JPH04244043A - ４−アセトキシスチレンの調製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の分野】本発明は、４−アセトキシスチレンの調
製方法に関するものであり、更に詳しくは、連続供給反
応モードで、適当な酸無水物の適当な脱水触媒の存在下
において、４’−アセトキシフェニルメチルカルビノー
ルを加熱することによって、４−アセトキシスチレンを
調製する方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術の説明】４−アセトキシスチレンは、接着剤
、フォトレジストなどの製造に有用な化合物の調製にお
いて、中間物として役立つ公知の化合物である。４−ア
セトキシスチレンの調製は、当該分野において公知であ
るが、収率と反応選択率（選択率は、４−アセトキシス
チレンの収量対４’−アセトキシフェニルメチルカルビ
ノールの転化量の割合である）を大きくする４−アセト
キシスチレンの更に効率の良い調製方法が望まれ必要と
されている。本発明は、高収率と高選択率を得る方法を
提供する。

【０００３】

【発明の要点】本発明は、４−アセトキシスチレンの調
製方法に関するものである。更に詳しくは、連続供給反
応モードで、適当な酸無水物と適当な脱水触媒の存在下
において、４’−アセトキシフェニルメチルカルビノー
ルを加熱することによって、４−アセトキシスチレンを
調製する方法に関するものである。

【０００４】

【詳細な説明】

本発明は、式（Ｉ）で表される４−アセトキシスチレン
の合成方法に関するものである。

【０００５】

【化１】

【０００６】化合物Ｉの合成は、以下の工程で行う。カ
ールソンら（ジャーナルオブ　　オーガニック　　ケミ
ストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）２３，５４４（１
９５８））の教えるところに従って合成することができ
る公知の化合物である式（ＩＩ）

【０００７】

【化２】

【０００８】の４’−アセトキシフェニルメチルカルビ
ノールを選択する。化合物ＩＩを、式（ＩＩＩ）

【００
０９】

【化３】

【００１０】で表される適当な酸無水物と化合させ、次
に、連続供給反応モードにおいて、加熱することによっ
て脱水する。加熱または脱水、例えば通常の真空脱水に
よる脱水は、適当な脱水触媒と、更に任意に、生成した
４−アセトキシスチレンモノマーのポリマーへの重合を
抑制して化合物Ｉと副産物の水を形成させる通常の重合
抑制剤の存在下において行う。

【００１１】加熱と脱水は、適当な酸無水物の存在下で
、連続または半連続供給反応モードで行うことが必要で
ある。酸無水物を用いない場合、脱水中に生成する水（
副産物）が、化合物Ｉおよび出発物質と反応して望まし
くない副産物を生成し、その結果、望ましくない量のポ
リマー残留物を残す。従って、酸無水物は、水と反応し
て酸を生成することによって、水掃去剤として働き、ポ
リマー残留物の望ましくない量を減少させるか、または
制御する。更に、連続または半連続供給反応モードを用
いることによって、化合物Ｉと、未反応水または生成し
た酸、または水と酸の混合物である副産物を迅速かつ連
続的に除去して、ポリマー残留物の量を制御することが
できる。

【００１２】適当な酸無水物である化合物ＩＩＩは、式
中のＲ１とＲ２が、それぞれ低級アルキルまたはアリー
ルである化合物であり、「低級」という用語は、１−１
０個の炭素原子を含む基を意味し；「アルキル」という
用語は、直鎖炭化水素または飽和基、例えばメチル、エ
チル、イソプロピル、２−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−
ヘキシルなどを含む枝分かれ鎖炭化水素を指し；「アリ
ール」という用語は、アリール基、例えば式

【００１３
】

【化４】

【００１４】（式中、Ｘは水素、低級アルキル、ＣＦ３
，ＮＯ２，ＮＨ２であり、ｎは１−５の整数、ｍは０ま
たは１の整数であり、「アルキレン」という用語は、原
子価結合を有するものから、例えばエチレン（−ＣＨ２
ＣＨ２−）、プロピレン（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、
イソプロピレン（ＣＨ３ＣＨＣＨ２−）などの２つの末
端炭素原子から誘導される低級枝分かれまたは枝なしア
ルキル基の２価ラジカルを指している）で表されるフェ
ニル、ｏ−トルイル、ｍ−トリフルオロメチルフェニル
などから成る１価置換基を指している。

【００１５】適当な脱水触媒としては、鉱酸触媒、例え
ばＨ２ＳＯ４、ＨＣｌ、燐酸、ポリ燐酸など；イオン交
換酸性樹脂、例えばアンバーリスト（Ａｍｂｅｒｌｙｓ
ｔ，登録商標）、ナフィオン−Ｈ（Ｎａｆｉｏｎ−Ｈ，
登録商標）など；有機酸、例えばｐ−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸など；および無機酸化物、例えば
アルミナ、チタニア、シリカゲルなどのような任意の公
知の脱水触媒が挙げられる。好ましい脱水触媒は、重硫
酸アンモニウム、重硫酸カリウムのような無機重硫酸塩
、および亜燐酸、燐酸、ｐ−トルエンスルホン酸のよう
な酸であり、最も好ましいは燐酸である。

【００１６】重合抑制剤としては、ｔ−ブチルカテコー
ル、ヒドロキノン、テトラクロロキノン、フェノチアジ
ン、およびジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが挙げられ
る。適当な無水物の好ましい濃度は、化合物ＩＩＩ対化
合物ＩＩの１対１のモル比よりも化合物ＩＩＩのわずか
に過剰な濃度であり、一般的には約０．２５−約１．２
５である。脱水触媒は、化合物Ｉの収率が最大になるよ
うな量の脱水反応混合物に混ぜる。該触媒量は、用いる
特定の脱水触媒によって変わる。その様な濃度は、ここ
に開示されたことを参考にすれば、当業者であれば幾度
も実験せずに容易に得られる濃度である。例えば、存在
する化合物ＩＩのモル数を基準として、一般的に重硫酸
アンモニウムの濃度は、約０．３０モル％−約０．５０
モル％；亜燐酸の濃度は、一般的に、約０．４０モル％
−約０．６０モル％；８５重量％燐酸の濃度は、一般的
に、約０．２５モル％−約０．４０モル％；およびｐ−
トルエンスルホン酸の濃度は、約０．２０モル％−約０
．３５モル％である。

【００１７】重合抑制剤の濃度は重要ではなく、一般的
には、化合物ＩＩの重量を基準として、約０．０１重量
％−約１．０重量％である。

【００１８】反応は、作業圧力において、４−アセトキ
シスチレンの沸点を超える温度まで予熱され、化合物Ｉ
Ｉ、化合物ＩＩＩ、脱水触媒、および重合抑制剤から成
る反応混合物を受容する反応器から成る反応系で行うこ
とができる。反応器は、出口管を経由して、凝縮器に接
続している。真空発生源は、一般的に、凝縮器からの蒸
気出口に、または凝縮器に付属している受け器に接続し
ている。公知の他の任意の脱水反応装置を用いることも
できることを理解すべきである。例えば、脱水と加熱は
、出力口が蒸留塔に接続している低滞留薄膜蒸発器で行
うことができ、その中で混合物は、蒸発器の回転ワイパ
ーによって絶えず混合される。反応は、一般的には温度
約１５０℃−約３００℃、好ましくは約１７０℃−約２
５０℃、最も好ましくは約１８０℃−約２２０℃で行う
。脱水は、圧力約５ｍｍＨｇＡ−約２５０ｍｍＨｇＡ、
好ましくは約３０ｍｍＨｇＡ−約１５０ｍｍＨｇＡ、最
も好ましくは約４０ｍｍＨｇＡ−約１００ｍｍＨｇＡで
行う。

【００１９】最適には、化合物ＩＩＩと上記の触媒、お
よび重合抑制剤の存在下において、これらを加熱するこ
とによって引き起こされる化合物ＩＩの反応は、連続ま
たは半連続法モードで行うことができる。連続法とは、
反応混合物の供給と反応生成物の除去を、ほぼ一定の速
度で、反応器と蒸留装置を含む反応系へ及び反応系から
、反応混合物の供給と反応生成物の除去の連続する流れ
によって行う方法である。半連続法とは、高収率および
／または収率または運転性を維持するのに必要な、反応
混合物の供給または反応生成物の除去の中断期間を有す
る上記連続法のことである。

【００２０】該反応混合物（化合物ＩＩ、化合物ＩＩＩ
、脱水触媒および重合抑制剤から成る）を、例えば蠕動
ポンプによる連続または半連続法で、上記のような必要
な温度と真空状態になっている上記の加熱された反応器
または薄膜蒸発器中へ導入して、目標化合物Ｉと副産物
の水を得る。先に示したように、脱水においては、適当
な酸無水物、例えば無水酢酸と次々に反応するか、また
は蒸留によって反応器から一部分除去され、副産物とし
て有機酸、例えば酢酸のみ、または残留水と結合した酢
酸を生成する水が形成される。生成する目標化合物Ｉと
副産物（水または有機酸のみ、または水と有機酸）は、
反応器と接続している通常の蒸留塔を通す蒸留によって
、反応器から連続的に除去する。未反応化合物ＩＩを蒸
留塔において化合物Ｉと副産物から分離できても又はで
きなくても、化合物Ｉと副産物を凝縮させて塔頂留出物
受け器で補集する。この工程で、化合物ＩＩが、化合物
Ｉと副産物から分離されない場合、更に次の、第２の蒸
留工程で分離する。化合物ＩＩが、第１蒸留塔で分離さ
れる場合、化合物ＩＩは、戻し還流によって反応器へ戻
される。目標化合物Ｉと副産物の連続除去は、供給反応
混合物の上記反応器への連続導入と共に行う。

【００２１】化合物Ｉと副産物を除去するのと同じ速度
で、反応混合物を供給することが望ましいので、化合物
Ｉと副産物の除去と反応混合物の導入は、ポンプ機構、
例えば蠕動ポンプを抑制する任意の従来の時期調整装置
または順序調整装置（ｓｅｑｕｅｎｃｅｒ）によって、
進行させることができる。

【００２２】連続または半連続供給反応モードで脱水を
行うと、高選択率をもって化合物Ｉの良好な収率が得ら
れることを見出した。適当な酸無水物（化合物ＩＩＩ）
を供給して、連続または半連続供給反応モードで脱水を
行っても、ある量のポリマー残留物が生成することを見
出した。非常に多量のポリマーが反応器中に蓄積すると
、選択率と化合物Ｉの収率は、悪影響を受ける。それに
対して、驚くべきことに、反応器中に、ある量のポリマ
ー残留物が存在していると、最適な収率と選択率が得ら
れることを見出した。その様な最適結果を与えるポリマ
ー残留物の量は、望ましい定常状態濃度または上限と下
限を有する可変状態濃度である。定常状態濃度は、反応
器容積の約１容量％から約３０容量％である。好ましい
定常状態濃度は、反応器容積の約５容量％から約１５容
量％である。可変状態は、反応器容積の約１容量％から
約２９容量％の下限と、反応器容積の約２容量％から約
３０容量％の上限を有する。

【００２３】残留物の望ましくない量を連続して除去す
ることによって、例えば等速度で反応器から残留物を絶
えずポンピングすることによって、ポリマー残留物の量
を制御して、残留物の望ましい定常状態濃度、即ち反応
器容積の約１容量％から約３０容量％、好ましくは約５
容量％から約１５容量％、または下限から上限まで変化
する望ましい可変量を達成できる。この連続除去は、化
合物ＩＩ、化合物ＩＩＩ、脱水触媒、および重合抑制剤
の反応体混合物を連続または半連続供給反応モードにお
いて脱水する時に行う。あるいはまた、望ましくない量
の残留物を定期的に除去することもできる。一つの態様
としては、反応体混合物の第１部を連続供給反応モード
で反応器中に導入して、化合物Ｉの第１部とポリマー残
留物の第１部を生成させる。ポリマー残留物の望ましい
量、例えば反応器容積の約５容量％から約１５容量％、
あるいは下限（約１容量％から約２９容量％）または可
変状態上限（約２容量％から約３０容量％）を超えたと
きに、例えばポンピングすることによって、この残留物
の第１部のいくらか又は全てを除去して、残留物を望ま
しい量で維持する。次に、反応体混合物の第２部を反応
器に導入し、同じ方法で反応させて、化合物Ｉと追加の
残留物の第２部を生成させる。残留物の好ましい量を維
持しながら、反応させたい反応体混合物の全てを反応さ
せるまで、残留物除去反応手順を繰返す。

【００２４】本発明の実施によって、高選択率をもって
化合物Ｉのより良好な収率が、どの様に得られたかを示
すいくつかの実験結果を以下に記す。この事については
、望ましい濃度に維持した熱油浴中に浸漬した３口２５
０ｍｌガラス反応器の中で、化合物ＩＩを脱水したいく
つかの実験結果を記載している表Ｉを参照されたい。ポ
ンプを制御して上記の連続反応モードを与える通常の電
気シーケンスタイマー（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ　　ｓｅ
ｑｕｅｎｃｅ　　ｔｉｍｅｒ）を有する蠕動ポンプによ
って、反応器の１つの口を通して、反応器に連結して接
続してある第２のガラス容器中に、反応混合物を入れた
。 蠕動ポンプを用いて、第２ガラス容器に入っている反応
混合物を、脱水と化合物Ｉおよび副産物の生成のための
反応器に注入した。通常の蒸留塔に付属する塔頂留出物
受け器を経由させて化合物Ｉと副産物（酸と未反応水）
を反応器から連続的に蒸発させる通常の蒸留塔を、反応
器の第２の口を経て反応器に接続した。通常の真空ポン
プ系もまた反応フラスコの内部と接続して、望ましい真
空を得た。

【００２５】表Ｉの実施例１−１９では、化合物ＩＩを
８０−９５重量％含む粗化合物ＩＩを、表示量の無水酢
酸（Ａｃ２Ｏ）および重合抑制剤フェノチアジン（０．
１重量％）と併用した。１８０℃を超える温度で形成さ
れた生成残留物を保持しながら、２２０℃に維持した熱
油浴中に浸漬した反応器に、約２．０ｇ／分の速度で該
反応混合物を供給した。

【００２６】

【表Ｉ】

【００２７】

【００２８】このように、触媒と触媒温度等を適当に選
択すると、約９５％の選択率と化合物ＩＩから化合物Ｉ
への約７８％の転化率が達成されることが認められる。

【００２９】無水酢酸の重要性は、下の表ＩＩに示され
ており、化合物ＩＩと併用する無水酢酸の濃度は、０−
１．２５モルまで変化させた。表Ｉの脱水実験に用いた
装置と同様な装置を用いた。各実験においては、粗４’
−アセトキシフェニルメチルカルビノール（化合物ＩＩ
）１８０ｇを用い、重合抑制剤としてフェノチアジン（
０．１重量％）を用いて、加熱前に化合物ＩＩと混ぜた
。また、用いた触媒は、８５重量％燐酸（０．３２モル
％）であった。残留物の温度を１８０℃に保ちながら、
約２．０ｇ／分の速度で、加熱した反応器に該反応体混
合物を供給した。

【００３０】

【表ＩＩ】

【００３１】

【００３２】以下に示す実施例は、化合物ＩＩを脱水し
て化合物Ｉを生成させる時の、反応器中におけるポリマ
ー残留物の濃度効果を示す。

【００３３】実施例２６ 粗４’−アセトキシフェニルメチルカルビノール（化合
物ＩＩ）［０．５８モル］を、無水酢酸（０．６４モル
）、フェノチアジン（０．１重量％）および８５重量％
燐酸（０．３２モル％）と混ぜた。この反応混合物を、
実施例１−２５で用いた加熱反応器に、約２．０ｇ／分
の速度で連続して供給し、生成物は、蒸留塔を通して塔
頂から補集した。反応器は、２２０−２３０℃に維持し
た熱油浴中に浸漬して、残留物の温度を１８０−１９０
℃に保った。化合物Ｉを含む生成物（１５５．４ｇ）は
、蒸留塔を通して、塔頂から補集した。加熱反応器には
、残留物（２４．６ｇ）が蓄積した。４−アセトキシス
チレン（化合物Ｉ）を、収率７４．１％で単離した。

【００３４】実施例２７ 実施例２６の残留物に対して、粗化合物ＩＩ（０．５８
モル）、無水酢酸（０．６４モル）、フェノチアジン（
０．１重量％）および８５重量％燐酸（０．３２モル％
）の混合物を、実施例２６のようにして連続的に供給し
た。化合物Ｉを含む生成物（１８３．３ｇ）は、蒸留塔
を通して塔頂から補集した。反応器には、残留物が残っ
た。４−アセトキシスチレン（化合物Ｉ）を、収率９１
．７％で単離した。

【００３５】実施例２８ 実施例２７の残留物に対して、粗化合物ＩＩ（０．５８
モル）、無水酢酸（０．６４モル）、フェノチアジン（
０．１重量％）および８５重量％燐酸（０．３２モル％
）の混合物を、実施例２７のようにして連続的に供給し
た。化合物Ｉを含む生成物（１７３．６ｇ）は、蒸留塔
を通して塔頂から補集した。加熱反応器には、残留物が
、実施例２６と実施例２７からの残留物と共に残った。 ４−アセトキシスチレン（化合物Ｉ）を、収率８６．７
％で単離した。

【００３６】実施例２６，２７および２８における４−
アセトキシスチレン（化合物Ｉ）の収率を平均すると、
８４．１％であった。

Claims (32)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　連続供給反応モードまたは半連続供給
   反応モードにおいて、適当な酸無水物と適当な脱水触媒
   の存在下で、４’−アセトキシフェニルメチルカルビノ
   ールを加熱すること、から成る４−アセトキシスチレン
   の調製方法。
2. 【請求項２】　　該４’−アセトキシフェニルメチルカ
   ルビノールと共に、適当な重合抑制剤も存在する請求項
   １記載の方法。
3. 【請求項３】　　該４−アセトキシスチレンの調製時に
   生成するポリマー残留物を除去すること、を更に含む請
   求項１記載の方法。
4. 【請求項４】　　該ポリマー残留物の除去を、該４−ア
   セトキシスチレンの調製のための反応媒体の一部分とし
   て働く少なくともいくらかのポリマー残留物の存在を維
   持する方法で行う請求項３記載の方法。
5. 【請求項５】　　該ポリマー残留物の除去を、該ポリマ
   ー残留物の望ましい定常状態量を提供する方法で行う請
   求項４記載の方法。
6. 【請求項６】　　該４−アセトキシスチレンの調製を反
   応器中で行い、該定常状態量が、該反応器容積の１容量
   ％から３０容量％である請求項５記載の方法。
7. 【請求項７】　　該４−アセトキシスチレンの調製を反
   応器中で行い、該反応器中における該ポリマー残留物の
   容積が、該反応器容積の１容量％から２９容量％である
   下限と、該反応器容積の２容量％から３０容量％である
   上限との間にある請求項５記載の方法。
8. 【請求項８】　　該加熱を、１６０℃−３００℃の温度
   、５ｍｍＨｇＡ−２５０ｍｍＨｇＡの真空状態で行う請
   求項１記載の方法。
9. 【請求項９】　　適当な該脱水触媒を、無機重硫酸塩、
   鉱酸、有機酸、およびそれらの任意の適当な混合物から
   成る群より選択する請求項１記載の方法。
10. 【請求項１０】　　適当な該脱水触媒を、重硫酸アンモ
    ニウム、重硫酸カリウム、亜燐酸、燐酸、ｐ−トルエン
    スルホン酸、およびそれらの任意の適当な混合物から選
    択する請求項９記載の方法。
11. 【請求項１１】　　以下の工程：即ち、ａ）４’−アセ
    トキシフェニルメチルカルビノール、適当な酸無水物、
    および適当な脱水触媒から成る反応混合物を、４−アセ
    トキシスチレン、副産物、およびポリマー残留物を生成
    させるのに適当な反応温度を該混合物に提供するために
    加熱されている反応器へ、連続法で供給すること； ｂ）生成した該４−アセトキシスチレンの少なくとも一
    部と、該副産物の少なくとも一部を、該反応器から除去
    すること； ｃ）該ポリマー残留物の少なくとも一部を、定期的に又
    は連続的に該反応器から除去すること から成る連続供給反応モードにおいて４−アセトキシス
    チレンを調製する方法。
12. 【請求項１２】　　該反応混合物が、適当な重合抑制剤
    を更に含む請求項１１記載の方法。
13. 【請求項１３】　　該反応器から除去する該ポリマー残
    留物の量が、該反応器において、該反応器容積の１容量
    ％から３０容量％の範囲にポリマー残留物の容積を維持
    する量である請求項１１記載の方法。
14. 【請求項１４】　　ポリマー残留物の該容積が、該反応
    器容積の５容量％から１５容量％である請求項１３記載
    の方法。
15. 【請求項１５】　　該加熱を、１６０℃−３００℃の温
    度、５ｍｍＨｇＡ−２５０ｍｍＨｇＡの真空状態で行う
    請求項１１記載の方法。
16. 【請求項１６】　　適当な該脱水触媒を、無機重硫酸塩
    、鉱酸、有機酸、およびそれらの任意の適当な混合物か
    ら成る群より選択する請求項１１記載の方法。
17. 【請求項１７】　　適当な該脱水触媒を、重硫酸アンモ
    ニウム、重硫酸カリウム、亜燐酸、燐酸、ｐ−トルエン
    スルホン酸、およびそれらの任意の適当な混合物から成
    る群より選択する請求項１６記載の方法。
18. 【請求項１８】　　以下の工程：即ち、ａ）４’−アセ
    トキシフェニルメチルカルビノール、適当な酸無水物、
    および適当な脱水触媒から成る反応混合物を反応器に導
    入すること； ｂ）該反応混合物を、４−アセトキシスチレン、副産物
    、およびポリマー残留物を生成させるのに適する反応温
    度まで加熱すること；および ｃ）生成した該副産物の少なくとも一部を、該反応器か
    ら除去すること から成る４−アセトキシスチレンの調製方法。
19. 【請求項１９】　　生成した該４−アセトキシスチレン
    の少なくとも一部を、該反応器から除去する請求項１８
    記載の方法。
20. 【請求項２０】　　該反応混合物が、適当な重合抑制剤
    を更に含む請求項１８または１９記載の方法。
21. 【請求項２１】　　該４−アセトキシスチレンの調製時
    に、該ポリマー残留物の少なくとも一部分を除去するこ
    とを更に含む請求項１８または１９記載の方法。
22. 【請求項２２】　　ポリマー残留物の一部分の該除去を
    、定期的に行う請求項２１記載の方法。
23. 【請求項２３】　　ポリマー残留物の一部分の該除去を
    、４−アセトキシスチレンが生成される間の少なくとも
    実質的なある時間において、該反応器内で、望ましい量
    の該ポリマー残留物を生成する方法で行う請求項２１記
    載の方法。
24. 【請求項２４】　　該ポリマー残留物の望ましい量が、
    該反応器容積の１容量％から３０容量％である請求項２
    ３記載の方法。
25. 【請求項２５】　　ポリマー残留物の望ましい量が、該
    反応器容積の５容量％から１５容量％である請求項２４
    記載の方法。
26. 【請求項２６】　　該加熱を、１６０℃−３００℃の温
    度、５ｍｍＨｇＡ−１５０ｍｍＨｇＡの真空状態で行う
    請求項１８または１９記載の方法。
27. 【請求項２７】　　適当な該脱水触媒を、無機重硫酸塩
    、鉱酸、有機酸、およびそれらの任意の適当な混合物か
    ら成る群より選択する請求項１８または１９記載の方法
    。
28. 【請求項２８】　　適当な該脱水触媒を、重硫酸アンモ
    ニウム、重硫酸カリウム、亜燐酸、燐酸、ｐ−トルエン
    スルホン酸、およびそれらの任意の適当な混合物から成
    る群より選択する請求項２７記載の方法。
29. 【請求項２９】　　該反応混合物を、半連続供給モード
    において、該反応器へ導入する請求項２１記載の方法。
30. 【請求項３０】　　該ポリマー残留物を、連続して除去
    する請求項２９記載の方法。
31. 【請求項３１】　　該ポリマー残留物を、定期的に除去
    する請求項２９記載の方法。
32. 【請求項３２】　　以下の工程：即ち、ａ）４−アセト
    キシスチレン、副産物、およびポリマー残留物を生成さ
    せるのに適する温度に維持してある反応器に、４’−ア
    セトキシフェニルメチルカルビノール、適当な酸無水物
    、および適当な脱水触媒から成る反応混合物を、連続法
    で供給すること； ｂ）生成した該４−アセトキシスチレンの少なくとも一
    部と、該副産物の少なくとも一部を、該反応器から除去
    すること； ｃ）該方法の効率を良くするために、該反応器に残って
    いる該４−アセトキシスチレンと該副産物の量を、有意
    でない量まで減少させるのに十分な時間、該４−アセト
    キシスチレンと副産物の該除去を続けている間は、該反
    応混合物の該供給を中断すること； ｄ）該供給の該中断の後、更に有意でない量まで該４−
    アセトキシスチレンと該副産物を減少させた後、該反応
    器から該ポリマー残留物の少なくとも一部を除去するこ
    と；および ｅ）工程ａ）の各繰返しの前に工程ｄ）を繰返して、ａ
    ）からｃ）の工程を少なくとも１回繰返すことから成る
    、半連続供給反応モードにおける４−アセトキシスチレ
    ンの調製方法。