JPH0348730Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0348730Y2
JPH0348730Y2 JP1985107827U JP10782785U JPH0348730Y2 JP H0348730 Y2 JPH0348730 Y2 JP H0348730Y2 JP 1985107827 U JP1985107827 U JP 1985107827U JP 10782785 U JP10782785 U JP 10782785U JP H0348730 Y2 JPH0348730 Y2 JP H0348730Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
recording layer
protrusions
optical recording
recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1985107827U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6218829U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1985107827U priority Critical patent/JPH0348730Y2/ja
Publication of JPS6218829U publication Critical patent/JPS6218829U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0348730Y2 publication Critical patent/JPH0348730Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 考案の背景 技術分野 本考案は、光記録デイスク、特にヒートモード
の光記録デイスクに関する。
先行技術とその問題点 情報記録媒体、特に光を利用した光記録デイス
クや光磁気デイスクは、媒体と書き込みないし読
み出しヘツドが非接触であるので、記録デイスク
が摩耗劣化しないという特徴をもち、このため
種々の研究開発が行われている。
これらのうち、ヒートモードの光記録デイスク
は、記録光を熱として利用する光記録デイスクで
あり、その一例として、レーザー等の記録光で媒
体の一部を融解、除去等して、ピツトと称される
小穴を形成して書き込みを行い、このピツトによ
り情報を記録し、このピツトを読み出し光で検出
して読み出しを行うピツト形成タイプのものがあ
る。
このような光記録媒体では、S/N比および感
度を向上させるため、記録層を空隙をもつて封止
することが好ましい。
例えば、片面記録の場合には、樹脂製の透明基
板上に記録層を有する光記録部分と、剛性の保護
板とを用い、これを記録層が所定の空隙を介して
対向するように一体化するものである。
このような構造をより軽量・コンパクトにする
ためには、保護板を保護フイルム膜とすることが
考えられる。
保護フイルム膜を一体化させるには、外周部お
よび内周部にスペーサーとしての樹脂製のリング
状の連結部材を介在させ、これと光記録部分の基
板および保護フイルム膜とを接着ないし融着する
ことによつて行えばよい。
しかし、このような構造ではスペーサーを接着
ないし融着するので、強度的に十分でないという
欠点がある。
また、スペーサーを接着する際に、スペーサー
両面に接着剤を塗布する点、あるいは基板、保護
フイルム膜およびスペーサーの3部品を位置あわ
せする点等で作業性が悪い。
また、スペーサーを融着する際にも、効率が悪
いという欠点がある。
考案の目的 本考案の目的は、デイスク状の基板上に記録層
を有する光記録部分に保護フイルム膜を、空隙を
もつて記録層が封止されるように一体化した光記
録デイスクにおいて、使用時における良好なダイ
ナミツクバランスが得られ、組み立て時や、組み
立て後に記録層の損傷が防止され、組み立て・一
体化が迅速かつ容易であり、格段と生産性の向上
した片面記録の光記録デイスクを提供することに
ある。
考案の開示 このような目的は、下記の本考案によつて達成
される。
すなわち、本考案は中央に孔部を有するデイス
ク状の基板上に記録層を有する光記録部分に、空
隙を介して記録層が覆われるように保護フイルム
膜を一体化した光記録デイスクにおいて、 前記保護フイルム膜のほぼ全域に複数の突起を
散点状に分散して配設し、外周部および内周部の
突起を介して、デイスク状基板と保護フイルム膜
とを融着一体化したことを特徴とする光記録デイ
スクである。
考案の具体的構成 以下、本考案の具体的構成について詳細に説明
する。
本考案の光記録デイスク1は、第1図に示され
るように、デイスク状の基板3上に、記録層4を
有する光記録部分2と、保護フイルム膜基部6に
突起7を設けた保護フイルム膜5とを有する。
用いる基板3は、中央に、全体として平坦な面
をもち、回転軸が嵌入する孔部を有するデイスク
状をなす。書き込み光および読み出し光に対し、
実質的に透明(好ましくは透過率80%以上)な樹
脂からなる。これにより、基板裏面側からの書き
込みおよび読み出しが可能となる。
なお、用いる樹脂材質としては、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロン、エポキシ
樹脂等いずれであつてもよい。
一方、保護フイルム膜5は、中央に、回転軸が
嵌入する孔部を有し、基板3の直径とほぼ等しい
直径を有する保護フイルム膜基部6と複数の突起
7とを有している。
用いる保護フイルム膜基部6は、平坦な形状を
なす外周部61、内周62と、記録層4に対し通
常凹状形状をなす記録層対向面65とを有してい
る。
この場合、外周部61の径方向の巾は1.0〜10
mm程度、内周部62の径方向の巾は5.0〜25mm程
度である。また、保護フイルム膜5の厚さは0.1
〜0.8mm程度である。
このような保護フイルム膜5は、第1図に示さ
れるように、保護フイルム膜基部6の外周部6
1、内周部62、および記録層対向面65の保護
フイルム膜基部6のほぼ全域に複数の突起7を有
している。
そして、この突起7は保護フイルム膜基部6に
対し、ほぼ垂直に伸びている。
本考案における突起の形状の例としては、例え
ば円柱形状や第1図に示されるような円錐形状等
があるが、特にこの突起形状についての制限はな
く、例えば三角柱、四角柱などの多角柱、または
三角錐、四角錐などの多角錐であつてもよい。ま
た特に、一種の形状に限定する必要はなく、これ
らの数種の形状を組み合わせたもの、例えば三角
柱、四角柱、三角錐などを組み合わせて配置して
もよいが、本考案においては同一形状の突起を用
いることが好ましい。
このような突起7の径は0.2〜1mm程度とする。
また、その高さは0.2〜1mm程度とする。
複数の突起7の保護フイルム膜基部6の外周部
61、内周部62、および記録層対向面65上へ
の配置の例としては、第2図に示されるように、
保護フイルム膜基部6の全域にわたつてほぼ均一
に分散配設してもよい。
また、第3図に示されるように、保護フイルム
膜基部6の中心から放射線状に配設してもよく、
あるいは、同心円状、列状等に配設してもよい。
なお、円周方向に疎密をもたせる場合は、使用時
のダイナミツクバランスを考慮し、周期的に配設
することが好ましい。
このような突起は、通常いわゆるエンボス加工
等によつて形成する。
あるいは、保護フイルム膜成型時に一体成形す
ればよい。
この保護フイルム膜5は、透明あるいは不透明
いずれの樹脂であつてよい。
用いる樹脂材質としては、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ナイロン、エポキシ樹脂、塩
化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂等いずれであつ
てもよい。
また、保護フイルム膜基部6の形状は、第1図
に示されるように、外周部61、内周部62と記
録層対向面65が一連のなだらかな曲面をもつて
連なつた凸状の形状をなしてよい。また、外周部
61、内周部62と記録層対向面65が折れ曲が
り段差をもつて連接する凸状形状をなしてもよ
い。
このような形状によつて、記録層4上に空隙が
確保される。そして、保護フイルム膜が押圧され
ても、接触するのは突起7先端部であり、フイル
ム膜の膜面が記録層4とすれ合うことがないので
記録層の損傷が格段と少なくなる。
このような保護フイルム膜5の形状は、保護フ
イルム膜成形時ないし成形後に形成すればよい。
あるいは、保護フイルム膜基部6が可とう性のデ
イスク状である保護フイルム膜5を、吸引した状
態で、基板3と固定一体化し、保護フイルム膜5
に上述の形状を形成してもよい。
なお、本発明では、保護フイルム膜基部6のほ
ぼ全域に突起を形成するので、保護フイルム膜5
は、必ずしも凸状に形成しなくても、記録層とに
空隙を形成することができる。このとき、記録層
4は、突起先端とのみ接触するので、損傷を受け
ることがない。
このような、外周部61、内周部62の突起7
を介しての基板3と保護フイルム膜5との一体化
は、一般に超音波融着を用いればよい。
超音波融着を施す場合には、突起7が有効に加
熱され、融着効率が良好で、作業性が良好とな
り、また接着強度も高く、空隙間隔も精度よく制
御することができる。
この場合、特開昭58−194153号公報第10図等
には、断面三角形の円弧状の突起を同心円上に設
けて融着を行なう旨が開示されているが、このよ
うな円弧状の突起では、本発明の突起と比較し
て、同一の融着条件では接着強度が低下し、また
同一の接着強度を得ようとすると、融着の際の加
圧圧力や投入パワーを増大させなければならな
い。この結果、上記公報の突起を設けるときには
0.5°程度の基板のソリが生じる場合であつても、
本発明の突起を用いれば、それと同一条件で融着
にも、基板のソリを0.2°以内に抑えることがで
き、しかもより高い接着強度を得ることができ
る。
このような超音波融着を用いる場合には、突起
7は、通常、各種変形を伴なう。
変形が大きく、突起配設密度が高いときには、
気密な外周壁が全面に形成されることがある。
また、通気口を形成することもできる。通気口
は、突起間間隙に形成される。
また、固着は、接着剤の注入を併用することに
よつても行われる。
接着剤を注入するときには、突起間隙に注入す
るので、接着剤は毛管現象により間隙全体に均一
に充填され、接着剤のはみだしがなく、仕上りが
良好となる。また、記録層を損傷することもな
い。そして、機械的強度もきわめて高い。
この場合も、必要に応じ、接着剤を全面に注入
すれば、気密な外周壁が全面に形成される。
あるいは、接着剤を所望の部分のみ注入し、通
気口をのこしてもよい。
また、基板の周縁部にホツトメルト樹脂を接着
剤として塗布し、その後、両基板を組み合わせ超
音波融着を施した、いわゆる接着と融着との組み
合わせを用いて一体化してもよい。
なお、強度的な問題から、外周部61、内周部
62の突起7の個数はそれぞれ100〜2000程度と
する。
また、外周部および/または内周部の突起7の
間隙にて形成してもよい通気口は、総計0.01〜
100mm2程度とする。
このようにして、保護フイルム上に複数の突起
を設け、突起間間隙にて外部と内部を連通させれ
ば、圧力差による基板の歪の発生を防止すること
ができる。
また、外周部および/または内周部の突起7等
に近接して、ホコリやチリの影響を防止するため
のフイルターを配置してもよい。
基板3の記録層4形成面には、トラツキング用
の溝が形成されることが好ましい。 溝の深さ
は、λ/8n程度、特にλ/7n〜λ/12n(ここに、
nは基板の屈折率である)とされる。また、溝の
巾は、トラツク巾程度とされる。
そして、この溝の凹部に位置する記録層4を記
録トラツク部として、書き込み光および読み出し
光を基板裏面側から照射することが好ましい。
このように構成することにより、書き込み感度
と読み出しのS/N比が向上し、しかもトラツキ
ングの制御信号は大きくなる。
本考案の記録層としては、種々のものであつて
よい。ただ、本考案では、色素単独からなるか、
色素組成物からなることが好ましい。
用いる色素としては、書き込み光および読み出
し光の波長に応じ、これを有効に吸収するものの
なかから、適宜決定すればよい。この場合、これ
らの光源としては、装置を小型できる点で、半導
体レーザーを用いることが好ましいので、色素は
シアニン系、フタロシアニン系、アントラキノン
系、アゾ系、トリフエニルメタン系、ピリリウム
ないしチアピリリウム塩系等が好ましい。
また、色素組成物を記録層とする場合、ニトロ
セルロース等の自己酸化性の樹脂やポリスチレ
ン、ナイロン等の熱可塑性樹脂を含有させること
ができる。また、色素の酸化劣化を防止するた
め、クエンチヤーを含有させることもできる。さ
らには、この他の添加剤を含有させてもよい。
このような場合、特に好ましくは、インドレニ
ン系のシアニン色素とビスフエニルジチオール系
等のクエンチヤーとの混合物が好ましい。
またこれらを色素のカチオンと、クエンチヤー
のアニオンとのイオン結合体として用いるのも好
ましい。
記録層の設層は、ケトン系、エステル系、エー
テル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アル
コール系等の溶媒を用いてスピンナーコート等の
塗布を行えばよい。
このような記録層4は、0.01〜10μmの厚さと
すればよく、特に0.05〜0.1μmの厚さとすること
が好ましい。
なお、記録層の塗布に際し、塗布溶液の粘度
は、0.5〜10cp、スピンナーの回転数は500〜
1000rpm程度とする。
なお、前述のようにトラツキング制御用の溝を
設ける場合、記録層における記録トラツク部の厚
さは、0.2μm以下、より好ましくは0.05〜15μmと
することが好ましい。
このとき、書き込み感度が向上する。また、記
録層中での多重反射により、反射率がきわめて高
くなり、読み出しのS/N比がきわめて高くな
る。そして、記録トラツク部と他の領域との厚さ
の差にもとづく反射率のちがいが大きくなり、ト
ラツキング制御が容易となる。
このような光記録部分には、記録層の上層、あ
るいは下地層を設層することもできる。
考案の具体的作用 本考案の光デイスクは回転下、書き込み光を基
板裏面側から照射する。これにより、好ましくは
溝凹部に位置する記録トラツク部にピツトがトラ
ツク状に形成される。
このように形成されたピツトは、回転下、基板
裏面側から読み出し光を照射して、その反射光を
検出することによつて検知される。
また、トラツキングの制御を行うには、通常、
書き込みおよび読み出しを行いながら、その反射
光を分割して、2分割した一対のセンサーに導入
する。このとき、ピームスポツトが記録トラツク
部をはずれかけると、溝の段差で位相差による干
渉効果による一次光が一方のセンサー側にかたよ
るので、両センサーの信号を検出して、トラツク
エラー信号が検出される。
なお、記録層を熱可塑性樹脂を含む色素組成物
から形成すれば、一旦形成したピツトを、光また
は熱によつて消去して、再び書き込みを行うこと
ができる。
また、書き込みおよび読み出しに用いる光源と
しては、各種レーザーを用いることができるが、
特に半導体レーザーを用いることが好ましい。
考案の具体的効果 本考案では、保護フイルム膜に突起を設けて一
体形成するために、部品点数を減らすことがで
き、組み立て・一体化が迅速かつ容易となる。し
かも、デイスクが小型・軽量化する。
そして、生産性は格段と向上し、一層の製造コ
ストの低減がはかられる。さらに、使用時におけ
る良好なダイナミツクバランスが得られる。
また、本考案によれば、突起を用いて、これを
超音波融着するので、強度が高く、かつ製造上も
有利である。
そして、接着時や、組み立て後に生じる記録層
の損傷が減少する。
また、これらにおいて、通気口もきわめて容易
に形成することができる。
このときには、空隙内部と外部の気圧が等しく
なることで、基板の歪による変形を防止し、良好
な記録または再生を可能とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の光記録デイスクを示す分解
断面図である。第2図および第3図は、本考案の
光記録デイスクの保護フイルム膜のそれぞれ異な
る例を示す平面図である。 符号の説明、1…光記録デイスク、2…光記録
部分、3…基板、4…記録層、5…保護フイルム
膜、6…保護フイルム膜基部、61…外周部、6
2…内周部、65…記録層対向面、7…突起。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 中央に孔部を有するデイスク状の基板上に記
    録層を有する光記録部分に、空隙を介して記録
    層が覆われるように保護フイルム膜を一体化し
    た光記録デイスクにおいて、 前記保護フイルム膜のほぼ全域に複数の突起
    を散点状に分散して配設し、外周部および内周
    部の突起を介して、デイスク状基板と保護フイ
    ルム膜とを融着一体化したことを特徴とする光
    記録デイスク。 (2) 外周部の融着部の突起間に、外部と内部が連
    通する通気口が形成されるている請求項1に記
    載の光記録デイスク。
JP1985107827U 1985-07-15 1985-07-15 Expired JPH0348730Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1985107827U JPH0348730Y2 (ja) 1985-07-15 1985-07-15

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1985107827U JPH0348730Y2 (ja) 1985-07-15 1985-07-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6218829U JPS6218829U (ja) 1987-02-04
JPH0348730Y2 true JPH0348730Y2 (ja) 1991-10-17

Family

ID=30984462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1985107827U Expired JPH0348730Y2 (ja) 1985-07-15 1985-07-15

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0348730Y2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58171735A (ja) * 1982-03-23 1983-10-08 トムソン−セエスエフ 可撓性の封止部材を含む保護されたオプチカルデイスク並びに再生及び/又は記録装置
JPS58194153A (ja) * 1982-04-27 1983-11-12 トムソン−セエスエフ 保護された光学ディスク
JPS5853919B2 (ja) * 1975-02-07 1983-12-01 科研製薬株式会社 シンコウセイブツシツ c20−12 ノセイホウ

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5853919U (ja) * 1981-10-09 1983-04-12 日亜精密工業株式会社 プラスチツク製ベアリング

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5853919B2 (ja) * 1975-02-07 1983-12-01 科研製薬株式会社 シンコウセイブツシツ c20−12 ノセイホウ
JPS58171735A (ja) * 1982-03-23 1983-10-08 トムソン−セエスエフ 可撓性の封止部材を含む保護されたオプチカルデイスク並びに再生及び/又は記録装置
JPS58194153A (ja) * 1982-04-27 1983-11-12 トムソン−セエスエフ 保護された光学ディスク

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6218829U (ja) 1987-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59177745A (ja) 記録板表装複合体
JPH0348730Y2 (ja)
JPH0379771B2 (ja)
JPH0359494B2 (ja)
JPH0325296Y2 (ja)
JPS6323237A (ja) 光記録デイスク
JPH0610493Y2 (ja) 光記録デイスク
JPS6325855A (ja) 光記録デイスク
JPH0325295Y2 (ja)
JPH0644360B2 (ja) 光記録デイスク
JPS63117346A (ja) 光記録デイスク
JPS6243846A (ja) 光記録デイスク
JPS6182345A (ja) 光記録デイスク
JPS6325850A (ja) 光記録デイスク
JPH0345283Y2 (ja)
JPS6180633A (ja) 光記録デイスク
JPS61107548A (ja) 光記録デイスク
JPH0644358B2 (ja) 光記録デイスク
JPS62209744A (ja) 光記録デイスク
JPS6326849A (ja) 光記録デイスク
JPS63117345A (ja) 光記録デイスク
JPS6326851A (ja) 光記録デイスク
JPH0433555Y2 (ja)
JPS63166048A (ja) 光記録デイスク
JPH0724119B2 (ja) 光記録ディスクの製造方法