JPS63184350A - ウエハ搬送処理装置 - Google Patents

ウエハ搬送処理装置

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JPS63184350A
JPS63184350A JP62015706A JP1570687A JPS63184350A JP S63184350 A JPS63184350 A JP S63184350A JP 62015706 A JP62015706 A JP 62015706A JP 1570687 A JP1570687 A JP 1570687A JP S63184350 A JPS63184350 A JP S63184350A
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基典 柳
Toshiaki Omori
大森 寿朗
Hayaaki Fukumoto
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該
ウェハを複数個のウェハ処理層へ順次搬送し、該ウェハ
のウェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置
に関するものである。
[従来の技術] 半導体装置製造において、洗浄およびエツチング等のウ
ェハ・ウェット処理は必要不可欠な工程である。ウェッ
ト処理はウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェ
ハを複数個のウェハ処理層へ順次搬送することにより行
なわれる。
第4図は従来のウェハ搬送処理装置の概略模式ウェハ1
の搬送経路に複数個の薬液槽2a、2b、2c、2dが
設置されている。それぞれの薬液槽2a〜2dの中には
ウェハ支持用ホルダ3が設置されている。ウェハ支持用
ホルダ3は、その形状については後に詳述するが、ウェ
ハ1を定位置で立てたまま保持するように深溝のガイド
が形成されたものである。薬液槽2a〜2dの中には、
ウェハ1のウェット処理に必要な純水、帽り硝酸等の薬
液4a〜4dが入れられている。
ウェハ1は、チャック6と一体構造をとっているウェハ
搬送用ホルダ7に挾まれている。チャック6は、チャッ
ク支持アーム8に連結されている。
チャック支持アーム8は、チャック6を支持し、これを
開閉する機構のものである。チャック支持アーム8は移
動アーム9に連結されている。移動アーム9は伸縮する
ものであり、この伸縮運動により、ウェハ1を薬液槽2
a〜2dに浸漬したり、薬液槽2a〜2dから取出した
りする。移動アーム9はロード10を移動する。この移
動の動作により、ウェハ1が薬液槽2a〜2d間で搬送
される。
次に、このウェハ搬送処理装置を構成する各構成要素の
形状を説明する。
第5図はウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の斜視
図である。
ウェハ1が、定位置に立てられた状態で、ウェハ支持用
ホルダ3に支持されている。ウェハ支持用ホルダ3の形
状については後にさらに詳述するが、ウェハ1はウェハ
支持用ホルダ3の部分3a。
3b、3Cで支持されており、ウェハ1を支持する部分
には深溝のガイドが形成されている。この深溝のガイド
にウェハ1を嵌め合わすことにより、ウェハ1は定位置
に立てられた状態で保持される。
ウェハ搬送用ホルダアの形状については後にさらに詳述
するが、ウェハ1を保持する部分には深溝のガイド7a
が形成されている。この深溝のガイド7aにウェハ1を
嵌め合わすことにより、つエバ1をしっかりと挾むこと
ができる。ウェハ搬送用ホルダアはチャック6と一体構
造をとっている。
チャック6はチャック支持アーム8に連結されている。
チャック支持アーム8は、チャック6を支持し、これを
開閉する機構のものである。チャック6が開閉すること
により、ウェハ搬送用ホルダアがウェハ1を挾んだりあ
るいは離したりする。
チャック支持アーム8は移動アーム9に連結されている
。移動アーム9は伸縮運動および左右移動をするもので
ある。
次にウェハ支持用ホルダ3とウェハ搬送用ホルダアの形
状を、図を用いて、さらに説明する。
第6A図はウェハ支持用ホルダおよびウェハ搬送用ホル
ダの正視図である。ウェハ1がウェハ支持用ホルダアに
挾まれて、ウェハ支持用ホルダ3のところまで送られて
きている状態で示されている。
第6B図はウェハ搬送用ホルダの平面図(A>、正面図
(B)、右側面図(C)である。ウェハ搬送用ホルダ7
のウェハ1を保持する部分には深溝のガイド7aが形成
されている。
100図はウェハ支持用ホルダの平面図(A>、正面図
(B)および右側面図(C)である。ウェハ1を保持す
る部分3a 、3b 、3cにはそれぞれ深溝のガイド
が形成されている。
次に従来のウェハ搬送処理装置の動作を第4図を用いて
説明する。
薬液槽2aの中に設置されているウェハ支持用ホルダ3
にウェハ1が保持されている。このウェハ1を薬液槽2
bに搬送する場合を例にとり説明する。
チャック支持アーム8によって、チャック6が開かれる
。すると、ウェハ搬送用ホルダ7は、チャック6と一体
的に構成されているので、開かれる。このまま、移動ア
ーム9が延びて、ウェハ搬送用ホルダ7が、ウェハ支持
用ホルダ3に保持されたウェハ1を掴める位置まで、下
降移動する。
チャック支持アーム8によって、チャック6を閉じ、ウ
ェハ搬送用ホルダ7を閉じる。ウェハ搬送用ホルダ7を
閉じることにより、ウェハ1はつ工ハ搬送用ホルダ7の
深溝のガイド7aに嵌まり込み、ウェハ搬送用ホルダア
に掴まれる。ウェハ1がウェハ搬送用ホルダアに掴まれ
た後、移動アーム9が上昇限界の位置まで上昇移動し、
停止する。
次いで移動アーム9が矢印11の方向に側方移動し、次
の薬液槽2bの上方で停止する。そして、移動アーム9
が下降移動し、薬液槽2bの中に備えられているウェハ
支持用ホルダ3の上にウェハ1を置く。その後、チャッ
ク支持アーム8によって、チャック6とウェハ搬送用ホ
ルダアが開かれる。これによりウェハ1がウェハ搬送用
ホルダ7から離れる。
次いで移動アーム9が上昇移動して停止する。
この操作により、薬液槽2b内の薬液4bにウェハ1の
みが浸漬されることになり、ウェハ1が薬液4bによっ
てウェット処理される。ウェハ1のウェット処理が終了
した後、再び同様の動作を繰返す。これにより、ウェハ
1は各種の薬液中でウェット処理される。
[発明が解決しようとする問題点コ 従来のウェハ搬送処理装置は以上のように構成されてい
るので、ウェハ1を搬送する際、ウェハ搬送用ホルダ7
が薬液槽中の薬液に必ず浸漬される。したがって、ウェ
ハ搬送用ホルダ7のダストおよび不純物により、薬液が
汚染されることがあり、問題であった。また、1つの薬
液槽から他の薬液槽ヘウエハが搬送される際、搬送用ホ
ルダ7が薬液を持ち込む結果、薬液槽中の薬液組成が変
化するという問題もあった。
この発明は上記の問題点を解決するためになされたもの
で、薬液汚染のないかつ薬液組成の変わらないウェハ搬
送処理装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明は、ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該
ウェハを複数個のウェハ処理槽へ順次搬送し、該ウェハ
のウェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置
にかかるものである。そして前記搬送されてきたウェハ
を前記ウェハ処理槽内に導き入れるために、かつウェッ
ト処理後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻
すために、ウェハを保持したまま上下移動を行なうウェ
ハリフトを前記複数個のウェハ処理槽のそれぞれに設置
したことを特徴とする。
[作用] 複数個のウェハ処理槽のそれぞれに、ウェハを保持した
まま上下移動を行なうウェハリフトを設置し、該ウェハ
リフトを用いて搬送されてきたウェハをウェハ処理槽内
に導き入れ、かつ該ウェハリフトを用いてウェット処理
後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻すので
、ウェハ搬送用ホルダがウェハ処理槽内の薬液に浸漬さ
れることはない。
[実施例] 以下、この発明の一実施例を図を用いて説明するが本発
明はこれに限定されるものでない。
第1図はこの発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例
のウェハホールド部の斜視図であり、従来技術を示した
第5図に相当するものである。
ウェハ処理槽2にはウェハリフト12が設置されている
。なお、図には示されていないが、この発明に係るウェ
ハ搬送処理装置には複数個のウェハ処理槽2が備えられ
ており、そのそれぞれにウェハリフト12が設置されて
いる。
ウェハリフト12上にウェハ1が載せられている。ウェ
ハ搬送用ホルダ7はウェハ処理槽2内に入らないで、ウ
ェハ処理m2の上部に位置するところで止まっている。
ウェハ処理槽2およびウェハ搬送用ホルダ7のウェハ1
を保持する部分には、その詳細は後述するが、同一ピッ
チ・同一形状のガイド溝が刻まれている。ウェハ搬送用
ホルダアには、ウェハ搬送用ホルダ7と一体構造でウェ
ハ搬送用ホルダ7を回転させることができる回転式チャ
ックアーム13が取付けられている。この回転式チャッ
クアーム13は移動アーム9によって上下左右に移動す
る。
次に、ウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の断面図
を用いて、この部分をさらに詳細に説明する。
第2図は本発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例の
ウェハホールド部の側方断面図である。
ウェハ処理槽2内にはウェハリフト12が設置されてい
る。ウェハリフト12のウェハを載せる部分は、ウェハ
1を載せやすくするために、深溝のガイド溝12aが刻
まれている。ウェハ処理槽2およびウェハ搬送用ホルダ
7のウェハ1を保持する部分は、同一ピッチ・同一形状
のガイド溝が刻まれている。両者に同一ピッチ・同一形
状のガイド溝を形成させたのは、ウェハ搬送用ホルダ7
とウェハ処理槽2間で、ウェハ1を倒れさせることなく
、その受は渡しを容易にするためである。なお、受は渡
しを行なわせる仲介をするのはウェハリフト12である
ことは官うまでもない。ウェハ搬送用ホルダ7はウェハ
処理槽2内に入らないで、ウェハ処理槽2の上部に位置
するところで止まっている。ウェハ搬送用ホルダアには
、ウェハ搬送用ホルダ7と一体構造で、ウェハ搬送用ホ
ルダアを回転させることができる回転式チャックアーム
13が取付けられている。回転式チャックアーム13は
移動アーム9に連結されている。移動アーム9は上下の
伸縮運動をし、ウェハ搬送方向に延びたロード10に沿
って左右に移動する。
ウェハリフト12の上下運動、移動アーム9の上下伸縮
運動および左右移動、回転式チャックアーム130回転
運動は、制御機構を備えた制御ボックス14によって制
御されている。
次に、ウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の正面断
面図を用いて、この部分をさらに説明する。
第3A図および第38図はウェハホールド部の正面断面
図である。
第3A図はウェハ1をウェハ搬送用ホルダ7でウェハ処
理槽2まで搬送してきたときの状態を表わす図である。
ウェハ搬送用ホルダアが、10〜80°回転した状態で
、ウェハ1を保持している以下、この状態を゛ウェハ搬
送用ホルダ7が閉じた″状態という。ウェハ搬送用ホル
ダ7の回転動作は回転式チャックアーム13により行な
われるウェハ搬送用ホルダ7には深溝のガイド溝7aが
形成されている。ウェハ処理槽2にもウェハ搬送用ホル
ダ7と同一ピッチ・同一形状のガイド溝21が形成され
ている。ウェハ処理槽2内にはウェハリフト12が設置
されている。ウェハリフト12が上昇すると、ウェハ1
はウェハリフト12のガイド溝12aに嵌まり込む。こ
れによりウェハ搬送用ホルダ7からウェハ1が、ウェハ
リフト12に移る。
第3B図はウェハがウェハ搬送用ホルダからウェハ処理
槽にウェハリフトを介して移された後の状態を表わした
図である。第3B図における、ウェハ搬送用ホルダアの
回転角が00の状態、すなわちウェハ搬送用ホルダ7に
刻まれた深溝のガイド溝5aとウェハ処理槽2の内面に
刻まれた深溝のガイド溝21が平行になった状態を、以
下、゛ウェハ搬送用ホルダアが開いた′″状態いう。
次に実施例に係るウェハ搬送処理装置の動作を第3A図
および第3B図を用いて説明する。
まず、ウェハ処理槽2内にウェハ1を導入し、該ウェハ
1をウェット処理する動作について説明する。
ウェハ搬送用ホルダ7を゛閉じ°′、ウェハ1を保持す
る。そして、ウェハ処理槽2の上に、移動アーム9によ
って、ウェハ1を保持した“′閉じた″状態のウェハ搬
送用ホルダアを移動させる。次いでウェハ搬送用ホルダ
7を、ウェハ処理槽2に接するところまで、下降させる
。次いで、ウェハリフト12を上昇させ、ウェハリフト
12のガイド溝12aをウェハ1に接触させる(第3A
図参照)そして、ウェハ搬送用ホルダ7をゆっくりと開
り″。このとき、ウェハ1はウェハリフト12によって
下方から支持されている。ウェハリフト12を下降させ
ると、ウェハ処理槽12の内面に刻まれたガイド21と
ウェハ搬送用ホルダアの内面に刻まれたガイドは同一線
上に位置しているので、ウェハ1は倒れることなくウェ
ハ処理槽2内に導かれ、ウェット処理に付される(第3
B図参照)。
従来のウェハ搬送処理装置であると、ウェハ搬送用ホル
ダとウェハ支持用ホルダ間でウェハを受け渡すときに、
ウェハが倒れることがあり問題であったが、実施例に係
る受は渡し方法であると、このような問題点は解決され
る。すなわち、ウェハ処理槽2の内面に刻まれたガイド
溝21とウェハ搬送用ホルダ7の内面に刻まれたガイド
溝を同一線上に位置させ、ウェハリフト12を用いてウ
ェハ1をそのガイドに沿って下降させると、ウェハ1を
倒れさせることなくウェハ処理槽2内に導くことができ
る。すなわち、ウェハ搬送用ホルダ7とウェハ処理槽2
の内面形状をかかる形状にすることにより、ウェハ1を
倒れさせることなく、該ウェハ1をウェハ処理槽2内に
導けるという新たな効果が生まれる(第3B図および第
2図を参照)。
ウェハ1のウェット処理後、ウェハリフト12を上昇さ
せる。この際、前もってウェハ搬送用ホルダ7を定位置
まで下降させ、開いた″まま停止させておく。
ウェハリフト12の上昇により、ウェハ1がウェハ処理
槽2を出てウェハ搬送用ホルダ7の所まで送られる。ウ
ェハリフト12が上昇し、定位置で停止すると、ゆっく
りとウェハ搬送用ホルダが゛閉じ″、ウェハ1を保持す
る。そして、移動アーム9が上昇し、定位置で停止し、
さらにウェハ1の搬送方向に延びて形成されたロード1
2に沿って移動し、次のウェハ処理槽2の上方で停止す
る。これによりウェハ1が他のウェハ処理槽2に搬送さ
れる。その後、同じ動作を繰返す。同じ動作を繰返すこ
とによりウェハ1は複数個のウェハ処理槽に搬送され、
次々とウェット処理される。
[発明の効果コ 以上のようにこの発明に係るウェハ搬送処理装置によれ
ば、複数個のウェハ処理槽のそれぞれに、ウェハを保持
したまま上下移動を行なうウェハリフトを設置し、該ウ
ェハリフトを用いて搬送されてきたウェハをウェハ処理
槽内に導き入れ、かつ該ウェハリフトを用いてウェット
処理後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻す
ので、ウェハ搬送用ホルダがウェハ処理槽内の薬液に浸
漬されることはない。その結果、ウェハ搬送用ホルダが
もたらしていた薬液汚染の問題および薬液組成変化とい
う問題が解決される。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例
のウェハホールド部の斜視図であり、第2図は本発明に
係るウェハ搬送処理装置の一実施例のウェハホールド部
の側方断面図、第3A図および第3B図は本発明に係る
ウェハ搬送処理装置の一実施例のウェハホールド部の正
面断面図、第4図は従来のウェハ搬送処理装置の概略模
式図、第5図は従来のウェハ搬送処理装置のウェハホー
ルド部の斜視図、第6A図〜第6C図は従来のウェハ支
持用ホルダとウェハ搬送用ホルダの形状をさらに詳細に
説明するための図である。 図において、1はウェハ、2はウェハ処理槽、7はウェ
ハ搬送用ホルダ、12はウェハリフトである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 1:ウェハ 2:ウェハ処理槽 +7:ウエハ棧す充用ホ)レタ゛ 12: ウエハリフト 第3A図 第3B図 手続補正書(自発) 24発明の名称 ウェハ搬送処理装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 代表者志岐守哉 4、代理人 住 所    東京都千代田区丸の内二丁目2番3号5
、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄および発明の詳細な説明の
欄 6、補正の内容 (1) 特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する。 (2) 明細書第2頁第13行の「ウェハ処理層」を「
ウェハ処理槽」と訂正する。 (3) 明細書第2頁第20行の「ウェハ処理層」を「
ウェハ処理槽」と訂正する。 (4) 明細書第9頁第8行の「該ウェハリフト」を「
ウェハリフト」と訂正する。 (5) 明細書第9頁第9行〜第10行の「該ウェハリ
フト」を「ウェハリフト」と訂正する。 以上 2、特許請求の範囲 (1) ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェ
ハを複数個のウェハ処理槽へ順次搬送し、該ウェハのウ
ェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置にお
いて、 前記搬送されてきたウェハを前記ウェハ処理槽内に導き
入れるために、かつウェット処理後のウェハを持ち上げ
て該ウェハを搬送経路に戻すために、ウェハを保持した
まま上下移動を行なうウェハリフトを前記複数個のウェ
ハ処理槽のそれぞれに設置したことを特徴とするウェハ
搬送処理装置。 (2) 前記ウェハ処理槽は、その内面に所定のピッチ
のガイド溝が刻まれており、そのガイド溝にウェハを嵌
め合わすことにより複数枚のウェハを定位置で立てたま
ま保持できるようなものである特許請求の範囲第1項記
載のウェハ搬送処理装置。 (3) 前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分は回
転可能に設けられており、この回転動作によってウェハ
の保持・離脱を行なう特許請求の範囲第1項または第2
項記載のウェハ搬送処理装置。 (4) 前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分に、
前止ウェハ処理槽のウェハ保持部分と同一ピッチ・同一
形状のガイド溝を刻んだ特許請求の範囲第2項記載のウ
ェハ搬送処理装置。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェハ
    を複数個のウェハ処理層へ順次搬送し、該ウェハのウェ
    ット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置におい
    て、 前記搬送されてきたウェハを前記ウェハ処理層内に導き
    入れるために、かつウェット処理後のウェハを持ち上げ
    て該ウェハを搬送経路に戻すために、ウェハを保持した
    まま上下移動を行なうウェハリフトを前記複数個のウェ
    ハ処理層のそれぞれに設置したことを特徴とするウェハ
    搬送処理装置。
  2. (2)前記ウェハ処理層は、その内面に所定のピッチの
    ガイド溝が刻まれており、そのガイド溝にウェハを嵌め
    合わすことにより複数枚のウェハを定位置で立てたまま
    保持できるようなものである特許請求の範囲第1項記載
    のウェハ搬送処理装置。
  3. (3)前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分は回転
    可能に設けられており、この回転動作によってウェハの
    保持・離脱を行なう特許請求の範囲第1項または第2項
    記載のウェハ搬送処理装置。
  4. (4)前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分に、前
    記ウェハ処理層のウェハ保持部分と同一ピッチ・同一形
    状のガイド溝を刻んだ特許請求の範囲第2項記載のウェ
    ハ搬送処理装置。
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