JPH03196543A - ウエハハンドリング装置 - Google Patents

ウエハハンドリング装置

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JPH03196543A
JPH03196543A JP1337984A JP33798489A JPH03196543A JP H03196543 A JPH03196543 A JP H03196543A JP 1337984 A JP1337984 A JP 1337984A JP 33798489 A JP33798489 A JP 33798489A JP H03196543 A JPH03196543 A JP H03196543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
horizontal state
holder
handling device
vertical movement
Prior art date
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Pending
Application number
JP1337984A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriki Iwasaki
岩崎 範樹
Katsunobu Mori
勝信 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Publication of JPH03196543A publication Critical patent/JPH03196543A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体装置の製造工程におけるウェハの薬液
処理において、ウェハを1枚ずつ薬液処理する際に用い
られるウェハハンドリング装置に関する。
〈従来の技術〉 半導体装置の製造工程には、半導体装置の原材料たるウ
ェハ10を薬液に浸漬する作業がある。当該作業のなか
には、ウェハ10を1枚ずつ水平状態で浸漬しなければ
ならないものもある。
複数枚のウェハ10を同時に浸漬したり、1枚のウェハ
10を傾けて浸漬したりする簡便な機械器具はあるが、
ウェハ10を1枚ずつ、しかも水平状態で浸漬するため
の簡便な機械器具はなかった。
従って、かかる作業は、第9図に示すような針金を折曲
した治具20で行っている。当該治具20は。
ウェハ10 (二点鎖線で示している)より若干率さい
輪部21と、この輪部21に連結した把手部22とから
なり、ウェハ10を輪部21に載置して、薬液に浸漬す
るのである。
〈発明が解決しようとする課題〉 かかる治具による作業は、すべて手作業で行われるので
作業性に劣るとともに、正確な作業を行うことが難しい
例えば、ウェハを常に水平に保持することが難しいので
、薬液浸漬後にウェハの表面に形成される薬液の膜厚に
バラツキが生ずる。また、ウェハを薬液に浸漬している
時間や、薬液から取り出した後の放置時間は、タイマー
等で計測しているとはいえ作業者によって若干のバラツ
キが生ずる。
これらのバラツキは、製造される半導体装置の品質の低
下を招くとともに、歩留り向上の障害となっている。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、ウェハを
1枚ずつ、水平状態で薬液に浸漬することができ、しか
も簡便なウェハハンドリング装置を提供することを目的
としている。
〈課題を解決するための手段〉 本発明に係るウェハハンドリング装置は、1枚のウェハ
を水平に保持するウェハ保持部と、このウェハ保持部に
保持されたウェハを水平状態のまま上下動させるウェハ
上下動機構と、当該ウェハを水平状態のまま横移動させ
るウェハ横移動機構と、当該ウェハを水平状態から傾け
るウェハ傾斜機構とを有している。
〈作用〉 ウェハを保持したウェハ保持部をウェハ上下動機構で上
昇させる。さらに、この状態を維持したままで、ウェハ
横移動機構でウェハ保持部を横方向に移動させる。そし
て、ウェハを降下させて薬液に浸漬する。所定の時間が
経過したならば、ウェハを薬液から引き揚げ、ウェハ傾
斜機構でウェハを傾けてウェハ上の薬液を振り落とす。
〈実施例〉 以下、図面を参照して本発明に係る一実施例を説明する
第1図は本発明の第1実施例に係るウェハハンドリング
装置の概略的斜視図、第2図はこのウェハハンドリング
装置の側面図、第3図はこのウェハハンドリング装置の
背面図、第4図はこのウェハハンドリング装置の平面図
、第5図は第2実施例に係るウェハハンドリング装置の
概略的斜視図、第6図はこのウェハハンドリング装置の
側面図、第7図はこのウェハハンドリング装置の背面図
、第8図はこのウェハハンドリング装置の平面図である
第1実施例に係るウェハハンドリング装置は、手動によ
ってウェハ10を移送するように構成されている。かか
るウェハハンドリング装置は、ウェハ保持部30と、ウ
ェハ保持部30を上下動させるウェハ上下動機構40と
、ウェハ保持部30を横方向に移動させるウェハ横移動
機構50と、ウェハ10を傾けるウェハ傾斜機構60と
を有している。
薬液処理が施されるウェハ10を保持するウェハ保持部
30は、ウェハ10を水平状態で保持する略コ字形状の
ウェハホルダ3Iと、このウェハホルダ31に取り付け
られた略り字形状の一対の連結棒32と、この連結棒3
2を挟み込む挟持部34とから構成されている。ウェハ
ホルダ31の内周面にウェハ10の厚みに対応した溝3
11が形成されており、この溝311にウェハ10が挟
持保持される。なお、図面中33は補強部材を示してい
る。
前記ウェハ保持部30を上下動さ廿るウェハ上下動機構
40は、基台70に立設された一対のガイドボール41
と、このガイドボール41に沿って上下動自在になった
昇降台42と、この昇降台42を上下動させる上下動用
ハンドル43とから構成されており、ウェハ保持部30
は後述する上部台51、下部台422等を介して昇降台
42に取り付けられている。
前記一対のガイドボール41の先端には、横板411が
架は渡されており、この横板411にはマグネット41
1aが設けられている。当該マグネット411aは、後
述するウェハ横移動機構50によって横方向に移動させ
られたウェハ保持部3oをその状態で保持するために上
部台51を吸着保持するものである。
基台70には、前記ガイドボール41の他に、上下動用
ハンドル43を支持する長凸字形状の支持台71が設け
られている。この支持台71に支持される上下動用ハン
ドル43は、操作時に握る把持部431が先端に設けら
れた第1アーム432と、この第1アーム432に直交
する方向に延びた第2アーム433と、両アーム432
.433を連結する連結軸434と、第2アーム433
の先端に設けられるカムフォロワ435とから構成され
ている。なお、図面中711は上下動用ハンドル43の
回動を規制するストッパ、72はゴム足をそれぞれ示し
ている。
前記昇降台42の側面には、前記カムフォロワ435が
嵌まり込む凹レール421が横向きに取り付けられてい
る。従って、上下動用ハンドル43を連結軸434を中
心として第3図に示す矢印A方向に回転させると、昇降
台42はガイドポール41に沿って上昇する。なお、昇
降台42は、上下動用ハンドル43の第1アーム432
に設けられたビン432aと基台70との間に架は渡さ
れたスプリング436によって常時下向きに引っ張られ
ている。
また、昇降台42の側面には、上向きの下部台422が
連設されている。なお、当該下部台422の側面にはマ
グネッ) 422aがアングル422bで取り付けられ
ている。このマグネット422aは、上部台51に設け
られた金属プレート511に吸着する。すなわち、マグ
ネット422aと金属プレート511 との吸着によっ
て上部台51がウェハ横移動機構50によって移動され
る以前の位置を保持するのである。
ウェハ保持部30に保持されたウェハ10を横方向に移
動させるウェハ横移動機構50は、前記下部台422の
上部に設けられた側面視略り字形状の上部台51と、前
記挟持部34を上部台51に連結するヒンジ52と、上
部台51を貫通して下部台422に軸支される支軸53
と、前記挟持部34の上面に設けられたレバー54とか
ら構成されている。なお、支軸53の先端には、雌ネジ
531が螺合されて、上部台51が支軸53から抜けな
いようになっている。
すなわち、ウェハ保持部30は支軸53を中心として回
転自在になっているので、ウェハ保持部30に保持され
たウェハ10は、水平状態を保持したまま同一平面内で
横方向に移動可能になっているのである。この横方向の
移動は、レバー54でもってけり。
また、ウェハ10を傾けるウェハ傾斜機構60は、前記
ヒンジ52と、挟持部34の下面に設けられたビン34
1と上部台51の側面に設けられたビン511 との間
に架は渡されたスプリング61と、上部台51の側面に
取り付けられたストッパ62とから構成されている。ス
トッパ62は、ウェハlOが水平になる位置に挟持部3
4を留め、スプリング61は挟持部34をストッパ62
側に常時引っ張っている。レバー54を第2図に示す矢
印B方向に上向かせることによって、ウェハ10は二点
鎖線で示したように傾斜する。
次に、このようなウェハハンドリング装置の使用手順に
ついて説明する。
ウェハ保持部30にウェハ10を保持させる。そして、
上下動用ハンドル43でウェハ保持部30を上昇させる
。さらに、この状態を維持したままで、レバー54でウ
ェハ保持部30を横方向に90度、すなわち第4図に示
すような位置に移動させる。これで、ウェハ10は、薬
液が入ったビーカーの上方に位置する。そして、ウェハ
10を下降させてウェハlOを薬液に浸漬する。浸漬後
、所定の時間が経過したならば、ウェハ上下動機構40
でウェハ10を薬液から引き揚げ、ウェハ傾斜機構60
のレバー54でヒンジ52を中心として第2図に示すよ
うに傾けてウェハlO上の薬液を振り落とす。
次に、第2実施例に係るウェハハンドリング装置につい
て説明する。
このウェハハンドリング装置は、第1実施例が手動であ
ったのに対して駆動源としてエアシリンダを用いている
が、その基本的な構造は第1実施例のものと同一である
。なお、第1実施例のものと路間−の作用を果たす部分
には同一の図番を付して説明を行う。
このウェハハンドリング装置に用いられるエアシリンダ
は、図外の制御部で制御されるようになっている。
ウェハ保持部30は、第1実施例のウェハハンドリング
装置のものと略同様であるが、後述する昇降部46に揺
動自在に取り付けられている。
ウェハ上下動機構40としては、軸受44を介して基台
70に立設されたスプライン45と、このスプライン4
5に沿って上下動する昇降部46と、この昇降部46を
上下動させる上下動用シリンダ47と、この上下動用シ
リンダ47と前記昇降部46とを連結する側面視略クラ
ンク形状の連結板48とを有している。
また、基台70には一対のガイドポール41が立設され
ており、このガイドポール41に沿って前記連結板4日
に繋がれた昇降台42が昇降自在になっている。
昇降部46は平面視略凹字形状を呈しており、凹んだ部
分に前記ウェハ保持部30が揺動自在に取り付けられる
。なお、前記スプライン45の上端は、軸受49によっ
て支持されている。従って、当該スプライン45は回転
自在になっている。
ウェハ横移動機構50は、前記スプライン45の下端部
に取り付けられたピニオン55と、このピニオン55に
噛合するラック56と、このう・ツク56を横方向にス
ライドさせるラック用シリンダ57と、う・ツク56の
スライドを案内するう・ツク用ガイド58とから構成さ
れている。ラック56のスライドがピニオン55に伝達
されてスプライン45が回転し、このスプライン45に
取り付けられた昇降部46が回転する。
従って、昇降部46に取り付けられたウェハ保持部30
もスプライン45を中心として回転する。すなわち、こ
の回転でウェハ保持部30は横方向に移動することにな
る。
ウェハlOを傾けるウェハ傾斜機構60は、傾斜用シリ
ンダ63と、この傾斜用シリンダ63によって駆動され
るカムフォロワ64と、このカムフォロワ64の上下方
向の動きをガイドする一対の傾斜用ガイド65と、前記
カムフォロワ64によって作動させられるカム66とを
有している。カム66は、前記ウェハ保持部30を昇降
部46に取り付けた軸67に連結されているので、当該
カム66の動きは軸67を介してウェハ保持部30に伝
えられる。従って、傾斜用シリンダ63が作動すること
でウェハ保持部30は軸67を中心として傾斜し、ウェ
ハ10上に残留している薬液が振り落とされる。
第2実施例のウェハハンドリング装置は、上述したよう
に図外の制御部によって制御されているので、従来のよ
うな手作業の欠点、すなわちウェハを薬液に浸漬してい
る時間や、薬液から取り出した後の放置時間のバラツキ
は発生しない。
〈発明の効果〉 本発明に係るウェハハンドリング装置は、1枚のウェハ
を水平に保持するウェハ保持部と、このウェハ保持部に
保持されたウェハを水平状態のまま上下動させるウェハ
上下動機構と、当該ウェハを水平状態のまま横移動させ
るウェハ横移動機構と、当該ウェハを水平状態から傾け
るウェハ傾斜機構とを備えた簡便なウェハハンドリング
装置であるので、ウェハを1枚ずつ、水平状態で薬液に
浸漬することができる。
従って、手作業で行っていることに起因する半導体装置
の品質の低下を防ぐことができるとともに、歩留りを向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例に係るウェハ/’1ンドリ
ング装置の概略的斜視図、第2図はこのウェハハンドリ
ング装置の側面図、第3図はこのウェハハンドリング装
置の背面図、第4図はこのウェハハンドリング装置の平
面図、第5図は第2実施例に係るウェハハンドリング装
置の概略的斜視図、第6図はこのウェハハンドリング装
置の側面図、第7図はこのウェハハンドリング装置の背
面図、第8図はこのウェハハンドリング装置の平面図、
第9図はウェハを1枚ずつ薬液処理をする際に用いられ
る従来の治具の斜視図である。 lO・・・ウェハ、30・・・ウェハ保持部、40・・
・ウェハ上下動機構、50・・・ウェハ横移動機構、6
0・・・ウェハ傾斜機構。 第3図 箪R面 第9図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1枚のウェハを水平に保持するウェハ保持部と、
    このウェハ保持部に保持されたウェハを水平状態のまま
    上下動させるウェハ上下動機構と、当該ウェハを水平状
    態のまま横移動させるウェハ横移動機構と、当該ウェハ
    を水平状態から傾けるウェハ傾斜機構とを具備したこと
    を特徴とするウェハハンドリング装置。
JP1337984A 1989-12-25 1989-12-25 ウエハハンドリング装置 Pending JPH03196543A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1337984A JPH03196543A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 ウエハハンドリング装置

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JP1337984A JPH03196543A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 ウエハハンドリング装置

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JPH03196543A true JPH03196543A (ja) 1991-08-28

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JP1337984A Pending JPH03196543A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 ウエハハンドリング装置

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JP (1) JPH03196543A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529149U (ja) * 1991-09-24 1993-04-16 山形日本電気株式会社 真空ピンセツト

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529149U (ja) * 1991-09-24 1993-04-16 山形日本電気株式会社 真空ピンセツト

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