JPH04149245A - 芳香族ポリアミドフィルム - Google Patents
芳香族ポリアミドフィルムInfo
- Publication number
- JPH04149245A JPH04149245A JP2277250A JP27725090A JPH04149245A JP H04149245 A JPH04149245 A JP H04149245A JP 2277250 A JP2277250 A JP 2277250A JP 27725090 A JP27725090 A JP 27725090A JP H04149245 A JPH04149245 A JP H04149245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- particles
- average
- hardness
- aromatic polyamide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004760 aramid Substances 0.000 title claims description 21
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 title claims description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- -1 calcium chloride Chemical class 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSWAXXJAPIGEGZ-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzene-1,4-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C(Cl)=C1 MSWAXXJAPIGEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 210000002257 embryonic structure Anatomy 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000000045 pyrolysis gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は芳香族ポリアミドフィルム、更に詳しくは、磁
気テープ用ベースフィルムなどとして好適な芳香族ポリ
アミドフィルムに関するものである。
気テープ用ベースフィルムなどとして好適な芳香族ポリ
アミドフィルムに関するものである。
[従来の技術]
芳香族ポリアミドフィルムは、その優れた耐熱性、機械
特性を活かして種々な用途に検討されている。特にパラ
配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度等の機械特性が
他のポリマより優れているため、フィルムの薄物化に非
常に有利であり、プリンタリボン、磁気テープ、コンデ
ンサー等の用途が考えられている。例えば磁気記録媒体
では特開昭58−168655 、特開昭62−112
218などがある。
特性を活かして種々な用途に検討されている。特にパラ
配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度等の機械特性が
他のポリマより優れているため、フィルムの薄物化に非
常に有利であり、プリンタリボン、磁気テープ、コンデ
ンサー等の用途が考えられている。例えば磁気記録媒体
では特開昭58−168655 、特開昭62−112
218などがある。
しかしながら、フィルムの加工工程、たとえば包装用途
における印刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・
カレンダー工程などの工程速度の増大にともない、フィ
ルムに要求される耐スクラッチ性、耐削れ性は益々厳し
くなっており、上述の如き従来の芳香族ポリアミドフィ
ルムでは、加工工程や、製品の性能上十分ではなくなっ
ている。
における印刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・
カレンダー工程などの工程速度の増大にともない、フィ
ルムに要求される耐スクラッチ性、耐削れ性は益々厳し
くなっており、上述の如き従来の芳香族ポリアミドフィ
ルムでは、加工工程や、製品の性能上十分ではなくなっ
ている。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、かかる課題を解消せしめ、芳香族ポリアミド
フィルム本来の優れた耐熱性、機械特性を維持し、表面
が傷つきにりく(以下耐スクラッチ性に優れるという)
、耐削れ性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供す
ることを目的とするものである。
フィルム本来の優れた耐熱性、機械特性を維持し、表面
が傷つきにりく(以下耐スクラッチ性に優れるという)
、耐削れ性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供す
ることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、平均−次粒径が5〜250nm、平均凝集度
が5〜100、モース硬度が6〜10の粒子Aを0.0
1〜5vt%含有し、フィルムのビッカース硬度が20
以上であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルム
に関するものである。
が5〜100、モース硬度が6〜10の粒子Aを0.0
1〜5vt%含有し、フィルムのビッカース硬度が20
以上であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルム
に関するものである。
本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般式で表わされ
る繰り返し単位を50モル%以上含むものが好ましく、
70モル%以上からなるものがより好ましい。
る繰り返し単位を50モル%以上含むものが好ましく、
70モル%以上からなるものがより好ましい。
一般式、
一+HN−Ar+ −NHCO−Ar2−co)−およ
び/または 一←HN−Ar3−CO升 ここで、Arl 、A、r2 、Ar3は 例えば、な
どが挙げられ、X、Yは 0− −CH2、−Co−、−8O2 −3−、−C(CH3) 2 から選ばれる。
び/または 一←HN−Ar3−CO升 ここで、Arl 、A、r2 、Ar3は 例えば、な
どが挙げられ、X、Yは 0− −CH2、−Co−、−8O2 −3−、−C(CH3) 2 から選ばれる。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
(特に塩素)、ニトロ基、01〜C3のアルキル基(特
にメチル基)、01〜C3のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。
(特に塩素)、ニトロ基、01〜C3のアルキル基(特
にメチル基)、01〜C3のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。
特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合されたものが
、全芳香環の50%以上、好ましくは75%以上を占め
る重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性も良好となる
ため好ましい。また吸湿率を小さくする点からは、芳香
環上の水素原子の一部がハロゲン基(特に塩素)で置換
された芳香環が全体の30%以上である重合体が好まし
い。
、全芳香環の50%以上、好ましくは75%以上を占め
る重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性も良好となる
ため好ましい。また吸湿率を小さくする点からは、芳香
環上の水素原子の一部がハロゲン基(特に塩素)で置換
された芳香環が全体の30%以上である重合体が好まし
い。
本発明フィルムに含有される粒子Aの平均−次粒径は5
〜250nm、好ましくは10〜1100nである必要
がある。平均−次粒径が上記範囲より大きいと耐削れ性
が不良となり、また、平均粒径が上記範囲より小さいと
耐スクラッチ性が不良となる。
〜250nm、好ましくは10〜1100nである必要
がある。平均−次粒径が上記範囲より大きいと耐削れ性
が不良となり、また、平均粒径が上記範囲より小さいと
耐スクラッチ性が不良となる。
さらに本発明フィルムに含有される粒子Aはフィルム中
で凝集している必要があり、粒子Aの平均凝集度は5〜
100、好ましくは10〜50の範囲である必要がある
。平均凝集度が上記範囲より小さい場合にはフィルムの
耐スクラッチ性が不良となり、本発明の範囲より大きい
場合には、耐削れ性が不良となるばかりではなく、粗大
突起が形成されフィルムの品質を著しく損なうので好ま
しくない。
で凝集している必要があり、粒子Aの平均凝集度は5〜
100、好ましくは10〜50の範囲である必要がある
。平均凝集度が上記範囲より小さい場合にはフィルムの
耐スクラッチ性が不良となり、本発明の範囲より大きい
場合には、耐削れ性が不良となるばかりではなく、粗大
突起が形成されフィルムの品質を著しく損なうので好ま
しくない。
また粒子Aのモース硬度は6〜10の範囲である必要が
ある。粒子Aのモース硬度が上記範囲より小さいと耐ス
クラッチ性が不良となる。尚、粒子のモース硬度の上限
は10である。
ある。粒子Aのモース硬度が上記範囲より小さいと耐ス
クラッチ性が不良となる。尚、粒子のモース硬度の上限
は10である。
本発明の粒子Aの種類は特に限定されないが、結晶形態
がβ、γまたはδ型から選ばれた少なくとも1種のアル
ミナ粒子またはジルコニア、窒化チタンのうちいづれか
であると耐スクラッチ性、耐削れ性が非常に良好となる
ので特に好ましい。
がβ、γまたはδ型から選ばれた少なくとも1種のアル
ミナ粒子またはジルコニア、窒化チタンのうちいづれか
であると耐スクラッチ性、耐削れ性が非常に良好となる
ので特に好ましい。
この中でもアルミナ粒子が特に好ましい。アルミナの結
晶形態にはα、β、γ、δ、χ、η、θ型などがあるが
、結晶形態がα、χ、ηまたはθ型では耐スクラッチ性
、耐削れ性を良好とすることが非常に難しい。結晶形態
がβ、γまたはδ型であれば、2種以上の結晶形態が混
合されていても構わない。なかでもδ型の結晶形態が多
く含有されている場合には、耐スクラッチ性、耐削れ性
がより一層良好となるので好ましい。δ型の結晶形態の
割合が60%以上であると、耐スクラッチ性、耐削れ性
がさらに良好となるので特に好ましい。
晶形態にはα、β、γ、δ、χ、η、θ型などがあるが
、結晶形態がα、χ、ηまたはθ型では耐スクラッチ性
、耐削れ性を良好とすることが非常に難しい。結晶形態
がβ、γまたはδ型であれば、2種以上の結晶形態が混
合されていても構わない。なかでもδ型の結晶形態が多
く含有されている場合には、耐スクラッチ性、耐削れ性
がより一層良好となるので好ましい。δ型の結晶形態の
割合が60%以上であると、耐スクラッチ性、耐削れ性
がさらに良好となるので特に好ましい。
尚、アルミナ粒子の結晶形態はフィルム中のアルミナ粒
子のみを取り出し、X線回折ピークなどを観測すること
により明らかにすることができる。
子のみを取り出し、X線回折ピークなどを観測すること
により明らかにすることができる。
また、本発明の芳香族ポリアミドフィルムに用いられる
粒子Aの形状係数は、0.85〜1.0の間であること
が、耐スクラッチ性、耐削れ性をさらに良好とするのに
有効である。
粒子Aの形状係数は、0.85〜1.0の間であること
が、耐スクラッチ性、耐削れ性をさらに良好とするのに
有効である。
本発明で用いる芳香族ポリアミドフィルムには、本発明
の目的を阻害しない範囲であれば、粒子A以外の粒子が
含まれていてもかまわない。特にモース硬度が粒子Aよ
りも小さく、かつ平均粒径が0.3〜3μmの範囲であ
る粒子Bを0.01〜5wt%の範囲で同時に含有する
と、走行性が向上し、さらに耐スクラッチ性、耐削れ性
が良好となるので好ましい。特に粒子Bのモース硬度が
6未満、好ましくは5未満、更に好ましくは4未満であ
ると、耐スクラッチ性、耐削れ性がより一層良好となる
ので特に好ましい。さらに粒子Aと粒子Bを同時に含有
するとき、粒子Aと粒子Bのモース硬度の差が1以上、
好ましくは2以上であると耐スクラッチ性が更に良好と
なるので好ましい。
の目的を阻害しない範囲であれば、粒子A以外の粒子が
含まれていてもかまわない。特にモース硬度が粒子Aよ
りも小さく、かつ平均粒径が0.3〜3μmの範囲であ
る粒子Bを0.01〜5wt%の範囲で同時に含有する
と、走行性が向上し、さらに耐スクラッチ性、耐削れ性
が良好となるので好ましい。特に粒子Bのモース硬度が
6未満、好ましくは5未満、更に好ましくは4未満であ
ると、耐スクラッチ性、耐削れ性がより一層良好となる
ので特に好ましい。さらに粒子Aと粒子Bを同時に含有
するとき、粒子Aと粒子Bのモース硬度の差が1以上、
好ましくは2以上であると耐スクラッチ性が更に良好と
なるので好ましい。
粒子Bの種類としては、例えば、炭酸カルシウム、カオ
リン、リン酸カルシウムなどの無機粒子や架橋球状ポリ
スチレン粒子、フッ素系粒子などの有機高分子粒子など
がある。
リン、リン酸カルシウムなどの無機粒子や架橋球状ポリ
スチレン粒子、フッ素系粒子などの有機高分子粒子など
がある。
本発明のフィルムのビッカース硬度は20以上、好まし
くは25以上、より好ましくは30以上である。ビッカ
ース硬度が20未満では、耐スクラッチ性、耐削れ性が
十分でなく、フィルムの加工工程、製品性能上問題とな
ることが多い。上限は特に限定されないが100程度で
ある。
くは25以上、より好ましくは30以上である。ビッカ
ース硬度が20未満では、耐スクラッチ性、耐削れ性が
十分でなく、フィルムの加工工程、製品性能上問題とな
ることが多い。上限は特に限定されないが100程度で
ある。
また本発明フィルムは積層フィルムであっても良い。積
層フィルムとするときには、本発明のフィルムが少なく
とも片側表層に積層されていると好ましく、積層フィル
ム全厚に対する本発明フィルムの厚さ比率は1/150
〜1/2の範囲であるとよりスリット時の粉落ちが少な
くなり好ましい。
層フィルムとするときには、本発明のフィルムが少なく
とも片側表層に積層されていると好ましく、積層フィル
ム全厚に対する本発明フィルムの厚さ比率は1/150
〜1/2の範囲であるとよりスリット時の粉落ちが少な
くなり好ましい。
また本発明フィルムの表面粗さは特に限定されないが、
少なくとも片面の表面粗さ(中心線平均粗さ、Ra)が
0.001〜0.030μmの範囲にある場合に耐スク
ラッチ性及び耐削れ性が共により一層良好となるので望
ましい。
少なくとも片面の表面粗さ(中心線平均粗さ、Ra)が
0.001〜0.030μmの範囲にある場合に耐スク
ラッチ性及び耐削れ性が共により一層良好となるので望
ましい。
本発明のフィルムは、少なくとも一方向についてフィル
ムが1%伸長した際のフィルム強度(F1値と略す)が
8 kg / mm 2以上有することが好ましい。よ
り好ましくは10kg/mm2以上、更に好ましくは1
3kg/mm2以上である。
ムが1%伸長した際のフィルム強度(F1値と略す)が
8 kg / mm 2以上有することが好ましい。よ
り好ましくは10kg/mm2以上、更に好ましくは1
3kg/mm2以上である。
また本発明のフィルムは、少なくとも一方向の引張弾性
率が700kg10Im2以上が好ましく、より好まし
くは1000kg/mm”以上、更に好ましくは130
0 kg/ mm2以上である。
率が700kg10Im2以上が好ましく、より好まし
くは1000kg/mm”以上、更に好ましくは130
0 kg/ mm2以上である。
また本発明のフィルムの少なくとも一方向の200℃、
10分での熱収縮率は5%以下が好ましく、より好まし
くは2%以下である。これら機械特性、熱特性は、積層
された場合には積層フィルムについても満足することが
好ましい。
10分での熱収縮率は5%以下が好ましく、より好まし
くは2%以下である。これら機械特性、熱特性は、積層
された場合には積層フィルムについても満足することが
好ましい。
次に本発明フィルムの製造方法を説明するが、これに限
定されるものではない。
定されるものではない。
芳香族ポリアミドを、酸クロリドとジアミンから得る場
合には、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルア
セトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DM
F)などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重合し
たり、水系媒体を使用する界面重合などで合成される。
合には、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルア
セトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DM
F)などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重合し
たり、水系媒体を使用する界面重合などで合成される。
ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドとジアミンを使
用すると塩化水素が副生ずるが、これを中和する場合に
は水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムな
どの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエ
タノールアミン、ジェタノールアミンなどの有機の中和
剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸と
の反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下
で行なわれる。
用すると塩化水素が副生ずるが、これを中和する場合に
は水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムな
どの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエ
タノールアミン、ジェタノールアミンなどの有機の中和
剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸と
の反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下
で行なわれる。
これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液として使用して
もよく、あるいはポリマを一度単離してから上記の有機
溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製膜原液を調製
してもよい。
もよく、あるいはポリマを一度単離してから上記の有機
溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製膜原液を調製
してもよい。
本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得るためにはポリ
マの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸中で100m1の
溶液として300Cで測定した値)は、0.5以上であ
ることが好ましい。
マの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸中で100m1の
溶液として300Cで測定した値)は、0.5以上であ
ることが好ましい。
製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシウ
ム、塩化マクネシム、塩化リチウム、硝酸リチウl、な
どを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は2
〜40wt%程度が好ましい。
ム、塩化マクネシム、塩化リチウム、硝酸リチウl、な
どを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は2
〜40wt%程度が好ましい。
粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十−分スラリー
化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する
方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法など
がある。
化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する
方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法など
がある。
上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜
法によりフィルム化か行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがある。
法によりフィルム化か行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがある。
湿式法で製膜オる場合には該原液を濾過後、し−1金か
ら直接製膜用浴中に押し出すが、又は−旦ドラムやベル
ト等の支持体−トに押し出し、支持体ごと湿式浴中に導
入する方法か採用される。この浴は一般に水系媒体から
なるものであり、水の他に有機、無機の溶媒や無機塩等
を含有していてもよい。該浴温度は通常0〜100°C
で使用され、湿式浴を通すことでフィルム中に含有され
た塩類、溶媒の抽出か行なわれる。これら湿式浴全体を
通過むる時間はフィルムの厚みにもよるが10秒〜30
分である。さらに必要に応じフィルムの長平方向に延伸
か行なわれる。次いで乾燥、熱処理が行なわれるかこれ
らの処理は一般に200〜500°Cで、合計で1秒〜
30分である。なおこの過程で必要に応じて横延伸が行
なわれる。
ら直接製膜用浴中に押し出すが、又は−旦ドラムやベル
ト等の支持体−トに押し出し、支持体ごと湿式浴中に導
入する方法か採用される。この浴は一般に水系媒体から
なるものであり、水の他に有機、無機の溶媒や無機塩等
を含有していてもよい。該浴温度は通常0〜100°C
で使用され、湿式浴を通すことでフィルム中に含有され
た塩類、溶媒の抽出か行なわれる。これら湿式浴全体を
通過むる時間はフィルムの厚みにもよるが10秒〜30
分である。さらに必要に応じフィルムの長平方向に延伸
か行なわれる。次いで乾燥、熱処理が行なわれるかこれ
らの処理は一般に200〜500°Cで、合計で1秒〜
30分である。なおこの過程で必要に応じて横延伸が行
なわれる。
乾1り代演で製膜する場合は該原液を口金からドラム、
エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、
次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持
性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜300°C1
60分以内の範囲である。
エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、
次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持
性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜300°C1
60分以内の範囲である。
乾式1程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式
1程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。
1程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。
乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、あるい
はエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長平方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は200〜5OO°Cて1秒〜30分である。
はエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長平方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は200〜5OO°Cて1秒〜30分である。
以上のように形成されるフィルt1はその製膜工程中て
、機械特性、熱特性が本発明の範囲となるように延伸か
行なわれるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜8.O(面
倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面
積で除した値で定義する。1以下はリラックスを意味す
る。)の範囲内にあることか好ましく、より好ましくは
1.1〜5.0である。
、機械特性、熱特性が本発明の範囲となるように延伸か
行なわれるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜8.O(面
倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面
積で除した値で定義する。1以下はリラックスを意味す
る。)の範囲内にあることか好ましく、より好ましくは
1.1〜5.0である。
なお本発明のフィルムは、積層フィルムであってもよい
。例えば2層の場合には、重合した芳香族ポリアミド溶
液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加した後、積層す
る。さらに3層以上の場合も同様である。これら積層の
方法としては、周知の方法たとえば、口金内での積層、
複合管での積層や、−旦1層を形成しておいてその上に
他の層を形成する方法なとかある。
。例えば2層の場合には、重合した芳香族ポリアミド溶
液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加した後、積層す
る。さらに3層以上の場合も同様である。これら積層の
方法としては、周知の方法たとえば、口金内での積層、
複合管での積層や、−旦1層を形成しておいてその上に
他の層を形成する方法なとかある。
[発明の効果]
本発明のフィルムは、芳香族ポリアミドに特定の粒子を
添加したもので、フィルム自身か硬いものであり、耐ス
クラッチ性、耐削れ性に優れているっぞの結Wフィルム
の加工時、あるいは磁気テブ等として使用する際に発生
するフィルム表面の擦り傷、摩擦粉か軽減され、信頼性
の向上か可能である。
添加したもので、フィルム自身か硬いものであり、耐ス
クラッチ性、耐削れ性に優れているっぞの結Wフィルム
の加工時、あるいは磁気テブ等として使用する際に発生
するフィルム表面の擦り傷、摩擦粉か軽減され、信頼性
の向上か可能である。
使1月用途としては、プリンタリボン、磁気テープや、
フレキシブルプリント配線板を始めとする電気絶縁用途
、コンデンサーなど広範囲の使用が「1丁能である。
フレキシブルプリント配線板を始めとする電気絶縁用途
、コンデンサーなど広範囲の使用が「1丁能である。
U物性の測定li法、効果の評価力演コ(1)平均粒径
粒子をN Si P中に均一に分散してスラリーとし、
これを測定に便利な濃度に希釈し、遠心沈降式粒子径測
定装置(島原製作所製S A−C)) 2型)で測定す
る。得られた粒子径分布を対数確率紙にプロットし、積
算通過百分率か50%となった点のメジアン径を、その
粒子の平均粒径とした。
これを測定に便利な濃度に希釈し、遠心沈降式粒子径測
定装置(島原製作所製S A−C)) 2型)で測定す
る。得られた粒子径分布を対数確率紙にプロットし、積
算通過百分率か50%となった点のメジアン径を、その
粒子の平均粒径とした。
(2)平均−次粒径、平均凝集度
粒子を含有したフィルムを断面方向に厚さ1000人の
超薄切片とし、透過型電子顕微鏡(例えば日本電子製J
EM−1200EXなど)を用いて、10万倍程度の倍
率で粒子を観察すると、これ以上粒子を分割できない最
小の粒子径(−次粒径)を観察することができる。この
観察を500視野について行ない、平均した値を平均−
次粒径とした。
超薄切片とし、透過型電子顕微鏡(例えば日本電子製J
EM−1200EXなど)を用いて、10万倍程度の倍
率で粒子を観察すると、これ以上粒子を分割できない最
小の粒子径(−次粒径)を観察することができる。この
観察を500視野について行ない、平均した値を平均−
次粒径とした。
また、同様にして観測された一つの凝集粒子が、い(つ
の−成粒子からできているかを数え、500視野につい
て平均した値を平均凝集度とした。
の−成粒子からできているかを数え、500視野につい
て平均した値を平均凝集度とした。
(3)粒子含有量
フィルム1gをプラズマ装置で灰化させ、原子吸光分析
装置(例えば島原製作新製AA−680型)を用いてフ
ィルム中の各元素の量を定量し、その元素からなる粒子
の量を粒子の分子量から換算して重量%として求める。
装置(例えば島原製作新製AA−680型)を用いてフ
ィルム中の各元素の量を定量し、その元素からなる粒子
の量を粒子の分子量から換算して重量%として求める。
尚、粒子の化学組成はX線回折などの方法を用いて知る
ことができる。
ことができる。
また、有機粒子などの場合は、必要に応じて熱分解ガス
クロマトグラフィーや赤外吸収、ラマン散乱、及びSE
M−XMAなどを利用して定量する。
クロマトグラフィーや赤外吸収、ラマン散乱、及びSE
M−XMAなどを利用して定量する。
(4)耐削れ性
フィルムを幅1/2インチにテープ状にスリットしたも
のに片刃をフィルム表面に垂直に押しあて、さらに1.
0mm押し込んだ状態で1.0m走行させる(走行張カ
ニ500g、走行速度=10cm/秒)。この時片刃の
先に付着したフィルム表面の削れ物の高さを顕微鏡で読
みとり、削れ量とした(単位はμm)。この削れ量か5
μm以下の場合は○、5μmを越える場合は×とした。
のに片刃をフィルム表面に垂直に押しあて、さらに1.
0mm押し込んだ状態で1.0m走行させる(走行張カ
ニ500g、走行速度=10cm/秒)。この時片刃の
先に付着したフィルム表面の削れ物の高さを顕微鏡で読
みとり、削れ量とした(単位はμm)。この削れ量か5
μm以下の場合は○、5μmを越える場合は×とした。
(5)耐スクラッチ性
フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットし、テ
ープ走行性試験機を使用し、20°C,80%RH雰囲
気にて、張力50g、走行速度300m/分で、ガイド
ピン(表面粗さがRaで10Qnm)上を巻き付は角6
0°で走行させる。走行後、フィルムに入った傷を顕微
鏡で観察し、テプ幅あたり傷が2本以下の時は○、3本
以上の時は×とした。
ープ走行性試験機を使用し、20°C,80%RH雰囲
気にて、張力50g、走行速度300m/分で、ガイド
ピン(表面粗さがRaで10Qnm)上を巻き付は角6
0°で走行させる。走行後、フィルムに入った傷を顕微
鏡で観察し、テプ幅あたり傷が2本以下の時は○、3本
以上の時は×とした。
(6)形状係数
電子顕微鏡にて粒子を観察し、イメージアナライザーに
てひとつの粒子について最大直径と円相当径を測定し、
最大直径と円相当径の比を求める。
てひとつの粒子について最大直径と円相当径を測定し、
最大直径と円相当径の比を求める。
この測定を500個の粒子について測定し、この最大直
径と円相当径の比の平均を形状係数とした。
径と円相当径の比の平均を形状係数とした。
(7)粒子のモース硬度
フィルムに含有される粒子と同じ組成、構造を持った試
験片を作成し、または粒子に粉砕する前の鉱物を試験片
とし、モース硬度測定用の標準鉱物と互いに引っ掻いて
、引っ掻きが行なわれるかどうかで硬さ数を0. 1の
単位まで測定する。
験片を作成し、または粒子に粉砕する前の鉱物を試験片
とし、モース硬度測定用の標準鉱物と互いに引っ掻いて
、引っ掻きが行なわれるかどうかで硬さ数を0. 1の
単位まで測定する。
尚、フィルムに含有される粒子と同じ組成、構造を持っ
た試験片が作成できない場合には、一番近い組成、構造
を持った複数の鉱物のモース硬度より、結晶構造などを
参考に推定する。
た試験片が作成できない場合には、一番近い組成、構造
を持った複数の鉱物のモース硬度より、結晶構造などを
参考に推定する。
(8)ビッカース硬度
ビッカース硬度計によりJISB−7734に従って測
定した。ただし測定荷重は35gとし、20μmより薄
いフィルムは、20μmを超える厚みになるようにフィ
ルムを重ねて測定した。フィルム表面を見やすくするた
めに、アルミを1000〜1500人蒸着して、測定し
た。
定した。ただし測定荷重は35gとし、20μmより薄
いフィルムは、20μmを超える厚みになるようにフィ
ルムを重ねて測定した。フィルム表面を見やすくするた
めに、アルミを1000〜1500人蒸着して、測定し
た。
(9)F−1値、引張弾性率
インストロンタイプの引っ張り試験機をもちいて、25
°0160%RHにて測定した。試験片は10mm幅で
50mm長さ、引っ張り速度は300%/分である。
°0160%RHにて測定した。試験片は10mm幅で
50mm長さ、引っ張り速度は300%/分である。
(10)熱収縮率
フィルムを幅10mm、長さ250IIlfIlに切り
取り、両端から25胚の位置に印をっけ所定温度におい
て10分間加熱してから、試験片を取り出し、放冷後下
記の計算式により算出した。
取り、両端から25胚の位置に印をっけ所定温度におい
て10分間加熱してから、試験片を取り出し、放冷後下
記の計算式により算出した。
熱収縮率
−(試長−加熱後の長さ)/試長×100(11)表面
粗さ(中心線平均粗さ、Ra)小板研究所製の高精度薄
膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件は下記
のとおりであり、20回の測定の平均値をもって表面粗
さとした。
粗さ(中心線平均粗さ、Ra)小板研究所製の高精度薄
膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件は下記
のとおりであり、20回の測定の平均値をもって表面粗
さとした。
・触針先端半径二0.5μm
・触針荷重 : 5mg
・測定長 =1薗
・カットオフ値:0.08mm
[実施例]
以下に実施例に基ずいて本発明を説明するが、これらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例1
N−メヂルピロリドン(NMP)に芳香族ジアミン成分
とし、て90モル%に相当する2−クロルパラフェニし
、・ンジアミンと、10モル%に相当する4、4−−−
ジアミノジフェニルエーテルとを溶解させ、これに10
0モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを
添加し、2時間撹拌して重合を完丁した1、これを水酸
化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3
000ボイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。
とし、て90モル%に相当する2−クロルパラフェニし
、・ンジアミンと、10モル%に相当する4、4−−−
ジアミノジフェニルエーテルとを溶解させ、これに10
0モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを
添加し、2時間撹拌して重合を完丁した1、これを水酸
化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3
000ボイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。
この溶液に、粒子Aとして、平均−次粒径か]5 n
m、モース硬度か7.5である結晶形態がδ型のアルミ
ナ粒子を一定量添加し混合撹拌した。
m、モース硬度か7.5である結晶形態がδ型のアルミ
ナ粒子を一定量添加し混合撹拌した。
このポリマ溶液を10μmカットのフィルタを通した後
、ベルト上に流延し5.1−80°Cの熱風て2分間加
熱して溶媒を蒸発させ自己保持性を得たフィルムをベル
トから連続的に剥離した。次に水槽内へフィルムを導入
して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行ない、
テンターで水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ12μm
の芳香族ポリアミドフィルムを得た。この間にフィルム
長手方向と幅方向に各々1.2倍、1.3倍延伸を行な
い、熱処理は280°Cで1.5分間行なった。
、ベルト上に流延し5.1−80°Cの熱風て2分間加
熱して溶媒を蒸発させ自己保持性を得たフィルムをベル
トから連続的に剥離した。次に水槽内へフィルムを導入
して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行ない、
テンターで水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ12μm
の芳香族ポリアミドフィルムを得た。この間にフィルム
長手方向と幅方向に各々1.2倍、1.3倍延伸を行な
い、熱処理は280°Cで1.5分間行なった。
フィルム中に含有されているアルミナ粒子の平均凝集度
は25であった。
は25であった。
このフィルムの硬度は32、引張弾性率は1300 k
g/mm2、F−]−値は13kg/nun2200℃
、10分での熱収縮率は0. 2%で、機械特性、熱特
性とも良好であった。
g/mm2、F−]−値は13kg/nun2200℃
、10分での熱収縮率は0. 2%で、機械特性、熱特
性とも良好であった。
このフィルムの表面粗さは、0.013μmであった。
次にこのフィルムの耐スクラッチ性、耐削れ性を測定す
ると、共に非常に良好であった。
ると、共に非常に良好であった。
含有する粒子の平均−次粒径、平均凝集度、モス硬度、
粒子の含有量が特定の範囲にあり、かつフィルムの硬度
が特定の範囲にある場合には、耐削れ性と耐スクラッチ
性を共に満足する優れたフィルムとなり得ることか分る
。
粒子の含有量が特定の範囲にあり、かつフィルムの硬度
が特定の範囲にある場合には、耐削れ性と耐スクラッチ
性を共に満足する優れたフィルムとなり得ることか分る
。
実施例2〜3、比較例1−〜6
含有する粒子Aの平均−次粒径、平均凝集度、モース硬
度及び含有量を種々変え、粒子Bとしてモース硬度3の
粒子を添加した以外は、実施例1と同様な方法で芳香族
ポリアミドフィルムとした。
度及び含有量を種々変え、粒子Bとしてモース硬度3の
粒子を添加した以外は、実施例1と同様な方法で芳香族
ポリアミドフィルムとした。
含有する粒子の平均−次粒径、平均凝集度、モス硬度か
特定の範囲であり、かつ粒子の含有量が特定の範囲にあ
る場合には、耐スクラッチ性と耐削れ性か共に良好であ
った。機械特性も良好て引張弾性率はいずれも1250
〜1300kg/mm2の範囲であった。また200’
C,10分での熱収縮率はし・ずれも0.2〜0,3%
の範囲であり、熱特性も良好であった(実施例2〜3)
。
特定の範囲であり、かつ粒子の含有量が特定の範囲にあ
る場合には、耐スクラッチ性と耐削れ性か共に良好であ
った。機械特性も良好て引張弾性率はいずれも1250
〜1300kg/mm2の範囲であった。また200’
C,10分での熱収縮率はし・ずれも0.2〜0,3%
の範囲であり、熱特性も良好であった(実施例2〜3)
。
しかし、含有する粒子の平均−次粒径、平均凝集度、モ
ース硬度または粒子の含有量のいずれかが本発明外であ
るときは、耐削れ性と耐スクラッチ性を共に満足させる
ことはできなかった。
ース硬度または粒子の含有量のいずれかが本発明外であ
るときは、耐削れ性と耐スクラッチ性を共に満足させる
ことはできなかった。
比較例1〜5の機械特性は、引張弾性率1−250〜1
300 kg/mm2と良好であったが、比較例6は粒
子量か多いためかやや低く 1.1.00kg/am2
てあった。また200℃、10分での熱収縮率はいずれ
も0.2〜0.3%の範囲にあり、熱特性は良好であっ
た(比較例1−〜6)。
300 kg/mm2と良好であったが、比較例6は粒
子量か多いためかやや低く 1.1.00kg/am2
てあった。また200℃、10分での熱収縮率はいずれ
も0.2〜0.3%の範囲にあり、熱特性は良好であっ
た(比較例1−〜6)。
比較例7
N M Pに100モル%に相当するメタフェニレンジ
アミンを溶解させ、これに100モル%に相当するイソ
フタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を行な
った。さらに実施例1と同様に中和と粒子Aの添加を行
ないポリマ溶液を得た。
アミンを溶解させ、これに100モル%に相当するイソ
フタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を行な
った。さらに実施例1と同様に中和と粒子Aの添加を行
ないポリマ溶液を得た。
これを実施例1と同様のプロセスで製膜して12μmの
フィルムを得た。このフィルムの硬度は18、引張弾性
率は420kg/順2200°C110分ての熱収縮率
は1.1%であった。
フィルムを得た。このフィルムの硬度は18、引張弾性
率は420kg/順2200°C110分ての熱収縮率
は1.1%であった。
含有する粒子の平均−次粒径、平均凝集度、モス硬度お
よび粒子の含有量の全てが本発明の範囲内にあっても、
フィルムのビッカース硬度が本発明外であるときは、耐
削れ性と耐スクラッチ性を満足させることはできなかっ
た。
よび粒子の含有量の全てが本発明の範囲内にあっても、
フィルムのビッカース硬度が本発明外であるときは、耐
削れ性と耐スクラッチ性を満足させることはできなかっ
た。
比較例8
実施例1と同様の粒子Aをエチレングリコール中に均一
に分散させ、ジメチルテレフタレートと重合して、ポリ
エチレンテレフタレートのペレットを得た。このペレッ
トを180℃で3時間減圧乾燥(3Torr)した後、
押出機に供給し、高精度濾過(5μmカットフィルター
)しだ後300℃で溶融押出し、表面温度30℃のキャ
スティングドラムに巻きつけて冷却固化し、厚さ約15
0μmの未延伸フィルムを作った。
に分散させ、ジメチルテレフタレートと重合して、ポリ
エチレンテレフタレートのペレットを得た。このペレッ
トを180℃で3時間減圧乾燥(3Torr)した後、
押出機に供給し、高精度濾過(5μmカットフィルター
)しだ後300℃で溶融押出し、表面温度30℃のキャ
スティングドラムに巻きつけて冷却固化し、厚さ約15
0μmの未延伸フィルムを作った。
この未延伸フィルムを123℃にて長手方向に三段階に
分けて、それぞれ1.2倍、1.45倍、2.3倍延伸
した。この−軸フイルムをステンタを用いて100℃で
幅方向に3.6倍延伸し、定長下で210℃にて5秒間
熱処理し、厚さ12μmのフィルムを得た。このフィル
ムの硬度は15、引張弾性率は400kg/III[1
12であった。
分けて、それぞれ1.2倍、1.45倍、2.3倍延伸
した。この−軸フイルムをステンタを用いて100℃で
幅方向に3.6倍延伸し、定長下で210℃にて5秒間
熱処理し、厚さ12μmのフィルムを得た。このフィル
ムの硬度は15、引張弾性率は400kg/III[1
12であった。
含有する粒子の平均−次粒径、平均凝集度、モース硬度
および粒子の含有量の全てが本発明の範囲内にあっても
、フィルムのビッカース硬度が本発明外であるときは、 耐削れ性と耐スクラッチ性 を満足させることができないことが分かる。
および粒子の含有量の全てが本発明の範囲内にあっても
、フィルムのビッカース硬度が本発明外であるときは、 耐削れ性と耐スクラッチ性 を満足させることができないことが分かる。
Claims (3)
- (1)平均一次粒径が5〜250nm、平均凝集度が5
〜100、モース硬度が6〜10の粒子Aを0.01〜
5wt%含有し、フィルムのビッカース硬度が20以上
であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルム。 - (2)平均粒径が0.3〜3μmの粒子Bを同時に含有
し、かつ粒子Aのモース硬度が、粒子Bのモース硬度よ
り大きいことを特徴とする請求項(1)に記載の芳香族
ポリアミドフィルム。 - (3)請求項(1)または(2)に記載のフィルムが、
少なくとも片側表層に積層された積層芳香族ポリアミド
フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2277250A JP2621632B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 芳香族ポリアミドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2277250A JP2621632B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 芳香族ポリアミドフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04149245A true JPH04149245A (ja) | 1992-05-22 |
JP2621632B2 JP2621632B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=17580910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2277250A Expired - Fee Related JP2621632B2 (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 芳香族ポリアミドフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2621632B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109575588A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-04-05 | 山东东辰瑞森新材料科技有限公司 | 一种阻燃防白蚁高绝缘尼龙电缆料及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61246919A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-04 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベ−スフイルム |
-
1990
- 1990-10-15 JP JP2277250A patent/JP2621632B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61246919A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-04 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベ−スフイルム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109575588A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-04-05 | 山东东辰瑞森新材料科技有限公司 | 一种阻燃防白蚁高绝缘尼龙电缆料及其制备方法 |
CN109575588B (zh) * | 2018-11-23 | 2021-06-04 | 山东东辰瑞森新材料科技有限公司 | 一种阻燃防白蚁高绝缘尼龙电缆料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2621632B2 (ja) | 1997-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6096419A (en) | Aromatic polyamide film and magnetic recording medium using the same | |
JPH04149245A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
KR100687508B1 (ko) | 방향족 폴리아미드 필름 | |
JP3567624B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム | |
JP2555742B2 (ja) | 積層フィルム | |
WO1996000439A1 (fr) | Support pour enregistrements magnetiques | |
JPH04298324A (ja) | 磁気記録媒体用ベースフィルム | |
TW524741B (en) | Biaxially oriented laminate film of wholly aromatic polyamide and magnetic recording media | |
JP2616711B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH10176071A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム | |
JPH08203064A (ja) | 磁気記録媒体用フィルム | |
JP3000925B2 (ja) | 芳香族ポリアミド又は芳香族ポリイミドからなるフィルム | |
JPH08169951A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 | |
JP2024058042A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
JP3082617B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
JP2000344912A (ja) | 芳香族ポリアミド及び/または芳香族ポリイミドフィルムおよび磁気記録媒体 | |
JP3039684B2 (ja) | 「磁気記録媒体」 | |
JP2773299B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
JP2001266330A (ja) | 磁気記録媒体用高弾性率フィルムロールおよび磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2000102974A (ja) | 高分子フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
JP2023179006A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
JPH0855327A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2021049740A (ja) | 磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムおよびその製造方法、磁気記録媒体 | |
JP2000239412A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
JPH0855328A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080404 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |