JPH0364755A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH0364755A
JPH0364755A JP20179389A JP20179389A JPH0364755A JP H0364755 A JPH0364755 A JP H0364755A JP 20179389 A JP20179389 A JP 20179389A JP 20179389 A JP20179389 A JP 20179389A JP H0364755 A JPH0364755 A JP H0364755A
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版や、IC回路、フォトマスク等の
製造に好適に使用される感光性組成物に関し、特に、露
光時の感度が向上した新規な感光性組成物に関する。
〔従来の技術及びその解決すべき課題〕環化付加反応に
よって架橋する光架橋性材料はよく知られており、これ
らは感光性平版印刷版等の製造に用いる感光性組成物の
主要成分として数多く用いられている。これらのうち、
光架橋性高分子化合物としてマレイミド基を側鎖に有す
る高分子化合物、芳香核に隣接した光二量化可能な不飽
和二重結合を有するシンナミル基、シンナ元すデン基や
カルコン基等を側鎖又は主鎖に有する高分子化合物は有
用であり、特に感度が高いという点でマレイミド基を有
する高分子化合物は有用である。
このようなマレイミド基を含有する高分子化合物を含有
する感光性m放物としては、特開昭52−988号、同
52−3055号、同55−160010号の公報等に
記載されている組成物を挙げることができるが、いずれ
の感光性組成物も十分な感度を有しておらず、短い露光
時間では十分な画像が得られないという欠点を有してい
た。
従って、本発明の目的は7、短い露光時間でも十分な画
像形成のできる、高感度なネガ型感光性組成物を提供す
ることにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果
、新規な感光性組成物を使用することにより、上記目的
を容易に達成されることを見い出し、本発明に到達した
即ち、本発明は、下記一般式(I)で示される光架橋性
基: (ただし、式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基又はアリール基を示すか、R1
及びR2が一緒になって環を形成していてもよい。〉 を有するミクロゲルを含有することを特徴とする感光性
組成物に関する。
以下、本発明について詳述する。
上記一般式(I)において、好ましいR1及びR2はそ
れぞれ水素原子、塩素原子、臭素原子、C3〜C6のア
ルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基であり
、RI、R2が一緒になって環を形成していてもよい。
本発明において、ミクロゲルとは、架橋構造を有する直
径0.01〜1μmの球状の高分子化合物を言い、乳化
重合等によって作られる。ミクロゲルの作製と利用につ
いては、例えば英国特許第967.051号及び米国特
許第3895082号公報中に説明されている。
本発明において好適に使用される一般式(I)で示され
る光架橋性基を有するミクロゲルは、下記A及びB群の
化合物及び必要に応じて更にC群の化合物を用い、好ま
しくは乳化重合又は分散重合により台底される。
ム星± 一般式(I)で示される光架橋性基及び重合可能な工夫
レン性不飽和結合を有する化合物(好ましくは10〜9
9モル%) 本発明において好適に使用されるこのような化合物とし
ては、例えば下記の化合物を挙げることができる Rコ B群: 2つ以上の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化
合物(架橋化剤、好ましくは1〜50モル%) (式中、R1及びR2は前述と同じ意味を有する。
R3及びR4は水素原子又は−CH,を示し、Xは一〇
−又は−NH〜を示す。n ’ x n ’は1以上の
整数を示す。) また、特開昭52−988号公報等に記載されている化
合物も好ましい。
本発明において好適に使用されるこのような化合物とし
ては、例えばエチレングリコールジメタクリレート、ブ
タンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレートチレンビスメタクリルアミド等の
メタクリル酸誘導体及び上記と同様の0換基を有するア
クリル酸誘導体及びジビニルベンゼン等のスチレン誘導
体等が挙げられる。
旦星± その他の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物(好ましくは、0〜80モル%)本発明において好適
に使用されるこのような化合物としては、例えばメタク
リル酸エステル類、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸アミド類、アクリルアミド類、スチレン類、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
なお、分散重合を行う場合には、ポリエステルオリゴマ
ーの末端をメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステ
ルとしたマクロマー等を用いることが好ましい。
本発明のミクロゲルは、好ましくは乳化重合又は分散重
合によって得られるが、これらの重合方法については、
米国特許第3, 895, 082号、英国特許第96
7、 051号及びイムノロジカル・コミュニケー シ
ミ :/ ス(IM!J[INOLOGICAI、CO
l.4M[IN ICAT IONS)、12  (5
)509−517  (1983)を始めとし、数多く
の文献がある。
なお、乳化重合によりミクロゲルを合成する場合、感光
性組成物を調製する前に、ミクロゲルを乾燥した粉末に
変える操作が通常必要である。凝集、濾過、洗浄及び乾
燥という公知技術をこの目的のため用いるここができる
。また、適当な有機溶剤(例えば、トルエン等)を使用
し、共沸蒸留によりミクロゲルの水分散液より粉末にす
ることなく、有機溶剤の分散液どすることもできる。
本発明のミクロゲルの使用量は光霞合性組成物の総重量
を基準にして、5〜95重量%、好ましくは10〜90
重量%である。
以上の様にして得られるミクロゲルを用いた感光性組成
物は、ミクロゲル中に適当なアルカリ可溶性基を有して
いないなめ、露光後現像する際の現像液は、有機溶剤を
使用することとなる。しかしながら、労働安全衛生上、
水性アルカリ現像液を現像時用いることが好ましく、こ
れはミクロゲル中にpKa値が14以下の酸基を導入す
ることにより達成される。
本発明において好適に使用されるこの様なミクロゲルは
、下記り群の化合物と前述したA及びB群、更に必要に
応じてC群の化合物を用い好ましくは乳化重合又は分散
重合により合成される。
D 群: 重合可能なエチレン性不飽和結合及びpKa値が14以
下の酸基を有する化合物(好ましくは1〜80モル%) 本発明において、好適に使用されるpKa値が14以下
の酸基としては、例えば−SO,tl。
0)1     0H −CONHCO−1−SOJH−、フェノール性−〇〇
 。
−COCHzCOO−等が挙げられる。
本発明において好適に使用されるこのような化合物とし
ては、例えばメタクリル酸、アクリル酸、3−(2−メ
タクリロイルオキシエトキシカルボニル)プロピオン酸
、N−(2−スルホ−1,1−ジメチルエチル)メタク
リルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルア
ミド、N −(p−スルファモイルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート等
のメタクリル酸誘導体、上記と同様の置換基を有するア
クリル酸誘導体、マレイミド類、p−ビニルベンゼンス
ルホン酸等のスチレンW導体、&びEP115410A
2等に記載されている化合物が挙げられる。
本発明の感光性組成物には、必要に応じて光増感剤を含
有させることができる。
光増感剤としては、300nm以上の範囲で実際に充分
な光吸収を可能にする極大吸収を有する三重項増感剤が
好ましい。
好ましい三重項増感剤としてはベンゾフェノン誘導体、
ベンズアンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合
物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体
、チオキサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトク
マリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾジチオ
ール誘導体、ナフトフラノン化合物、ピリリウム塩、チ
アピリリウム塩等を挙げることが出来る。具体的にはミ
ヒラーズケトン、N、N’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン、ベンズアンスロン、(3−メチル−1,3−シア
f−1,9−ベンズ)アンスロンピクラミド、5−ニト
ロアセナフテン、2−クロルチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、メ
チルチオキサントン−1−エチルカルボキシレート、2
−ニトロフルオレン、2−ジベンゾイルメチレン−3−
メチルナフトチアゾリン、3,3−カルボニル−ビス(
7−ジニチルアミノクマリン)、2.4.6−ドリフエ
ニルチアピリリウムバークロレート、2− (p−クロ
ルベンゾイル)ナフトチアゾール、2− (5−t−ブ
チル−1,3−ベンゾジチオール−2−イ’)デン)−
1,34エチルチオバルビツール酸などを挙げることが
出来る。これらの増感剤の添加量は全組成物の1〜20
重量%、好ましくは3〜10重量%である。
以上の他に、必要に応じてネガ作用を有するジアゾ樹脂
を加えることも出来る。このようなジアゾ樹脂としては
4−ジアゾ−ジフェニルアミン、1−ジアゾ−4−N、
N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、N
−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチ
ル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ
−4−N−メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−ペンシイル
ア逅ノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノ
ベンゼン、1−ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−
ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−p−)リルメルカブ
トベンゼン、1−ジアゾ−2−エトキシ−4−N、N−
ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ−ジメチルアニリ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、l−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モ
ルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2゜5−ジメトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
ェトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2
,5−ジェトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼン
、1−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−N−ベ
ンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−
N、N−ジエチルアミノベンゼン、■−ジアゾー3−メ
チルー4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロ
ロ−4−N、N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼ
ン、1−ジアゾ−3−メトキシー4−ピロリジノベンゼ
ン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−
エトキシ−4=ジアゾジフエニルアaン、3−(n−プ
ロポキン)−4−ジアゾフェニルアミン、3−イソプロ
ポキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾモ
ノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアル
デビト、ベンズアルデヒドのような縮合剤をモル比で各
々1:1−1:0.5、好ましくは180.8〜1:0
.6とし、これを通常の方法で縮合して得られた縮合物
と陰イオンとの反応生成物が挙げられる。陰イオンとし
ては、四フフ化ホウ酸、六フフ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタ1/ンスルホン酸、5−ニトロオルト−]・
ルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2.5ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4.6−ドリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルボン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフト−ル−5−スル
ホン酸、2、−メトキシ−4−1ニトロキシ−5−ベン
ソ′イル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスル
ホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六
フッ化リン酸、l・リイソブロビルナフタレンスルホン
酸や2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアル
キル芳香族スルホン酸が好適である。
また前述したジアゾモノマーと、カルボン酸及び/又は
フェノールを有するアルデヒド又はそのアセタール(更
に必要に応じて前述の縮合剤)より得られる縮合物と前
述の陰イオンとの反応生成物や、特開平1−10245
6号及び特開平1−102457号公報に記載されてい
るジアゾ樹脂も本発明において好適に使用される。
これらジアゾ樹脂の全組成物に対する添加量は一般に0
.1〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.3〜
5重努:%である。
また、これらのジアゾ樹脂は感光性層と支持体との中間
層として使用することもできる。
本発明の感光仕組tm中には、更に、例えば、特開昭5
2−988号公報に記載されていゐ高分子化合物、フ上
ノールホルムアルデビト樹脂、クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、フェノール変性キシ!/ン樹脂、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等、
公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させること
ができる。
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70
重量%以下の添加量で用いられる。
更に、本発明の感光性組成物には熱重合防止剤を配合し
ておくことが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メ
I・キシフ美ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール
、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン
、4.4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2゜2′−メチレンビス(4−メチル−(
、−1−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール等が有用であり、また場合によっては感光性
層の着色を目的にして染料もしくは顔料や焼出剤として
pH指示薬等を添加することもできる。
焼出し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化
合物と塩を形成17得る有機染料の組合せを代表として
挙げることができる。
更に、ジアゾ樹脂の安定化剤として、リン酸、亜リン酸
、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、ジピコリン酸、多核芳
香族スルホン酸及びその塩、スルホサリチル酸等を必要
に応じて添加することができる。
また、本発明の感光性組成物には可塑剤などを配合して
もよい。可塑剤としては、ジブチルフクレ・−ト、ジヘ
キシルフタレートなどフタル酸ジアルキルエステル、オ
リゴエチレングリコールアルキルエステル、リン酸エス
テル系の可塑剤などを使用することができる。
本発明の感光性組成物は、例えば、2−メトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテ−1・、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノー
ル、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケ
トン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチ
ルアセI・アミド、ジメチルスルオキシド、エチレンジ
クロライド、乳酸メチル、乳酸エチルなどの適当な溶剤
の単独又はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解又は
分散して支持体上に塗設される。その被覆量は乾燥後の
重量で0.1 g/m” 〜10 g/m”の範囲が適
当であり、好ましくは0.5〜5g/m”である。
本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルもニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム
、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属と
アルミニウムの合金が用いられる。これらの組成は、い
くらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る程度の
量の不純物をも含むものである。
アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される0例え
ば、砂目立て処理、珪酸ソーダ、フン化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽
極酸化処理などの表面処理がなされていることが好まし
い。また、米国特許第2.714.066号明細書に記
載されているように、砂目立てした後、珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3.
181.461号明細書に記載されているようにアルミ
ニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸
塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
上記陽極酸化処理は、例えば・、リン酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン
酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単
独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム
板を陽極として電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
との有害な反応を防ぐためや、感光性層との密着性を向
上させるために施される。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
砂目立て方法としては、機械的、化学的及び電気化学的
な方法のいずれの方法も有効である0機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨
剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラ
シ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭54
−31187号公報に記載されているような鉱酸のアル
ミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、
電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組合せ
のような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい、
このような粗面化方法の内、特に特開昭55−1379
93号公報に記載されているような機械的粗面化と電気
化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支
持体への接着力が強いので好ましい。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さ(Ra )が0.3〜1.0μとな
るような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗及び化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルごニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバル
]・、ニソケル、銅等の塩はエツチング液面に不必要な
被膜を形成するから好ま1〜くない。
これ等のエツチング剤(・Jl、使用濃度、温度の設定
において、使用するアル2ニウムあるいは合金の溶解速
度が浸漬時間1分あたり0.3−40g/m2になるよ
うに行われるのが最も好ましいが、これを上回っても下
回っても差支えない。
エツチングは上記エツチング液にアルもニウム板を浸漬
したり、該アルもニウム仮にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング景が0.5〜10g/m
”の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマソト処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等
が用いられる。
エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この舅野で従来よ
り行なわれていゐ方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン
酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上
を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直
流または交流の電流を流すと6、アルえ、ニウム支持体
表面に陽極酸化被膜を形威さ一+!:イことができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度
Oo5〜60 A/ds” 、 ii圧1〜100V、
電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、特に英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3.511,6
61号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極
酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、更に陽極酸化されたアルミニ
ラ点板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好
ましい例とj−では米国特許第2、714.066号及
び同第3.181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液又
は特公昭36−22063号公報に開示されているフッ
化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第4.153.
461号明細書に開示されているようなポリビニルスル
ホン酸で処理する方法がある。
更に、これらの処理の後に水溶性の樹脂、例えばポリア
クリル酸やスルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重
合体、モの他、アルカリ性水溶液可溶性の低分子化合物
、トリエタノールアミンの塩や、アラニン化合物を下塗
りしたものも好適である。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対して
ネガのレリーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ
、紫外線、1/−ザ光線なとがあげられる。
〔発明の効果〕
本発明の感光性組成物は、画像露光時の感度に優れ、短
い露光時間でも十分な画像が得られる。
従って、作業効率等が著しく改善される。
以下、本発明を、合成例、実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。
fiil、勇士 攪拌機、冷却管を備えた11フラスコに2,3−ジメチ
ルマレイン酸無水物126 g (1ndole)、6
−アaノカブロン酸131 g (1mole)及びト
ルエン600mjl!を入れ、100℃に加熱しながら
1時間撹拌した。次に、1)ean−Stark水分離
器を取り付け、トルエン還流下水を除去しつつ3時間撹
拌した。反応終了後混合物を冷却した後、ヘキサン1.
52に晶析した。ろ過及び乾燥により、得られた固体を
更に水1.51にリスラリ−した。ろ過及び乾燥するこ
とにより下記の化合物(i)の白色固体231gを得た
1N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順
で洗浄した。この溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去することにより下記の化合物(ii)の
液体59gが得られた。
次に、攪拌機、冷却管を備えた300I111フラスコ
に、化合物(i) 57.4 g (0,24mole
)及び塩化チオニル29.7 g (0,25mole
)を入れ、室温下1時間攪拌した。更に、80℃に加熱
しながら、1時間攪拌した。反応終了後、冷却し、エー
テル150tsllを加えた0次にフラスコに滴下ロー
トを取り付け、反応混合物を氷水浴にて冷却しながら、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート26、0 g (
0,2mole)とピリジン31.6g(0,4mol
e)との混合物を滴下ロートにより、約30分間かけて
滴下した0滴下終了後、氷水浴下で1時間攪拌し、更に
50℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、冷
却し、酢酸エチル400mj2と共に反応混合物を分液
ロートへ入れた。水、次に、攪拌機、冷却管を備えた1
1フラスコに、化合物(ii) 68.52 g (0
,195mole) 、エチレングリコールジメタクリ
レー)、2.97g(0,015mole) 、コハク
酸水素(2−メタクリロイルオキシ)エチル20.72
 g (0,09mole)、ドデシル硫酸ナトリウム
9.22 g及び水800mj2を入れ、窒素気流下5
0℃に加熱した。この混合溶液に過硫酸カリウム0.5
8 g及びチオ硫酸ナトリウム5水和物0.54 gを
加え、5時間攪拌した。
反応終了後、塩析及び遠心分離した後、減圧下乾燥し、
85gの白色粉末(本発明のミクロゲル(p))を得た
。粉末粒子の球状の形を顕微鏡によって確認した。
皇底班l二玉 合成例1と同様にして、下記第1表に示す本発明のミク
ロゲル(q)〜(1)を台底した。
実施例 厚さ0.30mのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表面を
砂目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエ
ツチングした後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗
浄、水洗した。これをVa=12.7Vの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160ク
ローン/d−の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った
。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示
)であった、引き続いて30%のHzSOs水溶液中に
浸漬し、55℃で2分間デスマット処理した後、20%
H,SO,水溶液中、電流密度2A/d−において厚さ
が2.7g/%となるように2分間陽極酸化処理した。
以上の様にして得られたアルミニウム板に次に示す感光
液(V)−1〜(V)−5をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.5g/−であ
った。
なお、感光液(V)−1〜(V)−5に用いた本発明に
用いるミクロゲルを第2表に示す感光液〔V〕 : 次に、比較例として、上記感光液(V)中の本発明のミ
クロゲルの代わりに下記の高分子化合物(架橋構造を有
していない)を用いた感光液[W]を同様に塗布、乾燥
した。
比較用の高分子化合物: 感光液(V)−1〜I”V]−5及び〔W〕を用いて得
られた各感光性平版印刷版[:V]−1〜CVI−5及
び〔W〕の上に富士写真フィルム■製グレイスケールタ
ブレッ、トを重ね米国バーキーテクニカル社製バーキー
プリンター(アイツーアダルックス2KW)で露光し、
次に示す現像液にて室温で50秒間浸漬後脱脂綿で表面
を軽くこすり未露光部を除去した。
得られた平版印刷版の露光量に対する感度を目視にて、
ベタ部の段数より読み取った。その結果を第2表に示す
。この結果から、本発明のミクロゲルを用いた感光性平
版印刷版(V)−1〜〔V〕−5は、比較例の感光性平
版印刷版〔W〕よりいずれも段数が大きく、高感度であ
った。
第2表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で示される光架橋性基: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
    ) (ただし、式中、R^1及びR^2はそれぞれ水素原子
    、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を示すか、
    R^1とR^2とが一緒になって環を形成していてもよ
    い。) を有するミクロゲルを含有することを特徴とする感光性
    組成物。
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