン
より再結晶する淡黄色結晶となり、融点75〜77℃を
示した。
参考例2 i −(2−フルオル−グークロル−!−メ
チルスルホニルオキシフェニルノ 3、j−ジメチルピラゾールの製造 ノーフルオルーな一りロルーターメチルスルホニルオキ
シフェニルヒドラジンJ j、! f 、アセチルアセ
トン/ 0.09 、エタノール/ 00 mlおよび
水100−の混合物をコ時間還流した・冷却後−トルエ
ンを加えトルエン層を分取した。水洗後。
減圧にて溶媒を留去すると、標記化合物が淡黄色結晶と
してコタ、J P得らnk。ヘキサン/酢酸エチル混合
溶媒で再結晶すると白色結晶となり融点77.5−79
℃を示した。
前記一般式(r)の本発明化付物を除草剤として製剤化
する方法について実施例9−/2fもって説明する。化
合物随は前記の第1表に示したものである。本発明はこ
れらの実施例に駆足さするものでなく、他の種々の添加
物と任意の割付で混合でき、また前述のような他の除草
剤などを任意の割合で混合し製剤することもできる。な
お実施例中で部とは、すべて重量部金示す。
化合物NllコOの化付物1部、ラウリルサルフェート
/m、リグニンスルホン酸カルシウム/部。
ベントナイト30部、および白土67部に水l夕部を加
えて、混練機で混練した後、造粒機で造粒し、流動乾燥
機で乾燥して、有効成分/%?含む粒剤を得る。
化仕物Nl14Alの化付物t!部、ホワイトカーボン
i zm、 リグニンスルホン酸カルシウム3部。
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル2部。
けいそう土!部、およびクレーto部全粉砕m 会機で
均一に涜付して、有効成分is%を含む水利剤を得る。
実施例//(乳剤) 化せ物随4L7の化付物20 a(、ンルボール700
H乳化剤(東邦化学工業株式会社製品ノコO部、および
キシレンto部を混合して、有効成分λθ%を含む乳剤
を得る。
実施例/2(粉剤) 化会物階g/の化合物Oj部、無水珪酸微粉末o、tH
,ステアリン酸カルシウム0.Jr部、クレー50部、
およびタルクar3部を均一に渭付粉砕して有効成分o
、s % 2含む粉剤を得る。
(発明の効果り 一般式(r)の本発明化付物の除草活性を例証するため
に試験例/−μに示す。
試験例/ 水田雑草に対する除草効果および移植水稲に
対する薬害試験。
i/r000アールワグネルボットニ水田土壌(沖積壌
土)kつめ、その表層部にヒエ、ホタルイ、ヘラオモダ
カ、コナギ、アゼナおよびキカシグサの種子を各50粒
づつ均一に播控した。播種1日後湛水し、水深を2mに
保った。播種3日後。
水稲のμ葉期苗1株2本植えで、ポット当v3株を移植
(7た。水稲移植7日後、実施例//に準じて調製した
乳剤を水で希釈し、ポット当り処理薬液/ Oml (
有効成分の施用量換算で10アール当ジ!02相尚〕を
滴下して施用することにより処理した。試験は/区コ連
制で行い、薬剤処理30日後、以下に示す評価の指標に
基づいて、除草効果および水稲の薬害程度を調査1また
。その結果は第2表のとおりである。
殺草効果の評価値    除草率(係)、      
  100係 μ       とO〜100係未?lll′43  
     乙O〜lj Q   u2      1、
/−O〜乙O〃 /20−+4LOy 0          20   p 薬害の評価値   薬害程度 5   枯死 l       薬害大 3    l中 2    ′小 i          I僅小 O# 無 試験例コ 水田館草に対する除草効果および移植水稲に
対する薬害試験(低濃度処W)。
試験例/と同様の試駆方法で低旋変処理をしたときの水
田忙草に対する除草効果および移植水稲に対する薬害を
調べた。結果は第3表に示した。
試験例3 #1作!?!j革に対する除草効果および作
物に対する薬害試験 雑草に対する除草効果試験に次の操作による。
すなわち、 //りQOQアールの素焼製ポットに畑土
壌(沖積壌土)をつめ6表層/閏の土壌とメヒシノζ、
シロザ、イヌビュ、イヌタデの各雑草押子そnぞfL!
10粒を均一に混付し1表層を軽く押圧した。播種2日
後に実施例1/に準じて調製した乳剤を水で希釈し、1
0アール当F)1001の処理薬液(有効成分の施用量
換算で10アール蟲り100?相当)全土壌表面に噴霧
しで処理した。
試験(ケ/区2連制で行い、薬剤処3!I!30日後に
除草効果を試験例1と同様の評価の指標に基づいて調査
した。
作物に対する薬害試験は次の操作による。すなわち//
10,000  アールの素焼製ポットに畑土壌(沖積
壌土〕をつめ、各作物の種子(ダイズ!粒、ビート10
粒、ダイコンlo粒、コムギlO粒およびトウモロコシ
5粒)全そnぞf別のポットに播種し1表層を軽く抑圧
(2だ。播捗/日後、実施例//に準じて調製1π乳剤
を水で希釈し、10アール当り1oolの処理薬y<有
効成分量で10アール当シiooり相自)全土壊表面に
噴霧した。
試験は1区コ連制で行い、薬剤処理30日後に各作物に
対する薬害を、試験例1とP1様の評価指標に基づいて
調査し7た。その結果は第μ表の通りである。
峙           − 厨 Ω 州        傾 試験例佐 畑作雑草に対する除草効果および作物に対す
る薬害試験(低#度処理)。
試験例λと同様の試験方法で低濃度処理しπときの畑作
雑草に対する除草効果および移植水稲に対する薬害を調
べた。結果は第夕表に示した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニ
    トロ基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、
    低級アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキル
    アミノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ
    カルボニルアミノ基を示し、nは1から3までの整数を
    示すが、但し少くとも1個のR_1はハロアルキル基、
    ニトロ基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基
    、低級アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキ
    ルアミノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミ
    ノカルボニルアミノ基であり、R_2は水素原子、低級
    アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低
    級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級ア
    ルキル基、低級アルキルカルボニル低級アルキル基、低
    級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキル
    チオカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基
    、低級アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、
    ハロゲン置換フェニルスルホニル基、または低級アルキ
    ル置換フェニルスルホニル基を示し、XおよびYは同じ
    又は相異なるハロゲン原子を示す)で表わされるピラゾ
    ール誘導体。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ニ
    トロ基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基、
    低級アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキル
    アミノカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ
    カルボニルアミノ基を示し、nは1から3までの整数を
    示すが、但し少くとも1個のR_1はハロアルキル基、
    ニトロ基、アミノ基、低級アルキルカルボニルアミノ基
    、低級アルコキシカルボニルアミノ基、モノ低級アルキ
    ルカルボニルアミノ基またはジ低級アルキルアミノカル
    ボニルアミノ基であり、R_2は水素原子、低級アルキ
    ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アル
    コキシ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
    基、低級アルキルカルボニル低級アルキル基、低級アル
    コキシカルボニル低級アルキル基、低級アルキルチオカ
    ルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、低級
    アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ハロゲ
    ン置換フェニルスルホニル基、または低級アルキル置換
    フェニルスルホニル基を示し、XおよびYは同じ又は相
    異なるハロゲン原子を示す)で表わされるピラゾール誘
    導体を活性成分として含有することを特徴とする除草剤
JP60216163A 1985-05-15 1985-10-01 ピラゾ−ル誘導体および除草剤 Expired - Lifetime JPH0676387B2 (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60216163A JPH0676387B2 (ja) 1985-10-01 1985-10-01 ピラゾ−ル誘導体および除草剤
US06/860,870 US4752326A (en) 1985-05-15 1986-05-08 1-arylpyrazoles, composition containing them, and herbicidal method of using them
CA000508852A CA1274834A (en) 1985-05-15 1986-05-12 Pyrazole derivatives, their production and uses
CN86103259.4A CN1017678B (zh) 1985-05-15 1986-05-14 含吡唑衍生物作为活性成分的除草组合物
BR8602201A BR8602201A (pt) 1985-05-15 1986-05-15 Derivados de pirazol,composicao herbicida,processo para inibir o crescimento de ervas daninhas indesejaveis e processo para a producao de derivados de pirazol
DE8686401043T DE3687130D1 (de) 1985-05-15 1986-05-15 Pyrazolderivate, deren herstellung und verwendung.
EP86401043A EP0202169B1 (en) 1985-05-15 1986-05-15 New pyrazole derivatives, their production and uses
AR303966A AR241082A1 (es) 1985-05-15 1986-05-15 Nuevos derivados de pirazol utiles como agentes herbicidas, las composiciones herbicidas que los contienen y los procedimientos para producir estos derivados de pirazol".
KR1019860008224A KR870003982A (ko) 1985-10-01 1986-09-30 새로운 피라졸 유도체 및 이들의 제조방법과 용도

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60216163A JPH0676387B2 (ja) 1985-10-01 1985-10-01 ピラゾ−ル誘導体および除草剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6277369A true JPS6277369A (ja) 1987-04-09
JPH0676387B2 JPH0676387B2 (ja) 1994-09-28

Family

ID=16684278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60216163A Expired - Lifetime JPH0676387B2 (ja) 1985-05-15 1985-10-01 ピラゾ−ル誘導体および除草剤

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH0676387B2 (ja)
KR (1) KR870003982A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63316770A (ja) * 1987-06-12 1988-12-26 ローヌ―プーラン・アグリカルチヤー・リミテツド N−フェニルピラゾール誘導体
JP2008543469A (ja) * 2005-06-24 2008-12-04 アボット スパイン 椎間板プロテーゼ
JP2010202648A (ja) * 2009-02-09 2010-09-16 Sagami Chemical Research Institute 4−アミノピラゾール誘導体、それらの製造中間体及びそれらの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63316770A (ja) * 1987-06-12 1988-12-26 ローヌ―プーラン・アグリカルチヤー・リミテツド N−フェニルピラゾール誘導体
JP2008543469A (ja) * 2005-06-24 2008-12-04 アボット スパイン 椎間板プロテーゼ
JP2010202648A (ja) * 2009-02-09 2010-09-16 Sagami Chemical Research Institute 4−アミノピラゾール誘導体、それらの製造中間体及びそれらの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0676387B2 (ja) 1994-09-28
KR870003982A (ko) 1987-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA000645B1 (ru) Пестицидные сернистые соединения
JPS6277369A (ja) ピラゾ−ル誘導体および除草剤
JPH07133266A (ja) 3−n−置換キナゾリノン誘導体、その製造法および該化合物を含有する除草剤
JPH03204867A (ja) アラルキルオキシアミン誘導体および除草剤
JPS5982360A (ja) N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
JPH0193583A (ja) 置換ベンゾイル誘導体および除草剤
JPS5988470A (ja) ピラゾ−ル誘導体及び除草,殺ダニ剤
JPH0395180A (ja) 5員の複素環により縮合環化されたキノリン誘導体および該化合物を含有する除草剤、ならびに望ましくない植物成長を防除する方法
EP0016132A1 (fr) Nouvelle phenyluree substituee herbicide
JPH0341072A (ja) トリアゾールカルボン酸アミド誘導体および除草剤
JPS61260065A (ja) ピラゾ−ル誘導体および除草剤
JPS5927878A (ja) 置換フエニル尿素誘導体,その製法及び該化合物を含有する選択性除草剤
JPS59155358A (ja) 4,5,6,7−テトラヒドロ−2h−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
BE905091A (fr) Derives du pyrazole et leur emploi comme herbicides.
JPS63119447A (ja) アニリド誘導体および除草剤
JPS63170352A (ja) シクロヘキサン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤
JPH01180870A (ja) シクロヘキサン誘導体,その製造法,それを有効成分とする除草剤およびそれを用いる除草方法
JPH0434993B2 (ja)
JPS59216874A (ja) カ−バメ−ト誘導体
JPS6061563A (ja) チオカ−バメ−ト誘導体
JPH0429980A (ja) アリールプロピオン酸誘導体および除草剤
JPH11310560A (ja) シクロプロパンカルボン酸アミド誘導体及び農薬
JPS59104356A (ja) N−(β−フエニルエチル)チオ−ルカ−バメ−ト誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
JPS60112756A (ja) トリフルオロメタンスルホンアニリド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
JPS62126155A (ja) 除草剤