JPS63184350A - ウエハ搬送処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該
ウェハを複数個のウェハ処理層へ順次搬送し、該ウェハ
のウェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置
に関するものである。

［従来の技術］ 半導体装置製造において、洗浄およびエツチング等のウ
ェハ・ウェット処理は必要不可欠な工程である。ウェッ
ト処理はウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェ
ハを複数個のウェハ処理層へ順次搬送することにより行
なわれる。

第４図は従来のウェハ搬送処理装置の概略模式ウェハ１
の搬送経路に複数個の薬液槽２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄが
設置されている。それぞれの薬液槽２ａ〜２ｄの中には
ウェハ支持用ホルダ３が設置されている。ウェハ支持用
ホルダ３は、その形状については後に詳述するが、ウェ
ハ１を定位置で立てたまま保持するように深溝のガイド
が形成されたものである。薬液槽２ａ〜２ｄの中には、
ウェハ１のウェット処理に必要な純水、帽り硝酸等の薬
液４ａ〜４ｄが入れられている。

ウェハ１は、チャック６と一体構造をとっているウェハ
搬送用ホルダ７に挾まれている。チャック６は、チャッ
ク支持アーム８に連結されている。

チャック支持アーム８は、チャック６を支持し、これを
開閉する機構のものである。チャック支持アーム８は移
動アーム９に連結されている。移動アーム９は伸縮する
ものであり、この伸縮運動により、ウェハ１を薬液槽２
ａ〜２ｄに浸漬したり、薬液槽２ａ〜２ｄから取出した
りする。移動アーム９はロード１０を移動する。この移
動の動作により、ウェハ１が薬液槽２ａ〜２ｄ間で搬送
される。

次に、このウェハ搬送処理装置を構成する各構成要素の
形状を説明する。

第５図はウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の斜視
図である。

ウェハ１が、定位置に立てられた状態で、ウェハ支持用
ホルダ３に支持されている。ウェハ支持用ホルダ３の形
状については後にさらに詳述するが、ウェハ１はウェハ
支持用ホルダ３の部分３ａ。

３ｂ、３Ｃで支持されており、ウェハ１を支持する部分
には深溝のガイドが形成されている。この深溝のガイド
にウェハ１を嵌め合わすことにより、ウェハ１は定位置
に立てられた状態で保持される。

ウェハ搬送用ホルダアの形状については後にさらに詳述
するが、ウェハ１を保持する部分には深溝のガイド７ａ
が形成されている。この深溝のガイド７ａにウェハ１を
嵌め合わすことにより、つエバ１をしっかりと挾むこと
ができる。ウェハ搬送用ホルダアはチャック６と一体構
造をとっている。

チャック６はチャック支持アーム８に連結されている。

チャック支持アーム８は、チャック６を支持し、これを
開閉する機構のものである。チャック６が開閉すること
により、ウェハ搬送用ホルダアがウェハ１を挾んだりあ
るいは離したりする。

チャック支持アーム８は移動アーム９に連結されている
。移動アーム９は伸縮運動および左右移動をするもので
ある。

次にウェハ支持用ホルダ３とウェハ搬送用ホルダアの形
状を、図を用いて、さらに説明する。

第６Ａ図はウェハ支持用ホルダおよびウェハ搬送用ホル
ダの正視図である。ウェハ１がウェハ支持用ホルダアに
挾まれて、ウェハ支持用ホルダ３のところまで送られて
きている状態で示されている。

第６Ｂ図はウェハ搬送用ホルダの平面図（Ａ＞、正面図
（Ｂ）、右側面図（Ｃ）である。ウェハ搬送用ホルダ７
のウェハ１を保持する部分には深溝のガイド７ａが形成
されている。

１００図はウェハ支持用ホルダの平面図（Ａ＞、正面図
（Ｂ）および右側面図（Ｃ）である。ウェハ１を保持す
る部分３ａ　、３ｂ　、３ｃにはそれぞれ深溝のガイド
が形成されている。

次に従来のウェハ搬送処理装置の動作を第４図を用いて
説明する。

薬液槽２ａの中に設置されているウェハ支持用ホルダ３
にウェハ１が保持されている。このウェハ１を薬液槽２
ｂに搬送する場合を例にとり説明する。

チャック支持アーム８によって、チャック６が開かれる
。すると、ウェハ搬送用ホルダ７は、チャック６と一体
的に構成されているので、開かれる。このまま、移動ア
ーム９が延びて、ウェハ搬送用ホルダ７が、ウェハ支持
用ホルダ３に保持されたウェハ１を掴める位置まで、下
降移動する。

チャック支持アーム８によって、チャック６を閉じ、ウ
ェハ搬送用ホルダ７を閉じる。ウェハ搬送用ホルダ７を
閉じることにより、ウェハ１はつ工ハ搬送用ホルダ７の
深溝のガイド７ａに嵌まり込み、ウェハ搬送用ホルダア
に掴まれる。ウェハ１がウェハ搬送用ホルダアに掴まれ
た後、移動アーム９が上昇限界の位置まで上昇移動し、
停止する。

次いで移動アーム９が矢印１１の方向に側方移動し、次
の薬液槽２ｂの上方で停止する。そして、移動アーム９
が下降移動し、薬液槽２ｂの中に備えられているウェハ
支持用ホルダ３の上にウェハ１を置く。その後、チャッ
ク支持アーム８によって、チャック６とウェハ搬送用ホ
ルダアが開かれる。これによりウェハ１がウェハ搬送用
ホルダ７から離れる。

次いで移動アーム９が上昇移動して停止する。

この操作により、薬液槽２ｂ内の薬液４ｂにウェハ１の
みが浸漬されることになり、ウェハ１が薬液４ｂによっ
てウェット処理される。ウェハ１のウェット処理が終了
した後、再び同様の動作を繰返す。これにより、ウェハ
１は各種の薬液中でウェット処理される。

［発明が解決しようとする問題点コ 従来のウェハ搬送処理装置は以上のように構成されてい
るので、ウェハ１を搬送する際、ウェハ搬送用ホルダ７
が薬液槽中の薬液に必ず浸漬される。したがって、ウェ
ハ搬送用ホルダ７のダストおよび不純物により、薬液が
汚染されることがあり、問題であった。また、１つの薬
液槽から他の薬液槽ヘウエハが搬送される際、搬送用ホ
ルダ７が薬液を持ち込む結果、薬液槽中の薬液組成が変
化するという問題もあった。

この発明は上記の問題点を解決するためになされたもの
で、薬液汚染のないかつ薬液組成の変わらないウェハ搬
送処理装置を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ この発明は、ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該
ウェハを複数個のウェハ処理槽へ順次搬送し、該ウェハ
のウェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置
にかかるものである。そして前記搬送されてきたウェハ
を前記ウェハ処理槽内に導き入れるために、かつウェッ
ト処理後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻
すために、ウェハを保持したまま上下移動を行なうウェ
ハリフトを前記複数個のウェハ処理槽のそれぞれに設置
したことを特徴とする。

［作用］ 複数個のウェハ処理槽のそれぞれに、ウェハを保持した
まま上下移動を行なうウェハリフトを設置し、該ウェハ
リフトを用いて搬送されてきたウェハをウェハ処理槽内
に導き入れ、かつ該ウェハリフトを用いてウェット処理
後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻すので
、ウェハ搬送用ホルダがウェハ処理槽内の薬液に浸漬さ
れることはない。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図を用いて説明するが本発
明はこれに限定されるものでない。

第１図はこの発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例
のウェハホールド部の斜視図であり、従来技術を示した
第５図に相当するものである。

ウェハ処理槽２にはウェハリフト１２が設置されている
。なお、図には示されていないが、この発明に係るウェ
ハ搬送処理装置には複数個のウェハ処理槽２が備えられ
ており、そのそれぞれにウェハリフト１２が設置されて
いる。

ウェハリフト１２上にウェハ１が載せられている。ウェ
ハ搬送用ホルダ７はウェハ処理槽２内に入らないで、ウ
ェハ処理ｍ２の上部に位置するところで止まっている。

ウェハ処理槽２およびウェハ搬送用ホルダ７のウェハ１
を保持する部分には、その詳細は後述するが、同一ピッ
チ・同一形状のガイド溝が刻まれている。ウェハ搬送用
ホルダアには、ウェハ搬送用ホルダ７と一体構造でウェ
ハ搬送用ホルダ７を回転させることができる回転式チャ
ックアーム１３が取付けられている。この回転式チャッ
クアーム１３は移動アーム９によって上下左右に移動す
る。

次に、ウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の断面図
を用いて、この部分をさらに詳細に説明する。

第２図は本発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例の
ウェハホールド部の側方断面図である。

ウェハ処理槽２内にはウェハリフト１２が設置されてい
る。ウェハリフト１２のウェハを載せる部分は、ウェハ
１を載せやすくするために、深溝のガイド溝１２ａが刻
まれている。ウェハ処理槽２およびウェハ搬送用ホルダ
７のウェハ１を保持する部分は、同一ピッチ・同一形状
のガイド溝が刻まれている。両者に同一ピッチ・同一形
状のガイド溝を形成させたのは、ウェハ搬送用ホルダ７
とウェハ処理槽２間で、ウェハ１を倒れさせることなく
、その受は渡しを容易にするためである。なお、受は渡
しを行なわせる仲介をするのはウェハリフト１２である
ことは官うまでもない。ウェハ搬送用ホルダ７はウェハ
処理槽２内に入らないで、ウェハ処理槽２の上部に位置
するところで止まっている。ウェハ搬送用ホルダアには
、ウェハ搬送用ホルダ７と一体構造で、ウェハ搬送用ホ
ルダアを回転させることができる回転式チャックアーム
１３が取付けられている。回転式チャックアーム１３は
移動アーム９に連結されている。移動アーム９は上下の
伸縮運動をし、ウェハ搬送方向に延びたロード１０に沿
って左右に移動する。

ウェハリフト１２の上下運動、移動アーム９の上下伸縮
運動および左右移動、回転式チャックアーム１３０回転
運動は、制御機構を備えた制御ボックス１４によって制
御されている。

次に、ウェハ搬送処理装置のウェハホールド部の正面断
面図を用いて、この部分をさらに説明する。

第３Ａ図および第３８図はウェハホールド部の正面断面
図である。

第３Ａ図はウェハ１をウェハ搬送用ホルダ７でウェハ処
理槽２まで搬送してきたときの状態を表わす図である。

ウェハ搬送用ホルダアが、１０〜８０°回転した状態で
、ウェハ１を保持している以下、この状態を゛ウェハ搬
送用ホルダ７が閉じた″状態という。ウェハ搬送用ホル
ダ７の回転動作は回転式チャックアーム１３により行な
われるウェハ搬送用ホルダ７には深溝のガイド溝７ａが
形成されている。ウェハ処理槽２にもウェハ搬送用ホル
ダ７と同一ピッチ・同一形状のガイド溝２１が形成され
ている。ウェハ処理槽２内にはウェハリフト１２が設置
されている。ウェハリフト１２が上昇すると、ウェハ１
はウェハリフト１２のガイド溝１２ａに嵌まり込む。こ
れによりウェハ搬送用ホルダ７からウェハ１が、ウェハ
リフト１２に移る。

第３Ｂ図はウェハがウェハ搬送用ホルダからウェハ処理
槽にウェハリフトを介して移された後の状態を表わした
図である。第３Ｂ図における、ウェハ搬送用ホルダアの
回転角が００の状態、すなわちウェハ搬送用ホルダ７に
刻まれた深溝のガイド溝５ａとウェハ処理槽２の内面に
刻まれた深溝のガイド溝２１が平行になった状態を、以
下、゛ウェハ搬送用ホルダアが開いた′″状態いう。

次に実施例に係るウェハ搬送処理装置の動作を第３Ａ図
および第３Ｂ図を用いて説明する。

まず、ウェハ処理槽２内にウェハ１を導入し、該ウェハ
１をウェット処理する動作について説明する。

ウェハ搬送用ホルダ７を゛閉じ°′、ウェハ１を保持す
る。そして、ウェハ処理槽２の上に、移動アーム９によ
って、ウェハ１を保持した“′閉じた″状態のウェハ搬
送用ホルダアを移動させる。次いでウェハ搬送用ホルダ
７を、ウェハ処理槽２に接するところまで、下降させる
。次いで、ウェハリフト１２を上昇させ、ウェハリフト
１２のガイド溝１２ａをウェハ１に接触させる（第３Ａ
図参照）そして、ウェハ搬送用ホルダ７をゆっくりと開
り″。このとき、ウェハ１はウェハリフト１２によって
下方から支持されている。ウェハリフト１２を下降させ
ると、ウェハ処理槽１２の内面に刻まれたガイド２１と
ウェハ搬送用ホルダアの内面に刻まれたガイドは同一線
上に位置しているので、ウェハ１は倒れることなくウェ
ハ処理槽２内に導かれ、ウェット処理に付される（第３
Ｂ図参照）。

従来のウェハ搬送処理装置であると、ウェハ搬送用ホル
ダとウェハ支持用ホルダ間でウェハを受け渡すときに、
ウェハが倒れることがあり問題であったが、実施例に係
る受は渡し方法であると、このような問題点は解決され
る。すなわち、ウェハ処理槽２の内面に刻まれたガイド
溝２１とウェハ搬送用ホルダ７の内面に刻まれたガイド
溝を同一線上に位置させ、ウェハリフト１２を用いてウ
ェハ１をそのガイドに沿って下降させると、ウェハ１を
倒れさせることなくウェハ処理槽２内に導くことができ
る。すなわち、ウェハ搬送用ホルダ７とウェハ処理槽２
の内面形状をかかる形状にすることにより、ウェハ１を
倒れさせることなく、該ウェハ１をウェハ処理槽２内に
導けるという新たな効果が生まれる（第３Ｂ図および第
２図を参照）。

ウェハ１のウェット処理後、ウェハリフト１２を上昇さ
せる。この際、前もってウェハ搬送用ホルダ７を定位置
まで下降させ、開いた″まま停止させておく。

ウェハリフト１２の上昇により、ウェハ１がウェハ処理
槽２を出てウェハ搬送用ホルダ７の所まで送られる。ウ
ェハリフト１２が上昇し、定位置で停止すると、ゆっく
りとウェハ搬送用ホルダが゛閉じ″、ウェハ１を保持す
る。そして、移動アーム９が上昇し、定位置で停止し、
さらにウェハ１の搬送方向に延びて形成されたロード１
２に沿って移動し、次のウェハ処理槽２の上方で停止す
る。これによりウェハ１が他のウェハ処理槽２に搬送さ
れる。その後、同じ動作を繰返す。同じ動作を繰返すこ
とによりウェハ１は複数個のウェハ処理槽に搬送され、
次々とウェット処理される。

［発明の効果コ 以上のようにこの発明に係るウェハ搬送処理装置によれ
ば、複数個のウェハ処理槽のそれぞれに、ウェハを保持
したまま上下移動を行なうウェハリフトを設置し、該ウ
ェハリフトを用いて搬送されてきたウェハをウェハ処理
槽内に導き入れ、かつ該ウェハリフトを用いてウェット
処理後のウェハを持ち上げて該ウェハを搬送経路に戻す
ので、ウェハ搬送用ホルダがウェハ処理槽内の薬液に浸
漬されることはない。その結果、ウェハ搬送用ホルダが
もたらしていた薬液汚染の問題および薬液組成変化とい
う問題が解決される。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係るウェハ搬送処理装置の一実施例
のウェハホールド部の斜視図であり、第２図は本発明に
係るウェハ搬送処理装置の一実施例のウェハホールド部
の側方断面図、第３Ａ図および第３Ｂ図は本発明に係る
ウェハ搬送処理装置の一実施例のウェハホールド部の正
面断面図、第４図は従来のウェハ搬送処理装置の概略模
式図、第５図は従来のウェハ搬送処理装置のウェハホー
ルド部の斜視図、第６Ａ図〜第６Ｃ図は従来のウェハ支
持用ホルダとウェハ搬送用ホルダの形状をさらに詳細に
説明するための図である。 図において、１はウェハ、２はウェハ処理槽、７はウェ
ハ搬送用ホルダ、１２はウェハリフトである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 第１図 １：ウェハ ２：ウェハ処理槽 ＋７：ウエハ棧す充用ホ）レタ゛ １２：　ウエハリフト 第３Ａ図 第３Ｂ図 手続補正書（自発） ２４発明の名称 ウェハ搬送処理装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 代表者志岐守哉 ４、代理人 住　所　　　　東京都千代田区丸の内二丁目２番３号５
、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄および発明の詳細な説明の
欄 ６、補正の内容 （１）　特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する。 （２）　明細書第２頁第１３行の「ウェハ処理層」を「
ウェハ処理槽」と訂正する。 （３）　明細書第２頁第２０行の「ウェハ処理層」を「
ウェハ処理槽」と訂正する。 （４）　明細書第９頁第８行の「該ウェハリフト」を「
ウェハリフト」と訂正する。 （５）　明細書第９頁第９行〜第１０行の「該ウェハリ
フト」を「ウェハリフト」と訂正する。 以上 ２、特許請求の範囲 （１）　ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェ
ハを複数個のウェハ処理槽へ順次搬送し、該ウェハのウ
ェット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置にお
いて、 前記搬送されてきたウェハを前記ウェハ処理槽内に導き
入れるために、かつウェット処理後のウェハを持ち上げ
て該ウェハを搬送経路に戻すために、ウェハを保持した
まま上下移動を行なうウェハリフトを前記複数個のウェ
ハ処理槽のそれぞれに設置したことを特徴とするウェハ
搬送処理装置。 （２）　前記ウェハ処理槽は、その内面に所定のピッチ
のガイド溝が刻まれており、そのガイド溝にウェハを嵌
め合わすことにより複数枚のウェハを定位置で立てたま
ま保持できるようなものである特許請求の範囲第１項記
載のウェハ搬送処理装置。 （３）　前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分は回
転可能に設けられており、この回転動作によってウェハ
の保持・離脱を行なう特許請求の範囲第１項または第２
項記載のウェハ搬送処理装置。 （４）　前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分に、
前止ウェハ処理槽のウェハ保持部分と同一ピッチ・同一
形状のガイド溝を刻んだ特許請求の範囲第２項記載のウ
ェハ搬送処理装置。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ウェハをウェハ搬送用ホルダで保持し、該ウェハ
   を複数個のウェハ処理層へ順次搬送し、該ウェハのウェ
   ット処理を行なわせるためのウェハ搬送処理装置におい
   て、 前記搬送されてきたウェハを前記ウェハ処理層内に導き
   入れるために、かつウェット処理後のウェハを持ち上げ
   て該ウェハを搬送経路に戻すために、ウェハを保持した
   まま上下移動を行なうウェハリフトを前記複数個のウェ
   ハ処理層のそれぞれに設置したことを特徴とするウェハ
   搬送処理装置。
2. （２）前記ウェハ処理層は、その内面に所定のピッチの
   ガイド溝が刻まれており、そのガイド溝にウェハを嵌め
   合わすことにより複数枚のウェハを定位置で立てたまま
   保持できるようなものである特許請求の範囲第１項記載
   のウェハ搬送処理装置。
3. （３）前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分は回転
   可能に設けられており、この回転動作によってウェハの
   保持・離脱を行なう特許請求の範囲第１項または第２項
   記載のウェハ搬送処理装置。
4. （４）前記ウェハ搬送用ホルダのウェハ保持部分に、前
   記ウェハ処理層のウェハ保持部分と同一ピッチ・同一形
   状のガイド溝を刻んだ特許請求の範囲第２項記載のウェ
   ハ搬送処理装置。