JPH04231318A - 表面変性した二酸化ケイ素、その製造方法およびシラン - Google Patents
表面変性した二酸化ケイ素、その製造方法およびシランInfo
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- JPH04231318A JPH04231318A JP91177915A JP17791591A JPH04231318A JP H04231318 A JPH04231318 A JP H04231318A JP 91177915 A JP91177915 A JP 91177915A JP 17791591 A JP17791591 A JP 17791591A JP H04231318 A JPH04231318 A JP H04231318A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 57
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 45
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 12
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 12
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 11
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 9
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007873 sieving Methods 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N F[CH]F Chemical compound F[CH]F JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 108010081348 HRT1 protein Hairy Proteins 0.000 claims description 2
- 102100021881 Hairy/enhancer-of-split related with YRPW motif protein 1 Human genes 0.000 claims description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 14
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical class Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002621 H2PtCl6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006887 Ullmann reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 n-butyl methyl Chemical group 0.000 description 1
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
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- C09C1/28—Compounds of silicon
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- G03G9/09708—Inorganic compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
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- C01P2004/60—Particles characterised by their size
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱分解により製造した
表面変性した二酸化ケイ素、その製造方法およびトナー
への用途に関する。
表面変性した二酸化ケイ素、その製造方法およびトナー
への用途に関する。
【0002】
【従来の技術】静電気的現像法において、熱分解法によ
り製造した表面変性した二酸化ケイ素を含有する粉末状
のトナーを使用することは公知である。表面変性のため
に、多様なシラン、特にジメチルジクロロシランが使用
される(米国特許第3720617号、欧州特許出願公
開第0293009号明細書)。
り製造した表面変性した二酸化ケイ素を含有する粉末状
のトナーを使用することは公知である。表面変性のため
に、多様なシラン、特にジメチルジクロロシランが使用
される(米国特許第3720617号、欧州特許出願公
開第0293009号明細書)。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、熱分解
法により製造した表面変性した二酸化ケイ素において、
この変性を、化合物: CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3
)3を用いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物
理化学的データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
6.5±2.0
C−含量
2.4±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
法により製造した表面変性した二酸化ケイ素において、
この変性を、化合物: CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3
)3を用いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物
理化学的データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
6.5±2.0
C−含量
2.4±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
【0004】本発明のもう一つの対象は、熱分解法によ
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si(O
CH3)3を用いて実施し、変性された二酸化ケイ素が
次の物理化学的データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
7.0±2.0
C−含量
2.2±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si(O
CH3)3を用いて実施し、変性された二酸化ケイ素が
次の物理化学的データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
7.0±2.0
C−含量
2.2±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
【0005】本発明のもう一つの対象は、熱分解法によ
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: C4F9−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用い
て実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的デ
ータ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
7.5±2.0
C−含量
2.2±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: C4F9−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用い
て実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的デ
ータ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
7.5±2.0
C−含量
2.2±0.5
pH値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131に
よる 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
【0006】本発明のもう一つの対象は、熱分解法によ
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用
いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的
データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
8.5±2 C
−含量
2.0±0.5 p
H値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131による 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
り製造した表面変性した二酸化ケイ素において、この変
性を、化合物: C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用
いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的
データ: 外観
脆い白色粉
末 BET表面積 1
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度 2
60±20 105℃で2時間の乾
燥減量 3 <2
灼熱減量 2 6
8.5±2 C
−含量
2.0±0.5 p
H値(4%の分散液中) 5
3.5±5.51 DIN 66131による 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
ことを特徴とする表面変性した二酸化ケイ素である。
【0007】本発明のもう一つの対象は、熱分解法によ
り製造した表面変性した二酸化ケイ素を製造する方法に
おいて、次の物理化学的データ: BET表面積
m2/g
200±25 一次粒子の平均粒子径
ナノメータ 12
嵩密度 1
g/l
約50 乾燥減量(105℃で2時間) 2
% <1
.5 灼熱減量(1000℃で2時間) 2 7
% <1 pH値
(4%の水性分散液中) 3
3.6−4.3 SiO
2 5
% >9
9.8 Al2O3 5
%
< 0.05 Fe2O3 5
%
< 0.003
TiO2 5
%
< 0.03 HCl 5 6
%
< 0.025 モッカ
ーによる篩別残分(45μm) 4 %
< 0.051 DIN
53194による 2 DIN 55921による 3 DIN 53200による 4 DIN 53580による 5 1000℃で2時間灼熱した物質に対して6
HCl含量は灼熱減量の成分 7 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
熱分解により製造したケイ酸を、一般の混合装置に装入
し、強力に混合しながら、次のシラン:CHF2−CF
2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3CF3−C
HF−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3
C4F9−CH2−CH2−Si(OCH3)3C6F
13−CH2−CH2−Si(OCH3)3のグループ
からの化合物を噴霧し、後混合し、得られた混合物を1
.5〜2.5時間100〜140℃の温度で熱処理する
ことを特徴とする熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素を製造する方法である。
り製造した表面変性した二酸化ケイ素を製造する方法に
おいて、次の物理化学的データ: BET表面積
m2/g
200±25 一次粒子の平均粒子径
ナノメータ 12
嵩密度 1
g/l
約50 乾燥減量(105℃で2時間) 2
% <1
.5 灼熱減量(1000℃で2時間) 2 7
% <1 pH値
(4%の水性分散液中) 3
3.6−4.3 SiO
2 5
% >9
9.8 Al2O3 5
%
< 0.05 Fe2O3 5
%
< 0.003
TiO2 5
%
< 0.03 HCl 5 6
%
< 0.025 モッカ
ーによる篩別残分(45μm) 4 %
< 0.051 DIN
53194による 2 DIN 55921による 3 DIN 53200による 4 DIN 53580による 5 1000℃で2時間灼熱した物質に対して6
HCl含量は灼熱減量の成分 7 105℃で2時間乾燥した物質に対してを有する
熱分解により製造したケイ酸を、一般の混合装置に装入
し、強力に混合しながら、次のシラン:CHF2−CF
2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3CF3−C
HF−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3
C4F9−CH2−CH2−Si(OCH3)3C6F
13−CH2−CH2−Si(OCH3)3のグループ
からの化合物を噴霧し、後混合し、得られた混合物を1
.5〜2.5時間100〜140℃の温度で熱処理する
ことを特徴とする熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素を製造する方法である。
【0008】熱分解により製造したケイ酸、Aeros
il 200 は、Ullmanns Enzyklo
paedie dertechnischen Che
mie 第4版(1982) 464−469頁ならび
に表12に記載されている。
il 200 は、Ullmanns Enzyklo
paedie dertechnischen Che
mie 第4版(1982) 464−469頁ならび
に表12に記載されている。
【0009】次のシラン:
CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3
)3CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3C4F9−CH2−CH2−Si(OC
H3)3C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3
)3は、トリクロロシランを、それぞれ: C4F9−CH=CH2 C6F13−CH=CH2 C2F4H−O−CH2−CH=CH2C3F6H−O
−CH2−CH=CH2のグループからの化合物と反応
させることにより製造される。
)3CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3C4F9−CH2−CH2−Si(OC
H3)3C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3
)3は、トリクロロシランを、それぞれ: C4F9−CH=CH2 C6F13−CH=CH2 C2F4H−O−CH2−CH=CH2C3F6H−O
−CH2−CH=CH2のグループからの化合物と反応
させることにより製造される。
【0010】この場合、オレフィンはH2PtCl6の
存在で、イソプロパノール溶液中に装入し、還流温度に
加熱する。トリクロロシランを、段階的に溶液に添加し
、その際、還流温度は40℃から90〜95℃に高まる
。
存在で、イソプロパノール溶液中に装入し、還流温度に
加熱する。トリクロロシランを、段階的に溶液に添加し
、その際、還流温度は40℃から90〜95℃に高まる
。
【0011】メタノールまたはナトリウムメチラートを
用いたエステル化は、65〜75℃の温度で2時間の後
に完了する。後処理は公知方法により行う。
用いたエステル化は、65〜75℃の温度で2時間の後
に完了する。後処理は公知方法により行う。
【0012】記載した方法は、部分的にドイツ連邦共和
国特許出願公開第3138235号およびドイツ連邦共
和国特許出願公開第2511187号明細書から公知で
ある。
国特許出願公開第3138235号およびドイツ連邦共
和国特許出願公開第2511187号明細書から公知で
ある。
【0013】本発明のもう一つの対象は、式:C4F9
−CH2−CH2−Si(OCH3)3および、式: C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3)3の化
合物である。
−CH2−CH2−Si(OCH3)3および、式: C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3)3の化
合物である。
【0014】本発明により表面変性した熱分解法により
製造したケイ酸は、静電気的現像方法(写真複写)にお
いて使用される粉末状のトナーに添加することができる
。
製造したケイ酸は、静電気的現像方法(写真複写)にお
いて使用される粉末状のトナーに添加することができる
。
【0015】本発明により表面変性した熱分解法により
製造したケイ酸は、次の利点を有する:第1に、静電気
的現像法においてトナーを使用した際に、帯電安定性が
改善され、第2に、活性化エネルギーがより低い。
製造したケイ酸は、次の利点を有する:第1に、静電気
的現像法においてトナーを使用した際に、帯電安定性が
改善され、第2に、活性化エネルギーがより低い。
【0016】
【実施例】次に、使用した熱分解により製造したケイ酸
、Aerosil 200 は、次の物理化学的データ
を有している。
、Aerosil 200 は、次の物理化学的データ
を有している。
【0017】
BET表面積
m2/g
200±25 一次粒子の平均粒子径
ナノメータ 12
嵩密度 1
g/l
約50 105℃で2時間の乾燥減量
2 % <1.
5 1000℃で2時間の灼熱減量 2
7 % <1
pH値(4%水性分散液) 3
3.6−4.3
SiO2 5
% >99
.8 Al2O3 5
%
<0.05 Fe2O3
%
<0.003 Ti
O2 5
% <0.03
HCl 5 6
%
<0.025 モッカー(Mocker)
による 篩別残分(45μ
m) 4 %
<0.051 DIN 53194による 2 DIN 55921による 3 DIN 53200による 4 DIN 53580による 5 1000℃で2時間灼熱した物質に対して6
HCl含量は灼熱減量の成分 7 105℃で2時間乾燥した物質に対してシランと
して次の化合物を使用した: CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3
)3CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3C4F9−CH2−CH2−Si(OC
H3)3C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3
)3135lの Loedige 混合器中に、Aer
osil 200 2kgを装入する。シラン200g
を、稼働している混合器において噴霧ノズルを用いてA
erosilに吹き付ける。引き続き、なお15分間後
混合する。このシラン化したAerosilを2時間1
20℃で熱処理する。
m2/g
200±25 一次粒子の平均粒子径
ナノメータ 12
嵩密度 1
g/l
約50 105℃で2時間の乾燥減量
2 % <1.
5 1000℃で2時間の灼熱減量 2
7 % <1
pH値(4%水性分散液) 3
3.6−4.3
SiO2 5
% >99
.8 Al2O3 5
%
<0.05 Fe2O3
%
<0.003 Ti
O2 5
% <0.03
HCl 5 6
%
<0.025 モッカー(Mocker)
による 篩別残分(45μ
m) 4 %
<0.051 DIN 53194による 2 DIN 55921による 3 DIN 53200による 4 DIN 53580による 5 1000℃で2時間灼熱した物質に対して6
HCl含量は灼熱減量の成分 7 105℃で2時間乾燥した物質に対してシランと
して次の化合物を使用した: CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3
)3CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3C4F9−CH2−CH2−Si(OC
H3)3C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3
)3135lの Loedige 混合器中に、Aer
osil 200 2kgを装入する。シラン200g
を、稼働している混合器において噴霧ノズルを用いてA
erosilに吹き付ける。引き続き、なお15分間後
混合する。このシラン化したAerosilを2時間1
20℃で熱処理する。
【0018】得られた表面変性したケイ酸は次の物理化
学的データを有している:
1 2
3 4──────────────
────────────────────── 外
観
軟質白色粉末 BET表面積
1 175
171 178 174
一次粒子の平均粒子径 nm
12 12 12
12 嵩密度 2
58 59
63 61 105℃で2
時間の乾燥減量 3 0.3
0.45 0.70 0.83 灼
熱減量 2 6
6.67 7.04 7.
46 8.62 C−含量
2.4
2.2 2.2 2.0
pH値(4%の分散液) 5 4
.76 4.56 4.77
4.67───────────────────
─────────────────1 DIN 6
6131による 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対して適用技術
試験 ケイ酸添加物によるトナー粉末の流動特性の影響この流
動特性は、円錐堆積高さの測定によりおよび流出特性の
測定により評価する。
学的データを有している:
1 2
3 4──────────────
────────────────────── 外
観
軟質白色粉末 BET表面積
1 175
171 178 174
一次粒子の平均粒子径 nm
12 12 12
12 嵩密度 2
58 59
63 61 105℃で2
時間の乾燥減量 3 0.3
0.45 0.70 0.83 灼
熱減量 2 6
6.67 7.04 7.
46 8.62 C−含量
2.4
2.2 2.2 2.0
pH値(4%の分散液) 5 4
.76 4.56 4.77
4.67───────────────────
─────────────────1 DIN 6
6131による 2 DIN ISO 787/XI,JIS K 5
101/18による3 DIN ISO 787/I
I,ASTM D 280,JIS K 5101/2
1による4 DIN 55921,ASTM D 1
208,JIS K 5101/23による5 DI
N ISO 787/IX,ASTM D 1208,
JIS K 5101/24による 6 105℃で2時間乾燥した物質に対して適用技術
試験 ケイ酸添加物によるトナー粉末の流動特性の影響この流
動特性は、円錐堆積高さの測定によりおよび流出特性の
測定により評価する。
【0019】この場合、粗製トナーは、トナー樹脂
OT 5201 93%と顔料カーボンPrinte
x 150 T 7%とからなる。
OT 5201 93%と顔料カーボンPrinte
x 150 T 7%とからなる。
【0020】トナー樹脂 OT 5201 は次の工
業的製品特性を有している: メルトフローインデックス 1
g/10min 5−10
(150℃/2.16kp) 粘度数 2
cm3/g 37−43 重量減
量 3
重量% <1 残留モノマー
重量
% <0.35 スチレン
<0.25 n−
BMA
<0.10
モノマー組成 スチレン
70重量
%
n−ブチルメチルアクリレート
30重量% ガラス転移温度 TG
5 60
−65℃ 平均粒子径 6
( d 50 % RS )
0.200−0.314mm 1 DIN 53735、Ausg. 2/88
試料の前処理:50℃で乾燥 油ポンプ真空、1時間または4時間 乾燥棚、50℃ 2 DIN 7745、Ausg. 1/803
IR−乾燥装置、一定重量まで 4 ガスクロマトグラフィー 5 DSC−法、ASTM D 3418/756
DIN 53734、Ausg. 1/73、評価は
DIN 66141、Ausg. 2/74によるカ
ーボン Printex 150 T は、市販され
ているカーボンであり、次の物理化学的データを有する
: PRINTEX (登録商標) 150 T
ニグロメータインデッス
83 着色力
DIN 53204/53234(IRB 3=1
00) 100
油吸収、F.P. [%]
400 DPB
吸収 DIN 53601 [ml/100
g] 115 灼熱減
量 [%]
7 p
H値 DIN 53200
5 篩別残量
[%max.]
0.05 灰含量
0.05 嵩密度 D
IN 53194 [g/l flu
ffy] 150 平均粒子
径 [nm]
29 BET
表面積 [m2/g]
110
円錐堆積高さ 流出特性
[mm]
[評点*]──────────────
──────────────────── 粗製ト
ナー
47.6 4
粗製トナー+ケイ酸 1+0.3% 4
6.5 3 粗製トナー
+ケイ酸 2+0.3% 45.4
3 粗製トナー+ケイ酸
3+0.3% 47.5
3 粗製トナー+ケイ酸 4+0.3%
45.0 3
─────────────────────────
─────────*Schriftenreihe
Pigmente, Heft 31, 7頁q/m−
測定 実際に、トナーは極めて不規則な条件にさらされる。こ
のトナーは、複写機のスイッチの接続および遮断により
、複写されない長い耐久時間の後、および複写の間に、
たえず新規に活性化されるか、または、帯電される。
業的製品特性を有している: メルトフローインデックス 1
g/10min 5−10
(150℃/2.16kp) 粘度数 2
cm3/g 37−43 重量減
量 3
重量% <1 残留モノマー
重量
% <0.35 スチレン
<0.25 n−
BMA
<0.10
モノマー組成 スチレン
70重量
%
n−ブチルメチルアクリレート
30重量% ガラス転移温度 TG
5 60
−65℃ 平均粒子径 6
( d 50 % RS )
0.200−0.314mm 1 DIN 53735、Ausg. 2/88
試料の前処理:50℃で乾燥 油ポンプ真空、1時間または4時間 乾燥棚、50℃ 2 DIN 7745、Ausg. 1/803
IR−乾燥装置、一定重量まで 4 ガスクロマトグラフィー 5 DSC−法、ASTM D 3418/756
DIN 53734、Ausg. 1/73、評価は
DIN 66141、Ausg. 2/74によるカ
ーボン Printex 150 T は、市販され
ているカーボンであり、次の物理化学的データを有する
: PRINTEX (登録商標) 150 T
ニグロメータインデッス
83 着色力
DIN 53204/53234(IRB 3=1
00) 100
油吸収、F.P. [%]
400 DPB
吸収 DIN 53601 [ml/100
g] 115 灼熱減
量 [%]
7 p
H値 DIN 53200
5 篩別残量
[%max.]
0.05 灰含量
0.05 嵩密度 D
IN 53194 [g/l flu
ffy] 150 平均粒子
径 [nm]
29 BET
表面積 [m2/g]
110
円錐堆積高さ 流出特性
[mm]
[評点*]──────────────
──────────────────── 粗製ト
ナー
47.6 4
粗製トナー+ケイ酸 1+0.3% 4
6.5 3 粗製トナー
+ケイ酸 2+0.3% 45.4
3 粗製トナー+ケイ酸
3+0.3% 47.5
3 粗製トナー+ケイ酸 4+0.3%
45.0 3
─────────────────────────
─────────*Schriftenreihe
Pigmente, Heft 31, 7頁q/m−
測定 実際に、トナーは極めて不規則な条件にさらされる。こ
のトナーは、複写機のスイッチの接続および遮断により
、複写されない長い耐久時間の後、および複写の間に、
たえず新規に活性化されるか、または、帯電される。
【0021】実際の条件下で、帯電水準(q/m−値で
表される)は安定でなければならない。従って、試験し
たケイ酸1、2、3および4の特性の試験のために、い
わゆる帯電滞留時間および数回の活性化を試験した。
表される)は安定でなければならない。従って、試験し
たケイ酸1、2、3および4の特性の試験のために、い
わゆる帯電滞留時間および数回の活性化を試験した。
【0022】q/m−測定原則
この方法により、静電気的に帯電可能な粉末、特に二成
分現像剤のトナーの帯電/質量−比(Triboで示さ
れる)を測定する。この場合、トナー/キャリヤー混合
物(現像剤)は、回転台上のガラス瓶中で一定時間活性
化する。引き続きこの現像剤を、ポテンシャルがゼロで
ある測定セル中に入れる。選択的加圧/減圧によりトナ
ーをキャリヤーから分離し、篩を通過させ吸い込むかま
たは吹き飛ばす。これは「ハード(Hard)」または
「ソフトブローオフ(Soft−Blow−Off)」
法である。
分現像剤のトナーの帯電/質量−比(Triboで示さ
れる)を測定する。この場合、トナー/キャリヤー混合
物(現像剤)は、回転台上のガラス瓶中で一定時間活性
化する。引き続きこの現像剤を、ポテンシャルがゼロで
ある測定セル中に入れる。選択的加圧/減圧によりトナ
ーをキャリヤーから分離し、篩を通過させ吸い込むかま
たは吹き飛ばす。これは「ハード(Hard)」または
「ソフトブローオフ(Soft−Blow−Off)」
法である。
【0023】吸い込んだか、または吹き飛ばしたトナー
の電荷は電位差として表され、次の式:
の電荷は電位差として表され、次の式:
【0024】
【数1】
【0025】[その際、mは吹き飛ばされた(吸い込ま
れた)質量を表す]で計算される。このトナーは電位差
の符号と反対に帯電している。
れた)質量を表す]で計算される。このトナーは電位差
の符号と反対に帯電している。
【0026】測定条件
バッチ: トナー 2%
キャリヤー 98%(球状フェライト、80
−100μm) 活性: 回転台、40mlのガラス瓶中で3
60rpm、 現像剤40gの秤取 数回の活性化 この場合、試料を連続して数回活性化した。この場合、
より実地条件に相応する、それというのも、現像剤は複
写機中で程度に差こそあれ規則的間隔で荷電されるため
である。
キャリヤー 98%(球状フェライト、80
−100μm) 活性: 回転台、40mlのガラス瓶中で3
60rpm、 現像剤40gの秤取 数回の活性化 この場合、試料を連続して数回活性化した。この場合、
より実地条件に相応する、それというのも、現像剤は複
写機中で程度に差こそあれ規則的間隔で荷電されるため
である。
【0027】帯電滞留時間
ここでは、試料を30分間活性化し、印刷において示さ
れた時間により測定した。この結果は、長時間にわたり
、1回行った荷電と同様の安定性を保持した。
れた時間により測定した。この結果は、長時間にわたり
、1回行った荷電と同様の安定性を保持した。
【0028】この場合次の調製物を使用した:粗製トナ
ー トナー樹脂 OT 5201
93%顔料カーボン Printex 150 T
7%被覆したトナー 例1、2、3および4による0.3%の Aerosi
l を粗製トナーに添加した。
ー トナー樹脂 OT 5201
93%顔料カーボン Printex 150 T
7%被覆したトナー 例1、2、3および4による0.3%の Aerosi
l を粗製トナーに添加した。
【0029】ケイ酸AEROSIL R 972は、米
国特許第3720617号明細書による先行技術である
。
国特許第3720617号明細書による先行技術である
。
【0030】数回の活性化
粗製トナーと反対に、全ての被覆したトナーは明らかに
安定した帯電水準を示した。ケイ酸1または2を用いた
被覆において、1回の活性化の後に、最終値はもはや著
しく影響されない。ケイ酸3の使用によって、帯電安定
性は、粗製トナーに比べて改善されるが、q/m値は、
測定順序の進行と共に連続的に上昇する。ケイ酸4で被
覆したトナーは2回目の活性化の後に安定した帯電水準
を示す。この測定の結果は図1に示す。
安定した帯電水準を示した。ケイ酸1または2を用いた
被覆において、1回の活性化の後に、最終値はもはや著
しく影響されない。ケイ酸3の使用によって、帯電安定
性は、粗製トナーに比べて改善されるが、q/m値は、
測定順序の進行と共に連続的に上昇する。ケイ酸4で被
覆したトナーは2回目の活性化の後に安定した帯電水準
を示す。この測定の結果は図1に示す。
【0031】帯電滞留時間
粗製トナーは、1回行なった荷電(活性化時間は全ての
タイプで30分)をなお24時間安定に保持するが、数
回の活性化において得られた最終値はまるで達成されな
い。粗製トナーとは異なり、被覆したトナーは、耐久時
間が増加すると共に、荷電はそれぞれ数回の活性化で得
られた最終値を達成することが有利である。この利点は
、実際に、トナーのそれまでの経過に無関係に、静電気
的荷電は、トナーの著しく長い持続時間により、数回の
活性化において得られた値の水準を保持していることに
より認識することができる。最も安定しているのは、帯
電滞留時間において、ケイ酸1および2を用いて被覆し
たトナーである。この測定の結果は表2に示してある。
タイプで30分)をなお24時間安定に保持するが、数
回の活性化において得られた最終値はまるで達成されな
い。粗製トナーとは異なり、被覆したトナーは、耐久時
間が増加すると共に、荷電はそれぞれ数回の活性化で得
られた最終値を達成することが有利である。この利点は
、実際に、トナーのそれまでの経過に無関係に、静電気
的荷電は、トナーの著しく長い持続時間により、数回の
活性化において得られた値の水準を保持していることに
より認識することができる。最も安定しているのは、帯
電滞留時間において、ケイ酸1および2を用いて被覆し
たトナーである。この測定の結果は表2に示してある。
【0032】本発明によるケイ酸を使用することにより
、全体として次の利点が得られる:前記した実地条件下
で、市販の二成分乾式トナーの帯電安定性が著しく改善
される。
、全体として次の利点が得られる:前記した実地条件下
で、市販の二成分乾式トナーの帯電安定性が著しく改善
される。
【0033】長い貯蔵時間、または放置時間の後に、数
回の活性化において得られた最大の静電気的荷電が達成
されるかまたは保持される。
回の活性化において得られた最大の静電気的荷電が達成
されるかまたは保持される。
【0034】本発明によるケイ酸で被覆したトナーは、
わずかな活性化エネルギーを有する(活性化エネルギー
=最大のq/m値を達成するために必要なエネルギーで
ある)。
わずかな活性化エネルギーを有する(活性化エネルギー
=最大のq/m値を達成するために必要なエネルギーで
ある)。
【0035】市販の二成分乾式トナーの流動特性は、ケ
イ酸1−4で被覆することにより明らかに改善される。
イ酸1−4で被覆することにより明らかに改善される。
【0036】米国特許第3720617号明細書による
先行技術との比較 米国特許第3720617号明細書において、粉末トナ
ーにおいて、ケイ酸Aerosil R 972の使用
が記載されている。図1および図2において、粗製トナ
ーおよび本発明によるケイ酸のほかに Aerosil
R 972 が実施されている。
先行技術との比較 米国特許第3720617号明細書において、粉末トナ
ーにおいて、ケイ酸Aerosil R 972の使用
が記載されている。図1および図2において、粗製トナ
ーおよび本発明によるケイ酸のほかに Aerosil
R 972 が実施されている。
【0037】本発明によるケイ酸と Aerosil
R 972 との比較において、 Aerosil R
972 は明らかに高い静電気的帯電を起こす。いわ
ゆる一次樹脂および二次樹脂の他に、市販のトナー調製
物は、樹脂マトリックス中の顔料カーボンおよび帯電調
節材料からなる。帯電水準は、最初に、トナー樹脂によ
りおよび帯電調節剤により決定した。帯電安定性、帯電
保持、活性化エネルギーおよび粉末特性のようなこの帯
電特性は、ケイ酸から決定するかまたは最善にする。
R 972 との比較において、 Aerosil R
972 は明らかに高い静電気的帯電を起こす。いわ
ゆる一次樹脂および二次樹脂の他に、市販のトナー調製
物は、樹脂マトリックス中の顔料カーボンおよび帯電調
節材料からなる。帯電水準は、最初に、トナー樹脂によ
りおよび帯電調節剤により決定した。帯電安定性、帯電
保持、活性化エネルギーおよび粉末特性のようなこの帯
電特性は、ケイ酸から決定するかまたは最善にする。
【0038】本発明によるケイ酸は、粗製トナーの帯電
水準に著しく影響しないかまたはほとんど影響せず、帯
電安定性、活性化エネルギーおよび帯電保持に著しく有
利に影響するため、技術の改善である。従って、このこ
とは、複写機中で常に程度に差こそあれ著しく分解され
るために有利であり、それによりケイ酸の濃度は長時間
テストにおいて特定の変動を受ける。本発明によるケイ
酸を使用することにより、この変動はあまり問題ではな
くなる、それというのも帯電水準の影響が少ないためで
ある。
水準に著しく影響しないかまたはほとんど影響せず、帯
電安定性、活性化エネルギーおよび帯電保持に著しく有
利に影響するため、技術の改善である。従って、このこ
とは、複写機中で常に程度に差こそあれ著しく分解され
るために有利であり、それによりケイ酸の濃度は長時間
テストにおいて特定の変動を受ける。本発明によるケイ
酸を使用することにより、この変動はあまり問題ではな
くなる、それというのも帯電水準の影響が少ないためで
ある。
【0039】本発明による製造したフッ素含有のシラン
と反応させた二酸化ケイ素は、磁性粉末、たとえば鉄粉
末または酸化鉄粉末と接触するか、または、一緒に撹拌
した場合に負に帯電する。この点で、本発明による二酸
化ケイ素は、流動性を改善するばかりでなく、同様にト
ナー粒子の負の荷電のための電荷発生剤としても特に適
している。本発明によるケイ酸は、トナー量との関係で
、0.1〜5重量%の量で使用することができる。
と反応させた二酸化ケイ素は、磁性粉末、たとえば鉄粉
末または酸化鉄粉末と接触するか、または、一緒に撹拌
した場合に負に帯電する。この点で、本発明による二酸
化ケイ素は、流動性を改善するばかりでなく、同様にト
ナー粒子の負の荷電のための電荷発生剤としても特に適
している。本発明によるケイ酸は、トナー量との関係で
、0.1〜5重量%の量で使用することができる。
【0040】本発明による二酸化ケイ素は、自由流動性
の(free flow)の粉末として現像剤粒子に添
加し、その際、定期刊行物 POWDERTechno
logie 59 (1989) に記載されたように
現像剤粒子の表面に付着するか、または、これは均一化
のため溶融され、引き続き粉砕される場合、トナー粒子
のマトリックス中に入り込む。
の(free flow)の粉末として現像剤粒子に添
加し、その際、定期刊行物 POWDERTechno
logie 59 (1989) に記載されたように
現像剤粒子の表面に付着するか、または、これは均一化
のため溶融され、引き続き粉砕される場合、トナー粒子
のマトリックス中に入り込む。
【0041】本発明によるケイ酸と混合することができ
るトナー粒子は公知である(欧州特許出願公開第029
3009号、米国特許第3720617号明細書)。
るトナー粒子は公知である(欧州特許出願公開第029
3009号、米国特許第3720617号明細書)。
【0042】トナーの製造
51℃のガラス転移温度、65〜85℃の範囲内の融点
、13.9の酸価および25℃でフェノール−オルトジ
クロロベンゼンと混合して測定した(重量比60/40
)粘度0.175を有するプロポキシル化したビスフェ
ノール−A−フマレートポリエステル、ATLAC T
500 (Atlas Chemical Indu
stries Corporation, Wilmi
ngton, USA の市販品名)90部、カーボン
Cabot Regal 400(Cabot Co
rporation, USAの市販品名)10部を、
ニーダー中に装入し、溶融物が形成されるまで120℃
に加熱した。その後、混練を開始した。約30分後に混
練を止め、この混合物を室温(20℃)に冷却した。
、13.9の酸価および25℃でフェノール−オルトジ
クロロベンゼンと混合して測定した(重量比60/40
)粘度0.175を有するプロポキシル化したビスフェ
ノール−A−フマレートポリエステル、ATLAC T
500 (Atlas Chemical Indu
stries Corporation, Wilmi
ngton, USA の市販品名)90部、カーボン
Cabot Regal 400(Cabot Co
rporation, USAの市販品名)10部を、
ニーダー中に装入し、溶融物が形成されるまで120℃
に加熱した。その後、混練を開始した。約30分後に混
練を止め、この混合物を室温(20℃)に冷却した。
【0043】この温度で、この混合物を砕き、粉末が生
じるまで粉砕し、この粉末をエアジェットミルを用いて
さらに細かくした。さらに、サイクロン分離を実施し、
その際、ミルとして、装置AFG(Alpine Fl
iessbettgegenstrahlmuehle
、流動層向流ジェットミル)タイプ100に、サイクロ
ンとしてATP(Alpine Turboplexw
indsichter Typ 500 GS)を取り
付けて組み合わせたものを使用した。Alpinen
Multiplexlabor−Zickzacksi
chterを用いることでさらにサイクロン分離を行な
った。得られるトナーの粒度分布は、公知方法で、たと
えばコルターカウンターを用いて測定した。
じるまで粉砕し、この粉末をエアジェットミルを用いて
さらに細かくした。さらに、サイクロン分離を実施し、
その際、ミルとして、装置AFG(Alpine Fl
iessbettgegenstrahlmuehle
、流動層向流ジェットミル)タイプ100に、サイクロ
ンとしてATP(Alpine Turboplexw
indsichter Typ 500 GS)を取り
付けて組み合わせたものを使用した。Alpinen
Multiplexlabor−Zickzacksi
chterを用いることでさらにサイクロン分離を行な
った。得られるトナーの粒度分布は、公知方法で、たと
えばコルターカウンターを用いて測定した。
【0044】平均粒子径は5μmであった。保持したト
ナー粒子を混合装置に供給し、本発明による二酸化ケイ
素と混合した。同時に、比較製品を製造するために別の
試料に公知の疎水性ケイ酸を混入した。詳細には次のケ
イ酸を使用した: 例番号
疎水化剤 B
ET表面積 ex1(比較) γ
−アミノプロピル−Si
トリメチル−Si
150m2/g ex2(比較)
ジメチル−Si
110m2/g ex3(比較)
トリメチル−Si
200m2/g ex4(本発明による
) C4F9(CH2)2Si
180m2/gこのケイ酸は次のようにしてトナー
粒子と混合した:トナー100gおよび二酸化ケイ素添
加物105gを、20000rpmの速度を有する実験
室ミル(Janke および Kundel Labo
rmuehle Typ IKA M 20)中に添加
した。この場合、20℃の均一な温度が保持される。
ナー粒子を混合装置に供給し、本発明による二酸化ケイ
素と混合した。同時に、比較製品を製造するために別の
試料に公知の疎水性ケイ酸を混入した。詳細には次のケ
イ酸を使用した: 例番号
疎水化剤 B
ET表面積 ex1(比較) γ
−アミノプロピル−Si
トリメチル−Si
150m2/g ex2(比較)
ジメチル−Si
110m2/g ex3(比較)
トリメチル−Si
200m2/g ex4(本発明による
) C4F9(CH2)2Si
180m2/gこのケイ酸は次のようにしてトナー
粒子と混合した:トナー100gおよび二酸化ケイ素添
加物105gを、20000rpmの速度を有する実験
室ミル(Janke および Kundel Labo
rmuehle Typ IKA M 20)中に添加
した。この場合、20℃の均一な温度が保持される。
【0045】混合時間は15秒であった。
【0046】このケイ酸を添加することにより、トナー
における流動性が明らかに改善される。トナーと疎水性
二酸化ケイ素からなる得られた混合物は、さらに、二成
分の静電気プロセスのための現像剤混合物の製造のため
に使用される。キャリヤーに対して5重量%の範囲内で
通常の亜鉛ニッケルフェライトキャリヤー混合物にこの
トナー二酸化ケイ素混合物を添加した後、この現像剤は
直径6cmの金属ドラム中のローラーにより活性化され
た。回転速度は、30分の時間の間300r/minで
あった。ローラーの充填度は30%であった。
における流動性が明らかに改善される。トナーと疎水性
二酸化ケイ素からなる得られた混合物は、さらに、二成
分の静電気プロセスのための現像剤混合物の製造のため
に使用される。キャリヤーに対して5重量%の範囲内で
通常の亜鉛ニッケルフェライトキャリヤー混合物にこの
トナー二酸化ケイ素混合物を添加した後、この現像剤は
直径6cmの金属ドラム中のローラーにより活性化され
た。回転速度は、30分の時間の間300r/minで
あった。ローラーの充填度は30%であった。
【0047】この方法により製造した現像剤混合物をさ
らに試験した。トナーの摩擦帯電した電荷は公知のブロ
ーオフ法により測定した。この結果は、質量あたりの荷
電の割合:q/Mで表した。この方法の詳細な記載は、
欧州特許出願第8920766.7号明細書に記載され
ている。
らに試験した。トナーの摩擦帯電した電荷は公知のブロ
ーオフ法により測定した。この結果は、質量あたりの荷
電の割合:q/Mで表した。この方法の詳細な記載は、
欧州特許出願第8920766.7号明細書に記載され
ている。
【0048】この摩擦帯電した電荷の実施例により測定
した測定結果は次の表に示した: 例
摩擦帯電電荷
ex1
−1μC/g ex
2
−14μC/g ex3
−13μC/g ex4
−18μC/g例5および6 無色のトナーを前記したと同様の方法で製造した。これ
に対する例外としてカーボンを使用しなかった。例3お
よび4の疎水性ケイ酸を、2.5gから100gの量で
無色のトナーに添加した。この現像剤は、例1〜4に記
載したようにトナー添加物混合物をキャリヤーに添加す
ることにより製造した。この量は重量%であった。例3
によるケイ酸を添加した場合に、使用可能な現像剤が得
られなかった。電荷対質量の割合が低すぎ、粉末状の混
合物は分離現象を示した。
した測定結果は次の表に示した: 例
摩擦帯電電荷
ex1
−1μC/g ex
2
−14μC/g ex3
−13μC/g ex4
−18μC/g例5および6 無色のトナーを前記したと同様の方法で製造した。これ
に対する例外としてカーボンを使用しなかった。例3お
よび4の疎水性ケイ酸を、2.5gから100gの量で
無色のトナーに添加した。この現像剤は、例1〜4に記
載したようにトナー添加物混合物をキャリヤーに添加す
ることにより製造した。この量は重量%であった。例3
によるケイ酸を添加した場合に、使用可能な現像剤が得
られなかった。電荷対質量の割合が低すぎ、粉末状の混
合物は分離現象を示した。
【0049】これと反対に、例4による本発明により被
覆したケイ酸を有する現像剤は、−17μC/gの摩擦
帯電値を示し、電子写真現像剤として使用した場合良好
な結果を示した。
覆したケイ酸を有する現像剤は、−17μC/gの摩擦
帯電値を示し、電子写真現像剤として使用した場合良好
な結果を示した。
Claims (7)
- 【請求項1】 熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素において、この変性を、化合物:CHF2
−CF2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3を用
いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的
データ: 外観
脆い白色粉末
BET表面積
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度
60±20 105℃で2時間の乾燥減量
<2 灼熱減量
6.5±2.0 C−含量
2.4±0.5 pH値(4%
の分散液中) 3.5
±5.5を有することを特徴とする表面変性した二酸化
ケイ素。 - 【請求項2】 熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素において、この変性を、化合物:
CF3−CHF−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3 を用いて実施し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化
学的データ: 外観
脆い白色粉末
BET表面積
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度
60±20 105℃で2時間の乾燥減量
<2 灼熱減量
7.0±2.0 C−含量
2.2±0.5 pH値(4%
の分散液中) 3.5
±5.5を有することを特徴とする表面変性した二酸化
ケイ素。 - 【請求項3】 熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素において、この変性を、化合物:C4F9
−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用いて実施し
、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的データ: 外観
脆い白色粉末
BET表面積
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度
60±20 105℃で2時間の乾燥減量
<2 灼熱減量
7.5±2 C−含量
2.2±0.5 pH値(4%の分
散液中) 3.5±5
.5を有することを特徴とする表面変性した二酸化ケイ
素。 - 【請求項4】 熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素において、この変性を、化合物:C6F1
3−CH2−CH2−Si(OCH3)3を用いて実施
し、変性された二酸化ケイ素が次の物理化学的データ: 外観
脆い白色粉末
BET表面積
170±30
一次粒子の平均粒子径(nm)
12 嵩密度
60±20 105℃で2時間の乾燥減量
<2 灼熱減量
8.5±2 C−含量
2.0±0.5 pH値(4%の分
散液中) 3.5±5
.5を有することを特徴とする表面変性した二酸化ケイ
素。 - 【請求項5】 熱分解法により製造した表面変性した
二酸化ケイ素を製造する方法において、次の物理化学的
データ: BET表面積
m2/g
200±25 一次粒子の平均粒子径
ナノメータ 12
嵩密度
g/l
約50 乾燥減量(105℃で2時間)
% <1.5
灼熱減量(1000℃で2時間) %
<1 pH値(4%
の水性分散液中)
3.6−4.3 SiO2
%
>99.8
Al2O3
%
< 0.05 Fe2O3
%
< 0.003 TiO2
% < 0.0
3 HCl
%
< 0.025 モッカーによる篩別残分(
45μm) %
< 0.05を有する熱分解により製造したケイ酸
を、一般の混合装置に装入し、強力に混合しながら、次
のシラン:CHF2−CF2−O−(CH2)3−Si
(OCH3)3CF3−CHF−CF2−O−(CH2
)3−Si(OCH3)3C4F9−CH2−CH2−
Si(OCH3)3C6F13−CH2−CH2−Si
(OCH3)3のグループからの化合物を噴霧し、後混
合し、得られた混合物を1.5〜2.5時間100〜1
40℃の温度で熱処理することを特徴とする熱分解法に
より製造した表面変性した二酸化ケイ素を製造する方法
。 - 【請求項6】 式: C4F9−CH2−CH2−Si(OCH3)3の化合
物。 - 【請求項7】 式: C6F13−CH2−CH2−Si(OCH3)3の化
合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP90113839A EP0466958B1 (de) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | Oberflächenmodifizierte Siliciumdioxide |
DE90113839.6 | 1990-07-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04231318A true JPH04231318A (ja) | 1992-08-20 |
JPH0764545B2 JPH0764545B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=8204228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3177915A Expired - Fee Related JPH0764545B2 (ja) | 1990-07-19 | 1991-07-18 | 表面変性した二酸化ケイ素、その製造方法およびシラン |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5429873A (ja) |
EP (1) | EP0466958B1 (ja) |
JP (1) | JPH0764545B2 (ja) |
AT (1) | ATE76886T1 (ja) |
DE (2) | DE59000148D1 (ja) |
DK (1) | DK0466958T3 (ja) |
ES (1) | ES2033153T3 (ja) |
GR (1) | GR3004801T3 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07232912A (ja) * | 1994-01-27 | 1995-09-05 | Degussa Ag | シラン化された熱分解的に製造されたケイ酸、その製法および液体用増粘剤 |
JP2003255604A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | トナー及び画像形成装置 |
JP2008127253A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 表面処理無機酸化物粒子とその製造方法及び表面処理無機酸化物粒子分散液並びに樹脂組成物 |
JP2009263152A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 粒子およびその製造方法 |
JP2012516913A (ja) * | 2009-02-02 | 2012-07-26 | インビスタ テクノロジーズ エス エイ アール エル | 表面改質されたナノ粒子の組成物 |
US11079695B2 (en) | 2019-03-19 | 2021-08-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner external additive and toner |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5288891A (en) * | 1990-11-22 | 1994-02-22 | Nippon Oil And Fats Co. Ltd. | Fluoralykyl group-containing organosilicon oligomer, method for preparing same and surface treating agent |
EP0552420A3 (en) * | 1992-01-24 | 1993-09-15 | H.B. Fuller Licensing & Financing, Inc. | Water dispersed polyurethane polymer for improved coatings and adhesives |
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