JPH04253949A - ビフエニルカルボニトリルの製造方法 - Google Patents

ビフエニルカルボニトリルの製造方法

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JPH04253949A
JPH04253949A JP3199442A JP19944291A JPH04253949A JP H04253949 A JPH04253949 A JP H04253949A JP 3199442 A JP3199442 A JP 3199442A JP 19944291 A JP19944291 A JP 19944291A JP H04253949 A JPH04253949 A JP H04253949A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は新規な方法、詳しくは例えば、ア
ンギオテンシンII(AII)の作用を阻害することに
よって例えば高血圧及びうっ血性心不全のような疾患又
は医学的状態の治療に有用である、ある種の公知のイミ
ダゾール誘導体及びある種の新規なキノリン誘導体の製
造の化学的中間体として有用であるある種のビフェニル
カルボニトリルの新規な製造方法に関する。本発明はさ
らに前記新規なキノリン誘導体の新規な製造方法を含み
、新規なビフェニルカルボニトリルにも関する。
【0002】ヨーロッパ特許出願公開(A2)第253
310号(以下ではEPA253310とする)では、
AII阻害剤として有用な置換イミダゾール誘導体の製
造方法が述べられている。これらの化合物のある種の製
造に有用である中間体には特定のビフェニルニトリルが
ある。このようなビフェニルニトリルの1つである4’
−メチルビフェニルー2−カルボニトリルの製造がEP
A253310に述べられている。これは4’−メチル
ビフェニルー2−カルボン酸の形成と、続いてのカルボ
ン酸基の段階的官能化(functionalizat
ion)を必要とする多段階方法によって得られる。E
PA253310では、出発酸は例えば、ウールマン(
Ullmann)カップリング反応により対応エステル
を得、次にこれを加水分解することによって、又はそれ
自体が幾つかの工程を含む方法によって得られる2−(
4’−メチルビフェニルー2−イル)−4,4−ジメチ
ルオキサゾリンの加水分解から製造される。さらに、4
−メチルフェニル亜鉛クロリドからの4’−メチルー6
−シアノビフェニルー2−カルボニトリルの製造がEP
A324377に述べられている。
【0003】我々は今回、4’−メチルビフェニルカル
ボニトリルの便利でかつ有用な代替え製造方法を発見し
た。
【0004】本発明では、式I(下文に記載)[式中、
L1とL2は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4ア
ルコキシ、ハロゲノ、トリフルオロメチル、シアノ及び
ニトロから成る群から独立的に選択される]で表される
ビフェニルカルボニトリルの製造方法であって、式II
(明細書末尾にに記載)[式中、L1は前記で定義した
意味を有し、Q1とQ2はヒドロキシ、C1〜C4アル
コキシ、C1〜C6アルキル及び任意にC1〜C4アル
キル、C1〜C4アルコキシもしくはハロゲノによって
置換されるフェニルから成る群から選択される;又はQ
1はQ2と共にホウ素原子に結合したC1〜C4アルキ
レンジオキシ基を形成し、この中のメチレン基は1〜2
個のC1〜C4アルキル基を有する;又はQ1とQ2は
それらが結合したホウ素と共に式IIa(明細書末尾に
に記載)(式中、L1は前記で定義した意味を有する)
で表されるボロキシン環を形成する]で表されるホウ素
化合物を、式III(明細書末尾にに記載)[式中、X
1はブロモ、ヨード又はトリフルオロメタンスルホニル
オキシ基であり、L2は前記で定義した意味を有する]
で表される化合物と、塩基の存在下及びパラジウム(0
)、パラジウム(II)、ニッケル(0)及びニッケル
(II)触媒から成る群から選択された触媒の存在下、
また任意にラジカル開始剤の存在下及び塩化リチウムの
存在下で反応させることを含む方法を提供する。
【0005】例えば「アルキル」のような総称は炭素数
が許すならば直鎖形と分枝鎖形の両方を含むものである
ことは理解されよう。しかし、例えば「ブチル」のよう
な特定のラジカルを記載する場合には、これは特に直鎖
形を意味する。さらに、式II及びIIaに用いられる
文字Bがホウ素の化学記号であることは理解されよう。
【0006】L1とL2の適当な意味(value)は
、例えばアルキルとしてはメチル及びエチルであり;ア
ルコキシとしてはメトキシ及びエトキシであり;ハロゲ
ノとしてはフルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードである
【0007】Q1とQ2の具体的な意味は、アルキルで
ある場合には例えばメチル、エチル、プロピル又はブチ
ルのようなC1〜C4アルキル;アルコキシである場合
には例えばメトキシ又はエトキシである。
【0008】Q1又はQ2がフェニルである場合にその
任意の置換基の具体的な意味はアルキルとしてはメチル
及びエチルであり;アルコキシとしてはメトキシ及びエ
トキシであり;ハロゲノとしてはフルオロ、クロロ、ブ
ロモ及びヨードである。
【0009】Q1とQ2の具体的な意味は、それらが一
緒に、メチレン基が任意に1個又は2個の置換基を有す
るアルキレンジオキシ基を形成する場合に、例えばーO
・CH2・CH2・O−、−O・CH2・CH2・CH
2・O−又は−O・CH2・C(CH3)2・CH2・
O−である。
【0010】Q1とQ2の好ましい意味は、例えばそれ
らが両方ともヒドロキシである場合か又はQ1とQ2が
それらが結合したホウ素原子と共に式IIaのボロキシ
ン環を形成する場合である。
【0011】X1の好ましい意味は、例えばブロモ又は
ヨードであり、特にニトリル基に対してオルト位置に存
在する場合が好ましい。
【0012】L1又はL2の好ましい意味は例えば水素
である。
【0013】適当な触媒には例えば金属原子がトリフェ
ニルホスフィン、トリフェニルホスフィット、ハロゲノ
及びアセチルオキシから成る群から独立的に選択される
4置換基に結合するパラジウム(0)、パラジウム(I
I)、ニッケル(0)及びニッケル(II)触媒、及び
ハロゲン化パラジウム(II)とハロゲン化ニッケル(
II)がある。
【0014】特定の触媒には例えばテトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)ニッケル(0)、ビス(トリフェニ
ルホスフィン)ニッケル(II)クロリド、塩化ニッケ
ル(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)クロリド、テトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウム(0)及び塩化パラジウム(II)が
あり、これらの中で後者の2つが好ましく、塩化パラジ
ウム(II)が特に好ましい。
【0015】反応に用いるための適当な塩基には例えば
、ナトリウムメトキシドもしくはナトリウムエトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド;水酸化ナトリウム
もしくは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物
;炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩;又は例えばトリエチルアミン等のトリ(
C1〜C6)アルキルアミンのような有機塩基がある。
【0016】適当なラジカル開始剤は例えばアゾ(ビス
イソブチロニトリル)である。
【0017】この方法は一般に例えば、トルエンもしく
はキシレンのような炭化水素;ジオキサンもしくはテト
ラヒドロフランのようなエーテル;メタノール、エタノ
ールもしくはブタノールのようなC1〜C4アルコール
;水又はこれらの混合物のような、適当な溶媒もしくは
希釈剤の存在下で実施される。好ましい溶媒は例えば水
とトルエンとメタノールとの混合物である。
【0018】本発明の方法に用いるための触媒、塩基及
び溶媒の好ましい組み合わせは例えば、任意にメタノー
ル存在下のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)、炭酸ナトリウム水溶液及びトルエンであ
るか、又は任意にトリエチルアミン存在下での塩化パラ
ジウム(II)、炭酸ナトリウム水溶液、トルエン及び
メタノールであり、後者の組み合わせが特に好ましい。
【0019】反応は一般に例えば50〜150℃の範囲
内の温度において実施されるが、用いる溶媒又は溶媒混
合物の還流温度又は還流温度付近において実施するのが
便利である。
【0020】本発明の方法が、EPA253310に述
べられている4’−メチルビフェニルー2−カルボニト
リルの製造方法よりも有意に短時間であることが判明す
る。本発明の方法は、一般に特に高温を必要とし、一般
に入手が困難なヨードベンゼンを用いて実施される、中
間体製造におけるウールマンのカップリング反応の使用
を回避する。本発明の方法はオキサゾリン化合物の形成
を必要とする代替え方法をも回避する。さらに、本発明
に必要な出発物質は商業的に又は有機化学の標準方法に
よって容易に入手可能である。
【0021】前記で定義した式II化合物は公知である
、すなわち例えば、式IV化合物[L1は前記で定義し
た意味を有し、Wはクロロ、ブロモ又はヨードのような
ハロゲノ基である]から標準方法を用いて、式:B(O
R)3(RはC1〜C6アルキルである)で表されるト
リアルキルボロネートとグリニヤール(Grignar
d)試薬又は誘導フェニルリチウム化合物との反応によ
って得られる。この反応は一般に例えばテトラヒドロフ
ランもしくはエーテル又はこれらの混合物のような溶媒
中、例えばー78℃〜25℃の範囲内の温度において実
施される。この後の標準条件下での酸加水分解は式II
のホウ素含有酸(boronic  acid)(式中
、Q1とQ2は両方ともヒドロキシである)を生じ、こ
れから標準方法による脱水によって式II化合物(Q1
とQ2はそれらが結合したホウ素原子と共に前記で定義
したような式IIaのボロキシン環を形成する)が得ら
れる。又は、前記グリニヤール試薬もしくはフェニルリ
チウム化合物を式:B(Q1)(Q2).Hal.(式
中、Q1とQ2は上記で定義したようなアルキルもしく
は任意に置換したフェニルであり、Hal.はクロロ、
ブロモもしくはヨードのようなハロゲノ基である)で表
されるボランと反応させることができる。式II化合物
(式中、Q1はQ2と共にホウ素原子に結合したアルキ
レンジオキシ基を形成する)が還流下の例えばシクロヘ
キサンのような適当な溶媒中での式II化合物(Q1と
Q2は両方ともヒドロキシである)と適当なアルカンジ
オール(例えば2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジ
オール)との反応によって、水を共沸除去しながら、得
られる。
【0022】4’−メチルビフェニル−2−カルボニト
リルと4’−メチル−6−シアノビフェニル−2−カル
ボニトリルを例外として、式Iのニトリルは新規であり
、本発明の他の特徴として提供される。
【0023】我々の同時係属EPA412848では、
式V(明細書末尾にに記載)[式中、R1は水素、C1
〜C8アルキル、C3〜C8シクロアルキル、フェニル
又は、1個以上のフルオロ置換基を含むか又はC3〜C
8シクロアルキル、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ
もしくはフェニル置換基を有する置換C1〜C4アルキ
ルであり;R2は水素、C1〜C8アルキル、C3〜C
8シクロアルキル、C3〜C8シクロアルキルー(C1
〜C4)アルキル、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ
カルボニル、シアノ、ニトロ、フェニル又はフェニル(
C1〜C4)アルキルであり;R3とR4は水素、C1
〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フルオロ(C
1〜C4)アルコキシ、ハロゲノ、ヒドロキシ、トリフ
ルオロメチル、シアノ、ニトロ、アミノ、(C1〜C4
)アルカノイルアミノ、C6までのアルキルアミノとジ
アルキルアミノ、C3〜C8のジアルキルアミノ−アル
キル、C1〜C4アルカノイル、カルバモイル、C7ま
でのN−アルキルカルバモイルとジ−(N−アルキル)
カルバモイル、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカル
ボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキル
スルフィニル、C1〜C6アルキルスルホニル、及びア
ミノ、ヒドロキシ又はC1〜C4アルコキシ置換基を有
する置換C1〜C4アルキルから成る群から独立的に選
択される;又はR3とR4は一緒に式Vのベンゼン部分
の隣接炭素原子に結合したC1〜C4アルキレンジオキ
シを形成する;RaとR5は水素、C1〜C4アルキル
、C1〜C4アルコキシ、ハロゲノ、トリフルオロメチ
ル、シアノ及びニトロから成る群から独立的に選択され
る;Aはメチレンであり;XはC1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、ハロゲノ、トリフルオロメチル、
シアノ及びニトロから成る群から独立的に選択される置
換基を任意に有するフェニルである、又はXは隣接フェ
ニル基と部分Aとの間の直接結合である;Zは1H−テ
トラゾル−5−イル、−CO・NH・(1H−テトラゾ
ル−5−イル)又は式:−CO・OR6もしくは−CO
・NH・SO2・R7[式中、R6水素又は生理的に受
容されるアルコールの非毒性生分解性残基又はフェノー
ルであり、R7はC1〜C6アルキル、C3〜C8シク
ロアルキル又はフェニルであり、前記フェニル部分は非
置換であるか又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アル
コキシ、ハロゲノ、シアノ及びトリフルオロメチルから
成る群から独立的に選択される1個又は2個の置換基を
有していてもよい]で表される一連のキノリン誘導体又
は、メチル  2−[(3−メトキシカルボニルキノリ
ン−4−イルオキシ)メチル]ベンゾエートを除いた、
その非毒性塩が述べられている。
【0024】式V化合物は置換基の性質に依存して1個
以上のキラル中心を有し、1種以上のラセミ形又は光学
活性形として単離されることは理解されよう。
【0025】さらに、式V化合物において例えば「アル
キル」のような総称は炭素数が許すならば、直鎖形と分
枝鎖形の両方を含むものである。しかし、例えば「プロ
ピル」のような特定のラジカルを記載する場合には、こ
れは直鎖形を特に意味し、分枝鎖形を意図する場合には
、「イソプロピル」のような分枝鎖形の名称を特に用い
る。同じ慣例が他のラジカルにも適用される。
【0026】R1又はR2の特定の値はアルキルである
場合には、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
イソブチル、sec−ブチル、ペンチル又はヘキシルで
あり、シクロアルキルである場合には、例えばシクロプ
ロピル、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
【0027】R1の特定の値は1個以上のフルオロ置換
基を有するアルキルである場合には、例えばフルオロメ
チル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロ
エチル又はペンタフルオロエチルであり;ヒドロキシ、
シクロアルキル、C1〜C4アルコキシ又はフェニル置
換基を有するアルキルである場合には、例えばヒドロキ
シメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチ
ル、シクロプロピルメチル、シクロペンチルメチル、シ
クロヘキシルメチル、2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、ベンジル、1−フェニルエチル又は2−フェ
ニルエチルである。
【0028】R2の特定の値はシクロアルキルーアルキ
ルである場合には、例えばシクロプロピルメチル、シク
ロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル又は2−シク
ロペンチルーエチルであり;フェニルアルキルである場
合には、例えばベンジル、1−フェニルエチル又は2−
フェニルエチルであり;アルコキシカルボニルである場
合には、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル又はプロポキシカルボニルである。
【0029】R3、R4、R5もしくはRaの適当な値
、又はXが上記で定義したようなフェニレンである場合
に存在しうる任意の置換基の特定の値には、例えば下記
のものがある:アルキルとしては、メチルとエチル;ア
ルコキシとしては、メトキシとエトキシ;フルオロアル
コキシとしては、トリフルオロメトキシ、2−フルオロ
エトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ及び3,
3,3−トリフルオロプロポキシ;ハロゲノとしては、
フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨード;アルカノイルア
ミノとしては、ホルムアミド、アセトアミド及びプロパ
ンアミド;アルキルアミノとしては、メチルアミノ、エ
チルアミノ及びブチルアミノ;ジアルキルアミノとして
は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ及びジプロピルル
アミノ;ジアルキルアミノーアルキルとしては、ジメチ
ルアミノメチル、2−(ジメチルアミノ)エチル、2−
(ジエチルアミノ)エチル及び3−(ジエチルアミノ)
プロピル;アルカノイルとしては、ホルミル、アセチル
及びブチリル;N−アルキルカルバモイルとしては、N
−メチルカルバモイルとN−エチルカルバモイル;ジ(
N−アルキル)カルバモイルとしては、N,N−ジメチ
ルカルバモイルとN,N−ジエチルカルバモイル;アル
コキシカルボニルとしては、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル及びプロポキシカルボニル;アルキルチ
オとしては、メチルチオ、エチルチオ及びブチルチオ;
アルキルスルフィニルとしては、メチルスルフィニル、
エチルスルフィニル及びブチルスルフィニル;アルキル
スルホニルとしては、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル及びブチルスルホニル;アミノ、ヒドロキシ又はア
ルコキシ置換基を有するアルキルとしては、ヒドロキシ
メチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチル
、アミノエチル、2−アミノエチル、2−メトキシエチ
ル及び2−エトキシエチル;並びにアルキレンジオキシ
としては、メチレンジオキシとエチレンジオキシ。
【0030】R6の特定の値は生理的に受容されるアル
コール又はフェノールの非毒性生分解性の残基である場
合に、例えばメタノールもしくはエタノールのようなC
1〜C6アルカノール、又はフェノール、グリセロール
等から誘導される残基である。
【0031】R7の特定の値はアルキルである場合に、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル又はペンチルであり、シクロアルキルである場合には
、例えばシクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキ
シルである。
【0032】1個以上のフェニル部分上に存在しうる任
意の置換基の特定の値は、例えばハロゲノとしては、フ
ルオロ、クロロ及びブロモ;アルキルとしては、メチル
とエチル;アルコキシとしては、メトキシとエトキシを
含む。
【0033】特に重要であるXの特定の値は例えばp−
フェニレンである。
【0034】R6又はR5の好ましい値は例えば水素で
あり、R1の好ましい値は例えばメチル、エチル又はプ
ロピルである。
【0035】我々の同時係属出願に述べられた好ましい
化合物群は式Va(下文に記載)[式中、R1、R2、
R3、R4及びR5は前記で定義したそれらの意味を有
し、Z1はカルボキシ、1H−テトラゾルー5−イル、
又は任意にハロゲノ(例えばフルオロ、クロロ又はブロ
モ)、C1〜C4アルキル(例えばメチル又はエチル)
、C1〜C4アルコキシ(例えばメトキシ又はエトキシ
)、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチルから成る群
から独立的に選択された1個又は2個の置換基を含むベ
ンゼンスルホンアミドである]で表される化合物を、そ
れらの非毒性塩と共に含む。
【0036】Z又はZ1の好ましい値は例えばカルボキ
シ又は1H−テトラゾルー5−イルであり、後者が特に
好ましく、特にそれが基Xに対してオルト位置に結合し
た場合が好ましい。
【0037】上記定義における特に好ましい値の組み合
わせは、キノリン部分が結合した置換基R1、R2、R
3及びR4並びに存在する場合のRaと共に次の値:2
−メチルキノリン、2−エチルキノリン、2−エチルー
6−メトキシキノリン、6,7−ジメトキシー2−エチ
ルキノリン、2−エチルー5,6,7−トリメトキシキ
ノリン、2−エチルー6−ヒドロキシキノリン、2−エ
チルー6−メチルチオキノリン、2−エチルー7−ヒド
ロキシメチルキノリン、2−エチルー6−(2−フルオ
ロエトキシ)キノリン、2−エチルー6−(2,2,2
−トリフルオロエトキシ)キノリン、2−エチルー6−
カルボキサミドキノリン、2−エチルー6−フルオロキ
ノリン、2−エチルー6−イソプロポキシキノリン又は
6−アミノメチルー2−エチルキノリンを有し、置換基
O.A.X−がキノリン環の4位置に存在する場合であ
る。
【0038】我々の同時係属出願に開示された、特に好
ましい化合物は2−メチルー4−[(2’−(1H−テ
トラゾルー5−イル)ビフェニルー4−イル)メトキシ
]キノリン、2−エチルー4−[(2’−(1H−テト
ラゾルー5−イル)ビフェニルー4−イル)メトキシ]
キノリン、2−エチルー7−ヒドロキシメチルー4−[
(2’−(1H−テトラゾルー5−イル)ビフェニルー
4−イル)メトキシ]キノリン、2−エチルー6−(2
−フルオロエトキシ)−4−[(2’−(1H−テトラ
ゾルー5−イル)ビフェニルー4−イル)メトキシ]キ
ノリン、2−エチルー6−(2,2,2−トリフルオロ
エトキシ)−4−[(2’−(1H−テトラゾルー5−
イル)ビフェニルー4−イル)メトキシ]キノリン及び
2−エチルー6−イソプロポキシ−4−[(2’−(1
H−テトラゾルー5−イル)ビフェニルー4−イル)メ
トキシ]キノリンと、それらの非毒性塩である。
【0039】式V化合物の全ては適当な酸と共に塩を形
成しうるが、式V化合物(式中、Zはエステル基以外で
あり、R3またはR4はカルボキシ基である)が酸並び
に塩基と共に塩を形成しうることは理解されよう。それ
故、このような化合物の特に適した非毒性塩は生理的に
受容される陽イオンを放出する塩基による塩、例えばア
ルカリ金属(例えばナトリウム及びカリウム)塩、アル
カリ土類金属(例えばマグネシウム及びカルシウム)塩
、アルミニウム塩及びアンモニウム塩、並びに適当な有
機塩基による塩、例えばエタノールアミン、メチルアミ
ン、ジエチルアミン又はトリエチルアミンによる塩、並
びに生理的に受容される陰イオンを形成する酸による塩
、例えば無機酸による塩、例えばハロゲン化水素(例え
ば塩化水素及び臭化水素)による塩、硫酸及びリン酸に
よる塩、強有機酸例えばp−トルエンスルホン酸及びメ
タンスルホン酸による塩を含む。
【0040】式V化合物はEPA412848に、構造
的に類似な化合物の製造のために技術上周知の、有機化
学の多様な標準方法によって得られるとして述べられて
いる。本発明は式Vのキノリン誘導体(式中、Xは任意
に置換されるp−フェニレンであり、Zはテトラゾリル
である)すなわち式VI化合物の製造のための、図式1
に説明する付加的連続工程(a)〜(e)を実施するこ
とによる代替え方法を提供する。式VI化合物と工程(
a)〜(e)で形成される中間体とにおいて、変数R1
、R2、R3、R4、Ra、L1及びL2は前記で定義
した意味を有する。
【0041】工程(a)〜(e)に関して:工程(a)
はトリ(C1〜C6)アルキルスズ又はトリフェニルス
ズアジドを用いて、適当な溶媒例えばトルエンもしくは
キシレンの存在下、例えば50〜150℃の範囲内の温
度において、便利には用いる溶媒の還流温度において実
施され、この後に例えば塩酸等の無機酸のような適当な
酸による処理が実施される。トリ(C1〜C6)アルキ
ルスズ又はトリフェニルスズアジドは対応する置換ハロ
ゲン化スズ(例えばトリブチルスズクロリド)とアルカ
リ金属アジド(例えばアジ化ナトリウム)とから水中、
標準条件下で製造される。
【0042】工程(b)は工程(a)において形成され
た中間体のテトラゾール環の窒素に保護基Pを付着させ
ることによって実施される。例えば、保護基がトリフェ
ニルメチルである場合には、これは工程(a)からの生
成物をトリフェニルメチルクロリドと、例えばトリエチ
ルアミンのような塩基の存在下のジクロロメタン中、標
準条件下、例えば0〜50℃の範囲内の温度においてで
反応させることによって実施される。
【0043】工程(c)は、例えば四塩化炭素のような
適当な溶媒又は希釈剤の存在下、例えばアゾ(ビスイソ
ブチロニトリル)又は過酸化ベンゾイルのようなラジカ
ル開始剤の存在下において、例えばN−ブロモスクシン
イミドのようなハロゲン化剤を用いる、例えば50〜1
00℃の範囲内の温度におけるラジカル臭素化によって
実施される。
【0044】工程(d)は式VIII化合物の工程(c
)生成物によるアルキル化によって実施される。この反
応は一般に、例えばナトリウムメトキシド又はナトリウ
ムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素
化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物又は炭酸ナ
トリウムもしくは炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩のような、適当な塩基の存在下、例えばアルカリ金
属アルコキシドを用いる場合にはメタノールもしくはエ
タノール等のC1〜C4アルカノールのような適当な溶
媒もしくは希釈剤中で、又はN,N−ジメチルホルムア
ミドもしくはN−メチルピロリドンのような極性溶媒中
で実施される。この反応は通常、例えば40〜120℃
の範囲内の温度において実施される。
【0045】工程(e)は保護基Pの性質に依存した多
様な条件を用いて実施される。例えば、保護基がトリフ
ェニルメチルである場合には、分解条件は例えば無機酸
(例えば塩酸水溶液)中、便利には溶媒(例えば水性ジ
オキサン、水性メタノールもしくは水性エタノール、又
は工程(d)で用いた溶媒)中での例えば0〜50℃の
範囲内の温度における、便利には周囲温度におけるもし
くは周囲温度付近における酸触媒作用加水分解を含む。
【0046】工程(a)〜(e)の実施に用いた試薬は
例にすぎず、このような工程の実施に有機化学の分野で
周知の代替え手段である、他の試薬及びトリフェニルメ
チル以外の保護基Pも考えられる。式VIII化合物は
既に公知であり、残りの化合物は例えばエルダーフィー
ルド(Elderfield)編集によるような、複素
環化学の標準研究に述べられているような、技術上周知
の有機化学の標準方法を用いて、又は有機化学全集(O
rg.Syn.、Coll.)、III巻、374頁と
593頁における方法によって、これと同様に製造され
る。
【0047】AIIの生理的作用の1種以上の拮抗(a
ntagonism)、特にAIIとその標的組織に対
する効果を仲介するレセプターとの相互作用の拮抗は下
記のルーチンの実験室方法の1種以上を用いて評価する
ことができる。
【0048】試験A:このインビトロ方法は一定濃度の
放射能標識AIIと、適当なアンギオテンシン標的組織
から調製した細胞表面膜断片とを含む緩衝化混合物中で
の最初は100マイクロモル(micromolar)
(又はそれ以下)の濃度における試験化合物のインキュ
ベーションを含む。この試験では、細胞表面膜の供給源
はAIIに反応することが周知であるモルモット副腎で
ある。放射能標識AIIとそのレセプターとの相互作用
(このような試験において標準的であるような迅速濾過
方法による未結合放射能ラベルの除去後に粒状膜断片に
結合した放射能ラベルとして評価)は膜レセプター部位
に同様に結合する化合物によって拮抗され、拮抗度(膜
結合放射能の排除として試験中に観察される)は特定試
験濃度における試験化合物の存在下でのレセプター結合
放射能を試験化合物の不存在下で測定された対照値と比
較することによって容易に評価される。この方法を用い
て、濃度10−4Mにおいて放射能標識AII結合の少
なくとも50%排除を示す化合物はさらに低濃度におい
てこの効力(potency)を示すか否か、再試験し
た。IC50(放射能標識AII結合を50%排除する
濃度)の測定のために、試験化合物の濃度は予想概略I
C50を中心とした少なくとも4桁の大きさにわたる試
験を可能にするように通常選択し、次に後者の値を試験
化合物の濃度に対する排除率のプロットから算出される
【0049】一般に、上記で定義したような式VI化合
物は50マイクロモルの濃度又はこれより非常に低濃度
において試験Aで有意な阻害を示す。
【0050】試験B:このインビトロ試験は37℃の生
理的塩溶液中に保持した単離ウサギ大動脈のAII誘導
収縮に対する試験化合物の拮抗効果の測定を含む。化合
物の効果がAIIの拮抗に対して特異的であることを保
証するために、ノルアドレナリン誘導収縮に対する試験
化合物の効果も同じ標本(preparation)に
おいて測定することができる。
【0051】一般に、上記で定義した式VI化合物は5
0マイクロモル又はこれより非常に低い最終濃度におい
て試験Bで有意な阻害を示す。
【0052】試験C:このインビボ試験は血圧変化の測
定のために麻酔下で動脈カテーテルを移植した、末梢麻
酔した(terminally−anaestheti
sed)または有意識ラットの使用を含む。経口投与又
は非経口投与後の試験化合物のAII拮抗効果をアンギ
オテンシンII誘導昇圧反応に対して評価する。この効
果が特異的であることを保証するために、バソプレッシ
ン誘導昇圧反応に対する試験化合物の効果も同じ標本に
おいて測定することができる。
【0053】式VI化合物は一般に50mg/体重kg
またはこれより非常に低い用量において試験Cで特異的
なAII拮抗物質特性を示し、明白な毒物学的又はその
他の厄介な薬理学的効果を示さない。
【0054】試験D:このインビボ試験は、低ナトリウ
ム含量食餌の供給と、フルセミドとして公知の塩分排泄
剤の適当な一日量の投与とによる、ラット、マーモセッ
ト及びイヌを含めた多様な種における内因的AII生合
成の刺激を含む。次に試験化合物を、血圧変化の測定の
ために麻酔下で動脈カテーテルを移植した動物に経口投
与又は非経口投与する。一般に、式VI化合物は試験D
おいて50mg/体重kgまたはこれより非常に低い用
量における血圧の有意な低下によって実証されるように
、AII拮抗物質特性を示し、明白な毒物学的又はその
他の厄介な薬理学的効果を示さない。
【0055】式VI化合物のアンギオテンシンII阻害
性を実証して、2−メチル−4−[(2’−(1H−テ
トラゾル−5−イル)ビフェニル−4−イル)メトキシ
]キノリン塩酸塩は上記試験A、B及びCにおいて下記
の結果を生じた: 試験Aでは:1.7x10−8Mの平均IC50;試験
Bでは:8.95の平均pA2; 試験Cでは:0.5mg/kgのED50(静脈内投与
)本発明の他の態様では、上記に関連して図式1で説明
した付加的連続工程(a)、(b)及び(c)を実施し
、次に図式2で説明した付加的工程(f)と(g)を実
施することによる式VII化合物[式中、Alk.はC
3〜C10アルキル基であり;X2は水素、フルオロ、
クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、トリフルオロメチル
及びシアノから成る群から選択され;L1とL2は上記
で定義した意味を有する]とその薬剤学的に受容される
塩との製造方法を提供する。これらの化合物はEPA2
53310からAII拮抗物質として有用であることが
公知である。
【0056】工程(a)、(b)及び(c)が上述のよ
うに実施されうることは理解されよう。工程(f)と(
g)に関して:工程(f)は式VIII化合物[式中、
変数は上記で定義した通りである]の工程(c)の生成
物によるアルキル化によって実施される。この反応は例
えばナトリウムメトキシドもしくはナトリウムエトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド又は水素化ナトリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物のような適当な塩基
の存在下、例えばメタノールもしくはエタノールのC1
〜C4アルカノールのような適当な溶媒もしくは希釈剤
中で、又は例えばN,N−ジメチルホルムアミドのよう
な極性溶媒もしくは希釈剤中で、例えば0〜50℃の範
囲内の温度において実施される。式XIII化合物は例
えばEPA253310に述べられた方法によって得ら
れる。
【0057】本発明を次に下記非限定的例によって説明
する、例中他に指定しないかぎり次のように実施した:
(i)濃縮と蒸発は真空中での回転蒸発によって実施し
た; (ii)操作は室温において、すなわち18〜26℃に
おいて実施した; (iii)記載する場合の収量は読者の理解を助けるた
めのみのものであり、必ずしも入念なプロセス展開によ
って得られる最大値ではない; (iv)1H  NMRスペクトルは通常、CDCl3
中200MHzにおいて内部基準としてテトラメチルシ
ラン(TMS)を用いて測定し、TMSに対するppm
(百万分率、parts  per  million
)での化学シフト(デルタ値)として、主要ピークに対
する通常の略号:s、一重線;m、多重線;t、三重線
;br、幅広線;d、二重線を用いて表現する;及び(
v)「1H−テトラゾルー5−イル」なる用語は「1−
H−1,2,3,4−テトラゾル−5−イル」の意味で
ある。
【0058】例1 トルエン(20ml)中の2−ブロモベンゾニトリル(
1.82g;0.01モル)とテトラキス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム(0)(0.35g;3モル
%)と2M炭酸ナトリウム水溶液(10ml)との溶液
に4−メチルフェニルホウ酸(1.62g;0.012
モル)を加え、混合物を80℃において6時間加熱した
。混合物を冷却し、過酸化水素(30重量%水溶液;0
.5ml)を加えた。混合物を20分間撹拌し、エーテ
ルによって抽出し、抽出物を乾燥した(MgSO4)。 溶媒を蒸発除去し、生じた油状物をシリカ上でのクロマ
トグラフィーによって精製し、15%酢酸エチル/ヘキ
サンによって抽出して、4’−メチルビフェニル−2−
カルボニトリルを固体(1.65g)、m.p.44〜
46℃として得た;NMR(d6−DMSO):2.4
0(s、3H)、7.30(d、2H)、7.35〜7
.55(m、4H)、7.60〜7.65(m、1H)
、7.75(d、1H)。
【0059】例2 4−メチルフェニルホウ酸(30g)、2−ブロモベン
ゾニトリル(36.4g)、塩化パラジウム(II)(
0.4g)、メタノール(200ml)及びトルエン(
200ml)の撹拌混合物に5℃において2M炭酸ナト
リウム水溶液を加えた。温度は約20℃に上昇し、固体
が沈降した。次に、反応混合物を2時間、還流加熱した
。反応混合物を冷却し、水(100ml)を加え、次に
ケイソウ土(5g)を加えた。混合物を15分間撹拌し
、次にケイソウ土を通して濾過した。濾液の有機相を分
離し、2M炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、続いて水で洗
浄した。次に有機相を濾過し、濾液を蒸発させた。生じ
た固体を石油エーテル(b.p.110〜120℃)か
ら再結晶して、例1において得たものと同じの4’−メ
チルビフェニル−2−カルボニトリル(80%収率)を
得た。
【0060】例3 ジオキサン(10ml)と水(1ml)との中の塩化水
素の7.5M溶液に2−ブチル−4−クロロ−5−ヒド
ロキシメチル−1−[(2’−(トリフェニルメチル−
2H−テトラゾル−5−イル)ビフェニル−4−イル)
メチル]イミダゾール(A)(1.0g)を加え、混合
物を周囲温度において1時間撹拌した。揮発性物質を蒸
発除去し、過剰な炭酸ナトリウム溶液を残渣に加え、混
合物をエーテル(2x10ml)で洗浄した。水層を2
M塩酸によってpH3に酸性化して、ジクロロメタンに
よって抽出した。抽出物を乾燥し(MgSO4)、溶媒
を蒸発によって除去した。残留白色泡状物にエーテルを
加えて磨砕し、生じた固体を濾過によって回収し、2−
ブチル−4−クロロ−5−ヒドロキシメチル−1−[(
2’−(1H−テトラゾル−5−イル)ビフェニル−4
−イル)メチル]イミダゾール(0.37g)、m.p
.179〜180℃を得た;NMR(CDCl3):0
.9(t、3H)、1.2〜1.4(m、2H)、1.
5〜1.7(m、2H)、2.6(t、2H)、4.5
(s、2H)、5.2(s、2H)、6.95(d、2
H)、7.15(d、2H)、7.35〜7.55(m
、3H)、7.80〜7.90(m、1H)。
【0061】出発物質(A)は次のようにして得た:(
i)トルエン(20ml)中の4’−メチルビフェニル
ー2−カルボニトリル(0.67g)とトリブチルスズ
アジド(9.3g)との溶液を48時間還流加熱した。 冷却した反応混合物を塩化水素ガスによる飽和によって
酸性化し、氷浴中で冷却した。懸濁した固体を濾過によ
って回収し、トルエンを加えて磨砕して、5−[2−(
4’−メチルビフェニリル)−2H−テトラゾール(B
)、m.p.149〜150℃を90%収率で得た;N
MR(CDCl3/d6−DMSO):2.25(s、
3H)、6.95(d、2H)、7.10(d、2H)
、7.50〜7.70(m、4H)。
【0062】(ii)ジクロロメタン(150ml)中
の化合物Bの撹拌溶液に周囲温度においてトリフェニル
メチルクロリド(18.73g)を加えた。次に、トリ
エチルアミン(10.2ml)を加え、混合物を2.5
時間還流加熱した。反応混合物を冷却し、水で洗浄し、
乾燥した(MgSO4)。溶媒を蒸発によって除去し、
5−[2−(4’−メチルビフェニリル)]−2−トリ
フェニルメチルー2H−テトラゾール(C)(26.7
g)、m.p.166〜168℃を得た;NMR(CD
Cl3):2.25(s、3H)、6.90〜7.00
(m、10H)、7.20〜7.45(m、12H)、
7.85〜7.90(m、1H)。
【0063】(iii)四塩化炭素(10ml)中の化
合物C(0.54g)、N−ブロモスクシンイミド(0
.20g)及びアゾ(ビスイソブチロニトリル)(18
mg)の混合物を3時間還流加熱した。不溶物質を濾過
によって除去し、濾液を濃縮した。残渣を酢酸エチルに
溶解し、水で洗浄し、乾燥した(MgSO4)。溶媒を
蒸発によって除去し、残渣にエーテルを加えて磨砕し、
5−[2−(4’−ブロモメチルビフェニリル)]−2
−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール(D)を白
色固体  m.p.136〜138℃として92%収率
で得た;NMR(CDCl3):4.4(s、2H)、
6.85〜7.10(m、10H)、7.20〜7.4
5(m、12H)、7.95〜8.00(m、1H)。
【0064】(iv)DMF(25ml)中の2−ブチ
ルー4−クロロー5−ヒドロキシメチルイミダゾール(
1.87g)の撹拌溶液にナトリウムメトキシド(0.
54g)を加え、混合物を5℃に冷却した。化合物Dを
撹拌しながら加え、反応混合物を周囲温度において72
時間撹拌した。溶媒を蒸発除去し、残渣を酢酸エチルに
溶解して、水で洗浄した。有機相を乾燥し(MgSO4
)、溶媒を蒸発除去し、残渣をシリカ上でのクロマトグ
ラフィーによって精製し、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1v/v)によって溶離した。このようにして、2−ブ
チル−4−クロロ−5−ヒドロキシメチル−1−[(2
’−(トリフェニルメチル−2H−テトラゾル−5−イ
ル)ビフェニル−4−イル)メチル]イミダゾール(A
)が固体(1.8g)、m.p.89〜93℃として得
られた;NMR(CDCl3):0.85(t、3H)
、1.25(六重線、2H)、1.60〜1.75(m
、2H)、2.50(t、2H)、4.3(s、2H)
、5.0(s、2H)、6.75(d、2H)、6.9
0〜7.00(m、6H)、7.10(d、2H)、7
.20〜7.50(m、12H)、7.90〜7.95
(m、1H)。
【0065】例4 2−メチル−4−[(2’−(2−トリフェニルメチル
−2H−テトラゾル−5−イル)ビフェニル−4−イル
)メトキシ]キノリン(A)(890mg)、、塩化水
素ジオキサンの7.5M溶液(10ml)及び水(1m
l)の混合物を72時間放置した。蒸発によって揮発性
物質を除去し、残渣にエーテル(2x50ml)を加え
て磨砕した。エーテルをデカントし、固体残渣をイソプ
ロパノールから再結晶して、2−メチル−4−[(2’
−(1H−テトラゾル−5−イル)ビフェニル−4−イ
ル)メトキシ]キノリン塩酸塩(370mg)を白色固
体、m.p.188〜190℃として得た:NMR(d
6−DMSO):2.92(s、3H)、5.63(s
、2H)、7.21(d、2H)、7.56〜7.87
(m、8H)、8.07(dt、1H)、8.28(d
d、1H)、8.32(dd、1H);質量スペクトル
[−ve  FAB、DMSO/NBA]:392(M
−H)−、158;微量分析:実測値:C、66.0;
H、4.6;N、15.5%;C24H19N5O・H
Cl・0.5H2Oとしての計算値:C、65.7;H
、4.8;N、16.0%。
【0066】出発物質(A)は次のようにして得た:D
MF(10ml)中の2−メチル−4−キノロン(有機
合成(Org.Syn.)、1955年、全集III巻
(Coll.Vol.III)、374と593頁に述
べられているようにして得られたもの)の撹拌溶液に水
素化ナトリウム(鉱油中60%分散液;90mg)を加
えた。水素の溶解が終わるまで混合物を撹拌し、DMF
(5ml)中の5−[2−(4’−ブロモメチルビフェ
ニリル)]−2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾ
ール(1.2g)の溶液を加えた。混合物を16時間撹
拌した。溶媒を蒸発除去し、残渣を水(20ml)とジ
クロロメタン(2x10ml)とに分配した。有機相を
飽和塩化ナトリウム溶液(5ml)によって洗浄し、乾
燥した(MgSO4)。溶媒を蒸発除去し、生じた油状
物をフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、メ
タノール/ジクロロメタン(1:99v/v)によって
溶離して、2−メチル−4−[(2’−(2−トリフェ
ニルメチル−2H−テトラゾル−5−イル)ビフェニル
−4−イル)メトキシ]キノリン(A)(890mg)
を白色固体m.p.168〜170℃(分解)として得
た;NMR:2.7(s、3H)、5.14(s、2H
)、6.7(s、1H)、6.9(dd、6H)、7.
15〜7.55(複合m、17H)、7.65(dt、
1H)、7.95(m、2H)、8.1(dd、1H)
【0067】例5 例4に述べた方法と同様な方法を用いて、但し2−エチ
ル−4−[2’−(2−トリフェニルメチル−2H−テ
トラゾル−5−イル)ビフェニル−4−イル)メトキシ
]キノリンから出発して、2−エチル−4−[2’−(
1H−テトラゾルー5−イル)ビフェニル−4−イル)
メトキシ]キノリン塩酸塩(A)、m.p.178〜1
81℃(分解)を70%収率で得た;NMR(d6−D
MSO):1.48(t、3H)、3.22(q、3H
)、5.68(s、2H)、7.23(d、2H)、7
.5〜7.8(m、7H)、7.83(t、1H)、8
.08(t、1H)、8.32(t、2H)。 出発物質Aは例4に述べた方法と同様な方法を用いて、
但しそれ自体アニリンとエチルプロピオニルアセテート
とから出発して2−メチル−4−キノロンのために述べ
た方法と同様な方法を用いて得られた2−エチル−4−
キノロンを用いて得た。
【0068】例6 2M炭酸ナトリウム水溶液(15ml)とトルエン(3
8ml)との混合物中の2−ブロモベンゾニトリル(2
.73g)とテトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム(0)(0.525g)との溶液に、4−メチ
ル−3−ニトロ−フェニルホウ酸(J.A.C.S.、
1932、54、4415に述べられたようにして得た
もの)(3.0g)を加えた。この混合物を100℃に
16時間加熱してから、冷却した。この混合物を酢酸エ
チルによって抽出し、抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液
によって洗浄し、乾燥した。溶媒を蒸発除去し、生じた
淡褐色固体を酢酸エチルから再結晶して、4’−メチル
−3’−ニトロビフェニル−2−カルボニトリルを固体
(3.13g)、m.p.155〜156℃として得た
;NMR(CDCl3):2.68(s、3H)、7.
44〜7.86(複合m、6H)、8.14(d、1H
);微量分析:実測値:C、70.3;H、4.0;N
、11.8%;C14H10N2O2としての計算値:
C、70.6;H、4.2;N、11.8%。
【0069】化学式
【0070】
【0071】図式1
【0072】
【0073】注釈:Pは保護基、例えばトリフェニルメ
チル(Tr)である。
【0074】図式2
【0075】

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式I: [式中、L1とL2は水素、C1〜C4アルキル、C1
    〜C4アルコキシ、ハロゲノ、トリフルオロメチル、シ
    アノ及びニトロから成る群から独立的に選択される]で
    表されるビフェニルカルボニトリルの製造方法であって
    、式II: [式中、L1は前記で定義した意味を有し、Q1とQ2
    はヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C6アル
    キル及び任意にC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコ
    キシもしくはハロゲノによって置換されてもよいフェニ
    ルから成る群から選択される;又はQ1はQ2と共にホ
    ウ素原子に結合したC1〜C4アルキレンジオキシ基を
    形成し、この中のメチレン基は任意に1〜2個のC1〜
    C4アルキル基を有していてもよい;又はQ1とQ2は
    それらが結合したホウ素と共に式IIa: (式中、L1は前記で定義した意味を有する)で表され
    るボロキシン環を形成する]で表されるホウ素化合物を
    、式III: [式中、X1はブロモ、ヨード又はトリフルオロメタン
    スルホニルオキシ基であり、L2は前記で定義した意味
    を有する]で表される化合物と、塩基の存在下及びパラ
    ジウム(0)、パラジウム(II)、ニッケル(0)及
    びニッケル(II)触媒から成る群から選択された触媒
    の存在下、任意にラジカル開始剤の存在下及び任意に塩
    化リチウムの存在下で反応させることを含む方法。
  2. 【請求項2】  出発物質において、L1とL2が水素
    、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フルオロ、ク
    ロロ、ブロモ、ヨード、トリフルオロメチル、シアノ及
    びニトロから成る群から独立的に選択され;Q1とQ2
    がヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、メチル、エチル、
    プロピル、ブチル及び、メチル、エチル、メトキシ、エ
    トキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ又はヨード基によっ
    て任意に置換されていてもよいフェニルから成る群から
    独立的に選択され;又はQ1とQ2はそれらが結合した
    ホウ素と共に式IIa(式中、L1は前記で定義した意
    味を有する)で表されるボロキシン環を形成する;また
    触媒が、触媒中のパラジウム又はニッケル原子がトリフ
    ェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、ハロゲ
    ノ及びアセチルオキシから成る群から独立的に選択され
    た4基に結合するパラジウム(0)、パラジウム(II
    )、ニッケル(0)又はニッケル(II)触媒であるか
    、又はハロゲン化パラジウム(II)もしくはハロゲン
    化ニッケル(II)である請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  出発物質において、Q1とQ2が両方
    ともヒドロキシであるか又はQ1とQ2がそれらが結合
    したホウ素と共に式IIa(式中、L1は請求項1又は
    2で定義した意味を有する)で表されるボロキシン環を
    形成し;X1がブロモ又はヨードであり、存在する触媒
    がテトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(0
    )、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)
    クロリド、塩化ニッケル(II)、ビス(トリフェニル
    ホスフィン)パラジウム(II)クロリド、テトラキス
    (トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)及び塩化
    パラジウム(II)から成る群から選択される請求項1
    又は2記載の方法。
  4. 【請求項4】  触媒がテトラキス(トリフェニルホス
    フィン)パラジウム(0)又は塩化パラジウム(II)
    である請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】  塩基がアルカリ金属炭酸塩、トリエチ
    ルアミン又はこれらの混合物である請求項1〜4のいず
    れかに記載の方法。
  6. 【請求項6】  溶媒が水、トルエン及びメタノールの
    混合物である請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
  7. 【請求項7】  L1とL2が請求項1又は2のいずれ
    かで定義された意味を有する式Iの新規なビフェニルカ
    ルボニトリル。
  8. 【請求項8】  請求項1〜6のいずれかで定義された
    方法によって製造される新規なビフェニルカルボニトリ
    ル又はその明らかな化学的同等物。
  9. 【請求項9】  式VI: [式中、R1は水素、C1〜C8アルキル、C3〜C8
    シクロアルキル、フェニル又は、1個もしくは2個以上
    のフルオロ置換基を含むか又はC3〜C8シクロアルキ
    ル、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシもしくはフェニ
    ル置換基を有する置換C1〜C4アルキルであり;R2
    は水素、C1〜C8アルキル、C3〜C8シクロアルキ
    ル、C3〜C8シクロアルキルー(C1〜C4)アルキ
    ル、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカルボニル、シ
    アノ、ニトロ、フェニル又はフェニル(C1〜C4)ア
    ルキルであり;R3とR4は水素、C1〜C4アルキル
    、C1〜C4アルコキシ、フルオロ(C1〜C4)アル
    コキシ、ハロゲノ、ヒドロキシ、トリフルオロメチル、
    シアノ、ニトロ、アミノ、(C1〜C4)アルカノイル
    アミノ、C6までのアルキルアミノとジアルキルアミノ
    、C3〜C8のジアルキルアミノーアルキル、C1〜C
    4アルカノイル、カルバモイル、C7までのN−アルキ
    ルカルバモイルとジー(N−アルキル)カルバモイル、
    カルボキシ、C1〜C4アルコキシカルボニル、C1〜
    C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルフィニル、
    C1〜C6アルキルスルホニル、及びアミノ、ヒドロキ
    シもしくはC1〜C4アルコキシ置換基を有する置換C
    1〜C4アルキルから成る群から独立的に選択されるか
    ;又はR3とR4は一緒に式Vのベンゼン部分の隣接炭
    素原子に結合したC1〜C4アルキレンジオキシを形成
    する;Raは水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4ア
    ルコキシ、ハロゲノ、トリフルオロメチル、シアノ及び
    ニトロから成る群から選択される;L1とL2は請求項
    1又は2で定義した意味を有する;Zは1H−テトラゾ
    ルー5−イルである;そして前記フェニル部分は非置換
    であるか、又はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコ
    キシ、ハロゲノ、シアノ及びトリフルオロメチルから成
    る群から独立的に選択された1個もしくは2個の置換基
    を有してもよい]で表される化合物又はその非毒性塩の
    製造方法において、次の工程: (i)式IIのホウ素化合物を、QとX1が請求項1で
    定義した意味を有する式IIIの化合物と、塩基の存在
    下及びパラジウム(0)、パラジウム(II)、ニッケ
    ル(0)及びニッケル(II)触媒から成る群から選択
    された触媒の存在下、任意にラジカル開始剤の存在下及
    び任意に塩化リチウムの存在下で反応させて、式Iの化
    合物を得る工程; (ii)前記式Iの化合物をトリ(C1〜C6)アルキ
    ルスズアジド又はトリフェニルスズアジドと溶媒の存在
    下で反応させ、次に酸で処理して式IX: で表される化合物を得る工程; (iii)前記式IXの化合物のテトラゾール環に保護
    基を導入して、式X: [式中、Pは保護基である]で表される化合物を得る工
    程; (iv)前記式Xの化合物を臭素化剤(bromina
    ting  agent)とラジカル開始剤の存在下で
    反応させて、式XI: で表される化合物を得る工程; (v)式VIII: で表される化合物を前記式XIの化合物によってアルキ
    ル化して、式XII: で表される化合物を得る工程;及び (vi)前記式XIIの化合物から保護基Pを除去して
    、前記式VIの化合物を得、式VIの化合物の非毒性塩
    を必要とする場合には、この後に生理的に受容されるイ
    オンを生ずる適当な酸もしくは塩基との反応によって、
    又は他の慣用的な塩形成方法によって非毒性塩を得る工
    程(上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、Ra、
    L1及びL2は上記で定義した意味を有するものとする
    )を実施することを特徴とする方法。
  10. 【請求項10】  式VII: [式中、Alk.はC3〜C10アルキル基であり、X
    2は水素、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ
    、トリフルオロメチル及びシアノから成る群から選択さ
    れ;L1とL2は請求項1又は2で定義した意味を有す
    る]で表される化合物の製造方法であって、請求項9で
    定義した工程(i)、(ii)、(iii)及び(iv
    )を実施して式XIの化合物を得た後、次の工程: (a)式XIII: で表される化合物を前記式XIの化合物によってアルキ
    ル化して、式XIV: で表される化合物を得る工程;及び (b)前記式XIVの化合物から保護基Pを除去して前
    記式VIIの化合物を得、式VIIの化合物の薬剤学的
    に受容される塩を必要とする場合には、この後に生理的
    に受容されるイオンを生ずる適当な酸もしくは塩基との
    反応によって、又は他の慣用的な塩形成方法によってこ
    の薬剤学的に受容される塩を得る工程(上記式中、Al
    k.、X2、L1及びL2は上記で定義した意味を有す
    る)を実施することを特徴とする方法。
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