JP2530549B2 - 基板滴受け装置、基板移送装置および基板洗浄システム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は基板滴受け装置、基板
移送装置および基板洗浄システムに関し、さらに詳細に
は、半導体基板や液晶ガラス基板等の薄板状の基板に洗
浄処理を施す技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板洗浄システム、例えば、従
来の半導体基板（以下、「ウェハ」と称する）の洗浄シ
ステムの一般的構成は、複数の洗浄槽が横方向へ一列に
配設され、その一端側に基板搬入部が設けられるととも
に、その他端側に基板搬出部が設けられてなり、基板搬
送処理装置が、これら洗浄槽の配列方向へ洗浄槽と平行
に移動可能とされてなる。

【０００３】また、この基板搬送処理装置としては、ウ
ェハの洗浄効率を高めるとともに洗浄液の汚染を防止す
るため、ウェハのみを搬送処理するいわゆるカセットレ
スタイプのものが一般的になりつつある。

【０００４】そして、上記システムの基板搬入部におい
て、搬送用カセットから取り出されたウェハは、上記基
板搬送処理装置に保持されて、順次上記洗浄槽に浸漬さ
れて洗浄処理された後、基板搬出部において、上記カセ
ットに収納されて搬出される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成では以下のような問題点があった。すなわち、
複数の洗浄槽が基板搬入部から基板搬出部まで一直線上
に配置されているため、システムの全体構成は、間口が
広くかつ奥行きが短い横長形状とされて、上記間口の部
位が作業者用のオペレーターゾーンとされている。

【０００６】そして、これら基板洗浄システムが設置さ
れる洗浄室においては、上記システムは作業者用通路に
沿って横長状態で複数台並べられることとなる。

【０００７】ところが、このような配列構造では、作業
者の作業範囲が広くて、作業負担が増すとともに、ユー
ティリティゾーンを広く確保することができないため、
ユーティリティゾーンでのメンテナンスが面倒となる不
具合があった。

【０００８】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、限られた洗浄室空間を有効利用で
きるコンパクトな基板洗浄システムを提供するととも
に、このシステムに適用される基板滴受け装置およびこ
れを備えた基板移送装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の基板洗浄システムは、複数の洗浄槽を備え
る洗浄槽列が２列平行に並設されてなり、一方の洗浄槽
列の一端側に基板搬入部が設けられ、他方の洗浄槽列の
一端側に基板搬出部が設けられ、およびこれら両洗浄槽
列の他端側間に基板移送部が設けられ、上記各洗浄槽列
に、基板搬送処理装置がそれぞれ配置されるとともに、
上記基板移送部に基板移送装置が装置されていることを
特徴とする。

【００１０】また、本発明の滴受け装置は、一方の洗浄
槽から他方の洗浄槽へ基板を複数枚まとめて移送する基
板移送装置と共に使用される装置であって、上記基板移
送装置に保持された基板から落下する洗浄液等の滴を受
ける滴受け手段と、この滴受け手段を駆動させる駆動手
段とを備えてなり、この滴受け手段は、上記基板移送装
置の基板受渡し時において、滴受け位置から退避して位
置するとともに、基板移送装置の移送時において、上記
滴受け位置に位置するように構成されていることを特徴
とする。

【００１１】さらに、本発明の基板移送装置は、上記滴
受け装置を備えてなり、基板の下部両側縁部を把持する
左右一対の受渡しアームが、開閉可能に設けられるとと
もに、基板を浸漬する浸漬位置と基板を移送する移送高
さ位置との間で昇降可能とされ、上記滴受け装置の滴受
け手段は、基板受渡し時において、上記受渡しアームの
昇降経路から退避して位置するとともに、基板移送時に
おいて、上記滴受け位置に位置するように構成されてい
ることを特徴とする。

【００１２】

【作用】本発明の洗浄システムにおいては、基板搬入部
に搬入されたウェハが、基板搬送処理装置に保持され
て、順次搬入側洗浄槽列の洗浄槽に浸漬されて洗浄処理
された後、基板移送部の基板移送装置により、搬出側洗
浄槽列の基板搬送処理装置に受け渡される。今度はこの
基板搬送処理装置に保持されて、順次搬出側洗浄列の洗
浄槽に順次浸漬された後、基板搬出部から搬出される。

【００１３】上記基板移送部においては、基板移送装置
に備えられた滴受け装置が、基板移送装置に保持された
基板から落下する洗浄液等の滴を受け止め、基板移送部
床面への滴の落下を有効に防止する。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。

【００１５】本発明に係る基板洗浄システムを図１およ
び図２に示し、この基板洗浄システムは、複数枚のウェ
ハＷ，Ｗ，…をカセットレスで一括して行うもの（バッ
チ式）であって、高清浄度雰囲気に維持される洗浄部Ａ
内に、２列平行に並設された左右一対の洗浄槽列Ｂ，Ｃ
を備えてなる。

【００１６】一方の洗浄槽列Ｂの一端側に基板搬入部Ｄ
が設けられるとともに、他方の洗浄槽列Ｃの一端側に基
板搬出部Ｅが設けられ、これら両洗浄槽列Ｂ，Ｃの他端
側間に基板移送部Ｆが設けられている。また、基板搬入
部Ｄと基板搬出部Ｅ間には、カセット移送部Ｇが設けら
れている。

【００１７】基板搬入部ＤはウェハＷ，Ｗ，…が前工程
から搬入される部位で、図示しないウェハ搬入用ローダ
装置を備えている。このウェハ搬入用ローダ装置は、矢
符(1),(2) の経路で連続的に搬入されてくるカセット
１，１，…から、ウェハＷ，Ｗ，…のみをそれぞれ取り
出し（矢符(3))、ウェハＷ，Ｗ，…が取り出された空カ
セット１´，１´、…は、矢符(10)の経路でカセット移
送部Ｇへ送られる。

【００１８】搬入側の洗浄槽列Ｂは、複数の洗浄槽を備
えるとともに、これら洗浄槽の側部に、基板搬送処理装
置２が配設されている。図示例においては５つの洗浄槽
Ｂ₁〜Ｂ₅ が設けられており、具体的には、洗浄槽Ｂ₁
は基板搬送処理装置２のチャックを洗浄するチャック洗
浄槽、洗浄槽Ｂ₂ および洗浄槽Ｂ₃ は硫酸（Ｈ₂ Ｓ
Ｏ₄ ）と過酸化水素水（Ｈ₂ ０₂ ）が満たされている洗
浄槽、洗浄槽Ｂ₄ は６０℃程度の温かい純水が満たされ
ている純水槽、ならびに洗浄槽Ｂ₅ は基板移送部Ｆへの
ウェハＷの受渡しを行う受渡し水槽である。

【００１９】また、上記基板搬送処理装置２は、基板搬
入部Ｄでカセット１から取り出されたウェハＷ，Ｗ，…
をカセットレスで搬送処理する構造とされ、上記洗浄槽
Ｂ₁〜Ｂ₅ の配列方向（矢符(4) 方向）へ平行に往復移
動可能とされている。この基板搬送処理装置２の具体的
構造は、後述する基板移送部Ｆの基板移送装置３とほぼ
同様な基本構造を備える。

【００２０】上記搬入側洗浄槽列Ｂに続く基板移送部Ｆ
は、この搬入側浄槽列Ｂから搬出側洗浄槽列Ｃへウェハ
Ｗ，Ｗ，…を移送する部位で、基板移送装置３を備えて
なり、その具体的構造を図２ないし図７に示す。

【００２１】この基板移送装置３は、搬入側洗浄槽列Ｂ
の受渡し槽Ｂ₅ から搬出側洗浄槽列Ｃの受渡し槽Ｃ₁ へ
ウェハＷ，Ｗ，…を移送するためのもので、具体的には
基板滴受け装置４との一体構成とされ、図３，図４およ
び図７に示すように、基台１０、昇降ロッド１１および
基板把持部１２を備えてなる。

【００２２】基台１０は、搬入側洗浄槽列Ｂの受渡し水
槽Ｂ₅ と後述する搬出側洗浄槽列Ｃの受渡し水槽Ｃ₁ 間
において水平方向へ移動可能に配置されるとともに、駆
動源である水平駆動機構１５に連係されており、この基
台１０の移動に伴って、基板把持部１２が受渡し水槽Ｂ
₅ ，Ｃ₁ 間で往復移動される。

【００２３】昇降ロッド１１は、図３に示すように、上
記基台１０の上部に起立状にかつ昇降可能に設けられる
とともに、駆動源であるボールねじ１６に連係されてい
る。つまり、中空パイプ状の昇降ロッド１１の下端にボ
ールねじ１６のナット体１６ａが取付けられており、図
示しない駆動モータによりねじ軸１６ｂが回転駆動され
ると、ナット体１６ａと一体となった昇降ロッド１１が
上下方向へ昇降動作され、これに伴って、ねじ軸１６ｂ
も昇降ロッド１１内に挿通可能とされている。

【００２４】この昇降ロッド１１の昇降動作により、基
板把持部１２が、上記両受渡し水槽Ｂ₅ ，Ｃ₁ 内にウェ
ハＷ，Ｗ，…を浸漬する浸漬位置（図３に二点鎖線で示
す下降位置）と、ウェハＷ，Ｗ，…を移送する移送高さ
位置（図３および図５に実線で示す上昇位置）との間で
昇降される。

【００２５】基板把持部１２は、左右一対の受渡しアー
ム２０，２０、これらを支持する支持アーム２１および
開閉用エアシリンダ２２を備えてなる。

【００２６】一対の受渡しアーム２０，２０は、ウェハ
Ｗ，Ｗ，…を両側から把持するもので、上記支持アーム
２１の先端に上記開閉用エアシリンダ２２を介して設け
られている。受渡しアーム２０の下端部には上下２段の
把持爪２０ａ，２０ｂが設けられており、これら把持爪
２０ａ，２０ｂの把持溝群（図示省略）により、各ウェ
ハＷの下部両側縁部を把持する。

【００２７】支持アーム２１は、上記昇降ロッド１１上
端から水平に延びて設けられており、その先端に上記受
渡しアーム２０，２０が支持されている。

【００２８】開閉用エアシリンダ２２は支持アーム２１
の先端支持部に設けられており、図示しないが、そのピ
ストンロッドが従来周知の開閉機構を介して上記受渡し
アーム２０，２０に連係されており、このピストンロッ
ドの突出退入動作により、上記受渡しアーム２０，２０
が開閉制御される。

【００２９】基板滴受け装置４は上記基板移送装置３と
共に使用されるものであって、具体的には基板移送装置
３の基台１０上に装着されるとともに、図３ないし図７
に示すように、滴受けカバー（滴受け手段）２５および
駆動部（駆動手段）２６を主要部として備えてなる。

【００３０】滴受けカバー２５は、基板移送装置３に保
持されたウェハＷ，Ｗ，…から落下する洗浄液等の滴を
受けるためのもので、具体的には図３ないし図５に示す
ような上向きのスプーン形状に形成されている。この滴
受けカバー２５の両側基端上部２５ａ，２５ａには、支
軸３０，３０がそれぞれ同軸状に一体固定され、これら
が装置本体３１に回動可能に枢支されて、滴受けカバー
２５が上下方向へ揺動可能とされている。

【００３１】装置本体３１は、図４および図７に示すよ
うに、上記基板移送装置３の基板把持部１２の両側に配
置された二つの中空ハウジング３１ａ，３１ｂからな
り、基板把持部１２の移送高さ位置に配置されている
（図３および図５参照）。これら両中空ハウンジグ３１
ａ，３１ｂは、接続プレート３２により相互に一体的に
接続されるとともに（図４参照）、それぞれ水平支持ロ
ッド３３ａおよび垂直支持ロッド３３ｂを介して、上記
基台１０上に固定的に支持されている（図５参照）。

【００３２】駆動部２６は滴受けカバー２５を揺動させ
るもので、図５および図６に示すように、エアシリンダ
３５と駆動レバー３６を備えてなり、これらは装置本体
３１の一方の中空ハウジング３１ａに内装されている。

【００３３】エアシリンダ３５は、そのシリンダ本体３
５ａが、支持ピン３７を介して上記中空ハウジング３１
ａの支持部３８に枢支連結されるとともに、そのピスト
ンロッドの先端ブラケット３５ｂが、クランクレバーの
形態とされた上記駆動レバー３６を介して上記支軸３０
に連係されている。この駆動レバー３６は、その基端３
６ａが支軸３０に一体的に固定されるとともに、その先
端３６ｂが連結ピン３９を介して上記先端ブラケット３
５ｂに枢支連結されている。

【００３４】しかして、上記エアシリンダ３５のピスト
ンロッドの突出退入動作により、滴受けカバー２５が支
軸３０を支点として揺動される。つまり、上記ピストン
ロッドが突出すると、滴受けカバー２５は図５に二点鎖
線で示す垂下状態位置へ揺動配置されて、上記受渡しア
ーム２０，２０の昇降経路から退避して位置し、一方、
上記ピストンロッドが退入すると、図３〜図５および図
７に実線で示す水平状態位置つまり滴受け位置へ揺動配
置される。

【００３５】搬出側洗浄槽列Ｃは、前述した搬入側洗浄
槽列Ｂと同様、複数の洗浄槽を備えるとともに、これら
洗浄槽の側部に、基板搬送処理装置２が配設されてい
る。図示例においては４つの洗浄槽Ｃ₁ 〜Ｃ₄ とスピン
ドライヤＣ₅ が設けられてなり、具体的には、洗浄槽Ｃ
₁ は基板移送部ＦからのウェハＷの受渡しを行う受渡し
槽、洗浄槽Ｃ₂ はアンモニア水（ＮＨ₄ ＯＨ）が満たさ
れているスタンダード・クリーニング槽、洗浄槽Ｃ₃ は
６０℃程度の温かい純水が満たされている純水槽、洗浄
槽Ｃ₄ は最後にウェハＷ，Ｗ，…を濯ぐファイナル・リ
ンス槽であり、またスピンドライヤＣ₅ は、ウェハＷ，
Ｗ，…をスピンさせて水を遠心分離しながら乾燥させる
乾燥部として機能する。

【００３６】また、上記基板搬送処理装置２は、前述し
たように上記基板移送装置３と同様な基本構造を備え
る。図示しないが、具体的には３台の基板搬送処理装置
２ａ〜２ｃを備え、基板搬送処理装置２ａが受渡し槽Ｃ
₁ から純水槽Ｃ₃ までの搬送処理を行い、基板搬送処理
装置２ｂが純水槽Ｃ₃ からスピンドライヤＣ₅ までの搬
送処理を行い、また、基板搬送処理装置２ｂがスピンド
ライヤＣ₅ から基板搬出部Ｅまでの搬送処理を行う構成
とされている。

【００３７】これら各基板搬送処理装置２ａ〜２ｃは、
上記洗浄槽Ｃ₁ 〜Ｃ₄ およびスピンドライヤＣ₅ の配列
方向（矢符(6) 方向）へそれぞれ平行に移動可能とされ
るとともに、相互に同期して連動するように駆動制御さ
れ、受渡し槽Ｃ₁ で受け取ったウェハＷ，Ｗ，…を、順
次上記Ｃ₂ 〜Ｃ₄ に浸漬させた後スピンドライヤＣ₅で
乾燥処理させる。

【００３８】空カセット移送部Ｇは基板搬入部Ｄから基
板搬出部Ｅへ空カセット１´を移送する部位で、空カセ
ット移送装置４０を備えるとともに、その移送経路(11)
の中途箇所には空カセット用洗浄槽４１が設けられてい
る。空カセット移送装置４０は、基板搬入部Ｄでウェハ
Ｗ，Ｗ，…が取り出された空カセット１´，１´、…を
把持して、空カセット用洗浄槽４１に浸漬して洗浄処理
を施した後、基板搬出部Ｅへ移送する。

【００３９】基板搬出部ＥはウェハＷ，Ｗ，…が次工程
へ搬出される部位で、図示しないウェハ搬出用ローダ装
置を備えている。このウェハ搬出用ローダ装置は、カセ
ット移送部Ｇを介して矢符(10),(11),(12)の経路で連続
的に移送されてくる空カセット１´，１´，…に、洗浄
槽列Ｂ，Ｃでの洗浄処理が済んだウェハＷ，Ｗ，…をそ
れぞれ収納し（矢符(7))、このウェハＷ，Ｗ，…が収納
されたカセット１，１は矢符(8)(9)の経路で次工程へ搬
出される。

【００４０】次に、以上のように構成された基板洗浄シ
ステムにおけるウェハＷ，Ｗ，…の洗浄処理工程につい
て説明する（図１および図２参照）。なお、この洗浄処
理工程は、各部位における構成装置２，３，４などが互
いに同期して制御されることにより、ウェハＷ，Ｗ，…
の搬入から搬出まで全自動で行われる。

【００４１】Ａ．ウェハＷ，Ｗ，…の搬入：前工程の終
了したウェハＷ，Ｗ，…はカセット１内に収納された状
態で、図示しない搬入コンベア等の搬入手段により基板
搬入部Ｄに搬入され（矢符(1),(2)参照) 、ここでカセ
ット１からウェハＷ，Ｗ，…のみが取り出されるととも
に（矢符(3))、空カセット１´はカセット移送部Ｇで洗
浄処理されながら基板搬出部Ｅへ移送される（矢符(1
0),(11),(12)参照) 。

【００４２】Ｂ．ウェハＷ，Ｗ，…の洗浄：基板搬入部
Ｄでカセット１から取り出されたウェハＷ，Ｗ，…は、
搬入側洗浄槽列Ｂの基板搬送処理装置２に保持されて、
各洗浄槽Ｂ₁ 〜Ｂ₄ に順次浸漬されて洗浄処理が施され
た後、受渡し水槽Ｂ₅ に浸漬される（矢符(4) 参照) 。

【００４３】続いて、基板移送装置３が、この受渡し水
槽Ｂ₅ 内に待機するウェハＷ，Ｗ，…を把持して移送し
（矢符(5) 参照) 、搬出側洗浄槽列Ｃの受渡し槽Ｃ₁ へ
浸漬する（受渡す）。この移送時において、基板滴受け
装置４の滴受けカバー２５がウェハＷ，Ｗ，…から落下
する洗浄液等の滴を受け止め、基板移送部Ｆ床面への滴
の落下を有効に防止する。

【００４４】この場合、滴受けカバー２５は、基板移送
装置３の基板受渡し時つまり受渡しアーム２０，２０の
昇降時において、この受渡しアーム２０，２０の昇降経
路から退避した垂下状態位置（図５の二点鎖線位置）に
あるとともに、基板移送装置３の移送時つまり受渡しア
ーム２０，２０が移送高さ位置（図３および図５の実線
参照）にある時、水平状態の滴受け位置（図３〜５およ
び図７の実線位置）にある。

【００４５】受渡し槽Ｃ₁ から基板搬送処理装置２（具
体的には前述したように３台の基板搬送処理装置２ａ，
２ｂ，２ｃを備える）により持ち上げられ保持されたウ
ェハＷ，Ｗ，…は、今度は搬出側洗浄槽列Ｃの各洗浄槽
Ｃ₂ 〜Ｃ₄ に順次浸漬されて洗浄処理が施された後、ス
ピンドライヤＣ₅ で乾燥処理される（矢符(6) 参照)。

【００４６】Ｃ．ウェハＷ，Ｗ，…の搬出：上記両洗浄
槽列Ｂ，Ｃでの洗浄工程が終了したウェハＷ，Ｗ，…
は、基板搬出部Ｅにおいて、空カセット１´内に再び収
納された後（矢符(7))、図示しない搬入コンベア等の搬
入手段により次の工程へ向けて搬送される（矢符(8),
(9) 参照）。

【００４７】なお、上記空カセット１´は、上記ウェハ
Ｗ，Ｗ，…が搬入時に収納されていたものであって、こ
れらウェハＷ，Ｗ，…の洗浄と並行して、カセット移送
部Ｇを通って基板搬出部Ｅへ予め移送され、ここで上記
ウェハＷ，Ｗ，…の洗浄工程が終了するのを待機してい
る。

【００４８】なお、上述した実施例はあくまでも本発明
の好適な実施態様を示すためのものであって、本発明は
これに限定して解釈されるべきでなく、本発明の範囲内
で種々設計変更可能である。

【００４９】例えば、本発明の滴受け装置４を備えた基
板移送装置３は、図示例のような一対の洗浄槽列Ｂ，Ｃ
を有するシステム構成だけでなく、他のシステム構成に
も適用可能であり、また、滴受け装置４は、図示例のよ
うな基板移送装置３のほか、洗浄槽間距離が大きな基板
搬送処理装置、あるいはカセットごと洗浄槽に浸漬され
る形式の搬送処理装置にも適用可能である。さらに、基
板搬送処理装置２あるいは空カセット移送装置４０の設
置数も、対象となるシステムの構成および目的に応じて
適宜増減される。

【００５０】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
以下に述べる種々の特有の効果が得られる。

【００５１】すなわち、基板洗浄システムの洗浄部は、
２列に配列された複数の洗浄槽を備える洗浄槽列からな
るから、基板洗浄システムの全体構成が、間口が狭くか
つ奥行きが長い縦長形状とされ、これにより、複数台の
基板洗浄システムを、洗浄室内の作業者用通路に沿って
縦長状態で設置する配列構造をとることが可能となる。

【００５２】このような配列構造とすることにより、限
られた洗浄室空間を有効に利用することができ、作業者
用オペレータゾーンつまり作業者の作業範囲を小さくし
て、作業負担を減少することができ、一方、これと逆に
従来狭過ぎたユーティリティゾーンを広く確保して、こ
の部位のメンテナンスを容易に行うことができる。

【００５３】また、上記基板洗浄システムの基板移送部
において、基板移送装置と共に使用される基板滴受け装
置が設けられることにより、基板移送装置に保持された
基板から落下する洗浄液等の滴が、基板移送部床面への
落下することなく有効に集液され、床面を濡らすことが
ない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る一実施例である基板洗浄システム
の全体構成を一部切開して示す斜視図である。

【図２】同基板洗浄システムの全体構成を示す概略平面
図である。

【図３】同基板洗浄システムの基板移送装置と基板滴受
け装置を一部省略して示す側面断面図で、図４における
III-III 線に沿ってみた状態を示している。

【図４】同基板移送装置と基板滴受け装置を一部切開し
て示す正面図である。

【図５】同基板移送装置と基板滴受け装置を図４のＶ−
Ｖ線に沿って示す側面断面図である。

【図６】同滴受け装置の駆動手段を一部省略して示す平
面断面図で、図４および図５におけるVI-VI 線に沿って
みた状態を示している。

【図７】同基板移送装置と基板滴受け装置を図５のVII-
VII 線に沿って示す正面断面図である。

【符号の説明】

１ カセット １´ 空カセット ２（２ａ〜２ｃ） 基板搬送処理装置 ３ 基板移送装置 ４ 基板滴受け装置 ２０ 基板移送装置の受渡しアーム ２５ 基板滴受け装置の滴受けカバー（滴
受け手段） ２６ 基板滴受け装置の駆動部（駆動手
段） ３０ 受渡しアームの支軸 ３１ 基板滴受け装置の装置本体 ３３ａ，３３ｂ 基板滴受け装置の支持ロッド ３５ 基板滴受け装置のエアシリンダ ３６ 基板滴受け装置の駆動レバー ４０ 空カセット移送装置 ４１ 空カセット用洗浄槽 Ｗ ウェハ Ａ 洗浄部 Ｂ 搬入側洗浄槽列 Ｂ₁ 〜Ｂ₅ 搬入側洗浄槽 Ｃ 搬出側洗浄槽列 Ｃ₁ 〜Ｃ₅ 搬出側洗浄槽 Ｄ 基板搬入部 Ｅ 基板搬出部 Ｆ 基板移送部 Ｇ カセット移送部

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の洗浄槽から他方の洗浄槽へ基板を
   複数枚まとめて移送する基板移送装置と共に使用される
   装置であって、 上記基板移送装置に保持された基板から落下する洗浄液
   等の滴を受ける滴受け手段と、この滴受け手段を駆動さ
   せる駆動手段とを備えてなり、 この滴受け手段は、上記基板移送装置の基板受渡し時に
   おいて、滴受け位置から退避して位置するとともに、基
   板移送装置の移送時において、上記滴受け位置に位置す
   るように構成されていることを特徴とする滴受け装置。
2. 【請求項２】 上記滴受け手段は上向きのスプーン形状
   とされ、その基端部が装置本体に揺動可能に枢支される
   とともに、その一部が上記駆動手段に連結されてなり、 この滴受け手段は、上記基板移送装置の基板受渡し時に
   おいて、垂下状態位置へ揺動配置されるとともに、基板
   移送装置の移送時において、水平状態位置へ揺動配置さ
   れる請求項１に記載の滴受け装置。
3. 【請求項３】 上記駆動手段はエアシリンダであって、
   そのシリンダ本体が上記装置本体に枢支連結されるとと
   もに、そのピストンロッドが上記滴受け手段に枢支連結
   されている請求項２に記載の滴受け装置。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれか一つに
   記載の滴受け装置を備えてなり、 基板の下部両側縁部を把持する左右一対の受渡しアーム
   が、開閉可能に設けられるとともに、基板を浸漬する浸
   漬位置と基板を移送する移送高さ位置との間で昇降可能
   とされ、 上記滴受け装置の滴受け手段は、基板受渡し時におい
   て、上記受渡しアームの昇降経路から退避して位置する
   とともに、基板移送時において、上記滴受け位置に位置
   するように構成されていることを特徴とする基板移送装
   置。
5. 【請求項５】 複数の洗浄槽を備える洗浄槽列が２列平
   行に並設されてなり、 一方の洗浄槽列の一端側に基板搬入部が設けられ、他方
   の洗浄槽列の一端側に基板搬出部が設けられ、およびこ
   れら両洗浄槽列の他端側間に基板移送部が設けられ、 上記各洗浄槽列に、基板搬送処理装置がそれぞれ配置さ
   れるとともに、上記基板移送部に請求項４に記載の基板
   移送装置が装置されていることを特徴とする基板洗浄シ
   ステム。