JPS63111637A - ウエハ搬送処理装置 - Google Patents
ウエハ搬送処理装置Info
- Publication number
- JPS63111637A JPS63111637A JP61259019A JP25901986A JPS63111637A JP S63111637 A JPS63111637 A JP S63111637A JP 61259019 A JP61259019 A JP 61259019A JP 25901986 A JP25901986 A JP 25901986A JP S63111637 A JPS63111637 A JP S63111637A
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- JP
- Japan
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- wafer
- holder
- solution
- support
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 134
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体製造ウェハを搬送処理する装置に関
するものである。
するものである。
第４図は従来のウェハ搬送処理装置のウェハホールド部
を示す斜視図である。図において、１は移動アーム、２
はウェハ、３はウェハ２を保護するためのウェハカセッ
ト、４はウェハカセット３をつかむためのチャック、５
はチャック４を支持し、またこれを開閉する機構を備え
ているチャック支持アームである。第５図はウェハ搬送
処理装置の正面図である。６は溶液、７は溶液をためる
槽、８は移動アーム１用のロードである。
を示す斜視図である。図において、１は移動アーム、２
はウェハ、３はウェハ２を保護するためのウェハカセッ
ト、４はウェハカセット３をつかむためのチャック、５
はチャック４を支持し、またこれを開閉する機構を備え
ているチャック支持アームである。第５図はウェハ搬送
処理装置の正面図である。６は溶液、７は溶液をためる
槽、８は移動アーム１用のロードである。
次に動作について説明する。ウェハ２はある槽７の溶液
６中のウェハカセット３にセットされて置かれている。
６中のウェハカセット３にセットされて置かれている。
チャック４がチャック支持アーム５によって開かれる。
このまま、移動アーム１が、ウェハ１がセットされたウ
ェハカセット４をつかむ位置に下降移動する。次に、チ
ャック支持アーム５によってチャック４が閉じ、ウェハ
カセット３がホールドされる。ホールド後、移動アーム
１が上昇移動し、上昇限界の位置に停止する。移動アー
ム１は次に側方移動を行い、次の槽７の位置で停止する
。移動アーム１が下降移動し、槽７の溶液６中にウェハ
カセット３とウェハ２とチャック４が置かれる。チャッ
ク支持アーム５によってチャック４が開かれる。これで
、溶液６中に、ウェハ２とウェハカセット３が置かれ、
ウェハ２が溶液６によって処理される。移動アーム１は
上昇移動し、停止する。ウェハ２の溶液処理終了後、再
び同様な動作を繰り返す。これにより、各種の溶液６中
でウェハ処理が次々実施されてゆく。別の移動アーム１
ヘウエハカセツト２が移される場合、例えば溶液６中に
ウェハ２とウェハカセット３が置かれている状態で、別
の移動アーム１が取りに来る動作を行う。
ェハカセット４をつかむ位置に下降移動する。次に、チ
ャック支持アーム５によってチャック４が閉じ、ウェハ
カセット３がホールドされる。ホールド後、移動アーム
１が上昇移動し、上昇限界の位置に停止する。移動アー
ム１は次に側方移動を行い、次の槽７の位置で停止する
。移動アーム１が下降移動し、槽７の溶液６中にウェハ
カセット３とウェハ２とチャック４が置かれる。チャッ
ク支持アーム５によってチャック４が開かれる。これで
、溶液６中に、ウェハ２とウェハカセット３が置かれ、
ウェハ２が溶液６によって処理される。移動アーム１は
上昇移動し、停止する。ウェハ２の溶液処理終了後、再
び同様な動作を繰り返す。これにより、各種の溶液６中
でウェハ処理が次々実施されてゆく。別の移動アーム１
ヘウエハカセツト２が移される場合、例えば溶液６中に
ウェハ２とウェハカセット３が置かれている状態で、別
の移動アーム１が取りに来る動作を行う。
従来のウェハ搬送処理装置は以上のように構成されてい
るので、ウェハとウェハカセットが同一の処理プロセス
をたどる。このことは、次の処理溶液への前溶液持ち込
み量が、ウェハ付着分とウェハカセット付着分との和と
なり、不純物、微粒子の持ち込み量が多くなることを意
味している。
るので、ウェハとウェハカセットが同一の処理プロセス
をたどる。このことは、次の処理溶液への前溶液持ち込
み量が、ウェハ付着分とウェハカセット付着分との和と
なり、不純物、微粒子の持ち込み量が多くなることを意
味している。
加えて一般的にウェハカセットは１つのウェハ搬送処理
装置で専用としているため、不純物や微粒子の蓄積が起
こる。このようにして持ち込まれた不純物や微粒子によ
って、ウェハ表面の汚染が発生する問題があった。
装置で専用としているため、不純物や微粒子の蓄積が起
こる。このようにして持ち込まれた不純物や微粒子によ
って、ウェハ表面の汚染が発生する問題があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、次の処理溶液へ前溶液の持ち込み量が極めて
少なくできるとともに、不純物、微粒子の持ち込みも極
めて少なくできる。そして、ウェハカセットからの不純
物や微粒子の蓄積による汚染のないウェハ搬送処理装置
を得ることを目的とする。
たもので、次の処理溶液へ前溶液の持ち込み量が極めて
少なくできるとともに、不純物、微粒子の持ち込みも極
めて少なくできる。そして、ウェハカセットからの不純
物や微粒子の蓄積による汚染のないウェハ搬送処理装置
を得ることを目的とする。
この発明に係るウェハ搬送処理装置は、ウェハを定位置
で立てたまま保持するウェハ支持用ホルダーと、ウェハ
を他のウェハ支持用ホルダーへ移動するウェハ搬送用ホ
ルダーとを備えることで、ウェハカセットを省略すると
ともに、ウェハ支持用ホルダーを介することで、一方の
ウェハ搬送用ホルダーのウェハを、他方のウェハ搬送用
ホルダーへ移し替えることができるようにしたものであ
る。
で立てたまま保持するウェハ支持用ホルダーと、ウェハ
を他のウェハ支持用ホルダーへ移動するウェハ搬送用ホ
ルダーとを備えることで、ウェハカセットを省略すると
ともに、ウェハ支持用ホルダーを介することで、一方の
ウェハ搬送用ホルダーのウェハを、他方のウェハ搬送用
ホルダーへ移し替えることができるようにしたものであ
る。
この発明におけるウェハ支持用ホルダーは、支持点を３
点以上とし、深い谷構造とすることで、ウェハとの接触
面積を極めて少なくでき、安定したウェハ保持力を得る
ことができる。ウェハ搬送用ホルダーは支持点を２点以
上とし、深い谷構造のガイドを設けることで、ウェハと
の接触面積を極めて少なくでき、ウェハ支持用ホルダー
上のウェハを安全に保持し、搬送することができる。こ
のウェハ支持用ホルダーとウェハ搬送用ホルダーを使用
することで、ウェハ搬送処理装置内をウェハのみが移動
する。
点以上とし、深い谷構造とすることで、ウェハとの接触
面積を極めて少なくでき、安定したウェハ保持力を得る
ことができる。ウェハ搬送用ホルダーは支持点を２点以
上とし、深い谷構造のガイドを設けることで、ウェハと
の接触面積を極めて少なくでき、ウェハ支持用ホルダー
上のウェハを安全に保持し、搬送することができる。こ
のウェハ支持用ホルダーとウェハ搬送用ホルダーを使用
することで、ウェハ搬送処理装置内をウェハのみが移動
する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図は本発明のウェハ搬送処理装置のウェハホールド部を
示す斜視図である。図において、１は移動アーム、２は
ウェハ、１０はウェハを定位置で立てたまま保持するウ
ェハ支持用ホルダー、９はウェハ２を他のウェハ支持用
ホルダー１０へ移動するウェハ搬送用ホルダー、４はウ
ェハ搬送用ホルダー９と一体構造をとっているチャック
、５はチャック４を支持し、これを開閉する機構を備え
ているチャック支持アームである。第２図はウェハ支持
用ホルダー９の正視図とつエバ搬送用ホルダー１０の正
視図の例を示している。それぞれａが上面図、ｂが正面
図、Ｃが側面図である。第３図は本発明のウェハ搬送処
理装置の正面図である。
図は本発明のウェハ搬送処理装置のウェハホールド部を
示す斜視図である。図において、１は移動アーム、２は
ウェハ、１０はウェハを定位置で立てたまま保持するウ
ェハ支持用ホルダー、９はウェハ２を他のウェハ支持用
ホルダー１０へ移動するウェハ搬送用ホルダー、４はウ
ェハ搬送用ホルダー９と一体構造をとっているチャック
、５はチャック４を支持し、これを開閉する機構を備え
ているチャック支持アームである。第２図はウェハ支持
用ホルダー９の正視図とつエバ搬送用ホルダー１０の正
視図の例を示している。それぞれａが上面図、ｂが正面
図、Ｃが側面図である。第３図は本発明のウェハ搬送処
理装置の正面図である。
６は溶液、７は溶液をためる槽、８は移動アーム１用の
ロードである。
ロードである。
次に動作について説明する。ウェハ２はウェハ支持用ホ
ルダー１０にセットされ、置かれている。
ルダー１０にセットされ、置かれている。
チャック４とウェハ搬送用ホルダー９がチャック支持ア
ーム５によって開かれる。このまま移動アーム１が、ウ
ェハ２がセットされたウェハ支持用ホルダー１０のウェ
ハ２をつかむ位置に下降移動する。チャック支持アーム
５によってチャック４とウェハ搬送用ホルダー９が閉じ
、ウェハ２が、ウェハ搬送用ホルダー９の深い谷構造の
ガイドによって導かれ、ウェハ搬送用ホルダー９にホー
ルドされる。ホールド後、移動アーム１が上昇移動し、
上昇限界の位置まできて停止する。移動アーム１は次に
側方移動を行い、次の槽７の位置で停止する。移動アー
ム１はこんどは、下降移動し、槽７の溶液６の中にあら
かじめ備えであるウェハ支持用ホルダー１０の上にウェ
ハ２を響く。その後、チャック支持アーム５によってチ
ャック４とウェハ搬送用ホルダー９が開かれる。これで
溶液６中にウェハ２のみ置かれ、溶液６によって処理が
実施される。移動アーム１は上昇移動して停止する。
ーム５によって開かれる。このまま移動アーム１が、ウ
ェハ２がセットされたウェハ支持用ホルダー１０のウェ
ハ２をつかむ位置に下降移動する。チャック支持アーム
５によってチャック４とウェハ搬送用ホルダー９が閉じ
、ウェハ２が、ウェハ搬送用ホルダー９の深い谷構造の
ガイドによって導かれ、ウェハ搬送用ホルダー９にホー
ルドされる。ホールド後、移動アーム１が上昇移動し、
上昇限界の位置まできて停止する。移動アーム１は次に
側方移動を行い、次の槽７の位置で停止する。移動アー
ム１はこんどは、下降移動し、槽７の溶液６の中にあら
かじめ備えであるウェハ支持用ホルダー１０の上にウェ
ハ２を響く。その後、チャック支持アーム５によってチ
ャック４とウェハ搬送用ホルダー９が開かれる。これで
溶液６中にウェハ２のみ置かれ、溶液６によって処理が
実施される。移動アーム１は上昇移動して停止する。
ウェハ２の溶液処理が終了後、再び同様な動作を繰り返
す。これにより、各種の溶液６中でウェハ処理が次々に
実施されていくのである。別の移動アーム１ヘウエ八２
が移される場合には、例えば、溶液６中に、ウェハ支持
用ホルダー１０上にウェハ２がセットされている状態で
、別の移動アーム１が取りにくる動作を行う。
す。これにより、各種の溶液６中でウェハ処理が次々に
実施されていくのである。別の移動アーム１ヘウエ八２
が移される場合には、例えば、溶液６中に、ウェハ支持
用ホルダー１０上にウェハ２がセットされている状態で
、別の移動アーム１が取りにくる動作を行う。
ここで、ウェハ支持用ホルダー１０とウェハ搬送用ホル
ダー９とは同一ピッチの深溝ガイド１０ａ、９ａがそれ
ぞれ設けられており、ウェハ支持用ホルダー１０は、３
点でウェハ２と接して支持するように支持部１０ｂが３
個所に設けられている。一方、ウェハ搬送用ホルダー９
はウェハ２を２点で保持する。
ダー９とは同一ピッチの深溝ガイド１０ａ、９ａがそれ
ぞれ設けられており、ウェハ支持用ホルダー１０は、３
点でウェハ２と接して支持するように支持部１０ｂが３
個所に設けられている。一方、ウェハ搬送用ホルダー９
はウェハ２を２点で保持する。
さらにウェハ支持用ホルダー１０の支持部１０ｂは、ウ
ェハ搬送用ホルダー９のウェハ支持点より内側に位置す
るように配置して、ウェハ２の移し替えが支障なく行わ
れるようになされている。
ェハ搬送用ホルダー９のウェハ支持点より内側に位置す
るように配置して、ウェハ２の移し替えが支障なく行わ
れるようになされている。
なお上記実施例では、ウェハ搬送処理装置について述べ
たが、ウェハ搬送用ホルダ一部は、特に自動にすること
はなく、構造を満足しているマニュアル治具でもよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。
たが、ウェハ搬送用ホルダ一部は、特に自動にすること
はなく、構造を満足しているマニュアル治具でもよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。
また、上記実施例では、溶液槽間のウェハ搬送処理装置
について述べたが、空気中での搬送、例えば装置のウェ
ハローダ−間の受けわたしなどに適用してもよい。
について述べたが、空気中での搬送、例えば装置のウェ
ハローダ−間の受けわたしなどに適用してもよい。
以上のようにこの発明によれば、カセットを省略し、ウ
ェハ支持用ホルダーとウェハ搬送用ホルダーを設けたこ
とで、処理溶液を次の処理溶液中に持ち込む量が極めて
少なくなり、不純物、微粒子の持ち込みも極めて少なく
なったため、処理ウェハへの汚染が激減し、処理溶液の
液素性の変化が少なくなる、などの効果が得られる。
ェハ支持用ホルダーとウェハ搬送用ホルダーを設けたこ
とで、処理溶液を次の処理溶液中に持ち込む量が極めて
少なくなり、不純物、微粒子の持ち込みも極めて少なく
なったため、処理ウェハへの汚染が激減し、処理溶液の
液素性の変化が少なくなる、などの効果が得られる。
第１図は乙の発明の一実施例を示す斜視図、第２図イ、
口はその要部拡大図で、イはウェハ搬送用ホルダーの平
面図ａ１正面図ｂ１側面図Ｃ１０はウェハ支持用ホルダ
ーの平面図ａ１正面図ｂ１側面図Ｃ１第３図はこの発明
の一実施例によるウェハ搬送処理装置全体の正面図、第
４図は従来のウェハ搬送処理装置のウェハホールド部を
示す斜視図、第５図は従来のウェハ搬送処理装置全体の
正面図である。 図中、１は移動アーム、２はウェハ、４はチャック、５
はチャック支持アーム、９はウェハ搬送用ホルダー、９
１Ｌはガイド、１０はウェハ支持用ホルダー、１０＆は
ガイド、１０ｂは支持部である。 尚、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
口はその要部拡大図で、イはウェハ搬送用ホルダーの平
面図ａ１正面図ｂ１側面図Ｃ１０はウェハ支持用ホルダ
ーの平面図ａ１正面図ｂ１側面図Ｃ１第３図はこの発明
の一実施例によるウェハ搬送処理装置全体の正面図、第
４図は従来のウェハ搬送処理装置のウェハホールド部を
示す斜視図、第５図は従来のウェハ搬送処理装置全体の
正面図である。 図中、１は移動アーム、２はウェハ、４はチャック、５
はチャック支持アーム、９はウェハ搬送用ホルダー、９
１Ｌはガイド、１０はウェハ支持用ホルダー、１０＆は
ガイド、１０ｂは支持部である。 尚、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (4)
- （１）半導体ウェハを定位置で、所定ピッチで複数枚立
てたまま保持するウェハ支持用ホルダーと、上記ホルダ
ーと同じピッチのガイドを有し、ウェハの両端からこの
ガイドによりウェハを保持するウェハ搬送用ホルダーと
、上記ウェハ搬送用ホルダーが上記ウェハを保持または
解放するよう、上記ウェハ搬送用ホルダーの開閉を行う
チャックとを備えたことを特徴とするウェハ搬送処理装
置。 - （２）ウェハ支持用ホルダーのウェハを支持する点を３
点以上としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のウェハ搬送処理装置。 - （３）ウェハ搬送用ホルダーのウェハを支持する点を２
点以上としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のウェハ処理搬送装置。 - （４）ウェハ支持用ホルダーのウェハ支持点を、ウェハ
搬送用ホルダーのウェハ支持点より内側に設けたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のウェハ搬送処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61259019A JPS63111637A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | ウエハ搬送処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61259019A JPS63111637A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | ウエハ搬送処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63111637A true JPS63111637A (ja) | 1988-05-16 |
Family
ID=17328221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61259019A Pending JPS63111637A (ja) | 1986-10-29 | 1986-10-29 | ウエハ搬送処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63111637A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05152423A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-06-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 表面処理装置 |
| JPH0549290U (ja) * | 1991-12-04 | 1993-06-29 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウエハ保持装置 |
| JPH05200689A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-08-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ウエハ保持装置およびその保持方法 |
| JPH05335401A (ja) * | 1992-05-28 | 1993-12-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ用移送装置 |
| JPH0631147U (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置における基板の方向変換装置 |
| JPH07106408A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Kaijo Corp | 基板保持カセット |
-
1986
- 1986-10-29 JP JP61259019A patent/JPS63111637A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05152423A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-06-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 表面処理装置 |
| JPH05200689A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-08-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ウエハ保持装置およびその保持方法 |
| JPH0549290U (ja) * | 1991-12-04 | 1993-06-29 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウエハ保持装置 |
| JPH05335401A (ja) * | 1992-05-28 | 1993-12-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ用移送装置 |
| JPH0631147U (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置における基板の方向変換装置 |
| JPH07106408A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Kaijo Corp | 基板保持カセット |
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