JPH04244080A - ビフエニルカルボニトリルの製法 - Google Patents

ビフエニルカルボニトリルの製法

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JPH04244080A
JPH04244080A JP3199043A JP19904391A JPH04244080A JP H04244080 A JPH04244080 A JP H04244080A JP 3199043 A JP3199043 A JP 3199043A JP 19904391 A JP19904391 A JP 19904391A JP H04244080 A JPH04244080 A JP H04244080A
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alkyl
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phenyl
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JP3199043A
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David Anthony Roberts
デーヴィッド アンソニー ロバーツ
Simon Thomas Russell
サイモン トーマス ラッセル
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Imperial Chemical Industries Ltd
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Imperial Chemical Industries Ltd
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    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A61P9/12Antihypertensives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C253/00Preparation of carboxylic acid nitriles
    • C07C253/30Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規の化学的方法に関
し、かつ特にビフェニルカルボニトリルの新規化学的製
法に関し、これは、例えばアンジオテンシン(angi
otensin)II(AII)の作用を抑制する公知
イミダゾール誘導体及び新規キノリン誘導体の製造にお
ける化学的中間体として有用であり、従って、この誘導
体は、疾病及び医学的病気、例えば高血圧症又は欝血性
心不全の治療に有用である。更に、本発明は、前記新規
キノリン誘導体の製法を包含し、かつ新規ビフェニルカ
ルボニトリルにも関する。
【0002】
【従来の技術】欧州特許出願公開(A2)第25331
0号明細書(以後EPA253310)には、AII抑
制剤として有用な置換イミダゾール誘導体の製造が記載
されている。特定のこれらの化合物の製造に有用な中間
体には、特にビフェニルカルボニトリルが包含される。 このようなビフェニルカルボニトリル、4′−メチルビ
フェニル−2−カルボニトリルの製造は、EPA253
310中に記載されている。これは、4′−メチルビフ
ェニル−2−カルボン酸の形成を必要とし、カルボン酸
基の段階的官能化を続ける多−工程法によって得られる
。 EPA253310では、出発酸は、例えばウルマン(
Ullmann)のカップリング反応により、相応する
エステルを得、次いでこれを加水分解するか、又は数工
程を含む方法を介して得られた2−(4′−メチルビフ
ェニル−2−イル)−4,4−ジメチルオキサゾリン自
体の加水分解から製造される。更に、4−メチルフェニ
ル亜鉛クロリドを介しての4′−メチル−6−シアノビ
フェニル−2−カルボニトリルの製造は、欧州特許出願
公開(EPA)第324377号明細書中に記載されて
いる。
【0003】
【課題を解決するための手段】ところで、4′−メチル
ビフェニルカルボニトリルの好都合でかつ有用な製法を
発見した。
【0004】本発明によれば、式I:
【0005】
【化14】
【0006】[式中、L1は、水素、(C1〜C4)ア
ルキル、(C1〜C4)アルコキシ、ハロゲン、トリフ
ルオロメチル、シアノ及びニトロから選択され;L2は
、水素、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アル
コキシ、トリフルオロメチル及びシアノから選択される
]のビフェニルカルボニトリルの製法が提供され、これ
は、式II:
【0007】
【化15】
【0008】[式中、L1は、前記のものを表わし、か
つYは、銅又はリチウム原子又は次のものから選択され
る特別な離脱基を表わす: (a)式:M1(Q1)(Q2)(Q3)(ここでM1
は、スズ原子を表わし、かつQ1、Q2及びQ3は、そ
れぞれ独立して(C1〜C6)アルキル及びフェニルか
ら選択され、フェニルは、場合により(C1〜C4)ア
ルキル、(C1〜C4)アルコキシ又はハロゲン基によ
り置換されていてよく;又はM1は、ケイ素原子を表わ
し、かつQ1は、メチル又はフッ素を表わし、かつQ2
及びQ3は、共にフッ素を表わし;又はM1は、ジルコ
ン原子を表わし、かつQ1は、ハロゲンを表わし、かつ
Q2及びQ3は、共にシクロペンタジエニル基を表わす
)の基;(b)式:M2(Q4)(Q5)(ここでM2
は、アルミニウム原子を表わし、かつQ4及びQ5は、
それぞれ独立して(C1〜C6)アルキル及びフェニル
から選択され、フェニルは、場合により(C1〜C4)
アルキル、(C1〜C4アルコキシ)又はハロゲン基に
より置換されていてもよく;又はM2は、タリウム原子
を表わし、かつQ4及びQ5は、それぞれ独立してハロ
ゲン、トリフルオロアセチルオキシ及びアセチルオキシ
から選択される)の基;及び (c)式:M3(Q6)(ここでM3は、水銀原子を表
わし、かつQ6は、ハロゲン、トリフルオロアセチルオ
キシ又はアセチルオキシ基を表わし;又はM3は、マグ
ネシウム原子を表わし、かつQ6は、ハロゲンを表わす
)の基]の化合物と、式III:
【0009】
【化16】
【0010】[X1は、臭素、ヨウ素又はトリフルオロ
メタンスルホニルオキシ基を表わし、かつL2は、前記
のものを表わす]の化合物とを、パラジウム(0)、パ
ラジウム(II)、ニッケル(0)及びニッケル(II
)触媒から選択された触媒の存在下で、場合によりラジ
カル開始剤の存在下で、かつ場合により塩化リチウムの
存在下で(かつ式中、M1がケイ素原子である場合、場
合によりフッ素イオン源が存在している)反応させるこ
とよりなる。
【0011】一般用語、例えば「アルキル」は、炭素数
が許容する限り、直鎖状及び分枝鎖状形のどちらも包含
することが分かる。しかしながら、特殊な基、例えば「
ブチル」は、直鎖形に特異的である。
【0012】適当なL1又はL2に特に有利なものには
、例えばアルキル:メチル及びエチル;アルコキシ:メ
トキシ及びエトキシ;及びハロゲン:フッ素、塩素、臭
素及びヨウ素が包含される。
【0013】Q1、Q2、Q3、Q4又はQ5に特に有
利なものは、これがアルキルである場合、例えばメチル
、エチル、プロピル又はブチルである。
【0014】Q1、Q4、Q5又はQ6に特に有利なも
のは、これがハロゲンである場合、例えばフッ素、塩素
、臭素又はヨウ素である。
【0015】Q1、Q2、Q3、Q4又はQ5上のフェ
ニルである場合のその上に存在しうる置換基は、例えば
次のものである:アルキルの例はメチル又はエチル、ア
ルコキシの例はメトキシ又はエトキシ;及びハロゲンの
例はフッ素、塩素、臭素又はヨウ素。
【0016】M1がケイ素原子である場合に、場合によ
り存在するフッ化物イオンの特別な源は、例えば次のも
のである:アルカリ金属フッ化物、例えばフッ化ナトリ
ウム、フッ化カリウム又はフッ化セシウム、又はテトラ
(C1〜C4)アルキルアンモニウムフルオリド、例え
ばテトラメチルアンモニウムフルオリド又はテトラブチ
ルアンモニウムフルオリド。
【0017】X1の有利なものは、例えば臭素又はヨウ
素であり、かつ特にこれがニトリルに対してオルト位に
存在する場合である。
【0018】L1の有利なものは、例えば水素又はメト
キシである。
【0019】L2の有利なものは、例えば水素である。
【0020】M1の有利なものは、例えばこれがスズ原
子である場合である。
【0021】Q1、Q2又はQ3に有利なものは、例え
ば(C1〜C4)−アルキル、例えばメチル又はブチル
である。
【0022】Yの有利なものは、例えばM1(Q1)(
Q2)(Q3)[式中、M1、Q1、Q2及びQ3は、
前記のものを表わす]である。
【0023】基 M1(Q1)(Q2)(Q3)の特に
有利なものは、M1がスズ原子を表わし、かつQ1、Q
2及びQ3が、それぞれ独立して(C1〜C4)アルキ
ル基、特にブチルを表わす場合である。
【0024】好適な触媒には、例えばパラジウム(0)
、パラジウム(II)、ニッケル(0)及びニッケル(
II)触媒(ここで金属原子は、それぞれ独立してトリ
フェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、ハロ
ゲン及びアセチルオキシから選択された基4個に結合し
ている);又はパラジウム(II)ハロゲン化物又はニ
ッケル(II)ハロゲン化物が包含される。
【0025】特別な触媒には、例えば次のものが包含さ
れる:テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル
(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(I
I)クロリド、塩化ニッケル(II)、塩化パラジウム
(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(II)クロリド及びテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウム(0)。
【0026】パラジウム(0)又はニッケル(0)触媒
が有利であり、パラジウム(0)触媒、例えばテトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)は、特
に有利である。
【0027】好適なラジカル開始剤は、例えばアゾ(ビ
スイソブチロニトリル)である。
【0028】この方法は、一般に、適当な溶剤又は希釈
剤、例えば炭化水素、例えばトルエン又はキシレン、又
はエーテル、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン
の存在下で、かつ例えば20〜150℃の範囲の温度で
行なわれる。この方法は、ラジカル開始剤の存在下でも
有利に実施される。
【0029】本発明の方法は、4′−メチルビフェニル
−2−カルボニトリルを製造するためのEPA2533
10に記載の方法よりかなり短縮されることが明らかで
ある。本発明の方法により、中間体製造において一般に
特に高い温度が要求され、かつ一般に容易に入手できな
いヨードベンゼンを用いて実施されるウルマンカップリ
ング反応の使用が避けられる。オキサゾリン化合物を必
要とする任意の方法も避けられる。更に、本発明に必要
な出発物質は、市場でか又は有機化学の標準法により容
易に入手できる。
【0030】前記定義のような式IIの化合物は、公知
であるか又はそれと同様にして、又は例えば式:Y.H
al[式中、Yは、前記のものを表わし、かつHalは
、ハロゲン基、例えば塩素、臭素又はヨウ素を表わす]
の化合物とグリニヤル試薬又は誘導されたフェニルリチ
ウム化合物との反応により、標準法を用いて、式IV:
【0031】
【化17】
【0032】[式中、L1は、前記のものを表わし、W
は、ハロゲン基、例えば塩素、臭素又はヨウ素を表わす
]の化合物から得ることができる。この反応は、一般に
、溶剤、例えばテトラヒドロフラン又はエーテル、又は
それらの混合物中で、かつ−78℃〜25℃の温度で実
施される。式IIIの化合物は、公知であるか又は有機
化学の標準法を用いて得られる。
【0033】本発明のもう1つの態様は、AIIを抑制
し、かつ同時係属出願欧州特許(EPA)第41284
8号明細書に記載されている前記の新規キノリン誘導体
の新規の製法に関する。そこには、一連の式V:
【00
34】
【化18】
【0035】[式中、R1は、水素、(C1〜C8)ア
ルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、フェニル又は
置換された(C1〜C4)アルキルを表わし、置換され
た(C1〜C4)アルキルは、1個以上のフッ素置換基
を有するか、又は(C3〜C8)シクロアルキル、ヒド
ロキシ、(C1〜C4)アルコキシ又はフェニル置換基
を有し;R2は、水素、(C1〜C8)アルキル、(C
3〜C8)シクロアルキル、(C3〜C8)シクロアル
キル−(C1〜C4)アルキル、カルボキシ、(C1〜
C4)アルコキシカルボニル、シアノ、ニトロ、フェニ
ル又はフェニル(C1〜C4)アルキルを表わし;R3
及びR4は、それぞれ独立して水素、(C1〜C4)ア
ルキル、(C1〜C4)アルコキシ、フルオロ(C1〜
C4)アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、トリフルオ
ロメチル、シアノ、ニトロ、アミノ、(C1〜C4)ア
ルカノイルアミノ、炭素原子6個までのアルキルアミノ
及びジアルキルアミノ、炭素原子3〜8個までのジアル
キルアミノ−アルキル、(C1〜C4)アルカノイル、
カルバモイル、炭素原子7個までのN−アルキルカルバ
モイル及びジ−(N−アルキル)カルバモイル、カルボ
キシ、(C1〜C4)アルコキシカルボニル、(C1〜
C6)アルキルチオ、(C1〜C6)アルキルスルフィ
ニル、(C1〜C6)アルキルスルホニル及び置換され
た(C1〜C4)アルキルから選択され、置換された(
C1〜C4)アルキルは、アミノ、ヒドロキシ又は(C
1〜C4)アルコキシ置換基を有しているか;又はR3
とR4は、一緒になって式Vのベンゼン部の隣接炭素原
子に結合した(C1〜C4)アルキレンジオキシを形成
し;Ra及びR5は、それぞれ独立して水素、(C1〜
C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、ハロゲン
、トリフルオロメチル、シアノ又はニトロから選択され
;Aは、メチレンを表わし;Xは、場合により(C1〜
C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、ハロゲン
、トリフルオロメチル、シアノ及びニトロから選択され
た置換基を有しているフェニレンを表わすか、又はXは
、隣接フェニル基と部分Aとの間の直接結合であり;Z
は、1H−テトラゾール−5−イル、−CO.NH.(
1H−テトラゾール−5−イル)又は式:−CO.OR
6又は−CO.NH.SO2.R7(ここでR6は、水
素又は無害の、生理学的に認容性のアルコール又はフェ
ノールの生物学的に分解可能な残分であり、かつR7は
、(C1〜C6)アルキル、(C3〜C8)シクロアル
キル又はフェニルを表わす)を表わし;かつここで前記
のフェニル部は、非置換であるか、又はそれぞれ独立し
て(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ
、ハロゲン、シアノ及びトリフルオロメチルから選択さ
れた置換基1個又は2個を有する]のキノリン誘導体又
はそれらの無害の塩(しかしメチル2−[(3−メトキ
シカルボニルキノリン−4−イルオキシ)−メチル]安
息香酸塩を除く)が記載されている。
【0036】式Vの化合物は、置換基の種類に依って、
1個以上のキラル中心を有し、かつ1個以上のラセミ形
又は光学活性形に単離されていてよい。
【0037】更に、式Vの化合物中、一般用語、例えば
「アルキル」は、炭素数が許容する限り、直鎖形も分枝
鎖形も包含する。しかしながら、特殊な基、例えば「プ
ロピル」が与えられている場合には、これは、直鎖形に
特異的であり、分枝鎖形、例えば「イソプロピル」は、
特別にそれを表わすように呼称した。同様の慣例が他の
基にも当てはまる。
【0038】R1又はR2がアルキルである場合の特に
有利な例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、s−ブチル、ペンチル又はヘキシルであり;こ
れがシクロアルキルである場合の例は、シクロプロピル
、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
【0039】R1がフッ素置換基1個以上を有するアル
キルである場合の特に有利な例は、フルオロメチル、ト
リフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル又
はペンタフルオロエチルであり;かつこれがヒドロキシ
、シクロアルキル、(C1〜C4)アルコキシ又はフェ
ニル置換基を有するアルキルである場合の例は、ヒドロ
キシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエ
チル、シクロプロピルメチル、シクロペンチルメチル、
シクロヘキシルメチル、2−メトキシエチル、2−エト
キシエチル、ベンジル、1−フェニルエチル又は2−フ
ェニルエチルである。
【0040】R2がシクロアルキル−アルキルである場
合の特に有利な例は、シクロプロピルメチル、シクロペ
ンチルメチル、シクロヘキシルメチル又は2−シクロペ
ンチル−エチルであり;これがフェニルアルキルである
場合の例は、ベンジル、1−フェニルエチル又は2−フ
ェニルエチルであり;かつこれがアルコキシカルボニル
である場合の例は、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル又はプロポキシカルボニルである。
【0041】R3、R4、R5又はRaの、又は前記の
ようにXがフェニレンである場合に存在していてもよい
置換基の適当なものには、例えば次のものが包含される
:アルキル即ちメチル及びエチル;アルコキシ即ちメト
キシ及びエトキシ;フルオロアルコキシ即ちトリフルオ
ロメトキシ、2−フルオロエトキシ、2,2,2−トリ
フルオロエトキシ及び3,3,3−トリフルオロプロポ
キシ;ハロゲン即ちフッ素、塩素、臭素及びヨウ素;ア
ルカノイルアミノ即ちホルムアミド、アセトアミド及び
プロパンアミド;アルキルアミノ即ちメチルアミノ、エ
チルアミノ及びブチルアミノ;ジアルキルアミノ即ちジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ及びジプロピルアミノ;
ジアルキルアミノ−アルキル即ちジメチルアミノメチル
、2−(ジメチルアミノ)エチル、2−(ジエチルアミ
ノ)エチル及び−3(ジエチルアミノ)プロピル;アル
カノイル即ちホルミル、アセチル及びブチリル;N−ア
ルキルカルバモイル即ちN−メチル及びN−エチルカル
バモイル;ジ(N−アルキル)カルバモイル即ちN,N
−ジメチルカルバモイル及びN,N−ジエチルカルバモ
イル;アルコキシカルボニル即ちメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル及びプロポキシカルボニル;アルキ
ルチオ即ちメチルチオ、エチルチオ及びブチルチオ;ア
ルキルスルフィニル即ちメチルスルフィニル、エチルス
ルフィニル及びブチルスルフィニル;及びアルキルスル
ホニル即ちメチルスルホニル、エチルスルホニル及びブ
チルスルホニル;アミノ、ヒドロキシ又はアルコキシ置
換基を有するアルキル即ちヒドロキシエチル、1−ヒド
ロキシエチル、2−ヒドロキシエチル、アミノメチル、
2−アミノエチル、2−メトキシエチル及び2−エトキ
シエチル;及びアルキレンジオキシ即ちメチレンジオキ
シ及びエチレンジオキシ。
【0042】R6が無害の、生理学的に認容性のアルコ
ール又はフェノールの生物学的に分解可能な残分である
場合の特に有利な例は、例えば(C1〜C6)アルカノ
ール、例えばメタノール又はエタノール、又はフェノー
ル、グリセロール又は同様のものから誘導された残分で
ある。
【0043】R7がアルキルである場合の特に有利な例
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
又はペンチルであり;かつこれがシクロアルキルである
場合は、例えばシクロブチル、シクロペンチル又はシク
ロヘキシルである。
【0044】1個以上のフェニル部上に存在していても
よい置換基の特に有利なものには、例えば次のものが包
含される:ハロゲン即ちフッ素、塩素及び臭素;アルキ
ル即ちメチル及びエチル;及びアルコキシ即ちメトキシ
及びエトキシ。
【0045】特に重要であるXの特に有用なものの例は
、例えばp−フェニレンである。
【0046】R6又はR5に好適なものの例は、例えば
水素であり、かつR1に好適なものは、例えばメチル、
エチル又はプロピルである。
【0047】同時係属出願明細書に記載の化合物の有利
な群は、式Va:
【0048】
【化19】
【0049】[式中、R1、R2、R3、R4及びR5
は、前記のものを表わし、かつZ1は、カルボキシ、1
H−テトラゾール−5−イル又はベンゼンスルホンアミ
ドを表わし、このベンゼンスルホンアミドは、場合によ
りそれぞれ独立してハロゲン(例えばフッ素、塩素又は
臭素)、(C1〜C4)アルキル(例えばメチル又はエ
チル)、(C1〜C4)アルコキシ(例えばメトキシ又
はエトキシ)、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチル
から選択された置換基1個又は2個を有している]の化
合物並びにそれらの無害の塩から成る。
【0050】Z又はZ1に有利なものの例は、カルボキ
シル又は1H−テトラゾール−5−イルであり、この1
H−テトラゾール−5−イルは、特に基Xに対してオル
ト位に結合する場合、特に有利である。
【0051】前記の定義における、得に有利な組合せは
、結合した置換基R1、R2、R3及びR4及び存在す
る場合Raと一緒になったキノリン部が次の任意のもの
を有し:2−メチルキノリン、2−エチルキノリン、2
−エチル−6−メトキシキノリン、6,7−ジメトキシ
−2−エチルキノリン、2−エチル−5,6,7−トリ
メトキシキノリン、2−エチル−6−ヒドロキシキノリ
ン、2−エチル−6−メチルチオキノリン、2−エチル
−7−ヒドロキシメチルキノリン、2−エチル−6−(
2−フルオロエトキシ)キノリン、2−エチル−6−(
2,2,2−トリフルオロエトキシ)−キノリン、2−
エチル−6−カルボキシアミドキノリン、2−エチル−
6−フルオロキノリン、2−エチル−6−イソプロポキ
シキノリン又は6−アミノメチル−2−エチルキノリン
;かつここで置換基O.A.X−は、キノリン環の4−
位に結合している。
【0052】同時係属出願明細書に記載の化合物は、特
に次のものが有利である:2−メチル−4−[(2′−
(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イ
ル)メトキシ]キノリン、2−エチル−4−[(2′−
(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イ
ル)メトキシ]キノリン、2−エチル−7−ヒドロキシ
メチル−4−[(2′−(1H−テトラゾール−5−イ
ル)ビフェニル−4−イル)メトキシ]キノリン、2−
エチル−6−(2−フルオロエトキシ)−4−[(2′
−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−
イル)メトキシ]キノリン、2−エチル−6−(2,2
,2−トリフルオロエトキシ)−4−[(2′−(1H
−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メ
トキシ]キノリン及び2−エチル−6−イソプロポキシ
−4−[(2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビ
フェニル−4−イル)メトキシ]キノリン、更にその無
害の塩。
【0053】式Vの化合物の全ては、適当な酸との塩を
形成することができるが、式V[式中Zは、エステル基
以外を表わすか、又はここでR3又はR4は、カルボキ
シ基を表わす]の化合物が酸並びに塩基との塩を形成し
うることが分かる。従って、このような化合物の特に好
適な無害の塩には、例えば次のものが包含され:相応す
る生理学的に認容性のカチオンとの塩、例えばアルカリ
金属(例えばナトリウム及びカリウム)−、アルカリ土
類金属(例えばマグネシウム及びカルシウム)−、アル
ミニウム−及びアンモニウム塩並びに適当な有機塩基、
例えばエタノールアミン、メチルアミン、ジエチルアミ
ン又はトリエチルアミンとの塩、並びに生理学的に認容
性のアニオンを形成する酸との塩、例えば鉱酸との塩、
例えばハロゲン化水素(例えば塩化水素及び臭化水素)
、硫酸及びリン酸との塩、及び強有機酸、例えばp−ト
ルエンスルホン酸及びメタンスルホン酸との塩。
【0054】式Vの化合物は、同様の化合物の製造技術
に公知の有機化学の種々の標準法によって得られるもの
として同時係属出願明細書に記載されている。本発明は
、反応式1:
【0055】
【化20】
【0056】に記載の付加的連続工程(a)〜(e)を
実施することにより、式V[式中、Xは、場合により置
換されたp−フェニレンを表わし、かつZは、テトラゾ
リルを表わす]のキノリン誘導体即ち式VI:
【005
7】
【化21】
【0058】の化合物を製造するための任意の方法を提
供する。式VIの化合物及び工程(a)〜(e)で形成
された中間体中、記号R1、R2、R3、R4、Ra、
L1及びL2は、前記のものを表わす。
【0059】工程(a)〜(e)に関して:工程(a)
は、トリ(C1〜C6)アルキルスズアジド又はトリフ
ェニルスズアジドを用いて、適当な溶剤、例えばトルエ
ン又はキシレンの存在下で、例えば50〜150℃の範
囲の温度で、かつ有利には使用溶剤の還流温度で実施さ
れ、引き続き、適当な酸、例えば鉱酸、例えば塩酸を用
いてこれを処理する。トリ(C1〜C6)アルキルスズ
アジド又はトリフェニルスズアジドは、水中の相応して
置換されたハロゲン化スズ(例えば塩化トリブチルスズ
)及びアルキル金属アジド(例えばアジ化ナトリウム)
から、標準条件下で製造される。
【0060】工程(b)は、工程(a)で形成された中
間体のテトラゾールの窒素に添加される保護基Pにより
実施される。例えば保護基がトリフェニルメチルである
場合、これは塩基、例えばトリエチルアミンの存在下で
、標準条件下に、かつ例えば0〜50℃の範囲の温度で
、工程(a)からの生成物と塩化トリフェニルメチルと
をジクロロメタン中で反応させることにより実施される
【0061】工程(c)は、ラジカル開始剤、例えばア
ゾ(ビスイソブチロニトリル)又は過酸化ベンゾイルの
存在下で、適当な溶剤又は希釈剤、例えば塩素化された
溶剤、例えば四塩化炭素の存在下で、例えば50〜10
0℃の範囲の温度で、ハロゲン化剤、例えばN−ブロモ
スクシンイミドを用いるラジカル臭素化により実施され
る。
【0062】工程(d)は、式VIII:
【0063】
【化22】
【0064】の化合物を工程(c)の生成物を用いてア
ルキル化することにより実施される。この反応は、一般
に、例えば適当な塩基、例えばアルカリ金属アルコキシ
ド、例えばナトリウムメトキシド又は−エトキシド、ア
ルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウム又はアル
カリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ムの存在下で、アルカリ金属アルコキシドを使用する場
合には、適当な溶剤又は希釈剤、例えば(C1〜C4)
アルカノール、例えばメタノール又はエタノール中で、
又は極性溶剤、例えばN,N−ジメチルホルムアミド又
はN−メチルピロリドン中で行なわれる。通常、反応は
、例えば40〜120℃の範囲の温度で行なわれる。
【0065】工程(e)は、保護基Pの種類に応じて種
々の条件を用いて実施される。例えばこれがトリフェニ
ルメチルである場合には、分解条件は、鉱酸(例えば塩
酸水)中、有利には溶剤(例えばジオキサン水、メタノ
ール水又はエタノール水又は工程(d)で使用された溶
剤)中で、例えば0〜50℃の範囲の温度でか又は有利
には周囲温度近くで、例えば酸触媒加水分解することを
包含している。
【0066】工程(a)〜(e)を実施するために使用
される試薬は、例として示しただけであり、他の試薬及
びトリフェニルメチル以外の保護基Pは、このような工
程で実施するための有機化学の分野で自体公知であるこ
とが分かる。式VIIIの化合物は、既に公知であり、
かつその他のものは、例えばエルダーフィールド(El
derfield)編集のヘテロ環式化学の標準操作の
ような技術水準で自体公知の有機化学の標準法を用いる
類似方法によるか、又はOrg.Syn.,Coll.
Vol.III,374頁及び593頁の方法により製
造することができる。
【0067】AIIの複数の生理学的活性の拮抗作用、
特にAIIと目標組織上でのその作用を媒介する受容体
との相互作用の拮抗作用は、次の慣例の複数の実験室的
方法を用いて評価される。
【0068】試験A:このインビトロ法は、試験化合物
をまず、濃度100マイクロモル(又はそれ以下)で、
一定の濃度の放射性ラベル付きAIIを有する緩衝され
た混合物及び適当なアンジオテンシン目標組織から用意
された細胞表面膜フラクション中でインキュベーション
することに関する。この試験で、細胞表面膜源は、AI
Iに相応することで公知のモルモット副腎である。放射
性ラベル付きAIIとその受容体との相互作用(膜フラ
クションに結合した放射性ラベル、引き続くこの種の研
究で標準的な迅速濾過による非結合放射性ラベルの排除
として測定した)を、膜受容体位置にも結合する化合物
により拮抗させ、かつ拮抗作用の程度(この試験で、膜
−結合放射能の排除率として観察される)を、特定の試
験濃度の試験化合物の存在下での受容体−結合放射能と
、試験化合物の不存在下で測定された対照値との比較に
より、容易に測定する。この方法を用いて、10−4M
の濃度で結合している放射性ラベル付けされたAIIの
排除率少なくとも50%を示す化合物を低い濃度で再試
験して、その力価を測定した。IC50(放射性ラベル
付けされたAII結合の50%排除率を得る濃度)の測
定のために、試験化合物の濃度を、予測近似IC50の
まわりに集中した少なくとも4段階にわたる試験を可能
にするように選択し、試験化合物の濃度に対する排除率
のプロットからこのIC50を測定する。
【0069】一般に、前記の式VIの化合物は、50マ
イクロモル以下の濃度で、試験Aで著しい抑制を示す。
【0070】試験B:このインビトロテストは、生理学
的塩溶液中、37℃で保持された、摘出ウサギ大動脈の
AII−誘導収縮に対する試験化合物の拮抗作用の測定
に関する。化合物の作用がAIIの拮抗に対して特異的
であることを確認するために、ノルアドレナリン(no
radrenaline)−誘導収縮に対する試験化合
物の作用も同様の方法で測定する。
【0071】一般に、前記の式VIの化合物は、50マ
イクロモル以下の最終濃度で、試験Bにおいて著しい抑
制を示す。
【0072】試験C:このインビボテストは、血圧にお
ける変化を測定するために、動脈カーテルを麻酔下で移
植した、末端−麻酔したか又は目覚めているラットを用
いることに関する。経口又は腸管外投与に引き続く試験
化合物のAII拮抗作用は、アンジオテンシンII−誘
導血圧上昇反応に関して評価する。この作用が特異的で
あることを確認するために、バソプレッシン(vaso
pressin)−誘導血圧上昇反応に対する試験化合
物の作用も同じ標本で測定する。
【0073】一般に、式VIの化合物は、試験Cで、明
らかな毒性又は他の不都合な薬剤学的作用なしに、50
mg/体重kg以下の適用量で、特異的なAII拮抗特
性を示す。
【0074】試験D:このインビボテストは、低食塩含
量の常用試料を取り入れ、かつ毎日適当な適用量のフル
セミド(frusemide)として公知の塩利尿剤を
施したラット、キヌザル(marmoset)及びイヌ
を含む多くの種類での内生的AII生合成の刺激に関す
る。次いでこの試験化合物を、血圧の変化を測定するた
めに動脈カーテルを麻酔下に移植した動物に、経口又は
腸管外投与する。
【0075】一般に、式VIの化合物は、試験Dで、血
圧における明白な降下で証明されるように、明白な毒性
又は他の不都合な薬剤学的作用なしに、50mg/体重
kg以下の適用量で、特異的なAII拮抗特性を示す。
【0076】式VIの化合物のアンジオテンシンII抑
制特性の説明によれば、2−メチル−4−[(2′−(
1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル
)メトキシ]キノリンヒドロクロリドは、次に記載の前
記試験A、B及びCの結果を生じた: 試験A:平均IC50  1.7×10−8M;試験B
:平均pA2  8.95; 試験C:ED50  0.5mg/kg(静脈内投与)
【0077】本発明のもう1つの態様は、前記反応式1
に記載の付加的連続工程(a)、(b)及び(c)を実
施し、次いで反応式2:
【0078】
【化23】
【0079】に記載の付加的工程(f)及び(g)を実
施し、式VII:
【0080】
【化24】
【0081】[式中、Alk.は、(C3〜C10)ア
ルキル基を表わし;X2は、水素、フッ素、塩素、臭素
、ヨウ素、ニトロ、トリフルオロメチル及びシアノから
選択され;L1及びL2は、前記のものを表わす]の化
合物を製造することによる新規方法を提供することであ
る。この化合物は、AII拮抗剤として有用であるEP
A253310から公知である。
【0082】工程(a)、(b)及び(c)は、前記の
ようにして実施してよいことが分かる。工程(f)及び
(g)に関して:工程(f)は、式XIII:
【008
3】
【化25】
【0084】[式中、記号は、前記のものを表わす]の
化合物を工程(c)の生成物を用いてアルキル化するこ
とにより実施する。この反応は、一般に、例えば適当な
塩基、例えばアルカリ金属アルコキシド、例えばナトリ
ウムメトキシド又はナトリウムエトキシド、又はアルカ
リ金属ヒドリド、例えば水素化ナトリウムの存在下で、
適当な溶剤又は希釈剤、例えば(C1〜C4)アルカノ
ール、例えばメタノール又はエタノール中で、又は極性
溶剤又は希釈剤、例えばN,N−ジメチルホルムアミド
中で、例えば0〜50℃の範囲の温度で行なわれる。式
XIIIの化合物は、例えばEPA253310に記載
の方法によって得られる。工程(g)は、前記工程(e
)と同様にして実施する。
【0085】本発明を次の例で説明するが、本発明はこ
れらのみに限定されるものではなく、例中特に記載しな
い限り次のものを表わす: (i)濃縮及び蒸発は、真空中でのロータリー蒸発によ
って実施した; (ii)作業を範囲18〜26℃である室温で実施した
;(iii)得られた収率は、説明のためのものであり
、勤勉な方法改良による最大値である必要はない;(i
v)1H NMRスペクトルは、通常200MHzで、
CDCl3中で、内部標準としてテトラメチルシラン(
TMS)を用いて測定し、かつ化学シフト(デルタ値)
としてTMSに対するppm示し、主要ピークを示すた
めに、慣例の略語を用いて記載した:s,一重線;m,
多重線;t,三重線;br,幅広;d,二重線;及び (v)「1H−テトラゾール−5−イル」のなる用語は
、「1−H−1,2,3,4−テトラゾール−5−イル
」を表わす。
【0086】例1 トルエン(25ml)中の(2−メトキシ−4−メチル
フェニル)トリブチルスズ(A)(4.7g)、2−ブ
ロモベンゾニトリル(1.8g)、テトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(0.76g)及びアゾ
(ビスイソブチロニトリル)(300mg)の混合物を
60分間還流下に加熱した。この混合物をケイソウ土を
通して濾過し、かつ濾液を水(25ml)を用いて洗浄
し、かつ乾燥(MgSO4)させた。揮発性物質を蒸留
により除去し、かつ残分を酢酸エチル/ヘキサン(1:
9v/v)で溶離するフラッシュクロマトグラフィーに
より精製すると、2′−メトキシ−4′−メチル−ビフ
ェニル−2−カルボニトリル(0.78g)が油状物と
して得られた;NMR:2.4(s,3H)、3.85
(s,3H)、6.8〜6.9(m,2H)、7.2(
d,1H)、7.3〜7.5(m,2H)、7.55〜
7.75(m,2H)。
【0087】出発物質Aを次に示すようにして得た:テ
トラヒドロフラン(THF)(50ml)中の2−ブロ
モ−5−メチルアニソール(3.8g)[J.Gen.
Chem.U.S.S.R.、1932、2、455(
ChemicalAbstracts、1933、27
、962)]をマグネシウム屑(0.47g)及び触媒
量のヨウ素に、アルゴン雰囲気下で加えた。エーテル中
の触媒量の1Mメチルマグネシウムブロミドを加え、か
つ混合物を50℃に1時間加熱し、かつ次いで0℃まで
冷却した。塩化トリブチルスズ(5.6g)を5分間に
わたって滴加し、かつこの混合物を18時間撹拌した。 揮発性物質を蒸発により除去し、かつ残分をエーテル(
50ml)と飽和塩化アンモニウム溶液(50ml)と
の間に分配した。有機相を分離し、かつ飽和塩化アンモ
ニウム溶液(2×20ml)を用いて洗浄した。エーテ
ル層を分離し、酢酸エチル(50ml)で希釈し、かつ
水(25ml)、次いで飽和塩化ナトリウム溶液(50
ml)を用いて洗浄した。 揮発性物質を蒸発により除去し、かつ残分を蒸留により
精製すると、(2−メトキシ−4−メチルフェニル)ト
リブチルスズ(A)(4.8g)が油状物として得られ
た、0.05mmHgでの沸点190℃;NMR:0.
75〜1.7(複合m,27H)、2.4(s,3H)
、3.8(s,3H)、6.6(t,1H)、6.8(
d,1H)、7.2(d,1H)。
【0088】例2 4−メチルフェニルトリブチルスズ(A)(89.8g
)をアルゴン下で、THF(600ml)中の2−ブロ
モベンゾニトリル(43g)及びテトラキス(トリフェ
ニルホスフィン)パラジウム(0)(0.8g)の撹拌
溶液に加えた。混合物を還流下に36時間加熱し、次い
で冷却し、かつケイソウ土を通して濾過した。濾液を水
(3×200ml)を用いて洗浄し、かつ乾燥(MgS
O4)させ、かつ溶剤を蒸発により除去した。残分を0
.1mmHgで122〜124℃で蒸留すると、4′−
メチルビフェニル−2−カルボニトリルが固体(28.
9g)として得られた、融点44〜46℃;NMR(C
DCl3):2.40(s,3H)、7.30(d,2
H)、7.35〜7.55(m,4H)、7.60〜7
.65(m,1H)、7.75(d,1H)。
【0089】出発物質Aを次に示すようにして得た:塩
化トリブチルスズ(24.6ml)をTMF(200m
l)中のp−トリルマグネシウムブロミド(エーテル中
の0.1M溶液100ml)の溶液に、アルゴン雰囲気
下で滴加した。この混合物を室温で18時間撹拌した。 溶剤を蒸発により除去し、かつ残分をエーテル(100
ml)と飽和塩化アンモニウム溶液(100ml)との
間に分配させた。有機相を分離させ、かつ飽和塩化アン
モニウム溶液(2×100ml)を用いて洗浄した。次
いで、エーテル層を分離させ、乾燥させ(MgSO4)
かつ蒸発させ、かつ残分を蒸留により精製して、4−メ
チルフェニルトリブチルスズ(20.2g)が油状物と
して得られた、0.1mmHgでの沸点124〜126
℃;NMR(CDCl3):0.90(t,3H)、1
.0〜1.10(m,2H)、1.35(セクステット
,2H)、1.45〜1.60(m,2H)、2.30
(s,3H)、7.10(d,2H)、7.35(d,
2H)。
【0090】例3 エタノール(2ml)、メタノール(1ml)及び濃塩
酸(0.25ml)の混合物中の4−[(2−メトキシ
−2′−(2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾー
ル−5−イル)ビフェニル−4−イル)メトキシ]−2
−メチルキノリン(B)(210mg)を2時間撹拌し
た。不溶性固体を濾過により集め、かつエーテル(3×
5ml)を用いて洗浄すると、4−[(2−メトキシ−
2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−
4−イル)メトキシ]−2−メチルキノリンヒドロクロ
リド(75mg)が白色固体として得られた、融点21
5〜218℃;NMR(d6−DMSO):2.9(s
,3H)、3.4(s,3H)、5.6(s,2H)、
7.1(s,1H)、7.2〜7.35(m,2H)、
7.4〜7.9(複合m,6H)、8.1(dt,1H
)、8.25〜8.35(m,2H);質量スペクトル
(−ve  FAB、DMSO/GLY):422(M
−H)−;微量分析、測定値:C、65.3;H、4.
7;N、14.9%;C25H20N5O2.HCl計
算値:C、65.3;H、4.8;N、15.2%。
【0091】出発物質Bを次に示すようにして得た:(
i)トルエン(20ml)中の2′−メトキシ−4′−
メチルビフェニル−2−カルボニトリル(0.78g)
及びトリブチルスズアジド(9.3g)の溶液を還流下
で48時間加熱した。ジオキサン(10ml)中の塩化
水素の9M溶液を加え、かつ揮発性物質を蒸発により除
去した。残分をヘキサンを用いて磨砕して、5−[2−
(2′−メトキシ−4′−メチルビフェニル)]−2H
−テトラゾール(C)(0.65g)が固体として得ら
れ、これを精製せずに使用した;NMR(d6−DMS
O):2.3(s,3H)、3.3(s,3H)、6.
7(s,1H)、6.8(d,1H)、7.05(d,
1H)、7.4〜7.9(複合m,4H)。
【0092】(ii)ジクロロメタン(5ml)中の化
合物(C)(0.64g)、トリフェニルメチルクロリ
ド(0.67g)及びトリエチルアミン(0.46g)
の溶液を3時間放置した。ジクロロメタン(25ml)
を加え、かつ溶液を水(2×20ml)、飽和塩化ナト
リウム溶液(20ml)を用いて洗浄し、かつ次いで乾
燥させた(MgSO4)。揮発性物質を蒸発により除去
し、かつ残分をヘキサン(50ml)を用いて磨砕した
。酢酸エチルから再結晶することにより、5−[2−(
2′−メトキシ−4′−メチルビフェニル)]−2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール(D)(0.5
8g)が白色固体として得られた、融点180〜183
℃;NMR(d6−DMSO):2.3(s,3H)、
3.3(s,3H)、6.6(s,1H)、6.7(d
,1H)、6.7〜6.9(m,6H)、6.95(d
,1H)、7.3〜7.6(複合m,12H)、7.9
(dd,1H)。
【0093】(iii)四塩化炭素(10ml)中の化
合物(D)(0.58g)、N−ブロモスクシンイミド
(0.20g)及びアゾ(ビスイソブチロニトリル)(
18mg)の混合物を還流下に3時間加熱した。不溶性
物質を濾過より除去し、かつ濾液を濃縮した。残分を酢
酸エチル/ヘキサンから再結晶させると、5−[2−(
4′−ブロモメチル−2′−メトキシビフェニルイル)
]−2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール(E
)(0.58g)が白色固体として得られた、融点18
2〜183℃;NMR(d6−DMSO):3.3(s
,1H)、4.6(s,2H)、6.7〜6.9(複合
m,8H)、6.95〜7.05(m,1H)、7.2
5〜7.6(複合m,12H)、7.85〜7.95(
m,1H)。
【0094】(iv)水素化ナトリウム(60%鉱油中
分散液;40mg)をDMF(10ml)中の2−メチ
ル−4−キノロン(160ml)の撹拌溶液に加えた。 この混合物を水素の放出が終了するまで撹拌し、かつN
,N−ジメチルホルムアミド(DMF)中の化合物E(
500mg)の溶液を加えた。この混合物を16時間撹
拌した。溶剤を蒸発により除去し、かつ残分を水(20
ml)と酢酸エチル(2×25ml)との間に分配させ
た。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液(5ml)を用い
て洗浄し、かつ乾燥させた(MgSO4)。溶剤を蒸発
により除去し、かつその結果生じる油状物を酢酸エチル
/ヘキサン(1:1v/v)を用いて溶離するフラッシ
ュクロマトグラフィーで精製すると、4−[(2−メト
キシ−2′−(2−トリフェニルメチル−2H−テトラ
ゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル)メトキシ
]−2−メチルキノリン(B)(210mg)がフォー
ム状で得られた;NMRd6−DMSO):2.6(s
,3H)、3.4(s,3H)、5.3(s,2H)、
6.8〜7.2(複合m,10H)、7.3〜7.5(
複合m,11H)、7.5〜8.0(m,6H)。
【0095】例4 2−ブチル−4−クロロ−5−ヒドロキシメチル−1−
[(2′−(トリフェニルメチル−2H−テトラゾール
−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]イミダゾ
ール(A)(1.0g)をジオキサン(10ml)及び
水(1ml)中の7.5M塩化水素溶液に加え、かつこ
の混合物を周囲温度で1時間撹拌した。揮発性物質を蒸
発により除去し、過剰の炭酸ナトリウム溶液を残分に加
え、かつこの混合物をエーテル(2×10ml)を用い
て洗浄した。水層を2M塩酸を用いてpH3まで酸性化
し、かつジクロロメタンを用いて抽出した。抽出物を乾
燥させ(MgSO4)、かつ溶剤を蒸発により除去した
。残留した白色フォームをエーテルを用いて磨砕し、か
つと結果として得られた固体を濾過により集めると、2
−ブチル−4−クロロ−5−ヒドロキシメチル−1−[
(2′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル
−4−イル)メチル]イミダゾール(0.37g)が得
られた、融点179〜180℃;NMR(CDCl3)
:0.9(t,3H)、1.2〜1.4(m,2H)、
1.5〜1.7(m,2H)、2.6(t,2H)、4
.5(s,2H)、5.2(s,2H)、6.95(d
,2H)、7.15(d,2H)、7.35〜7.55
(m,3H)、7.80〜7.90(m,1H)。
【0096】出発物質(A)を次に示すようにして得た
:(i)例3の(i)に記載したのと同様の方法を用い
て、しかし4′−メチルビフェニル−2−カルボニトリ
ルから出発して、反応混合物を塩化水素ガスを用いて飽
和することにより酸性化し、次いで生成物を氷中での冷
却により単離し、濾過し、かつ固体をトルエンを用いて
磨砕し、こうして5−[2−(4′−メチルビフェニル
イル)−2H−テトラゾール(B)が得られた、融点1
49〜150℃、収率90%;NMR(CDCl3/d
6−DMSO):2.25(s,3H)、6.95(d
,2H)、7.10(d,2H)、7.10(d,2H
)、7.50〜7.70(m,4H)。
【0097】(ii)トリフェニルメチルクロリド(1
8.73g)をジクロロメタン(150ml)中の化合
物Bの攪拌溶液に周囲温度で加えた。次いでトリエチル
アミン(10.2ml)を加え、この混合物を還流温度
で2.5時間加熱した。反応混合物を冷却させ、水で洗
浄し、かつ乾燥させた(MgSO4)。溶剤を蒸発によ
り除去すると、5−[(4′−メチルビフェニルイル)
]−2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール(C
)(26.7g)が得られた、融点166〜168℃;
NMR(CDCl3):2.25(s,3H)、6.9
0〜7.00(m,10H)、7.02〜7.45(m
,12H)、7.85〜7.90(m,1H)。
【0098】(iii)残分を酢酸エチル中に溶かし、
水で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、溶剤を蒸発させ
、かつ次いで残分をエーテルを用いて磨砕すること以外
、例3の(iii)に記載したのと同様の方法を用いて
、しかし化合物Cから出発すると、5−[2−(4′−
ブロモメチルビフェニル)]−2−トリフェニルメチル
−2H−テトラゾール(D)が白色固体として得られた
、収率92%、融点136〜138℃;NMR(CDC
l3):4.4(s,2H)、6.85〜7.10(m
,10H)、7.20〜7.45(m,12H)、7.
95〜8.00(m,1H)。
【0099】(iv)ナトリウムメトキシド(0.54
g)をDMF(25ml)中の2−ブチル−4−クロロ
−5−ヒドロキシメチルイミダゾール(1.87g)の
撹拌溶液に加え、かつこの混合物を5℃まで冷却した。 化合物Dを攪拌しながら加え、反応混合物を周囲温度で
72時間攪拌させた。溶剤を蒸発により除去し、かつ残
分を酢酸エチル中に溶かし、かつ水で洗浄した。有機相
を乾燥させ(MgSO4)、溶剤を蒸発により除去し、
かつ残分を酢酸エチル/ヘキサン(1:1v/v)で溶
離するシリカ上でのクロマトグラフィーにより精製した
。こうして、2−ブチル−4−クロロ−5−ヒドロキシ
メチル−1−[(2′−(トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチ
ル]イミダゾール(A)が固体(1.8g)として得ら
れた、融点89〜93℃;NMR(CDCl3):0.
85(t,3H)、1.25(セクステット,2H)、
1.60〜1.75(m,2H)、2.50(t,2H
)、4.3(s,2H)、5.0(s,2H)、6.7
5(d,2H)、6.90〜7.00(m,6H)、7
.10(d,2H)、7.20〜7.50(m,12H
)、7.90〜7.95(m,1H)。
【0100】例5 2−メチル−4−[(2′−(2−トリフェニルメチル
−2H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イ
ル)メトキシ]キノリン(A)(890mg)及びジオ
キサン(10ml)及び水(1ml)中の7.5M塩化
水素溶液の混合物を72時間放置した。揮発性物質を蒸
発により除去し、かつ残分をエーテル(2×50ml)
を用いて磨砕した。エーテルをデカンテーションし、か
つ残分をイソプロパノールから再結晶させると、2−メ
チル−4−[(2′−(1H−テトラゾール−5−イル
)ビフェニル−4−イル)メトキシ]キノリンヒドロク
ロリド(370mg)が白色固体として得られた、融点
188〜190℃;NMR(d6−DMSO):2.9
2(s,3H)、5.63(s,2H)、7.21(d
,2H)、7.56〜7.87(m,8H)、8.07
(dt,1H)、8.28(dd,1H)、8.32(
dd,1H);質量スペクトル[−ve  FAB,D
MSO/NBA]:392(M−H)−、158;微量
分析測定値:C、66.0;H、4.6;N、15.5
%;C24H19N5O.HCl.0.5H2O計算値
:C、65.7;H、4.8;N、16.0%。
【0101】出発物質(A)を次に示すようにして得た
:水素化ナトリウム(60%鉱油中分散液;90mg)
をDMF(10ml)中の2−メチル−4−キノロン(
Org.Syn.、1955、Coll.Vol.II
I、374頁及び593頁に記載のようにして得られる
)の撹拌溶液(340mg)に加えた。この混合物を水
素の溶解が終了するまで攪拌し、かつDMF(5ml)
中の5−[2−(4′−ブロモメチル−ビフェニルイル
)−2−トリフェニルメチル−2Hテトラゾール(1.
2g)を加えた。この混合物を16時間攪拌した。溶剤
を蒸発により除去し、かつ残分を水(20ml)とジク
ロロメタン(2×10ml)との間に分配させた。有機
相を飽和塩化ナトリウム溶液(5ml)を用いて洗浄し
、かつ乾燥させた。溶剤を蒸発によって除去し、かつそ
の結果生じた油状物をメタノール/ジクロロメタン(1
:99v/v)を用いて溶離するフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製すると、2−メチル−4−[2′−
(2−トリフェニル−2H−テトラゾール−5−イル)
−ビフェニル−4−イルメトキシ]キノリン(A)(8
90mg)が白色固体として得られた、融点168〜1
70℃(dec.);NMR:2.7(s,3H)、5
.14(s,2H)、6.7(s,1H)、6.9(d
d,6H)、7.15〜7.55(複合m,17H)、
7.65(dt,1H)、7.95(m,2H)、8.
1(dd,1H)。
【0102】例6 例5に記載したのと同様の方法を用いて、しかし2−エ
チル−4−[2′−(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメト
キシ]キノリンから出発して、2−エチル−4−[(2
′−(1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4
−イル)メトキシ]キノリンヒドロクロリド(A)が得
られた、収率70%;融点178〜181℃(dec.
);NMR:(d6−DMSO):1.48(t,3H
)、3.22(q,2H)、5.68(s,2H)、7
.23(d,2H)、7.5〜7.8(m,7H)、7
.83(t,1H)、8.08(t,1H)、8.32
(t,2H)。出発物質(A)は、例5に記載したのと
同様の方法を用いて、しかし2−エチル−4−キノリン
から出発して得られ、2−エチル−4−キノリン自体は
、2−メチル−4−キノリンのために記載したのと同様
の方法を用いて、しかしアニリン及びエチルプロピオニ
ルアセテートから出発して得られる。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式I: 【化1】 [式中、L1は、水素、(C1〜C4)アルキル、(C
    1〜C4)アルコキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル
    、シアノ及びニトロから選択され;L2は、水素、(C
    1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリ
    フルオロメチル及びシアノから選択される]のビフェニ
    ルカルボニトリルの製法において、式II: 【化2】 [式中、L1は、前記のものを表わし、かつYは、銅又
    はリチウム原子又は次のものから選択される特別な離脱
    基を表わす: (a)式:M1(Q1)(Q2)(Q3)(ここでM1
    は、スズ原子を表わし、かつQ1、Q2及びQ3は、そ
    れぞれ独立して(C1〜C6)アルキル及びフェニルか
    ら選択され、フェニルは、非置換か、又は(C1〜C4
    )アルキル、(C1〜C4)アルコキシ又はハロゲン基
    により置換されていてよく;又はM1は、ケイ素原子を
    表わし、かつQ1は、メチル又はフッ素を表わし、かつ
    Q2及びQ3は、共にフッ素を表わし;又はM1は、ジ
    ルコン原子を表わし、かつQ1は、ハロゲンを表わし、
    かつQ2及びQ3は、共にシクロペンタジエニル基を表
    わす)の基;(b)式:M2(Q4)(Q5)(ここで
    M2は、アルミニウム原子を表わし、かつQ4及びQ5
    は、それぞれ独立して(C1〜C6)アルキル及びフェ
    ニルから選択され、フェニルは、非置換か、又は(C1
    〜C4)アルキル、(C1〜C4アルコキシ)又はハロ
    ゲン基により置換されていてもよく;又はM2は、タリ
    ウム原子を表わし、かつQ4及びQ5は、それぞれ独立
    してハロゲン、トリフルオロアセチルオキシ及びアセチ
    ルオキシから選択される)の基;及び (c)式:M3(Q6)(ここでM3は、水銀原子を表
    わし、かつQ6は、ハロゲン、トリフルオロアセチルオ
    キシ又はアセチルオキシ基を表わし;又はM3は、マグ
    ネシウム原子を表わし、かつQ6は、ハロゲンを表わす
    )の基]の化合物と、式III: 【化3】 [X1は、臭素、ヨウ素又はトリフルオロメタンスルホ
    ニルオキシ基を表わし、かつL2は、前記のものを表わ
    す]の化合物とを、パラジウム(0)、パラジウム(I
    I)、ニッケル(0)及びニッケル(II)触媒から選
    択された触媒の存在下で、必要に応じてラジカル開始剤
    の存在下で、かつ必要に応じて塩化リチウムの存在下で
    (かつ式中、M1がケイ素原子である場合、フッ素イオ
    ン源が存在していてもよい)反応させることを特徴とす
    るビフェニルカルボニトリルの製法。
  2. 【請求項2】  出発物質中で、L1は水素、メチル、
    エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨ
    ウ素、トリフルオロメチル、シアノ及びニトロから選択
    され;L2は水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
    シ、トリフルオロメチル及びシアノから選択され;Yが
    銅又はリチウム原子又は次のものから選択される特別な
    離脱基: (a)式:M1(Q1)(Q2)(Q3)(ここでM1
    は、スズ原子を表わし、かつQ1、Q2及びQ3は、そ
    れぞれ独立してメチル、エチル、プロピル、ブチル及び
    フェニルを表わし、フェニルは、非置換か又はメチル、
    エチル、メトキシ、エトキシ基、フッ素、塩素、臭素又
    はヨウ素により置換されていてよく;又はM1は、ケイ
    素原子を表わし、かつQ1は、メチル又はフッ素を表わ
    し、かつQ2及びQ3は、共にフッ素を表わし;又はM
    1は、ジルコニウム原子を表わし、かつQ1は、フッ素
    、塩素、臭素又はヨウ素を表わし、かつQ2及びQ3は
    、共にシクロペンタジエニル基を表わす)の基; (b)式:M2(Q4)(Q5)(ここでM2は、アル
    ミニウム原子を表わし、かつQ4及びQ5は、それぞれ
    独立してメチル、エチル、プロピル、ブチル及びフェニ
    ルを表わし、フェニルは、非置換か又はメチル、エチル
    、メトキシ、エトキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ
    素により置換されていてよく;又はM2は、タリウム原
    子を表わし、かつQ4及びQ5は、それぞれ独立してフ
    ッ素、塩素、臭素又はヨウ素、トリフルオロアセチルオ
    キシ及びアセチルオキシから選択される)の基; (c)式:M3(Q6)(ここでM3は、水銀原子を表
    わし、かつQ6は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、トリ
    フルオロアセチルオキシ又はアセチルオキシ基を表わす
    か;又はM3は、マグネシウム原子を表わし、かつQ6
    は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表わす)の基を表
    わし;かつ存在する触媒は、パラジウム(0)、パラジ
    ウム(II)、ニッケル(0)及びニッケル(II)触
    媒であり、ここで金属原子は、それぞれ独立してトリフ
    ェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、ハロゲ
    ン及びアセチルオキシから選択された基4個に結合して
    いるか、又はハロゲン化パラジウム(II)又はハロゲ
    ン化ニッケル(II)であり;かつここでM1がケイ素
    原子である場合、アルカリ金属フッ化物又はテトラ(C
    1〜C4)アルキルアンモニウムフッ化物が存在してい
    てよい、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  出発物質中で、Yは式:M1(Q1)
    (Q2)(Q3)[式中、M1は、スズ原子を表わし、
    かつQ1、Q2、Q3は、それぞれ独立して(C1〜C
    6)アルキル及びフェニルから選択され、フェニルは、
    非置換か、又は(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4
    )アルコキシ又はハロゲン基で置換されていてもよく;
    かつX1は、臭素又はヨウ素を表わす、請求項1又は2
    記載の方法。
  4. 【請求項4】  出発物質中で、L1は水素又はメトキ
    シを表わし、かつL2は水素を表わす、請求項1、2又
    は3記載の方法。
  5. 【請求項5】  存在する触媒がパラジウム(0)又は
    ニッケル(0)触媒である、請求項1から4までのいず
    れか1項記載の方法。
  6. 【請求項6】  存在する触媒がテトラキス(トリフェ
    ニルホスフィン)パラジウム(0)である、請求項1か
    ら5までのいずれか1項記載の方法。
  7. 【請求項7】  反応を炭化水素又は溶剤か希釈剤中で
    実施する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方
    法。
  8. 【請求項8】  式VI: 【化4】 [式中、R1は、水素、(C1〜C8)アルキル、(C
    3〜C8)シクロアルキル、フェニル又は置換された(
    C1〜C4)アルキルを表わし、置換された(C1〜C
    4)アルキルは、1個以上のフッ素置換基を有するか、
    又は(C3〜C8)シクロアルキル、ヒドロキシ、(C
    1〜C4)アルコキシ又はフェニル置換基を有し;R2
    は、水素、(C1〜C8)アルキル、(C3〜C8)シ
    クロアルキル、(C3〜C8)シクロアルキル−(C1
    〜C4)アルキル、カルボキシ、(C1〜C4)アルコ
    キシカルボニル、シアノ、ニトロ、フェニル又はフェニ
    ル(C1〜C4)アルキルを表わし;R3及びR4は、
    それぞれ独立して水素、(C1〜C4)アルキル、(C
    1〜C4)アルコキシ、フルオロ(C1〜C4)アルコ
    キシ、ハロゲン、ヒドロキシ、トリフルオロメチル、シ
    アノ、ニトロ、アミノ、(C1〜C4)アルカノイルア
    ミノ、炭素原子6個までのアルキルアミノ及びジアルキ
    ルアミノ、炭素原子3〜8個までのジアルキルアミノ−
    アルキル、(C1〜C4)アルカノイル、カルバモイル
    、炭素原子7個までのN−アルキルカルバモイル及びジ
    −(N−アルキル)カルバモイル、カルボキシ、(C1
    〜C4)アルコキシカルボニル、(C1〜C6)アルキ
    ルチオ、(C1〜C6)アルキルスルフィニル、(C1
    〜C6)アルキルスルホニル及び置換された(C1〜C
    4)アルキルから選択され、置換された(C1〜C4)
    アルキルは、アミノ、ヒドロキシ又は(C1〜C4)ア
    ルコキシ置換基を有しているか;又はR3とR4は、一
    緒になって式V: 【化5】 のベンゼン部の隣接炭素原子に結合した(C1〜C4)
    アルキレンジオキシを形成し;Raは、水素、(C1〜
    C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、ハロゲン
    、トリフルオロメチル、シアノ又はニトロから選択され
    ;L1及びL2は、請求項1又は2に記載のものを表わ
    し;Zは、1H−テトラゾール−5−イルを表わし;か
    つここで前記のフェニル部は、非置換であるか、又はそ
    れぞれ独立して(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4
    )アルコキシ、ハロゲン、シアノ及びトリフルオロメチ
    ルから選択された置換基1個又は2個を有する]の化合
    物又はそれらの無害の塩を製造する方法において、(i
    )式IIの化合物と式IIIの化合物(ここでL1、L
    2、Y及びX1は、請求項1又は2に記載のものを表わ
    す)とをパラジウム(0)、パラジウム(II)、ニッ
    ケル(0)及びニッケル(II)触媒の存在下で、必要
    に応じてラジカル開始剤の存在下で、かつ必要に応じて
    塩化リチウムの存在下で反応させて、式Iの化合物を得
    、(ii)前記式Iの化合物とトリ(C1〜C6)アル
    キルスズアジド又はトリフェニルスズアジドとを溶剤の
    存在下で反応させ、かつ次いで酸を用いて処理して、式
    IX:【化6】 の化合物を得、 (iii)前記式IXの化合物のテトラゾール環中に保
    護基を導入して、式X: 【化7】 [式中、Pは、保護基を表わす]の化合物を得、(iv
    )前記式Xの化合物と臭素化剤とを、ラジカル開始剤の
    存在下で反応させて式XI: 【化8】 の化合物を得、 (v)式VIII: 【化9】 の化合物を前記式XIを用いてアルキル化して式XII
    :【化10】 (ここでR1、R2、R3、R4、R5、Ra、L1及
    びL2は、前記のものを表わす)の化合物を得、かつ(
    vi)前記式XIIから保護基Pを除去して、前記式V
    Iの化合物を得、その後に、式VIの化合物の無害の塩
    を得ようとする場合には、生理学的に認容性のイオンを
    もたらす適当な酸又は塩基との反応によるか、又は他の
    慣例の造塩法によってそれを得る工程を実施することを
    特徴とする、化合物又はその無害の塩を製造する方法。
  9. 【請求項9】  式VII: 【化11】 [式中、Alk.は、(C3〜C10)アルキル基を表
    わし;X2は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ニ
    トロ、トリフルオロメチル及びシアノから選択され;か
    つL1及びL2は、請求項1又は2に記載のものを表わ
    す]の化合物又はその生理学的に認容性の塩を製造する
    方法において、請求項8記載のような工程(i)、(i
    i)、(iii)及び(iv)を実施して式XIを得、
    かつ次いで次の工程: (a)式XIII: 【化12】 の化合物を前記式XIの化合物を用いてでアルキル化し
    て式XIV: 【化13】 (ここでAlk.、X2、L1及びL2は、前記のもの
    を表わす)の化合物を得、かつ (b)前記式XIVの化合物から保護基Pを除去して前
    記式VIIの化合物を得、その後に、式VIIの生理学
    的に認容性の塩を得ようとする場合には、生理学的に認
    容性のイオンをもたらす適当な酸又は塩基との反応によ
    るか、又は他の慣例の造塩法によってこれを得ることを
    特徴とする、式VIIの化合物の製法。
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