JPH04206659A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH04206659A JPH04206659A JP2329856A JP32985690A JPH04206659A JP H04206659 A JPH04206659 A JP H04206659A JP 2329856 A JP2329856 A JP 2329856A JP 32985690 A JP32985690 A JP 32985690A JP H04206659 A JPH04206659 A JP H04206659A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
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- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
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- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は半導体記憶装置に係わり、特にチップレイア
ウトの改良に関する。
ウトの改良に関する。
(従来の技術)
従来の半導体記憶装置、例えばダイナミック型RAM、
スタティック型RAM等のチップレイアウトを第3図に
示す。
スタティック型RAM等のチップレイアウトを第3図に
示す。
同図において、参照符号100はチップを示しており、
チップ100の中央にはメモリ領域102が設けられて
いる。メモリ領域102はメモリセルか行列状に配置さ
れるメモリセルアレイ、このメモリセルアレイの行(ロ
ウ)を選択するロウデコーダ、列(カラム)を選択する
カラムデコーダ、図示せぬビット線対の電位差を増幅し
データを読み出すセンスアンプ等で構成されている。メ
モリ領域102の周囲には5Vの電位を持つ電源線V。
チップ100の中央にはメモリ領域102が設けられて
いる。メモリ領域102はメモリセルか行列状に配置さ
れるメモリセルアレイ、このメモリセルアレイの行(ロ
ウ)を選択するロウデコーダ、列(カラム)を選択する
カラムデコーダ、図示せぬビット線対の電位差を増幅し
データを読み出すセンスアンプ等で構成されている。メ
モリ領域102の周囲には5Vの電位を持つ電源線V。
Cか配設され、さらにこの電源線VCCの外周には接地
電位を持つ電源線VSSか配設されている。電源線VC
Cと電源線Vssとの間のチップ100にはこれらの電
源線の電位差により駆動される周辺回路A及び周辺回路
Bか設けられている。周辺回路Aはメモリ領域と作用す
る周辺回路、例えばアドレス/<ッファ等を表し、周辺
回路Bはチップ100外部と作用する周辺回路、例えば
入/出力!ドツファ、入力保護回路等を表す。電源線V
SSのさらに外周には、チップ100の入/出力端子と
して機能するノ々ソト 104□〜 104oが配置さ
れている。
電位を持つ電源線VSSか配設されている。電源線VC
Cと電源線Vssとの間のチップ100にはこれらの電
源線の電位差により駆動される周辺回路A及び周辺回路
Bか設けられている。周辺回路Aはメモリ領域と作用す
る周辺回路、例えばアドレス/<ッファ等を表し、周辺
回路Bはチップ100外部と作用する周辺回路、例えば
入/出力!ドツファ、入力保護回路等を表す。電源線V
SSのさらに外周には、チップ100の入/出力端子と
して機能するノ々ソト 104□〜 104oが配置さ
れている。
ところで、ダイナミック型RAM、 スタティック型
RA M等に代表される半導体記憶装置の集積度は、近
年、急速に高まっており、それに連れてメモリセルが微
細化してきている。微細化されたメモリセルでは絶縁膜
等か薄弱であり、耐圧等が小さい。このため、メモリセ
ルの信頼性を維持するべく、メモリ領域102に作用す
る周辺回路Aや、メモリ領域102内部の電源電位を低
くしようとする試みがある。この試みによれば、チップ
100に供給する外部電源電位を現状と同し、例えば5
Vとし、メモリ領域102及びそれに作用する回路の電
源を5V以下とする。
RA M等に代表される半導体記憶装置の集積度は、近
年、急速に高まっており、それに連れてメモリセルが微
細化してきている。微細化されたメモリセルでは絶縁膜
等か薄弱であり、耐圧等が小さい。このため、メモリセ
ルの信頼性を維持するべく、メモリ領域102に作用す
る周辺回路Aや、メモリ領域102内部の電源電位を低
くしようとする試みがある。この試みによれば、チップ
100に供給する外部電源電位を現状と同し、例えば5
Vとし、メモリ領域102及びそれに作用する回路の電
源を5V以下とする。
しかしこの場合には、チップ100の中に5Vの電源線
、5V以下に降圧された電源線、接地された電源線の3
種類の電源線か必要で、従来の5■単一電源の装置に比
べて電源線数か増えてしまう。
、5V以下に降圧された電源線、接地された電源線の3
種類の電源線か必要で、従来の5■単一電源の装置に比
べて電源線数か増えてしまう。
又、チップ100の中にメモリ領域と作用する周辺回路
Aの他、チップ100外部と作用する周辺回路Bもあっ
て、これらの配置と共に電源線の引き回しの仕方を工夫
しないとチップ面積か大きくなる。
Aの他、チップ100外部と作用する周辺回路Bもあっ
て、これらの配置と共に電源線の引き回しの仕方を工夫
しないとチップ面積か大きくなる。
(発明が解決しようとする課題)
以上のように、メモリセルの信頼性維持のためにメモリ
領域及びそれに作用する周辺回路の電源を外部電源電位
より降圧する半導体記憶装置ではチップの中に3種類の
電源線か必要である。しかも、チップの中にはメモリ領
域と作用する周辺回路の他1.チップ外部と作用する周
辺回路がある。
領域及びそれに作用する周辺回路の電源を外部電源電位
より降圧する半導体記憶装置ではチップの中に3種類の
電源線か必要である。しかも、チップの中にはメモリ領
域と作用する周辺回路の他1.チップ外部と作用する周
辺回路がある。
これら回路の配置とともに電源線の引き回しの仕方を工
夫しないとチップ上に無駄な箇所を形成してしまいチッ
プ面積か大きくなってしまう。
夫しないとチップ上に無駄な箇所を形成してしまいチッ
プ面積か大きくなってしまう。
この発明は上記のような点に鑑み為されたもので、その
目的は、3種類の電源線、メモリ領域と作用する周辺回
路、及びチップ外部と作用する周辺回路かそれぞれチッ
プ上に無駄なく配置された半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
目的は、3種類の電源線、メモリ領域と作用する周辺回
路、及びチップ外部と作用する周辺回路かそれぞれチッ
プ上に無駄なく配置された半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
この発明の半導体記憶装置は、半導体基体と、前記基体
内に設けられたメモリ領域と、このメモリ領域の周囲に
順次配設された第1の電位を持つ第1の電源線、第2の
電位を持つ第2の電源線、及び第3の電位を持つ第3の
電源線と、前記第1の電源線と第2の電源線との間の前
記基体内に設けられ、前記第1の電位と第2の電位との
電位差により駆動される第1の回路と、前記第2の電源
線と第3の電源線との間の前記基体内に設けられ、前記
第2の電位と第3の電位との電位差により駆動される第
2の回路と、を具備することを特徴とする。
内に設けられたメモリ領域と、このメモリ領域の周囲に
順次配設された第1の電位を持つ第1の電源線、第2の
電位を持つ第2の電源線、及び第3の電位を持つ第3の
電源線と、前記第1の電源線と第2の電源線との間の前
記基体内に設けられ、前記第1の電位と第2の電位との
電位差により駆動される第1の回路と、前記第2の電源
線と第3の電源線との間の前記基体内に設けられ、前記
第2の電位と第3の電位との電位差により駆動される第
2の回路と、を具備することを特徴とする。
又、前記第3の電位を前記第1の電位に降圧する降圧手
段を具備し、前記降圧手段は前記第3の電源線の近傍に
設けられることを特徴とする。
段を具備し、前記降圧手段は前記第3の電源線の近傍に
設けられることを特徴とする。
(作用)
上記のような半導体記憶装置によれば、メモリ領域の周
囲に順次箱1の電源線、第2の電源線、第3の電源線が
配設され、第1の電源線と第2の電源線との間にこれら
の電源線の電位差により駆動される第1の回路を設ける
。そして、第2の電源線と第3の電源線との間にこれら
の電源線の電位差により駆動される第2の回路を設ける
。
囲に順次箱1の電源線、第2の電源線、第3の電源線が
配設され、第1の電源線と第2の電源線との間にこれら
の電源線の電位差により駆動される第1の回路を設ける
。そして、第2の電源線と第3の電源線との間にこれら
の電源線の電位差により駆動される第2の回路を設ける
。
これにより、第2の電源線を第1、第2の回路で共有で
きると共に、第1の電源線と第2の電源線との間に第1
の回路を、又、第3の電源線と第2の電源線との間に第
2の回路をそれぞれ設けるようにしたので、3種類の電
源線、第1の回路、及び第2の回路を基体上に無駄なく
配置できる。
きると共に、第1の電源線と第2の電源線との間に第1
の回路を、又、第3の電源線と第2の電源線との間に第
2の回路をそれぞれ設けるようにしたので、3種類の電
源線、第1の回路、及び第2の回路を基体上に無駄なく
配置できる。
又、半導体記憶装置か前記第3の電位を前記第1の電位
に降圧する降圧手段を持つ場合、前記降圧手段を前記第
3の電源線の近傍に設けることにより、上記3種類の電
源線、第1、第2の回路らと共に降圧手段をも基体上に
無駄なく配置できる。
に降圧する降圧手段を持つ場合、前記降圧手段を前記第
3の電源線の近傍に設けることにより、上記3種類の電
源線、第1、第2の回路らと共に降圧手段をも基体上に
無駄なく配置できる。
(実施例)
以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
。
。
第1図はこの発明の第1の実施例に係わる半導体記憶装
置のチップレイアウトを示す図である。
置のチップレイアウトを示す図である。
同図において、参照符号IOはチップを示し、チップ1
0の中央にはメモリ領域12か設けられている。
0の中央にはメモリ領域12か設けられている。
メモリ領域12はメモリセルを行列状に配置したメモリ
セルアレイ、このメモリセルアレイの行(ロウ)を選択
するロウデコーダ、列(カラム)を選択するカラムデコ
ーダ、図示せぬビット線対の電位差を増幅しデータを読
み出すセンスアンプ等により構成される。メモリ領域1
2の周囲には、例えば3〜3.5V程度の電位を持つ電
源線内部Vccが配設され、この電源線内部VCCの外
周には、接地電位を持つ電源線Vssか配設されている
。この電源線VSSと電源線内部VCCとの間のチップ
10にはこれらの電源線の電位差により駆動される周辺
回路Aか設けられている。周辺回路Aはメモリ領域12
と作用する回路、例えばアトレスノへ・ノフ7等である
。又、電源線内部VCCか持つ電位はメモリ領域I2内
部の電源電位としても使用される。例えばセンスアンプ
、及びカラム/ロウデコーダの電源電位である。電源線
VSSのさらに外周には、例えば5■の電位を持つ電源
線外部■。。か配設されている。この電源線外部VCC
と電源線Vssとの間のチップ10にはこれらの電源線
の電位差により駆動される周辺回路Bが設けられている
。周辺回路Bはチップ10外部と作用する回路、例えば
入/出力バッファ、入力保護回路等である。
セルアレイ、このメモリセルアレイの行(ロウ)を選択
するロウデコーダ、列(カラム)を選択するカラムデコ
ーダ、図示せぬビット線対の電位差を増幅しデータを読
み出すセンスアンプ等により構成される。メモリ領域1
2の周囲には、例えば3〜3.5V程度の電位を持つ電
源線内部Vccが配設され、この電源線内部VCCの外
周には、接地電位を持つ電源線Vssか配設されている
。この電源線VSSと電源線内部VCCとの間のチップ
10にはこれらの電源線の電位差により駆動される周辺
回路Aか設けられている。周辺回路Aはメモリ領域12
と作用する回路、例えばアトレスノへ・ノフ7等である
。又、電源線内部VCCか持つ電位はメモリ領域I2内
部の電源電位としても使用される。例えばセンスアンプ
、及びカラム/ロウデコーダの電源電位である。電源線
VSSのさらに外周には、例えば5■の電位を持つ電源
線外部■。。か配設されている。この電源線外部VCC
と電源線Vssとの間のチップ10にはこれらの電源線
の電位差により駆動される周辺回路Bが設けられている
。周辺回路Bはチップ10外部と作用する回路、例えば
入/出力バッファ、入力保護回路等である。
上記構成の半導体記憶装置によれば、電源線内部VCC
〜電源線電源線間53間らの電源線の電位差により駆動
され、メモリ領域12と作用する周辺回路Aを配置する
。そして、電源線V55〜電源線外部VCC間にこれら
の電源線の電位差により駆動され、チップ10外部と作
用する周辺回路Bを配置すると共に、電源線VSSを周
辺回路Aと共有する。
〜電源線電源線間53間らの電源線の電位差により駆動
され、メモリ領域12と作用する周辺回路Aを配置する
。そして、電源線V55〜電源線外部VCC間にこれら
の電源線の電位差により駆動され、チップ10外部と作
用する周辺回路Bを配置すると共に、電源線VSSを周
辺回路Aと共有する。
これにより、メモリセルの信頼性を維持するために3種
類の電源線を持ちながらも、これら3種類の電源線、こ
れらの電源線の電位差によりそれぞれ駆動される周辺回
路A、Bをチップ10上に無駄なく配置でき、ひいては
チップ面積の縮小も可能となる。
類の電源線を持ちながらも、これら3種類の電源線、こ
れらの電源線の電位差によりそれぞれ駆動される周辺回
路A、Bをチップ10上に無駄なく配置でき、ひいては
チップ面積の縮小も可能となる。
又、周辺回路Aを配置するための領域と周辺回路Bを配
置するための領域とを電源線■5.を境にして明確に分
離すれば、例えばメモリの大容量化(4L16L64M
、2513M、・・・)に伴って周辺回路Aか増加して
も周辺回路Bに妨げられることなく効率的に周辺回路A
を配置でき、高集積化に好適である。
置するための領域とを電源線■5.を境にして明確に分
離すれば、例えばメモリの大容量化(4L16L64M
、2513M、・・・)に伴って周辺回路Aか増加して
も周辺回路Bに妨げられることなく効率的に周辺回路A
を配置でき、高集積化に好適である。
又、電源線外部V。0をチップ10の外縁に近接させて
配置すれば、同図に示すようにパッド14、〜14゜を
電源線外部VCC〜CC〜VSSとの間に配置すること
も可能である。
配置すれば、同図に示すようにパッド14、〜14゜を
電源線外部VCC〜CC〜VSSとの間に配置すること
も可能である。
第2図はこの発明の第2の実施例に係わる半導体記憶装
置のチップレイアウトを示す図である。
置のチップレイアウトを示す図である。
第2図において第1図と同一の部分については同一の参
照符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
照符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
同図に示すように、第2の実施例に係わる半導体記憶装
置は、メモリ領域を12A、12Bの複数に分割し、か
つ外部電源電位、例えば5Vを内部電源電位、例えば3
〜3.5■に降圧するための降圧回路16をチップ10
内に設けたものである。このような場合には、分割する
領域18の、例えばほぼ中心線に沿うように降圧された
内部電源電位を持つ電源線内部VCCを配設する。そし
て、分割する領域18における電源線内部VCCの両側
に沿うように電源線VSSをそれぞれ配設し、電源線内
部VCC〜電源線電源線間53間らの電源線の電位差に
より駆動される周辺回路A1、A2をそれぞれ設ける。
置は、メモリ領域を12A、12Bの複数に分割し、か
つ外部電源電位、例えば5Vを内部電源電位、例えば3
〜3.5■に降圧するための降圧回路16をチップ10
内に設けたものである。このような場合には、分割する
領域18の、例えばほぼ中心線に沿うように降圧された
内部電源電位を持つ電源線内部VCCを配設する。そし
て、分割する領域18における電源線内部VCCの両側
に沿うように電源線VSSをそれぞれ配設し、電源線内
部VCC〜電源線電源線間53間らの電源線の電位差に
より駆動される周辺回路A1、A2をそれぞれ設ける。
又、降圧回路16は電源線外部VCCの近傍、例えば電
源線外部V。0〜電源線VSSとの間に設ける。
源線外部V。0〜電源線VSSとの間に設ける。
上記構成の半導体記憶装置によれば、分割する領域18
において、電源線内部VCCをメモリ領域12Aに作用
する周辺回路A1とメモリ領域12Bに作用する周辺回
路A2とて共有できる。さらに、降圧回路16をチップ
10内に持つ場合、これを電源線外部VCCの近傍に設
ける。これらにより、3種類の電源線を持ち、かつメモ
リ領域か複数に分割される場合に、3種類の電源線、こ
れらの電源線の電位差によりそれぞれ駆動される周辺回
路Al。
において、電源線内部VCCをメモリ領域12Aに作用
する周辺回路A1とメモリ領域12Bに作用する周辺回
路A2とて共有できる。さらに、降圧回路16をチップ
10内に持つ場合、これを電源線外部VCCの近傍に設
ける。これらにより、3種類の電源線を持ち、かつメモ
リ領域か複数に分割される場合に、3種類の電源線、こ
れらの電源線の電位差によりそれぞれ駆動される周辺回
路Al。
A2、及びB1さらに降圧回路16をチップ上に無駄な
く配置できる。
く配置できる。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明によれば、3種類の電源
線、メモリ領域と作用する周辺回路、及びチップ外部と
作用する周辺回路かそれぞれチップ上に無駄なく配置さ
れた半導体記憶装置を提供できる。
線、メモリ領域と作用する周辺回路、及びチップ外部と
作用する周辺回路かそれぞれチップ上に無駄なく配置さ
れた半導体記憶装置を提供できる。
第1図はこの発明の第1の実施例に係わる半導体記憶装
置のチップレイアウトを示す図、第2図はこの発明の第
2の実施例に係わる半導体記憶装置のチップレイアウト
を示す図、第3図は従来の半導体記憶装置のチップレイ
アウトを示す図である。 10・・チップ、12.12A、 12B ・メモリ
領域、16・・・降圧回路。
置のチップレイアウトを示す図、第2図はこの発明の第
2の実施例に係わる半導体記憶装置のチップレイアウト
を示す図、第3図は従来の半導体記憶装置のチップレイ
アウトを示す図である。 10・・チップ、12.12A、 12B ・メモリ
領域、16・・・降圧回路。
Claims (1)
- (1)半導体基体と、 前記基体内に設けられたメモリ領域と、 前記メモリ領域の周囲に順次配設された第1の電位を持
つ第1の電源線、第2の電位を持つ第2の電源線、及び
第3の電位を持つ第3の電源線と、前記第1の電源線と
第2の電源線との間の前記基体内に設けられ、前記第1
の電位と第2の電位との電位差により駆動される第1の
回路と、前記第2の電源線と第3の電源線との間の前記
基体内に設けられ、前記第2の電位と第3の電位との電
位差により駆動される第2の回路と、を具備することを
特徴とする半導体記憶装置。(2)前記第3の電位を前
記第1の電位に降圧する降圧手段を具備し、 前記降圧手段は前記第3の電源線の近傍に設けられるこ
とを特徴とする請求項(1)記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2329856A JP2894635B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体記憶装置 |
US07/799,078 US5293334A (en) | 1990-11-30 | 1991-11-27 | Pattern layout of power source lines in semiconductor memory device |
EP91120419A EP0488303B1 (en) | 1990-11-30 | 1991-11-28 | Pattern layout of power source lines in semiconductor memory device |
DE69120906T DE69120906T2 (de) | 1990-11-30 | 1991-11-28 | Speisespannungsleitungsanordnung in einer Halbleiterspeicheranordnung |
KR1019910021789A KR960000714B1 (ko) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | 반도체 기억장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2329856A JP2894635B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04206659A true JPH04206659A (ja) | 1992-07-28 |
JP2894635B2 JP2894635B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=18226002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2329856A Expired - Fee Related JP2894635B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体記憶装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5293334A (ja) |
EP (1) | EP0488303B1 (ja) |
JP (1) | JP2894635B2 (ja) |
KR (1) | KR960000714B1 (ja) |
DE (1) | DE69120906T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5748549A (en) * | 1996-05-27 | 1998-05-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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