JPS61246919A - 高密度記録媒体用ベ−スフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高密度記録媒体用ベースフィルムに関する。

〔従来の技術〕

Ｇｏ、　Ｎｉ、　Ｃｒ”、　Ｆｅ　　またはそれらを主
成分とする合金を真空蒸着やスパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法によりフィルム基板上に形成さ
せた金属薄膜タイプ磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気
記録媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめること
が可能である。

このような磁気記録媒体の基板としては、従来からポリ
エチレンテレフタレートフィルムが使用されている。し
かし、ガラス転移点が７０℃前後と低いため蒸着等によ
り磁性層を形成する際にはフィルムを十分冷却しなけれ
ばならず、その結果磁気特性が低下したり、付着強度が
低かったりする。従って、この種の高密度記録媒体用ベ
ースフィルムには耐熱性のよい素材が望まれている。

芳香族ポリアミドと芳香族ポリイミドは２００℃以上の
高温に剰えるため、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムより高温で金属薄膜の形成ができ、静的な磁気特性で
ある保磁力や、ヒステリシスループの角形比が向上する
などこの種の高密度記録媒体用ベースフィルムとしては
非常に有望な素材である。

しかしながら金属薄膜タイプの磁性層は、従来の塗布型
のものに較べ厚さが非常に薄いため、使用するベースフ
ィルムの表面粗さが粗いと動的な特性１例えば出力の低
下やドロップアウトが増加する。逆にこれら電磁変換特
性を向上する九めにフィルム表面を全くの鏡面とすると
、すべり性が著しく低下し、記録媒体の製造時、あるい
は記録媒体形成後の走行性が阻害される。溶液製膜法で
製造される芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドフィル
ムの表面性に関しての提案が１例えば、特願昭５８−２
５４５４０でなされている。この例は、　５ｉｎ２．　
ｈｔ、ｏ３等の無機粒子の大きさ、添加量を限定して、
フィルム表面の微細突起径と微細突起数を特定すること
により表面を均一に粗らして。

表面性と走行性を一挙に改善しようとするものである。

この例にみられる表面状態のものは、常温常湿下の走行
性、＃４久性に関して非常に有効であるが、高温高湿下
においては走行性や耐久性が悪化するという欠点があっ
た。

ヤ 一方、　　Ｔｏ、　Ｔｏの酸化物、　　ＴｅＣｔＳｂ、
　Ｓｅ、　Ｂｉｔ　Ｔｉ。

Ａｌｍ　Ｃｒｅ　Ａｇ＠　Ａｕ　　などの金属または、
これらの合金、化合物、　ＭｎＣｕＢ１．　ＧｄＴｅＦ
ｅ、　ＧｄＤｙＦｅ　　などの合金をスパッタリング、
反応蒸着、真空蒸着、コーティングなどにより基板上に
単層または多層状にして記録層を形成した光記録媒体は
、従来の塗布型磁気記録媒体に比べ記録密度を飛躍的に
向上せしめることが可能である。しかし金属薄膜タイプ
同様９表面が平滑ではないと、レーザー光の散乱がおこ
り、記録、再生が正確にできなくなる。

また鏡面状にすると、記録媒体の製造時の走行性が阻害
されるという欠点があった。また光記録テープとした時
、光記録層は、ヘッドとの接触はないが、金属ガイドロ
ールとの接触があり、特に光記録層は、高温高湿下では
耐久性の悪化するという欠点があった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、かかる従来技術の欠点を鑑み、芳香族ポリア
ミド、あるいは芳香族ポリイミドの優れた耐熱性を活か
すとともに９表面の平滑性や、高温高湿下で走行性や耐
久性の優れた高密度記録媒体用ベースフィルムを提供せ
んとするものである。

〔問題を解決するための手段〕

本発明は、かかる問題点を解決するために以下の如き手
段を採用するものである。

すなわち、芳香族ポリアミドあるいは、芳香族ポリイミ
ドを主体としたフィルムで、フィルム中に無機粒子を０
．０１重量％以上、１０重量−以下含有し、少なくとも
フィルムの片面に形成された突起は。

Ｋ　　？Ｉｊｌ細突起？にすＲｍカ５０　ｅＡ以上５０
０　’Ａ　以下。

（ロ）微細突起の面積平均径　ＤＡが０．０１μ以上０
．３μ未満で、突起の平均扁平度Ｄ　Ａ　／　Ｒｍが１
５以下。

（ハ）最大径が０．０１μ以上の微細突起数ＮＡが１０
個／−以上１０個／ｍ　以下。

に）微細突起の長短度ａ／ｂ　（ａは微細突起の最大径
、ｂは最大径と直角方向の微細突起径）が２以上の微細
突起数が、０．２＆ＮＡ　　以下。

（ホ）微細突起の円形度πＤ、　／ＣＮ（ＤＭは微細突
起９面積径、ＣＭは微細突起の周長、πは円周率）が０
．７以下の微細突起数が、　０．２−＆　ＮＡ以下。

であることを特徴とする高密度記録媒体用ベースフィル
ムである。

本発明の芳香族ポリアミドとは、一般式％式％ （ここで、　Ａｒ１．　Ａｒ２は少なくとも１個の芳香
族環を含有した２価の有機基、炭素数としては乙ないし
２５が好ましい）または−Ｇ　Ｏ−Ａ　ｒ　ｓ　Ｎ　Ｗ
ここでＡ　ｒ　ｓは少なくとも１個の芳香族環を含有し
た２価の有機基、炭素数としては６ないし２５が好まし
い）で示されるものを５０モルチ以上含むものであり９
例えば、パラフェニレンテレフタルアミド、パラフェニ
レンイソフタルアミド、メタフェニレンテレフタルアミ
ド、メタフェニレンイソフタルアミドなどから成るもの
が挙げられる。

さらにフェニル核にハロゲン（塩素、臭素、フッ素など
）又はニトロ基、アルキル基、アルコキシ基などの置換
基を有するものも含まれる。この芳香族ポリアミドの中
で、より好ましくはパラフェニレンテレフタルアミドを
主体とするものであり。

フェニル核に塩素置換基を有するものは機械強度。

弾性率が大きく、吸湿率が低く、さらにＦｊＳ熱性にも
優れ１機械的、熱的な寸法安定性が良いため良好な高密
度記録媒体用素材として好適である。

前述したような構造からなる芳香族ポリアミドを構成す
る単量体としては、酸クロリドとジアミンからのポリマ
合成を例にとるとテレフタル酸クロリド、２−クロルテ
レフタル酸クロリド、２，６−ジクロルイソフタル酸ク
ロリド、２−ブロムテレフタル酸クロリド、２−メチル
５−クロルテレフタル酸クロリドや、パラフェニレンジ
アミン。

２−クロルパラフェニレンジアミン、メタフェニレンジ
アミンなどがある。

また９本発明の芳香族ポリイミドとは、下記（１）式の
構成単位で示されるものを５０モル係以上含むものであ
る。

ここで　Ｒ１は少なくとも１個の芳香族環を含有してお
り（かつ炭素数としては２５以下が好ましく）イミド環
を形成する２つのカルボニル基は隣接する炭素原子に結
合している有機基である。

また９式中−Ｒ２−は２価の有機基であり、これは一般
式　Ｈ，Ｎ−Ｒ，−ＮＨ２を有する芳香族ジアミンに由
来している。、′Ｒ１ぐ基は一般式 ％式％ ボン酸成分によってもたらされる。このような芳香族テ
トラカルボン酸の代表例としては次のようなものが挙げ
られる。

ピロメリット酸二無水物、　５．３？　４．４／−ビス
フェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６．７−
ナフタレンジカルボン酸二無水物、２．２−ビス（３，
４−ジカルボキシフェニル）エーテルニ無水物、ヒリジ
ン−２，３，５，６〜テトラカルボン酸二無水物。

３．３ζ４，４′ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無
水物、あるいはこれらテトラカルボン酸エステルなどが
ある。

一方、芳香族ジアミンとしては、２個のアミン基は少な
くとも１つ以上の炭素を介して結合していることが好ま
しく、また　Ｒ２としては少なくとも１個の芳香族環を
含有しており（かつ炭素数としては２５以下が好ましく
）例えば、パラキシリレンジアミン、メタフェニレンジ
アミン、ベンチジン、４，４／ジアミノジフエニルエー
テル、４，４／ジアミノジフエニルメタン、４，４／ジ
アミノジフエニルスルホン、３，３／ジメチル−４，４
／ジアミノジフエニルメタン、１．５ジアミノナフタレ
ン、３，３／ジメトキシベンチジン、１．４ビス（３メ
チル−５アミノフエニル）ベンゼンなどが挙げられる。

これら酸成分やアミン成分は各々単独または混合して用
いられることは言うまでもない。また酸成分、アミン成
分を適当に選ぶことにより得られるアミド結合、イミド
環を有する芳香族ポリアミドイミドは９本発明の芳香族
ポリイミドに含まれる。

本発明のフィルムは、上記の芳香族ポリアミド。

芳香族ポリイミド（芳香族ポリアミドイミドを含む）を
主体としたフィルムであり、他のポリマを本発明の効果
を損わない程度（好ましくは５重量係以下）含有しても
よい。

本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドのフィル
ムの製造工程で添加される無機粒子は。

粉末状の無機粒子では後述する微細突起形状が得られな
い。本発明の無機粒子は、特に限定されるものではない
が９粒径の揃ったコロイド粒子（湿式法による無機粒子
）が好ましく、具体的には。

シリカゾル、アルミナゾル、酸化チタンゾル、五酸化ア
ンチ翫ンゾルなどが挙げられるが、特にシリカゾルが粒
径がそろっていて好ましい。これらの無機粒子は１粒径
が５ｍμ以上５００ｍμ以下の９粒径の揃った単一分散
状態の有機溶媒に分散したコロイドとして使用する。分
散安定化のために少量の水は含んでもよい、又コロイド
の表面は分散性を安定化するための表面処理がなされて
いてもよい。

さらに、無機粒子はフィルムを透過型電子顕微鏡（倍率
３００００倍）で観測した際に、フィルム中に約１０個
以上の無機粒子が凝集しない様に分散されているのが好
ましい、またこれらの無機粒子は、ポリマ当り０．０１
重量％以上、１０重量係以下含有することが必要である
。好ましくは。

０．０５重量−以上、５重量係以下である。０．０１重
量−未満では走行性、耐久性に寄与せず、１０重量％を
超えると、フィルムの物性低下を起こしたり、フィルム
表面を粗らしたりする。

さらに本発明のフィルムは表面の微細突起高さ３０Ａ以
上３００Ａ以下であることが必要である。

５０′Ａ未満では滑べり性が低下し、記録媒体の製造時
やテープあるいはシートに加工する工程ですり傷が大量
に発生する。またテープやシートの使用時に走行性が悪
くなり、ヘッドで磁性層が削られ、ドロップアウトの原
因になったりして耐久性が著しく悪くなる。一方、５０
０Ａより高いと。

磁性層の電磁変換特性の一つであるドロップアウトやＳ
／Ｎ　比が悪化する。

次に、微細突起の面積平均径　ＤＡが０．０１μ以上０
．５μ未満であることが必要である。０．０１μ未満で
は、走行性、耐久性に寄与せず、０．６μ以上では、高
温高湿下での耐久性が悪化し好ましくない。また突起の
立体的ひろがりを表わす平均扁平度ＤＡ／　Ｒｍが１５
以下であることが必要である。

好ましくは２以上１５以下である。１５より大きくなる
と、なだらかな突起となり微細突起とヘッドとの接触面
積が大きくなり、高温高湿下での走行性、耐久性が悪化
する。

微細突起数は１０個／−′以上１０個／−以下・好まし
くは、５ｘ１０　　個／＝以上、５ｘ１０個／ＩＩＩＩ
ＩＩ２以下である。より好ましくは１ｘ１０’個／＝２
以上。

５×１０８個／＝２以下である。１０４個／ｍｍ’未満
では走行性や耐久性が悪化する。１０個／ｒｒｒｍを超
えると電磁変換特性が悪化する。

微細突起の平面的形状を表わす長短度ａハ（ａは微細突
起の最大径、ｂは最大径と直角方向の微細突起径）が２
以上の微細突起数が０．２　ｘ　Ｎ、以下。

好ましくは０．１　ｘ　ＮＡ以下である。また微細突起
の円形度πＤＮ／Ｃ１１（ＤＮは微細突起の面積径、Ｃ
Ｍは微細突起の周長、πは円周率）が０．７以下の微細
突起数が、０．２ＸＮＡ以下であることが必要である。

長短度が２．０以上の微細突起数が０．２ｘＮ、を超え
ると、すなわち微細突起数の２０％を超えると細長い形
の微細突起が増加し、突起の形状がフィルムの走行に対
して方向性を持ち、削れやすくなる微細突起が多くなり
、特に高温高湿下での耐久性が悪化する。

また微細突起の円形度が０．７以下になると、丸みのな
い、多面体状の微細突起となり、削れやす（，０，２ｘ
Ｎ、より大きくなると、すなわち微細突起数の２０％を
こえると、特に高温高湿下の耐久性が悪化する。

理由は定かではないが、芳香族ポリアミドや芳香族ポリ
イミドは、ポリエチレンテレフタレートより一般的に吸
湿率が高いため、高温高湿下では極微量であるが軟化あ
るいは膨潤して、常温常温より微細突起が削れやすくな
り、長短度が２．０以上９円形度が０．７以下の微細突
起数がそれぞれ０、２　ｘ　ＮＡ　　を超えると、又平
均扁平度が１５より大きくなるとヘッドとの接触面積が
大きくなり耐久性が悪化すると考えられる。

本発明のフィルムが適用される高密度記録媒体の記録層
とは、特に限定されないが、公知の強磁性金属薄膜層や
、公知の光記録層を指す。

強磁性金属薄膜の形成手段は従来公知のすべての方法が
用いられ９例えば、スパッタ法、無電解メッキ法、イオ
ンブレーティング法、真空蒸着法が使用できる。特に真
空蒸着法が好ましい。なお。

強磁性金属材料としては、鉄、コバルト、ニツケルまた
はこれらの合金もしくはコバルト−クロム合金などを用
いることができる。

以上のように９本発明のフィルムに高密度磁気記録材で
ある強磁性金属薄膜を設けた高密度記録媒体は、磁気ヘ
ッドとのスペーシングロスが非常に小さいために出力、
特にＳ／Ｎ比が良く、また磁気ヘッド、ガイド等との接
触面積が非常に小さくなるため、常温常湿下のみならず
、高温高湿下での走行性、耐久性は極めて良好なものと
なる。

光記録層の形成手段は従来公知のすべての方法が用いら
れ１例えば、スパッタ法１反応蒸着法。

れらの合金、化合物などを用いることができる。

以上のように１本発明のフィルムに高密度記録材である
光記録層を設けた高密度記録媒体は、レーザー光の散乱
が少なく、また高温高湿下での耐久性が良くなる。

次に本発明のフィルムの製法について説明する。

本発明のフィルムは、芳香族ポリアミドあるいは芳香族
ポリイミドあるいはポリアミド酸（ポリイミド前駆体）
の溶液中に、上記の無機粒子を存在させ、この溶液を製
膜することにより形成することができる。

まず芳香族ポリアミドはＮ−メチルピロリドン。

ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどの有
機極性アミド系溶媒中で、溶液重合したり。

水系媒体を使用する界面重合などで合成される。

ポリマ溶液は単量体として酸クロリドとジアミンを使用
すると塩化水素が副生ずるためこれを中和するために水
酸化カルシウムなどの無機の中和剤。

またはエチレンオキサイドなどの有機の中和剤を添加、
する。このポリ寸溶液はそのままフィルムを成形する製
膜原液にしてもよく、またポリマーを一度単離してから
上記の溶媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。製
膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシウム
、塩化マグネシウムなどを添加する場合もある。製膜原
液中のポリマ濃度は２〜４０重量係程度が好ましい。

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液は
次のようにして得られる。即ちポリアミド酸はＮ−メチ
ルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミドなどの有機極性アミド系溶媒中でテトラカルボン
酸二無水物と芳香族ジアミンを反応させて調製すること
ができる。又芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を
含有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤
を添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶媒に溶
解して調製できる。Ｓ膜原液中のポリマ濃度は５〜４０
重量係程度が好ましい。

前記の無機粒子は、有機溶媒中に分散して使用する。こ
こで有機溶媒とは、ポリマの重合あるいは製膜で使用す
る有機溶媒がよく１例えば、　Ｎ　−メチルピロリドン
、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドを使用
して重合あるいは製膜する場合には、これらの溶液に分
散して使用することが好ましい。これらの無機粒子は９
重合前の溶媒中へ添加もしくは重合に使用する溶媒全部
に分散されていてもよい、またポリマを一度単離した後
、有機溶媒分散コロイド液にポリマを添加してもよい。

またポリマ溶液調整工程中で、ポリマ溶液の粘度が１０
ポイズ以下のポリマ溶液に添加してもよい。好ましくは
無機塩類のないポリマ溶液の粘度が１０ポイズ以下のポ
リマ溶液に添加する。

さらに好ましくは重合前に前もって添加しておくと良い
、無機粒子の添加量は成形後のポリマに対して０．０１
重量％以上、１０重量％以下となるようにし、キャスト
時の製膜原液中に均一に分散されていることが重要であ
る。

この無機粒子が添加混合された製膜原液は、いわゆる溶
液製膜法によりフィルム化が行なわれる。

溶液製膜法には、乾湿式法、乾式法、湿式法などがある
が、乾湿式法、乾式法が表面性のよいフィルムを得るに
は好ましい。キャスト時の粘度は１００〜１０，０００
ボイズになるように製膜原液のポリマ濃度や温度を調節
することが好ましい。

ここで粘度とは回転式Ｂ型粘度計でキャスト時イｊ【 と同一条件（濃度、温度）で測定した亥をいう。

キャストは金属ドラムやエンドレスの金属ベルトなどの
支持体上に行なわれ、ここで薄膜が自己保持性をもつま
で乾燥あるいはイミド化反応を促進させる。その際溶媒
が急激に飛散して面粗れを起こさないように調節する必
要があり、一般に室温〜５００℃、好ましくは５０〜２
５０℃で６０分以内の範囲で行なわれる。

自己保持性をもつに至ったフィルムは支持体から剥離さ
れ、乾湿式法のプロセスを採用する際には湿式浴中へ導
入される。この浴は一般に水系媒体からなるものであり
、水の他に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい、
該浴中でフィルム中の残存溶媒や無機塩、イミド化剤が
抽出される。

さらにフィルム長手方向に延伸、あるいはリラックスが
行なわれる。浴から出たフィルムは次いで乾燥や延伸、
リラックス、熱処理が行なわれる。

これらの処理は一般に１００〜５００℃で行なわれる。

乾式法の場合には自己保持性をもったフィルムは支持体
から剥離後、一般には残存揮発分を少なくとも３重量％
以下になるまで乾燥、延伸、リラックス、熱処理がなさ
れる。これらの処理は一般に１５０℃〜５００　’ａで
行なわれる。

以上、乾湿式法、乾式法のいずれの製膜方法をとる場合
にも１面倍率は０．８〜５．０倍、より好ましくは１．
１〜３．０倍で延伸あるいはリラックスを行なうことが
好ましい１面倍率とはフィルム長手方向（ＭＤ力方向の
延伸倍率と幅方向（ＴＤ力方向の延伸倍率の積を言う。

面倍率は０．８より小さいとフィルム物性の低下や平面
性の悪化が見られ。

また５、０を超すとフィルム中の無機粒子がフィルム表
面に出やすくなりフィルム表面を粗らすことになり好ま
しくない。

さらに本発明の場合には延伸倍率が低いためにフィルム
中へ添加した無機粒子のまわりにボイドが発生しに＜＜
、フィルム表面の微細突起の高さ及び径がほとんど延伸
の影響を受けないことが特徴である。このようにして得
られたフィルムは中心線平均粗さＲａ値（カットオフ値
０．０８ｍｍの場合）は０．０１μ以下となる。

なお、　　Ｒａ値とは、触針表面粗さ計から得られる断
面曲線から適当なカットオフ値を用いて、うねりを除い
た粗さ曲線において、中心線（中心線より上の部分と下
の部分の面積が等しくなる様にして求められる）からの
粗さ曲線の高さく低さ）の絶対値の算術平均である（　
ＤＩＮ　　４７６８　　による）。

本発明に、おけるフィルムは、前記のように製膜され厚
みは１μ以上１．　ＯＯＯμ以下、好ましくは２μ以上
５００μ以下である。又、磁性層を付着させる前に前処
理としてグロー放電処理やコロナ放電処理をすることは
好ましいことであり、未処理の場合に比較して磁性層の
耐久性は非常に向上する。なお本発明のフィルムには少
量の帯電防止剤、酸化防止剤等の添加剤が含有されてい
てもよい。

以上述べたようにして９本発明のフィルムが得られる。

〔用途〕

本発明の具体的な用途としては、ビデオテープ。

オーデオテープ、さらに各種のフロッピーディスク用ベ
ースに好適な材質を提供するものである。

また、磁気記録方式は水平磁化、垂直磁化を問わない。

さらに光記録用ベースフィルムとしても好適な素材とな
る。即ち情報の書き込み時にはレーザー等で一般に１０
０℃以上に加熱する必要があるが。

今までは基板の耐熱性の点からガラス板等が使用されて
きた。しかし９本発明のフィルムを使用すれば、耐熱的
に全く問題がなくなり、さらにフィルムのフレキシブル
性を利用して、ガラス基板使用では不可能であった連続
的な蒸着、スパッタリング等による記録媒体の作製が可
能となる。

ここで連続的に媒体を作製する際には耐スリ傷性が重要
であるが、この点については磁気記録媒体と全く同様な
ことが言え９本発明のフィルムを使用すれば全く問題な
い。さらに作製された光記録媒体の読み出し時にはレー
ザー等の反射あるいは偏光を正確に行なう必要があり、
フィルムの表面性はできるだけ平滑なほど良く１本発明
のフィルムはこの平滑性の点からも十分満足できるもの
である。

〔特性の測定法、評価法〕

本発明における特性の測定方法および評価基準は次の通
りである。

（１）　　フィルム表面の突起 ■　微細突起数　ＮＡ 電子顕微鏡で１万倍以上でフィルム表面を観察し、微細
突起の最大径が０．０１μ以上のものについて個数を数
える。

■　微細突起の最大径ａ、最大径と直角方向の微細突起
径す 電子顕微鏡で１万倍以上でフィルム表面を観察して求め
る。

θ　面積平均径ＤＡ９面積径ＤＭ、微細突起の局長ＣＮ ケンブリッジインストルメント社製（英国製）−Ｑｕａ
ｎｔｉｍｅｎｔ″７２０を用いた。電子顕微鏡で１万倍
以上でフィルム表面の写真を撮影し９表面写真から表面
突起をトレースして微細突起の最大径が０．０１μ以上
のものについてコントラスト的に検出し画像処理させる
。画像処理は、微細突起の周長と微細突起の面積を測定
する０面積径　ＤＮは微細突起の面積から円相当径とし
て計算され、微細突起の面積径Ｄ８と微細突起の面積Ａ
Ｍから。

面積平均径ＤＡが次式より計算される。

■　微細突起高さ　Ｒｍ 例えば、小坂研究所薄属段差測定器（ＢＴ−１０）を使
用して、触針半径０．５μ、荷重５　ｍｇ、カットオフ
値０．０８−の条件で９表面粗さ方向５０万倍に拡大し
、チャートをかかせ断面曲線のフィルム長５００μに相
当する部分について、最大ピークと最小バレーとの差を
求め、同様にして任意に１０回測定して、これを平均し
た値で表わす。

（２）走行性 ＶＨ３方式のビデオテープレコーダを用い、テープ走行
の乱れによる画面のゆらぎを観察した。

雰囲気は常温常湿の２５°０，５５％ＲＩ（と、高温高
湿の４０”ａ、８０％ＲＨの条件である。

○：走行順調で再生画面のゆらぎが全くなし。

×：ところどころで走行が遅くなり、再生画面のゆらぎ
が生ずる。

（３）　　耐久性 Ｖｌ（Ｓ方式のビデオテープレコーダを用い、１００回
繰り返し走行させたあとの磁性面のすり傷や欠落を観察
した。雰囲気は常温常湿の２５℃。

５５％ＲＨと、高温高湿の４０℃、８０チＲＨの条件で
ある。

◎：テープ薄膜面上にほとんどすり傷の発生が見られな
い。

Ｏ：テープ薄膜面上に極めて弱いすり傷の発生が少し見
られる。

Ｘ：テープ薄膜面上にきついすり傷が発生する。

（４２Ｆ３７Ｎ　　比 Ｓ　／　Ｎ比は５０％白レベル信号を各テープの最適記
録電流で記録し、再生時のビデオ復調信号に含まれる信
号と雑音の比をビデオノイズメーターを用い、市販のＶ
ＨＳ標準テープをＯｄＢとして比較測定した。

（５）　　ドロップアウト ドロップアウトは、磁気記録テープに３段階段波信号を
最適記録電流で記録し、再生時のビデオヘッドアンプ出
力の減衰量が１８ｄＢ、継続時間２０μｓｅｃ以上のド
ロップアウトを１０分間ドロップアウトカウンターで測
定し、１分間当りの平均をとった。

〔実施例〕

以下、実施例に基づいて本発明の実施態様を説明する。

実施例１ 平均粒径５０ｍμの単分散している水系コロイダルシリ
カにＮ−メチルピロリドンを少しずつ添加しながら、凝
集しないように水を蒸留除去し。

シリカ濃度１Ｑｗｔ４のＮ−メチルピロリドン置換コロ
イダルシリカを調整した。

蒸留、脱水したＮ−メチルピロリドン８０ＪＫ上記Ｎ−
メチルピロリドン置換コロイダルシリカを、シリカが生
成ポリマの重量に対して添加量０．０６ｗｔ、％になる
ように分散し、精製した２−クロルＰ−フェニレンジア
ミン２．５０　鴫、　４．４’　−ジアミノジフェニル
エーテル１．５０　ｋｇを攪拌溶解させ０℃に冷却し、
この中へ粉末状の精製したテレフタル酸クロリド５．０
８ｋｇを添加し、２時間攪拌した後、十分精製した水酸
化カルシウム１．８５鞄を添加し、１時間室温にて攪拌
し中和を行ない。

３０°Ｃで３０００ボイズの透明な芳香族ポリアミド溶
液を得た。

この溶液を表面研摩した金属ドラム上へ５０℃で均一に
流延し、１２０°０の雰囲気で約１０分乾燥した。この
フィルムをドラムから剥離し、３０℃の水槽中に連続的
に約２０分間浸漬しなからＭＤ方向に１．１倍延伸した
。さらにフィルムをテンターに導入し５００℃でＴＤ力
方向１．１倍延伸して厚さ２０μの透明なフィルムを得
た。

このフィルムを真空槽内に装填し、１０トールの　Ａｒ
雰囲気下でグロー処理し０次いで真空槽を１０トールま
で真空にして、フィルムを１００℃に加熱したドラムに
沿わせて走行させながら電子ビーム蒸着により、Ｃｏ−
Ｎｉ合金（Ｇｏ　７５重量係。

Ｎ１２５重量％）を１０００ｉの膜厚になるように蒸着
した。

これをスリットして磁気テープとし、前記の方法で評価
した結果を表１に示す。これらの結果から、高温高湿下
の走行性、側久性、電磁変換特性がすぐれているととが
わかる。

また、得られた膜の磁気特性は、長手方向の保磁力　Ｈ
ｅが１１００エルステツド、幅方向の保磁力　Ｈａが５
５０エルステツド、角型比が０．９６と非常に良好なも
のである。

実施例２ 実施例１０ペースフイ、ルム製造において、使用したコ
ロイダルシリカの添加量を０．５ｗｔ％にした他は実施
例１と同様にして磁気テープを得た。テープ特性を表１
に示す。

これらの結果から高温高湿下での走行性、耐久性、電磁
変換特性がすぐれていることがわかる。

また、得られた膜の磁気特性は、長手方向の保磁力Ｈａ
が１．０２０エルステツド、幅方向の保磁力が５２０エ
ルステツド、角型比が０．９４と非常に良好なものであ
る。

実施例６ 実施例１のベースフィルム製造において、コロイダルシ
リカの平均粒径を１２０ｍμ、添加量を０゜１　ｗｔ％
にした他は実施例１と同様にして磁気テープを得た。テ
ープ特性を表１に示す。

これらの結果から高温高湿下での走行性、耐久性、！磁
変換特性がすぐれていることがわかる。

また、得られた膜の磁気特性は、長手方向の４粋が１１
００エルステツド、幅方向の　Ｈａが４８０エルステツ
ドと良好である。

実施例４ 蒸留、脱水したＮ−メチルピロリドン３０１中ヘシリカ
濃度が１０ｗｔ％のＮ−メチルピロリドン置換コロイダ
ルシリカ平均粒径１００ｍμを、シリカがポリマの重量
に対して０．２ｗｔ％になるように分散し、精製したメ
タフェニレンジアミン１．０８−と４．４′−ジアミノ
ジフェニルメタン１．９８　＠を攪拌溶解させ０℃に冷
却し、この中へ粉末状の精製したイソフタル酸クロリド
４．０６　ｋｇ添加し、２時間攪拌した後、十分精製し
た水酸化カルシウム１、４２　ｋｇを添加し、１時間室
温にて攪拌し中和を行ない、３０°Ｃで６０００ポイズ
の透明な芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液を使用
して実施例１と同様にして磁気テープを得た。テープ特
性を表１に示す。

これらの結果から高温高湿下での走行性、耐久性、電磁
変換特性がすぐれていることがわかる。

また、長手方向の　Ｈａが１０５０エルステツド。

幅方向の　Ｈａが４８０エルステツドと良好である。

実施例５ 平均粒径８０ｍμの水系コロイダルシリカにジメチルア
セトアミドを少しずつ添加しながら９粒子が凝集しない
ように水を蒸留除去し、シリカ濃度１Ｑｗｔ％のジメチ
ルアセトアミド置換コロイダルシリカを調整した。

蒸留、脱水したジメチルアセトアミド５３ｋｇ中へ、平
均粒径８０ｃｎμのジメチルアセトアミド置換コロイダ
ルシリカを、シリカが生成ポリマの重量に対して０．５
ｗｔ％になるように分散し、精製した４、４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル５．０１４を溶解させ、０°０で
攪拌しながら精製した粉末状のピロメリット酸二無水物
を５．４５ｑ徐々に添加し。

１時間攪拌を続けて透明なポリアミド酸溶液を得た。こ
のポリマ溶液は３０℃で２０００ボイズの均一な溶液で
ある。この溶液を表面研摩したエンドレスベルト上へ３
０℃で流延し、１４０℃、１２分加熱乾燥した。このフ
ィルムをベルトから剥離し、さらに２５０℃のテンター
内で残存溶媒を除去１次いで４００℃で２分間熱処理し
て２５μの芳香族ポリイミドから成るフィルムを得た。

延伸はＭＤ、ＴＤ力方向も１．０７倍である。このフィ
ルムを実施例１と同様に真空蒸着し磁気テープを得た。

このテープ特性を表１に示す。

これから、電磁特性、高温高湿下での走行性。

耐久性とも非常にすぐれたものであることがわかる。ま
た、得られた膜の磁気特性は、長手方向のＨｃが１１８
０エルステツド、幅方向のＨａ　が５１０エルステツド
と良好であった。

実施例６ 実施例５のベースフィルム製造においてコロイダルシリ
カの平均粒径を２０ｍμ、添加量全添加量％にした他は
、実施例５と同様にして磁気テープを得た。テープ特性
を表１に示す。

これから、電磁変換特性、高温高湿下での走行性、′＠
久住とも非常にすぐれたものであることがわかる。また
、得られた膜の磁気特性は、長手方向の保磁力Ｈａ　が
１０００エルステツド、幅方向の保磁力が５３０エルス
テツドと良好であった。

比較例１ 実施例１のベースフィルム製造において、コロイダルシ
リカの平均粒径を１００ｍμに、添加量を１３ｗｔ％に
した他は実施例１と同様にして磁気テープを得た。テー
プ特性を表２に示す。無機粒子量が多いためにフィルム
表面の微細突起高さが増大してドロップアウトが悪化し
、又微細突起数が多いためＳ／Ｎ比も悪化した。さらに
フィルム物性が低下しているためテープ切れが多発する
など実用に耐えるものではなかった。

比較例２ 実施例６のベースフィルム製造において、コロイダルシ
リカの添加量を０．００５ｗｔ９Ｊ　　にした他は実施
例６と同様にして磁気テープを得た。テープ特性を表２
に示す。これかられかるようにフィルム表面の微細突起
数が少ないために走行性、耐久性が非常に悪かった。

比較例３ 実施例１のベースフィルムの製造において、コロイダル
シリカの平均粒径を５００ｍμ、添加量を０．２ｗｔ％
にした他は実施例１と同様にして磁気テープを得た。テ
ープ特性を表２に示す。微細突起径の面積平均径が０．
６μと大きく、電磁変換特性が悪く、高温高湿下での耐
久性が悪い。

比較例４ 実施例１のベースフィルムの製造において、Ｎ−メチル
ピロリドン置換コロイダルシリカの代りに、高速攪拌機
で分散された平均粒径１２０ｍμの乾式法シリカを含有
するＮ−メチルピロリドン溶液を使用したことと添加量
を０．２ｗｔ％にした他は実施例１と同様にして磁気テ
ープを得た。テープ特性を表２に示した。微細突起の円
形度が０．７以下のものが０．３２ｘＮＡと多く、微細
突起形状が悪いため、高温高湿下の走行性、耐久性が非
常に悪かった。

比較例５ 実施例４のベースフィルムの製造方法において延伸をＭ
Ｄ方向２，３倍、ＴＤ方向２．６倍にした。

他は実施例４と同様にして磁気テープを得た。テープ特
性を表２に示した。突起の扁平度が２１．５と大きいた
め、高温高湿下の走行性、耐久性が悪かった。

比較例６ 実施例１のベースフィルムの製造において、Ｎ−メチル
ビロリドン置換コロイダルシリカの代りに、高速攪拌機
で分散された平均９０ｍｐｘ３０ｍμの粒子の大きさを
持つ乾式法アルミナを５ｗｔ％含有するＮ−メチルピロ
リドン溶液を使用して、アルミナが生成ポリマの重量に
対して０．２ｗｔ％になるように添加した。他は実施例
１と同様にして磁気テープを得た。テープ特性を表２に
示した。長短度が２以上のものが０．８２ｘＮ、　　あ
り。

突起形状が悪く、高温高湿下の走行性、耐久性が悪かっ
た。

〔発明の効果〕

以上に述べたように９本発明は芳香族ポリアミドあるい
は芳香族ポリイミドフィルムの表面の微細突起形状を特
定の範囲のフィルムとしたので。

これらに高密度記録層を設けた場合、高温高湿下におい
て良好な走行性、＃４久性を得ることができる。さらに
、耐熱性があるためにポリエチレンテレフタレートフィ
ルムより高温で蒸着、スパッタリング等が可能であり、
静的な磁気特性である保磁力やヒステリシスループの角
形比を向上させることができるなど本発明の効果は非常
に大きなものがある。また９本発明のフィルムは、平滑
性がよいため良好な電磁変換特性を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドを主
   体としたフィルムで、フィルム中に無機粒子を０．０１
   重量％以上、１０重量％以下含有し、少なくともフィル
   ムの片面に形成された突起は、（イ）微細突起高さＲｍ
   が３０Å以上５００Å以下。 （ロ）微細突起の面積平均径Ｄ＿Ａが０．０１μ以上０
   ．３μ未満で、突起の平均扁平度Ｄ＿Ａ／Ｒｍが１５以
   下。 （ハ）最大径が０．０１μ以上の微細突起数Ｎ＿Ａが１
   ０＾４個／ｍｍ＾２以上１０＾９個／ｍｍ＾２以下。 （ニ）微細突起の長短度ａ／ｂ（ａは微細突起の最大径
   、ｂは最大径と直角方向の微細突起径）が２以上の微細
   突起数が、０．２×Ｎ＿Ａ以下。 （ホ）微細突起の円形度πＤ＿Ｎ／Ｃ＿Ｎ（Ｄ＿Ｎは微
   細突起の面積径、Ｃ＿Ｎは微細突起の周長、πは円周率
   ）が０．７以下の微細突起数が０．２×Ｎ＿Ａ以下。 であることを特徴とする高密度記録媒体用ベースフィル
   ム。