JPH02285353A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造
に好適に使用される感光性組成物に関するものである。
に好適に使用される感光性組成物に関するものである。
更に詳しくは水性アルカリ現像液に対する溶解性に優れ
た高分子化合物を含有するネガ型感光性組成物に関する
ものである。
た高分子化合物を含有するネガ型感光性組成物に関する
ものである。
環化付加反応によって架橋する光架橋性材料はよく知ら
れており、これらは怒光性平版印刷版等の製造に用いる
感光性組成物の主要成分として数多く用いられている。
れており、これらは怒光性平版印刷版等の製造に用いる
感光性組成物の主要成分として数多く用いられている。
これらの光架橋性高分子化合物としてマレイミド基を側
鎖に有する高分子化合物、芳香核に隣接した光二量化可
能な不飽和二重結合を有するシンナミル基、シンナミリ
デン基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有する高分子化
合物は有用である。
鎖に有する高分子化合物、芳香核に隣接した光二量化可
能な不飽和二重結合を有するシンナミル基、シンナミリ
デン基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有する高分子化
合物は有用である。
これらの光架橋性高分子化合物を用いたネガ型怒光性平
版印刷版等としては未露光部が水性アルカリ現像液によ
り除去(現像)されるアルカリ現像型と、有機溶剤系現
像液により除去される溶剤現像型が知られているが、労
働安全衛生上、アルカリ現像型が好ましく、これは主に
光架橋性高分子化合物の性質によって決まる。光架橋性
高分子化合物にアルカリ現像性を持たせる方法としては
、例えば特開昭52−988号、特公昭49−2812
2号等に記載されている様に、光架橋性基及び重合可能
な不飽和結合を有する低分子化合物とメタクリル酸また
はアクリル酸を共重合させ合成する方法、特公昭57−
56485号等に記載されている様に、光架橋性基及び
重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物と、無水マ
レイン酸を共重合させた後加水分解して合成する方法、
特開昭59−218440号等に記載されている様に、
カルボン酸無水物単位を含む高分子化合物に、光架橋性
基を高分子反応により導入しつつカルボン酸を形成させ
る方法、特開昭48−74594号等に記載されている
様に、ポリアクリル酸に、光架橋性基を高分子反応によ
り導入する方法、特開昭60−191244号明細書中
に記載されているような主鎖に、芳香核に隣接した光二
量化可能な不飽和二重結合、側鎖にカルボキシル基およ
び末端に水酸基を存するポリエステルプレポリマーに水
酸基と反応し得る官能基を分子中に2個以上有する鎖延
長剤、たとえばジイソシアネート化合物、ジフェニルテ
レフタレート、ジフェニルカーボネートやテレフタロイ
ルビス(N−カプロラクタム)等を反応させて得る方法
、主鎖に、芳香核に隣接した光二量化可能な不飽和二重
結合と末端に水酸基を有するポリエステルプレポリマー
やポリウレタンプレポリマーに鎖延長剤としてピロメリ
ット酸二無水物やシクロペンクンテトラカルボン酸二無
水物を反応させ、側鎖にカルボキシル基を導入する方法
等をあげることが出来る。
版印刷版等としては未露光部が水性アルカリ現像液によ
り除去(現像)されるアルカリ現像型と、有機溶剤系現
像液により除去される溶剤現像型が知られているが、労
働安全衛生上、アルカリ現像型が好ましく、これは主に
光架橋性高分子化合物の性質によって決まる。光架橋性
高分子化合物にアルカリ現像性を持たせる方法としては
、例えば特開昭52−988号、特公昭49−2812
2号等に記載されている様に、光架橋性基及び重合可能
な不飽和結合を有する低分子化合物とメタクリル酸また
はアクリル酸を共重合させ合成する方法、特公昭57−
56485号等に記載されている様に、光架橋性基及び
重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物と、無水マ
レイン酸を共重合させた後加水分解して合成する方法、
特開昭59−218440号等に記載されている様に、
カルボン酸無水物単位を含む高分子化合物に、光架橋性
基を高分子反応により導入しつつカルボン酸を形成させ
る方法、特開昭48−74594号等に記載されている
様に、ポリアクリル酸に、光架橋性基を高分子反応によ
り導入する方法、特開昭60−191244号明細書中
に記載されているような主鎖に、芳香核に隣接した光二
量化可能な不飽和二重結合、側鎖にカルボキシル基およ
び末端に水酸基を存するポリエステルプレポリマーに水
酸基と反応し得る官能基を分子中に2個以上有する鎖延
長剤、たとえばジイソシアネート化合物、ジフェニルテ
レフタレート、ジフェニルカーボネートやテレフタロイ
ルビス(N−カプロラクタム)等を反応させて得る方法
、主鎖に、芳香核に隣接した光二量化可能な不飽和二重
結合と末端に水酸基を有するポリエステルプレポリマー
やポリウレタンプレポリマーに鎖延長剤としてピロメリ
ット酸二無水物やシクロペンクンテトラカルボン酸二無
水物を反応させ、側鎖にカルボキシル基を導入する方法
等をあげることが出来る。
一方、これらのネガ型感光性平版印刷版を露光後現像す
る際、用いられる水性アルカリ現像液組成物としては、
例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベ
ンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤
及び水からなる現像液組成物、特開昭53−442・0
2号に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン
性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる
現像液組成物、特開昭55−155355号に記載され
ている、水に対する溶解度が常温において10重量%以
下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像液組
成物等が挙げられる。
る際、用いられる水性アルカリ現像液組成物としては、
例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベ
ンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤
及び水からなる現像液組成物、特開昭53−442・0
2号に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン
性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる
現像液組成物、特開昭55−155355号に記載され
ている、水に対する溶解度が常温において10重量%以
下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像液組
成物等が挙げられる。
これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤等の有機物を
、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機溶
剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する危
険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質上含まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機溶
剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する危
険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質上含まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
これに対して、これらの有機物を実質上含まない現像液
組成物としては特開昭59−84241号に記載されて
いる現像液組成物等がある。しかし、これらの現像液組
成物は0−ナフトキノンジアジド化合物を怒光性化合物
として含むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用い
られており、これらの実質上有機物を含まない現像液組
成物を用いて、前述したネガ型感光性平版印刷版を現像
すると、残膜を生ずる事なく現像する事ができず、適正
な現像性が得られない、また、見かけ上、適正な現像性
が得られた場合においても、印刷した際、非画像部に汚
れが発生するという問題があった。
組成物としては特開昭59−84241号に記載されて
いる現像液組成物等がある。しかし、これらの現像液組
成物は0−ナフトキノンジアジド化合物を怒光性化合物
として含むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用い
られており、これらの実質上有機物を含まない現像液組
成物を用いて、前述したネガ型感光性平版印刷版を現像
すると、残膜を生ずる事なく現像する事ができず、適正
な現像性が得られない、また、見かけ上、適正な現像性
が得られた場合においても、印刷した際、非画像部に汚
れが発生するという問題があった。
尚、本発明において、「実質上有機物を含まない」とは
、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める割
合が3重量%以下であることを意味し、好ましくは1重
量%以下である。
、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める割
合が3重量%以下であることを意味し、好ましくは1重
量%以下である。
従って、本発明の目的は、アルカリ性水溶液に対する溶
解性が優れた光架橋性高分子化合物を用いる事により、
有機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水
性アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像
性が得られ、かつこれらの有機物を実質上含まない水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際においても、
適正な現像性が得られ、さらに印刷した際非画像部に汚
れを生じない平版印刷版を与える感光性組成物を提供す
ることである。
解性が優れた光架橋性高分子化合物を用いる事により、
有機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水
性アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像
性が得られ、かつこれらの有機物を実質上含まない水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際においても、
適正な現像性が得られ、さらに印刷した際非画像部に汚
れを生じない平版印刷版を与える感光性組成物を提供す
ることである。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することにより、これらの目
的が達成されることを見い出し、本発明に到達した。
新規な感光性組成物を使用することにより、これらの目
的が達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、光架橋性基かつP−OH結合を有する
官能基を有する高分子化合物を含有する事を特徴とする
感光性組成物を提供するものである。
官能基を有する高分子化合物を含有する事を特徴とする
感光性組成物を提供するものである。
以下本発明について詳述する。
本発明においてP−OH結合を有する官能基とはリン原
子のオキソ酸基を示し、アルカリ金属、アルカリ土類金
属またはアンモニウムイオンと塩を形成していてもよい
。本発明において好適に使用されるP−OH結合を有す
る官能基は、下記−最大(1)で示される官能基である
。
子のオキソ酸基を示し、アルカリ金属、アルカリ土類金
属またはアンモニウムイオンと塩を形成していてもよい
。本発明において好適に使用されるP−OH結合を有す
る官能基は、下記−最大(1)で示される官能基である
。
−X’−P−0−R’ ・・・・・・ (1)
0−R” 式中、Xlは単結合またはO,S、NR3を示し、RI
SRg 、R3はそれぞれHまたは置換基を有してい
てもよい01〜CZOのアルキル基、03〜C2゜のシ
クロアルキル基、C5〜C2゜のアリール基、C1〜C
2゜のアラルキル基を示し、RIR″のうち少くとも1
つはHであり、好ましくはR1、Rg共にHである。
0−R” 式中、Xlは単結合またはO,S、NR3を示し、RI
SRg 、R3はそれぞれHまたは置換基を有してい
てもよい01〜CZOのアルキル基、03〜C2゜のシ
クロアルキル基、C5〜C2゜のアリール基、C1〜C
2゜のアラルキル基を示し、RIR″のうち少くとも1
つはHであり、好ましくはR1、Rg共にHである。
本発明において好適に使用される光架橋性基と、P−O
H結合を有する官能基を有する高分子化合物は、1つ以
上の重合可能な不飽和結合と1つ以上の光架橋性基を有
する低分子化合物と、1つ以上の重合可能な不飽和結合
と1つ以上のP−OH結合を有する官能基を有する低分
子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重
合する事により得られる。また、P−OH基が適当な保
護基で保護された官能基と重合可能な不飽和結合ををす
る低分子化合物より高分子化合物を合成し、その後に保
護基を除去する事により得る事もできる。
H結合を有する官能基を有する高分子化合物は、1つ以
上の重合可能な不飽和結合と1つ以上の光架橋性基を有
する低分子化合物と、1つ以上の重合可能な不飽和結合
と1つ以上のP−OH結合を有する官能基を有する低分
子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重
合する事により得られる。また、P−OH基が適当な保
護基で保護された官能基と重合可能な不飽和結合ををす
る低分子化合物より高分子化合物を合成し、その後に保
護基を除去する事により得る事もできる。
またさらに、適当な官能基を有する高分子化合物(例え
ば、ポリビニルアルコール)より高分子反応により光架
橋性基及びP−OH結合を有する官能基を導入する事も
可能である。しかしながら光架橋性基とP−OH結合を
有する官能基の導入量を容易に制御できるという点で重
合可能な不飽和結合と光架橋性基を有する低分子化合物
と重合可能な不飽和結合とP−OH結合を有する官能基
を存する低分子化合物より高分子化合物を得る方法が好
ましい。
ば、ポリビニルアルコール)より高分子反応により光架
橋性基及びP−OH結合を有する官能基を導入する事も
可能である。しかしながら光架橋性基とP−OH結合を
有する官能基の導入量を容易に制御できるという点で重
合可能な不飽和結合と光架橋性基を有する低分子化合物
と重合可能な不飽和結合とP−OH結合を有する官能基
を存する低分子化合物より高分子化合物を得る方法が好
ましい。
1つ以上の重合可能な不飽和結合と1つ以上の光架橋性
基を有する低分子化合物としては、例えば特公昭49−
28122号、特公昭55−12042号、特開昭50
−24384号、特公昭51−37673号、特開昭6
2−284350号、特開昭51−125474号、特
開昭52−988号等に記載されている化合物が挙げら
れる。
基を有する低分子化合物としては、例えば特公昭49−
28122号、特公昭55−12042号、特開昭50
−24384号、特公昭51−37673号、特開昭6
2−284350号、特開昭51−125474号、特
開昭52−988号等に記載されている化合物が挙げら
れる。
これらの低分子化合物のうち本発明において特に好適に
使用されるものは、下記−最大(II)または(III
)で示される化合物である。
使用されるものは、下記−最大(II)または(III
)で示される化合物である。
式中、R’ 、R’はそれぞれHまたはCH3を示す。
R51R9はそれぞれC1H1N、0.Sのうち2種以
上の原子より成る二価の連結基を示す。
上の原子より成る二価の連結基を示す。
R8、R?はそれぞれH1ハロゲン原子、アルキル基を
示し、R6とR7が一緒になって5または6員環を形成
していてもよい。尚、R8、R?のアルキル基としては
01〜C4のものが好ましく、特に好ましいのはメチル
基である。また、ハロゲン原子としてはC4!、Br、
Iが好ましい。
示し、R6とR7が一緒になって5または6員環を形成
していてもよい。尚、R8、R?のアルキル基としては
01〜C4のものが好ましく、特に好ましいのはメチル
基である。また、ハロゲン原子としてはC4!、Br、
Iが好ましい。
RIGSR口はそれぞれHSCNSNo□、ハロゲン、
C8〜C6のアルキル基を示す。
C8〜C6のアルキル基を示す。
Xt及びX3はそれぞれ単結合または−COO−−C0
NH−を示し、X4はOまたはNHを示す。
NH−を示し、X4はOまたはNHを示す。
Arは置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ芳香
族基を示し、好ましくは置換基を有していてもよいフェ
ニル基である。
族基を示し、好ましくは置換基を有していてもよいフェ
ニル基である。
一般式(It)で示される低分子化合物としては例えば
下記に示すものが挙げられる。
下記に示すものが挙げられる。
式中 R4、R11、R?は前述と同じ意味を有し、n
1〜n9は整数を示し、好ましくは1から12である。
1〜n9は整数を示し、好ましくは1から12である。
R12はHまたはCLを示す。
−最大(II[)で示される低分子化合物としては例え
ば下記に示すものが挙げられる。
ば下記に示すものが挙げられる。
1 :
式中R1、RI6、R1、Arは前述と同じ意味を有し
、n10.、nl”は整数を示し、好ましくは1から1
2である。RISはHまたはCH3を示す。
、n10.、nl”は整数を示し、好ましくは1から1
2である。RISはHまたはCH3を示す。
また1つ以上の重合可能な不飽和結合と1つ以上のP−
OH結合を有する官能基を有する低分子化合物としては
、例えばPolym、 Pa1nt Co1our J
。
OH結合を有する官能基を有する低分子化合物としては
、例えばPolym、 Pa1nt Co1our J
。
(1987) 17 ?、4193、特開昭59−13
9392号、EP88527A2、EP115410A
2、US4259075、US4259117、US4
368043、US4222780、特開昭51−44
152号、特開昭53−113843号、特公昭57−
49557号、E P301101A1、EP7470
8A2等に記載されている化合物が挙げられる。
9392号、EP88527A2、EP115410A
2、US4259075、US4259117、US4
368043、US4222780、特開昭51−44
152号、特開昭53−113843号、特公昭57−
49557号、E P301101A1、EP7470
8A2等に記載されている化合物が挙げられる。
これらの低分子化合物のうち本発明において特に好適に
使用されるものは下記−最大(IV)で示され る化合物である。
使用されるものは下記−最大(IV)で示され る化合物である。
υH
式中mは1または2を示す、R11はHまたはC1hを
示し、R2!はC,H,N、O,5(7)うち2種以上
の原子より成る連結基または単結合を示し、m=1のと
き二価の連結基であり、m−2のとき三価の連結基であ
る。Ylは単結合またはCOO。
示し、R2!はC,H,N、O,5(7)うち2種以上
の原子より成る連結基または単結合を示し、m=1のと
き二価の連結基であり、m−2のとき三価の連結基であ
る。Ylは単結合またはCOO。
C0NHを示す、Ytは単結合またはO,NH,Sを示
す。
す。
一殻式(■)で示される化合物としては例えば下記に示
すものが挙げられる。
すものが挙げられる。
式R1Iは前述と同じ意味を存し、11.、、.23は
整数を示し、好ましくは1〜12である。
整数を示し、好ましくは1〜12である。
本発明において好適に使用される光架橋性基とP−OH
結合を有する官能基ををする高分子化合物は、上記−最
大(n)または(m)で表わされる化合物の1種以上と
、−i式(IV)で示される化合物の1種以上の共重合
体であるが、さらにこれら以外の重合可能な低分子化合
物の1種以上との多元共重合体であってもよい。
結合を有する官能基ををする高分子化合物は、上記−最
大(n)または(m)で表わされる化合物の1種以上と
、−i式(IV)で示される化合物の1種以上の共重合
体であるが、さらにこれら以外の重合可能な低分子化合
物の1種以上との多元共重合体であってもよい。
二のような重合可能な低分子化合物としては、刑えばア
クリル酸、メタクリル酸、アクリロニトル、メタクリロ
ニトリノペアクリル酸エステル1、メタクリル酸エステ
ル類、アクリルアミド順、シタクリルアミド類、アリル
化合物、ビニルニーニル類、ビニルエステル類、スチレ
ン類、クロトノ酸エステル類等が挙げられる。
クリル酸、メタクリル酸、アクリロニトル、メタクリロ
ニトリノペアクリル酸エステル1、メタクリル酸エステ
ル類、アクリルアミド順、シタクリルアミド類、アリル
化合物、ビニルニーニル類、ビニルエステル類、スチレ
ン類、クロトノ酸エステル類等が挙げられる。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノーノペエチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、トルエ
ン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルス
ルホキシドなどが挙げられる。
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノーノペエチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、トルエ
ン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルス
ルホキシドなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合して用いられ
る。
る。
本発明の高分子化合物は、1分子当り、平均2ヶ以上の
光架橋性基を側鎖に有しかつ重量平均分子量が好ましく
はi、ooo以上であり、更に好ましくは2.000〜
30万の範囲である。
光架橋性基を側鎖に有しかつ重量平均分子量が好ましく
はi、ooo以上であり、更に好ましくは2.000〜
30万の範囲である。
また数平均分子量で好ましくは800以上であり、更に
好ましくは1000〜25万の範囲である。また多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
好ましくは1000〜25万の範囲である。また多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
また、本発明の高分子化合物中には、未反応の低分子化
合物が含まれていてもよい。この場合、低分子化合物の
高分子化合物中に占める割合は15重量%以下が望まし
い。
合物が含まれていてもよい。この場合、低分子化合物の
高分子化合物中に占める割合は15重量%以下が望まし
い。
本発明の高分子化合物は、好ましくは、光架橋性基を有
する共重合成分をモル比で20%以上、更に好ましくは
30%〜90%含有する。また、P−OH結合を有する
官能基を有する共重合成分をモル比で5%以上好ましく
は、10〜70%含有する。P−OH結合を有する官能
基を有する成分は少なすぎると、アルカリ性水溶液に対
する溶解性が不十分であり、多すぎると、画像部の強度
の劣化、感度の低下を起こす。尚、本発明で用いる上記
高分子化合物は、上記モノマーを共重合させたランダム
ポリマー、ブロックポリマー等いずれでもよいが、ラン
ダムポリマーを用いるのがよい。
する共重合成分をモル比で20%以上、更に好ましくは
30%〜90%含有する。また、P−OH結合を有する
官能基を有する共重合成分をモル比で5%以上好ましく
は、10〜70%含有する。P−OH結合を有する官能
基を有する成分は少なすぎると、アルカリ性水溶液に対
する溶解性が不十分であり、多すぎると、画像部の強度
の劣化、感度の低下を起こす。尚、本発明で用いる上記
高分子化合物は、上記モノマーを共重合させたランダム
ポリマー、ブロックポリマー等いずれでもよいが、ラン
ダムポリマーを用いるのがよい。
また、本発明において、光架橋性基とP−OH結合を有
する官能基を有する高分子化合物としては、前述した重
合体の他にエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、
カーボネート結合、イミド結合およびこれらの2種以上
の結合形態の組み合わせにより高分子量化したものを使
用する事ができる。これらの高分子化合物のうち本発明
において好適に使用されるものは、エステル結合により
高分子量化したものである。
する官能基を有する高分子化合物としては、前述した重
合体の他にエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、
カーボネート結合、イミド結合およびこれらの2種以上
の結合形態の組み合わせにより高分子量化したものを使
用する事ができる。これらの高分子化合物のうち本発明
において好適に使用されるものは、エステル結合により
高分子量化したものである。
本発明において好適に使用されるこれらのポリエステル
は、1つ以上の光架橋性基を有し、かつ2つ以上のカル
ボン酸クロリドまたはカルボン酸またはカルボン酸エス
テルを有する低分子化合物と、1つ以上のP−01(結
合を有する官能基を有し、かつ2つ以上のヒドロキシル
基を有する低分子化合物を用い公知の方法によりポリエ
ステルとしたものである。
は、1つ以上の光架橋性基を有し、かつ2つ以上のカル
ボン酸クロリドまたはカルボン酸またはカルボン酸エス
テルを有する低分子化合物と、1つ以上のP−01(結
合を有する官能基を有し、かつ2つ以上のヒドロキシル
基を有する低分子化合物を用い公知の方法によりポリエ
ステルとしたものである。
この際P−OH結合を有する官能基はポリエステル化す
る際は適当な保護基で保護しておき、ポリエステルとし
た後保護基を除去する事により得てもよい。この様な方
法によれば主鎖中に光架橋性基を導入する事もできる。
る際は適当な保護基で保護しておき、ポリエステルとし
た後保護基を除去する事により得てもよい。この様な方
法によれば主鎖中に光架橋性基を導入する事もできる。
本発明の高分子化合物の含有量は、感光性組成物に基づ
いて10〜99重量%、好ましくは50〜95重量%で
ある。
いて10〜99重量%、好ましくは50〜95重量%で
ある。
本発明の感光性組成物には、必要に応じて光増感剤を含
存させることができる。
存させることができる。
光増感剤としては、300nm以上の範囲で実際に充分
な光吸収を可能にする極大吸収を有する三重項増感剤が
好ましい。
な光吸収を可能にする極大吸収を有する三重項増感剤が
好ましい。
増感剤としてはベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロ
ン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチア
ゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサント
ン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、
ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ピリ
リウム塩、チアピリリウム塩等をあげることが出来る。
ン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチア
ゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサント
ン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、
ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ピリ
リウム塩、チアピリリウム塩等をあげることが出来る。
具体的にはミヒラーケトン、N、N’−ジエチルアミノ
ベンゾフェノン、ベンズアンスロン、(3−メチル−1
,3−ジアザ−1,9−ベンズ)アンスロンピクラミド
、5−ニトロアセナフテン、2−クロルチオキサントン
、2−イソプロピルチオキサントン、ジメチルチオキサ
ントン、メチルチオキサントン−1−エチルカルボキシ
レート、2−ニトロフルオレン、2−ジベンゾイルメチ
レン−3−メチルナフトチアゾリン、3,3−カルボニ
ル−ビス(7−ジニチルアミノクマリン)、2,4゜6
−ドリフ二二ルチアビリリウムバークロレート、2−(
P−クロルベンゾイル)ナフトチアゾール、などをあげ
ることが出来る。これらの増悪剤の添加量は全組成物の
約1〜約20重量%、より好ましくは3〜10重量%が
適当である。
ベンゾフェノン、ベンズアンスロン、(3−メチル−1
,3−ジアザ−1,9−ベンズ)アンスロンピクラミド
、5−ニトロアセナフテン、2−クロルチオキサントン
、2−イソプロピルチオキサントン、ジメチルチオキサ
ントン、メチルチオキサントン−1−エチルカルボキシ
レート、2−ニトロフルオレン、2−ジベンゾイルメチ
レン−3−メチルナフトチアゾリン、3,3−カルボニ
ル−ビス(7−ジニチルアミノクマリン)、2,4゜6
−ドリフ二二ルチアビリリウムバークロレート、2−(
P−クロルベンゾイル)ナフトチアゾール、などをあげ
ることが出来る。これらの増悪剤の添加量は全組成物の
約1〜約20重量%、より好ましくは3〜10重量%が
適当である。
以上の他に、必要に応じてネガ作用を存するジアゾ樹脂
を加えることも出来る。このようなジアソ′樹珂旨とし
ては4−ジアゾ−ジフェニルアミン、1−ジアゾ−4−
N、N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N
、N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−
エチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N−メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−ベンゾ
イルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、 N−ジメチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン
、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−p−)リルメ
ルカブトベンゼン、1−ジアゾ−2−二トキシ−4−N
、N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ−ジメチル
アニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モル
フォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−
4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2゜5−ジメ
トキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアシー2,
5−ジェトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジア
ゾ−2,5−ジェトキシ−4−p−ト!Jルメルカブト
ベンゼン、l−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル
−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロ
ロ−4−N、 N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジア
ゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼン、l−ジアゾ
−2−クロロ−4−N、N−ジメチルアミノ−5−メト
キシベンゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリ
ジノベンゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルア
ミン、3−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
− (n−プロポキシ)−4−ジアゾフェニルアミン、
3−イソプロポキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのよ
うなジアゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イ
ソブチルアルデヒド、又はベンズアルデヒドのような縮
合剤をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1
:0.8〜1:0.6とし、これを通常の方法で縮合し
て得られた縮合物と陰イオンとの反応生成物が挙げられ
る。陰イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化燐酸
、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ
オルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、
2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2.4.6−ド
デシルベンゼンスルホン酸、?−二トロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−フルオロカフ’ IJルナフタレ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフ
トール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキ
シ−5−ペンソイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラト
ルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中
でも特に六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸や2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごと
きアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
を加えることも出来る。このようなジアソ′樹珂旨とし
ては4−ジアゾ−ジフェニルアミン、1−ジアゾ−4−
N、N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N
、N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−
エチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N−メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−ベンゾ
イルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、 N−ジメチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン
、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−p−)リルメ
ルカブトベンゼン、1−ジアゾ−2−二トキシ−4−N
、N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ−ジメチル
アニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モル
フォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−
4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2゜5−ジメ
トキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアシー2,
5−ジェトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジア
ゾ−2,5−ジェトキシ−4−p−ト!Jルメルカブト
ベンゼン、l−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル
−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロ
ロ−4−N、 N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジア
ゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼン、l−ジアゾ
−2−クロロ−4−N、N−ジメチルアミノ−5−メト
キシベンゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリ
ジノベンゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルア
ミン、3−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
− (n−プロポキシ)−4−ジアゾフェニルアミン、
3−イソプロポキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのよ
うなジアゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イ
ソブチルアルデヒド、又はベンズアルデヒドのような縮
合剤をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1
:0.8〜1:0.6とし、これを通常の方法で縮合し
て得られた縮合物と陰イオンとの反応生成物が挙げられ
る。陰イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化燐酸
、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ
オルト−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、
2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2.4.6−ド
デシルベンゼンスルホン酸、?−二トロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−フルオロカフ’ IJルナフタレ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフ
トール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキ
シ−5−ペンソイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラト
ルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中
でも特に六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸や2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごと
きアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
これらジアゾ樹脂の全組成物に対する添加量は0.1〜
1.5重量%が好ましく、より好ましくは0.3〜5重
量%が適当である。
1.5重量%が好ましく、より好ましくは0.3〜5重
量%が適当である。
本発明の組成物中には、本発明の高分子化合物の他に、
フェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ホリヒド
ロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等
、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させるこ
とができる。
フェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ホリヒド
ロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等
、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させるこ
とができる。
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70
重量%以下の添加量で用いられる。
重量%以下の添加量で用いられる。
以上の他に感光性組成物には更に熱重合防止剤を加えて
おくことが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メト
キシフェノーノペジーt−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガローノペ t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4.4’ −チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2゜2′−メチレンビス(4−メチル−6
−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミ
ダゾール等が有用であり、また場合によっては感光層の
着色を目的にして染料もしくは顔料や焼出剤としてpH
指示薬等を添加することもできる。
おくことが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メト
キシフェノーノペジーt−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガローノペ t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4.4’ −チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2゜2′−メチレンビス(4−メチル−6
−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミ
ダゾール等が有用であり、また場合によっては感光層の
着色を目的にして染料もしくは顔料や焼出剤としてpH
指示薬等を添加することもできる。
焼出し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化
合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙
げることができる。
合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙
げることができる。
更にジアゾ樹脂の安定化剤として、燐酸、亜燐酸、酒石
酸、クエン酸、リンゴ酸、ジピコリン酸、多核芳香族ス
ルホン酸及びその塩、スルホサリチル酸等を必要に応じ
て添加することができる。
酸、クエン酸、リンゴ酸、ジピコリン酸、多核芳香族ス
ルホン酸及びその塩、スルホサリチル酸等を必要に応じ
て添加することができる。
また本発明の感光性組成物は可塑剤などを含んでいても
よい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジブチル
フタレートなどフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエ
チレングリコールアルキルエステル、リン酸エステル系
の可塑剤などを使用することができる。
よい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジブチル
フタレートなどフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエ
チレングリコールアルキルエステル、リン酸エステル系
の可塑剤などを使用することができる。
上述のごとき感光性組成物を、例えば、2−メトキシエ
タノール、2−メトキシエチルアセテート、フロピレン
ゲリコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパツ
ール、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチル
ケトン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルオキシド、エチレンジ
クロライドなどの適当な溶剤の単独又はこれらを適当に
組合せた混合溶媒に溶解して支持体上に塗設する。
タノール、2−メトキシエチルアセテート、フロピレン
ゲリコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパツ
ール、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチル
ケトン、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルオキシド、エチレンジ
クロライドなどの適当な溶剤の単独又はこれらを適当に
組合せた混合溶媒に溶解して支持体上に塗設する。
その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m”〜約10
g/m’の範囲が適当であり、好ましくは0.5〜5
g / m’であろう 本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
g/m’の範囲が適当であり、好ましくは0.5〜5
g / m’であろう 本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけいL 銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金、
@とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけいL 銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金、
@とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。
アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される。例え
ば、砂目立て処理、珪酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸
カリウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極
酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい
。また、米国特許第2、714.066号明細書に記載
されているように、砂目文てしたのち珪酸ナトリウム水
溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3.1
81.461号明細書に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸
等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以
上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極とし
て電流を流すことにより実施される。
ば、砂目立て処理、珪酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸
カリウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極
酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい
。また、米国特許第2、714.066号明細書に記載
されているように、砂目文てしたのち珪酸ナトリウム水
溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3.1
81.461号明細書に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸
等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以
上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極とし
て電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
又後者のためには水酸化す) IJクロム水酸化カリウ
ム等のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行わ
れている。
ム等のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行わ
れている。
砂目立て方法としては、機械的、化学的及び電気化学的
な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨
剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラ
シ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭54
−31187号公報に記載されているような鉱酸のアル
ミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、
電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組合せ
のような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。
な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨
剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラ
シ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭54
−31187号公報に記載されているような鉱酸のアル
ミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、
電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組合せ
のような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。
このような粗面化方法の内、特に特開昭55−1379
93号公報に記載されているような機械的粗面化と電気
化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支
持体への接着力が強いので好ましい。
93号公報に記載されているような機械的粗面化と電気
化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支
持体への接着力が強いので好ましい。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗及び化学的にエツチングされる。
応じて水洗及び化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸三
ナトリウム、燐酸二ナトリウム、燐酸三カリウム、燐酸
二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸、燐酸、
塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化
傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケ
ル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被膜を形成す
るから好ましくない。
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸三
ナトリウム、燐酸二ナトリウム、燐酸三カリウム、燐酸
二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸、燐酸、
塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化
傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケ
ル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被膜を形成す
るから好ましくない。
これ等のエツチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3〜40g/ゴになるように行わ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3〜40g/ゴになるように行わ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜10g/m
’の範囲となるように処理されることが好ましい。
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜10g/m
’の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、燐酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が
用いられる。
という特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、燐酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が
用いられる。
エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、燐酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベ
ンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み
合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流また
は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極
酸化被膜を形成させることができる。
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、燐酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベ
ンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み
合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流また
は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極
酸化被膜を形成させることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが、−船釣には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度
0.5〜60 A/da+” 、電圧1〜100V、電
解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
化するので一概には決定され得ないが、−船釣には電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度
0.5〜60 A/da+” 、電圧1〜100V、電
解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
これらの開極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1.
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3、511.
661号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3、511.
661号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2、714.066号及
び同第3.181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されているフ
ッ化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第4.153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2、714.066号及
び同第3.181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されているフ
ッ化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第4.153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。
更に、これらの処理の後に水溶液の樹脂、例えばポリア
クリル酸やスルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重
合体、その他、アルカリ性水溶液可溶性の低分子化合物
、トリエタノールアミンの塩や、アラニン化合物を下塗
りしたものも好適である。
クリル酸やスルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重
合体、その他、アルカリ性水溶液可溶性の低分子化合物
、トリエタノールアミンの塩や、アラニン化合物を下塗
りしたものも好適である。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対して
ネガのレリーフ像を与える。
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対して
ネガのレリーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ
、紫外線、レーデ光線などがあげられる。
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ
、紫外線、レーデ光線などがあげられる。
本発明の感光性組成物は、塗布、乾燥、画像露光後、水
性アルカリ現像液で現像する際の現像性に優れ、有機溶
剤および/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性ア
ルカリ現像液により現像した際、適正な現像性が得られ
、かつこれらの有機物を実質上台まない水性アルカリ現
像液により現像した際においても適正な現像性が得られ
る。
性アルカリ現像液で現像する際の現像性に優れ、有機溶
剤および/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性ア
ルカリ現像液により現像した際、適正な現像性が得られ
、かつこれらの有機物を実質上台まない水性アルカリ現
像液により現像した際においても適正な現像性が得られ
る。
さらに、印刷版として使用した際、非画像部に汚れを生
ずる事がなく、良好な印刷物が多数役得られる。
ずる事がなく、良好な印刷物が多数役得られる。
したがって、ポジ型平版印刷版の現像液として公知であ
る水性アルカリ現像液を用いて、ネガ型平版印刷版を現
像することが可能となり、ポジ型平版印刷版とネガ型平
版印刷版の両者を処理する場合に、それぞれに適合する
よう現像液組成物を調整したり、現像液組成物を取りか
えたり、予め2種の現像液組成物及び現像処理装置を用
意しておく等の手間を省くことが可能となり、作業効率
、設備費、配置スペース等が著しく改善される。
る水性アルカリ現像液を用いて、ネガ型平版印刷版を現
像することが可能となり、ポジ型平版印刷版とネガ型平
版印刷版の両者を処理する場合に、それぞれに適合する
よう現像液組成物を調整したり、現像液組成物を取りか
えたり、予め2種の現像液組成物及び現像処理装置を用
意しておく等の手間を省くことが可能となり、作業効率
、設備費、配置スペース等が著しく改善される。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明の内容がこれにより限定されるものではない。
発明の内容がこれにより限定されるものではない。
実施例
特開昭52−988号、特公昭49−28122号等に
記載の方法に準じ、第1表!こ示す本発明の高分子化合
物(a)〜(C)、(e)及び比較用の高分子化合物(
d)、(f)を合成した。
記載の方法に準じ、第1表!こ示す本発明の高分子化合
物(a)〜(C)、(e)及び比較用の高分子化合物(
d)、(f)を合成した。
次に厚さ0.30 mのアルミニウム板をナイロンブラ
シと400メツシニのバミストンの水懸濁液を用いその
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングし
た後、流水で水洗後20%HNO,で中和洗浄、水洗し
た。これをVa =12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クローン/
dm 2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
シと400メツシニのバミストンの水懸濁液を用いその
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングし
た後、流水で水洗後20%HNO,で中和洗浄、水洗し
た。これをVa =12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クローン/
dm 2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)
であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマット処理した後、20%H
2SO。
であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマット処理した後、20%H
2SO。
水溶液中、電流密度2A/dm”において厚さが2.7
g/rn’となるように2分間陽極酸化処理した。
g/rn’となるように2分間陽極酸化処理した。
以上の様にして得ちれたアルミニウム板jご次に示す感
光液〔A〕−1〜(A)−3をホイラーを用いて塗布し
、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.5g/m’
であった。
光液〔A〕−1〜(A)−3をホイラーを用いて塗布し
、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.5g/m’
であった。
なお、感光液(A”l−1〜CA)−3に用いた本発明
に用いる高分子化合物は第2表に示す。
に用いる高分子化合物は第2表に示す。
感光液CA E
次:こ比較例として、上記感光液中の本発明の高分子化
合物の代わりに比較用の高分子化合物(d)を用いた感
光液〔B〕を同様に塗布、乾燥した。
合物の代わりに比較用の高分子化合物(d)を用いた感
光液〔B〕を同様に塗布、乾燥した。
さらに次に示す感光液〔CDを同様に塗布、乾燥した。
感光液(C3
また比較例として上記感光液中の本発明の高分子化合物
(e)の代わりに比較用の高分子化合物(f)を用いた
感光液CD〕を同様に塗布、乾燥した。
(e)の代わりに比較用の高分子化合物(f)を用いた
感光液CD〕を同様に塗布、乾燥した。
感光液こA〕−1〜CA〕−3、及び〔B〕、〔CD、
(DEを用いて得られた各感光性平版印刷版〔A]−1
〜(A:]−3及び〔B)、〔CD、〔D〕を、それぞ
れ富士写真フィルム側製PSライトで1mの距離から1
分間画像露光し、次に示す現像液にそれぞれ室温で1分
間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽くこすった。
(DEを用いて得られた各感光性平版印刷版〔A]−1
〜(A:]−3及び〔B)、〔CD、〔D〕を、それぞ
れ富士写真フィルム側製PSライトで1mの距離から1
分間画像露光し、次に示す現像液にそれぞれ室温で1分
間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽くこすった。
現像液
本発明の高分子化合物を用いた平版印刷版〔、へ〕−1
〜CA)−3及び〔CDはすべて汚れを発生しなかった
が比較用の高分子化合物を用いた平版印刷版CB”l及
びCD〕では汚れが発生した。
〜CA)−3及び〔CDはすべて汚れを発生しなかった
が比較用の高分子化合物を用いた平版印刷版CB”l及
びCD〕では汚れが発生した。
第2表
このようにして得られた各印刷版をハイデルベルグ社製
GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキを用いて上質
紙に印刷した。
GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキを用いて上質
紙に印刷した。
この際、紙上に発生する非画像部の汚れを目視にて判定
した。くO:汚れなし、△:汚れあり、×:ひどい汚れ
あり) 結果を第2表に示す。
した。くO:汚れなし、△:汚れあり、×:ひどい汚れ
あり) 結果を第2表に示す。
Claims (1)
- 光架橋性基及びP−OH結合を有する官能基を有する高
分子化合物を含有する事を特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1108290A JP2639728B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 感光性平版印刷版 |
US07/819,581 US5240808A (en) | 1989-04-27 | 1992-01-08 | Light-sensitive compositions containing photosensitive polymeric compound having both photocross-linkable groups capable of cycloaddition, and functional groups carrying P--OH bonds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1108290A JP2639728B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02285353A true JPH02285353A (ja) | 1990-11-22 |
JP2639728B2 JP2639728B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=14480925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1108290A Expired - Fee Related JP2639728B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2639728B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580512A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57192461A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-26 | Toyobo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS60175044A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Toyobo Co Ltd | リスフィルム用感光性組成物 |
JPS61246742A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-11-04 | 日本ペイント株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPS63161447A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | Nippon Foil Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS63218945A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP1108290A patent/JP2639728B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57192461A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-26 | Toyobo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS60175044A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Toyobo Co Ltd | リスフィルム用感光性組成物 |
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JPH0580512A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
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Publication number | Publication date |
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JP2639728B2 (ja) | 1997-08-13 |
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