JPH1012586A

JPH1012586A - 処理装置および処理方法

Info

Publication number: JPH1012586A
Application number: JP8178415A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Nishida; 辰也西田; Kenji Miyaji; 健次宮地; Hidejiro Oka; 秀治郎岡
Original assignee: OHMIYA KOGYO CO Ltd; OOMIYA KOGYO KK; Tokyo Electron Ltd
Current assignee: OHMIYA KOGYO CO Ltd; OOMIYA KOGYO KK; Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1996-06-18
Filing date: 1996-06-18
Publication date: 1998-01-16
Anticipated expiration: 2016-06-18
Also published as: KR980005774A; US6187060B1; KR100432269B1; TW339449B; US5960562A; JP3624054B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】回転処理部に被処理体を収納した後、直ちに
被処理体の回転を開始できる手段を提供する。【解決手段】複数枚の被処理体を一括して回転させて
乾燥処理する回転処理部１９と、被処理体の枚数に基づ
いてカウンターウェイトの位置を移動させることにより
該回転処理部をバランス調整するオートバランサ７５，
７６とを備えた処理装置において、前記回転処理部１９
に収納される被処理体の枚数を計数する計数手段と、予
め定めておいた被処理体の枚数とカウンターウェイトの
移動位置との関係に従って前記バランス調整機構のバラ
ンス調整を制御する制御手段とを設けたことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウェ
ハなどの被処理体に回転を与え、被処理体の表面に付着
した液体などを回転による遠心力で飛散させる工程を含
んだ処理を行う処理装置と方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）表面
のパーティクル、有機汚染物等のコンタミネーションを
除去するために洗浄システムが使用されている。その中
でもウェハを処理部内の洗浄液に浸漬して洗浄するウエ
ット型の洗浄システムは、ウェハに付着したパーティク
ルを効果的に除去できる長所がある。

【０００３】このウエット型の洗浄システムは、連続バ
ッチ処理を可能とするため、例えば２５枚のウェハをキ
ャリア単位で装置内にロードするローダと、このローダ
によってロードされたキャリア２個分の５０枚のウェハ
を一括して搬送する搬送手段と、この搬送手段によって
搬送される５０枚のウェハをバッチ式に洗浄、乾燥する
ように配列されたユニットとしての処理部を備え、さら
に各処理部によって洗浄、乾燥されたウェハをアンロー
ドするアンローダとを備えた、ウエットステーションと
呼ばれ、広く使用されている。このウエットステーショ
ンの各処理部では、アンモニア処理、フッ酸処理、硫酸
処理、塩酸処理などの各種薬液処理と、純水などによる
水洗処理とが交互に行われ、更に最終的に、乾燥処理が
行われる。

【０００４】ウェハの乾燥処理を行う処理部としては、
ウェハを回転させて遠心力でウェハ表面の処理液を振り
飛ばして乾燥させる回転式の処理部と、ウェハの表面に
親水性の高いＩＰＡ［イソプロピルアルコール：（ＣＨ
₃）₂ＣＨＯＨ］の蒸気を供給しつつ排水して乾燥を行う
ＩＰＡ処理部とが、従来より公知になっている。そし
て、回転処理部はいわゆるスピンドライヤなどとも呼ば
れており、ＩＰＡ処理部に比べて構造が簡単で、防爆機
構なども不要でランニングコストも低廉であるといった
長所を有している。従来、この回転式の乾燥処理部に関
して、例えば実開平５−８３８７０号のスピンドライヤ
が公知になっている。

【０００５】ここで従来の回転式の乾燥処理部を簡単に
説明すると、図１１に示す如く、回転処理部内に配置さ
れる処理室２００内に一対の回転軸２０１、２０２が直
列に設けてあり、回転軸２０１にはモータ２０３の回転
動力が伝達される。回転軸２０２は従動軸である。これ
ら回転軸２０１、２０２には、処理室２００内において
ロータ２０５、２０６がそれぞれ取り付けられ、これら
ロータ２０５とロータ２０６との間に掛け渡された拘束
機構２０７、２０８によって複数枚のウェハＷが並列状
態で一括して保持されている。拘束機構２０７、２０８
のウェハＷと当接する側の面には、図１２に示すよう
に、多数の溝２１０が一定の間隔で刻設され、ウェハＷ
の周縁部をこれら溝２１０にそれぞれ挿入させることに
より、拘束機構２０７、２０８の間に複数のウェハＷを
互いに一定間隔の距離を保った状態で並列に保持してい
る。

【０００６】また、処理室２００には、図示しない吸気
口と排気口が接続されており、これら吸排気口を介して
処理室２００内に清浄な空気を流通させながらモータ２
０３の動力によってウェハＷを回転させることにより、
ウェハＷに付着している水分を遠心力で飛散させ、ま
た、清浄空気によってウェハＷを蒸発、乾燥させること
ができるように構成されている。

【０００７】ところで、かような回転処理部において
は、ウェハＷの重心が回転中心（回転軸２０１、２０２
の回転中心）と一致していない場合がある。かかる状態
でそのままウェハＷを回転させると重量バランスがくず
れ、回転中に振動を生ずる心配がある。このため、騒音
防止や装置の耐久性の向上といった観点から、ウェハＷ
の回転に伴って発生する振動が大きくならないようにバ
ランスを調整し、軸ぶれを押さえる必要がある。そこ
で、ウェハＷと一緒に回転する回転軸２０１、２０２に
オートバランサ２１１、２１２を装着して一体的に回転
させ、それらオートバランサ２１１、２１２内に設けら
れたカウンターウェイトを適当な位置に移動させること
により、バランス調整を行っている。

【０００８】ここで、オートバランサ２１１、２１２は
何れも同様の構成を有しているので、回転軸２０１に装
着されているオートバランサ２１１について代表して説
明すると、図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、オート
バランサ２１１内には一対のカウンターウェイト２１
３、２１４が設けられており、回転軸２０１と共にこれ
らカウンターウェイト２１３、２１４も回転することに
より、遠心力２１５、２１６がそれぞれ働く構成になっ
ている。これらカウンターウェイト２１３、２１４の配
置角度は何れも３６０゜自由に移動させることができ、
図１３（ａ）に示す状態では、カウンターウェイト２１
３とカウンターウェイト２１４とが互いに正反対の位置
（１８０゜開いた位置）に配置されている。この場合、
回転時にカウンターウェイト２１３に働く遠心力２１５
とカウンターウェイト２１４に働く遠心力２１６は、互
いに反対方向となり、遠心力２１５と遠心力２１６の合
力は互いに打ち消しあって０になる。

【０００９】一方、図１３（ｂ）は、カウンターウェイ
ト２１３とカウンターウェイト２１４を、図１３（ａ）
に示す状態からそれぞれ所定の角度だけ移動させた状態
を示している。この場合は、回転時にカウンターウェイ
ト２１３に働く遠心力２１５とカウンターウェイト２１
４に働く遠心力２１６の合力２１７が作用することにな
る。このように、オートバランサ２１１、２１２内にお
いてカウンターウェイト２１３とカウンターウェイト２
１４の位置を任意に移動させることにより、カウンター
ウェイト２１３に働く遠心力２１５とカウンターウェイ
ト２１４に働く遠心力２１６の合力２１７の方向および
大きさを変えることができるように構成されており、こ
の合力２１７を利用して処理室２００内で回転させるウ
ェハＷのバランスを調整している。なお、オートバラン
サ２１１について代表して説明したが、オートバランサ
２１２も全く同様の構成を有している。

【００１０】ところで、バランス調整のためのオートバ
ランサ２１１、２１２内におけるカウンターウェイト２
１３、２１４の最適な位置を見つけ出す方法としては、
従来次のような方法が一般的に採用されている。即ち、
予め回転処理部の処理室２００内にウェハＷを収納した
状態で、カウンターウェイト２１３、２１４の位置を例
えば５゜ずつ変化させながらウェハＷを回転させて振動
を測定する操作を少なくとも一回以上行い、カウンター
ウェイト２１３、２１４の位置と振動値の関係を調べ、
その関係に基づいて、振動を最も小さくできるカウンタ
ーウェイト２１３、２１４の位置を決定する方法であ
る。

【００１１】しかし、この方法は、処理室２００内にウ
ェハＷを収納して実際にそれを回転させなければカウン
ターウェイト２１３、２１４の最適位置を見つけ出すこ
とができない。このため、ウェハＷを乾燥させるための
回転を開始する前に、少なくとも一回以上の余計な回転
操作を繰り返さなければならず、処理時間の短縮化をは
かり難い。また、この方法によると、バランスが調整さ
れていない状態でウェハＷを回転させる操作を避けるこ
とができないが、その際に振動が大きく発生する。

【００１２】一方最近では、回転処理部の処理室２００
内に収納したウェハＷの枚数とカウンターウェイト２１
３、２１４の位置との間に密接な関係があることが分か
ってきた。即ち、例えば最大５０枚のウェハＷを処理室
２００内に一括して収納し、それらを回転させて乾燥処
理できるように構成された回転処理部を例にしていえ
ば、処理室２００内に収納されるウェハの枚数が５０枚
の時はカウンターウェイト２１３、２１４を所定の角度
の位置に移動すれば良く、ウェハＷの枚数が４９枚の時
はカウンターウェイト２１３、２１４を別の所定の角度
の位置に移動すれば良く、ウェハＷの枚数が４８枚の時
はカウンターウェイト２１３、２１４を更に別の所定の
角度の位置に移動すれば良い、といったようにウェハＷ
の枚数が分かれば、振動を最も小さくするカウンターウ
ェイト２１３、２１４の位置が一義的に定まることが分
かった。このように、回転処理部においてウェハＷの枚
数とカウンターウェイト２１３、２１４の位置と関係を
予め調べておけば、実際の処理を行う場合は、ウェハＷ
の枚数さえ計数すればプリセットデータに従ってカウン
ターウェイト２１３、２１４の位置を調節すれば良く、
処理毎に余計な回転操作を繰り返さなくても済む。

【００１３】そこで、上記の実開平５−８３８７０号の
スピンドライヤでは、一対の発光器と受光器からなるカ
ウンタを回転処理部内に設けて、回転処理部内に収納し
たウェハの枚数をそのカウンタで計数し、その計数値に
基づいてバランス調整を行っている。この方法によれ
ば、ウェハを回転乾燥させる前に、余計な回転操作をし
なくて良い。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、実開平５−８
３８７０号のスピンドライヤは、回転処理部内に収納し
てからウェハの枚数の計数を開始し、バランスを調整し
ているため、回転処理部にウェハを収納した後、直ちに
ウェアの回転を開始することができない。例えばウエッ
ト型の洗浄システムでは、各洗浄部において予め洗浄さ
れリンスされることによって表面に水が付着した状態の
ウェハが回転処理部に収納されることになるが、そのよ
うな表面に水が付着したウェハを長時間放置すると、水
が自然蒸発してウェハの表面にいわゆるウォータマーク
を形成してしまう。

【００１５】また、実開平５−８３８７０号のスピンド
ライヤは回転処理部内にカウンタが配置されているが、
かような構造によると、ウェハを回転させた際に飛び散
った水が発光器や受光器に付着し、それら機器の作動不
良を招きやすい。更に、このスピンドライヤも、回転処
理部内にウェハを収納してから回転を開始するまでに時
間がかかるため、処理時間の短縮化をはかり難い。ま
た、回転処理部内はあまり広くない場合が多く、カウン
タを設けることは構造上困難なことも多い。

【００１６】本発明の目的は、回転処理部に被処理体を
収納した後、直ちに被処理体の回転を開始できる手段を
提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
枚の被処理体を一括して回転させて乾燥処理する回転処
理部と、被処理体の枚数に基づいてカウンターウェイト
の位置を移動させることにより該回転処理部をバランス
調整するバランス調整機構とを備えた処理装置におい
て、前記回転処理部に収納される被処理体の枚数を計数
する計数手段と、予め定めておいた被処理体の枚数とカ
ウンターウェイトの移動位置との関係に従って前記バラ
ンス調整機構のバランス調整を制御する制御手段とを設
けたことを特徴とする。

【００１８】請求項２の発明は、被処理体を処理する一
または二以上の処理部と、該処理部で処理された複数枚
の被処理体を一括して回転させて乾燥処理する回転処理
部と、被処理体の枚数に基づいてカウンターウェイトの
位置を移動させることにより該回転処理部をバランス調
整するバランス調整機構とを備えた処理装置において、
前記処理部での処理を開始する前に被処理体の枚数を計
数する計数手段と、予め定めておいた被処理体の枚数と
カウンターウェイトの移動位置との関係に従って前記バ
ランス調整機構のバランス調整を制御する制御手段とを
設けたことを特徴とする。

【００１９】これら請求項１または２の処理装置におい
て、請求項３に記載したように、前記制御手段は、遅く
とも前記回転処理部に被処理体を収納した時までに前記
バランス調整機構のバランス調整を終了しておくように
制御するものであることが好ましい。

【００２０】請求項４の発明は、回転処理部に収納した
被処理体の枚数に基づいてカウンターウェイトの位置を
移動させることにより該回転処理部をバランスを調整し
た後、複数枚の被処理体を一括して回転させて処理でき
るように構成された処理方法において、遅くとも前記回
転処理部に被処理体を収納した時までにバランスの調整
を終了しておき、前記回転処理部に被処理体を収納した
後、直ちに被処理体の回転を開始することを特徴とす
る。

【００２１】この請求項４の処理方法において、請求項
５に記載したように、前記回転処理部のバランス調整
は、予め定めておいた被処理体の枚数とカウンターウェ
イトの移動位置との関係に従って行うことができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を、被処理体の一例としてのウェハＷを洗浄するため
の洗浄システム１に基づいて説明する。図１は、洗浄シ
ステム１の斜視図である。

【００２３】この洗浄システム１は、キャリアＣ単位で
搬入された洗浄前のウェハＷをキャリアＣから整列した
状態で取り出す動作を行う搬入・取出部２と、この搬入
・取出部２で取り出された複数枚数の（例えば、キャリ
アＣ２個分の５０枚の）ウェハＷを一括してバッチ式に
洗浄、乾燥する洗浄乾燥処理部３と、この洗浄乾燥処理
部３で洗浄、乾燥されたウェハＷを、例えば２５枚ずつ
キャリアＣに装填してキャリアＣ単位で搬出する装填・
搬出部４の三つの箇所に大別することができる。

【００２４】搬入・取出部２には、洗浄前のウェハＷを
例えば２５枚収納可能なキャリアＣを搬入して載置させ
る搬入部５と、そのキャリアＣからウェハＷを取り出し
て整列させる取出部６が隣接して配置されており、更
に、キャリアＣを搬入部５から取出部６へ一度に適宜数
（例えば２個）ずつ移送するための移送装置７が設けら
れている。

【００２５】この実施の形態においては、洗浄乾燥処理
部３には、搬入・取出部２側から装填・搬出部４側の順
に、後述する搬送装置３０のウェハチャック３６を洗浄
および乾燥するための処理部１１、洗浄液を用いてウェ
ハＷを洗浄する処理部１２、この処理部１２で洗浄され
たウェハＷをリンス洗浄する処理部１３、１４、洗浄液
を用いてウェハＷを洗浄する処理部１５、この処理部１
５で洗浄されたウェハＷをリンス洗浄する処理部１６、
１７、後述する搬送装置３２のウェハチャック３８を洗
浄および乾燥するための処理部１８、および、各処理部
１１〜１７で洗浄されたウェハＷを回転させながら清浄
な空気を流通させることにより、ウェハＷに付着してい
る水分を遠心力で飛散させ、清浄空気によってウェハＷ
を乾燥させるための回転処理部１９が配列されている。

【００２６】そして、処理部１１と処理部１８では、例
えば純水などを用いてウェハチャック３６、３８の洗浄
をそれぞれ行い、更に、ウェハチャック３６、３８の乾
燥をそれぞれ行う。また、処理部１２と処理部１５で
は、互いに種類の異なる洗浄液による洗浄を行うのが一
般的である。その一例として、処理部１２では、例えば
アンモニア過水の如きアルカリ系洗浄液（ＮＨ₄ＯＨ／
Ｈ₂Ｏ₂／Ｈ₂Ｏ）を用いたいわゆるＳＣ１洗浄を行い、
ウェハＷ表面に付着している有機汚染物、パーティクル
等の不純物質を除去する。また、処理部１５では、例え
ば塩酸過水（ＨＣｌ＋Ｈ₂Ｏ₂）を用いたいわゆるＳＣ２
洗浄を行って、この酸系洗浄により金属イオンの除去、
ウェハＷ表面の安定化を図る。また、処理部１３、１
４、および処理部１６、１７では、例えば純水の如き洗
浄水を用いてウェハＷのリンス洗浄を行う。また、回転
処理部１９では、後述するようにウェハＷに回転を与え
て表面に付着した洗浄液を遠心力で飛散させ、清浄な空
気を流通させてウォーターマークを残すことのない乾燥
を行う。

【００２７】但し、各処理部１１〜１９の配列、組合わ
せはウェハＷに対する洗浄の種類によって任意に組み合
わせることができ、場合によってはある処理部を省略し
たり、逆に他の処理部を付加してもよい。例えば、硫酸
過水（Ｈ₂ＳＯ₄＋Ｈ₂Ｏ₂）洗浄を行う処理部などが組み
合わされる場合もある。なお、ウェハＷの乾燥を行う回
転処理部１９は最も最後に配置されるのが一般的であ
る。

【００２８】装填・搬出部４には、先に説明した搬入・
取出部２の取出部６と同様の構成を有する装填部２０、
搬入部５と同様の構成を有する搬出部２１、および、移
送装置７と同様の構成を有する移送装置（図示せず）が
それぞれ設けられている。

【００２９】そして、洗浄乾燥処理部３の前面側（図１
における手前側）には、搬入・取出部２側から装填・搬
出部４側の順に、三つの搬送装置３０、３１、３２が配
列されており、これら各搬送装置３０、３１、３２は、
何れもガイド３３に沿って洗浄システム１の長手方向に
スライド移動自在に構成されている。各搬送装置３０、
３１、３２は、それぞれ対応するウェハチャック３６、
３７、３８を備えていて、各搬送装置３０、３１、３２
はそのウェハチャック３６、３７、３８によって所定枚
数のウェハＷ（例えばキャリアＣ二個分の５０枚のウェ
ハＷ）を一括して把持することが可能である。これらの
内、搬入・取出部２側に位置する搬送装置３０は、その
ウェハチャック３６で所定枚数のウェハＷを保持してガ
イド３３に沿ってスライド移動することにより、搬入・
取出部２の取出部６から取り出したウェハＷを、洗浄乾
燥処理部３において処理部１２、１３、１４の順に一括
して搬送する。また、中央に位置する搬送装置３１は、
そのウェハチャック３７で所定枚数のウェハＷを保持し
てガイド３３に沿ってスライド移動することにより、洗
浄乾燥処理部３において処理部１４、１５、１６、１７
の順にウェハＷを一括して搬送する。また、装填・搬出
部４側に位置する搬送装置３２は、そのウェハチャック
３８で所定枚数のウェハＷを保持してガイド３３に沿っ
てスライド移動することにより、洗浄乾燥処理部３にお
いて処理部１７、回転処理部１９の順にウェハＷを一括
して搬送し、更に、回転処理部１９から装填・搬出部４
の搬出部２０にウェハＷを一括して搬送する。

【００３０】ここで、前述の搬入・取出部２に設けられ
ている取出部６の詳細について図２、図３に基づいて説
明すると、この取出部６の上面には、シリンダ４０の短
縮稼働に従って下降する（図３における破線矢印方向に
移動する）可動ステージ４１が設けられている。またこ
の可動ステージ４１には、ウェハ保持台４２、４３が通
過自在な開口４４、４５が形成されており、これら各開
口４４、４５の周縁上方には、各開口４４、４５を挟ん
で、ガイド部材４６とプッシャ４７が対向配置されてい
る。前述の搬入部５から移送装置７によって取出部６に
移送された２つのキャリアＣは、これらガイド部材４６
とプッシャ４７によって位置決めされて、可動ステージ
４１上の所定の位置、即ちこれら各キャリアＣの各下面
に形成されている図示しない開口部と、前記各開口４
４、４５とが一致する位置で固定される。

【００３１】ウェハ保持台４２、４３の上面には、ウェ
ハＷの下端周縁部を受容して保持する保持溝５０が例え
ば２５本ずつ所定の間隔で形成されており、これらウェ
ハ保持台４２、４３は支柱５１の上端にそれぞれ固定さ
れて、常時は同じ高さを保っている。但し、手前側のウ
ェハ保持台４２を固定している支柱５１は、奥側のウェ
ハ保持台４３に近付く方向に移動できるように構成され
ている。

【００３２】整列部６の上方には、ウェハカウンタ５５
が設置されている。このウェハカウンタ５５は、ウェハ
保持台４２、４３の側方に沿って移動自在なＬ字型のガ
イド材５６と、このガイド材５６の上端に支持された湾
曲部材５７で構成される。湾曲部材５７の下面には、ウ
ェハ保持台４２、４３の上方においてそれぞれ同じ高さ
で対向する発光器６１と受光器６２、発光器６３と受光
器６４が配置されている。但し、発光器６３と受光器６
４は、発光器６１と受光器６２よりも少しだけ高い位置
に配置される。

【００３３】このウェハカウンタ５５のガイド材５６
は、通常は取出部６の最も手前側の位置に退避してい
る。そして、後述するように、ウェハ保持台４２、４３
によってウェハＷがキャリアＣから相対的に突き上げら
れると、ガイド材５６はウェハ保持台４２、４３の側方
に沿って移動する。この移動の際には、図３に示したよ
うに、湾曲部材５７の下側にて対向している発光器６１
と受光器６２が各ウェハＷの周縁部上端を挟む状態とな
り、発光器６１と受光器６２が各ウェハＷの周縁部上端
を通過する際に、発光部６１の光が当該ウェハＷの周縁
部上端によって遮断されるので、受光部６２は受光でき
ず、そのことによってウェハＷの存在を検知して、ウェ
ハＷの枚数を計数する。そして、この計数の後、手前側
のウェハ保持台４２を固定している支柱５１が移動し、
ウェハ保持台４２を奥側のウェハ保持台４３に近付ける
ことにより、いわゆる片寄せが行われてウェハＷが整列
した状態になる。

【００３４】なお、湾曲部材５７の上側にて対向してい
る発光器６３と受光器６４は、発光器６１と受光器６２
よりも少しだけ高い位置に配置されており、図３に示す
ガイド材５６の移動の際には、発光器６３から出た光は
各ウェハＷの周縁部上端よりも少しだけ上方の位置を通
過して受光器６４に入光するように設定されている。従
って、ウェハ保持台４２、４３によってキャリアＣから
相対的に突き上げられたウェハＷが、整列状態にはな
く、例えばある１枚のウェハが、ウェハ保持台４２、４
３の各保持溝５０に受容されず飛び出している場合（い
わゆるジャンプスロット状態の場合）は、前記発光器６
３からの光が、当該飛び出しているウェハＷによって遮
断されて、受光器６４で受光できないので、そのことに
よりウェハＷの整列状態の適否が検出できるようになっ
ていると共に、オリフラの角度のズレも検出できるよう
になっている。

【００３５】次に、この洗浄システム１の洗浄乾燥処理
部３に組み込まれる回転処理部１９の構成を、図４〜７
に基づいて詳細に説明する。

【００３６】図４に示すように、回転処理部１９の内部
に架台７０が設けられ、この架台７０の上にウェハＷを
回転処理する処理室７１が支持される。処理室７１の両
側面には一対の回転軸７２、７３が配設されており、回
転軸７２は従動軸であり、回転軸７３はモータ７４の稼
働によって回転される駆動軸である。

【００３７】また、これら回転軸７２、７３にバランス
調整機構としてのオートバランサ７５、７６を装着して
いる。これらオートバランサ７５、７６は回転軸７２、
７３と一体的に回転する。オートバランサ７５、７６
は、先に図１３で説明したものと同様の構成を備えてお
り、その内部にはバランス調整用のカウンタウェイトが
それぞれ二個ずつ内蔵されていて、それらカウンタウェ
イトの位置を移動させることにより、回転処理部１９の
処理室７１内に一括して収納されたウェハＷ全体のバラ
ンスを調整する構成となっている。

【００３８】処理室７１の上部は開口部８０に形成され
ており、この開口部８０を塞ぐための蓋体８１が、処理
室７１の一側面のブラケット８２を通る軸８３によって
支持されている。この軸８３を中心にして蓋体８１を上
方に持ち上げて回動させると、処理室７１の上部は開口
状態となる。図４において実線で示した蓋体８１は、上
方に持ち上げて処理室７１の上部を開口させた状態を示
している。逆に、軸８３を中心にして蓋体８１を下げる
ことにより処理室７１内を密閉することができる。図４
において一点鎖線で示した蓋体８１’は、蓋体を下げて
処理室７１内を密閉した状態を示している。この蓋体８
１の側面には、後述するように処理室７１内に給気され
る空気中の電荷を除去するためのイオナイザ８５が装着
してある。

【００３９】処理室７１の上方には、前述の搬送装置３
２のウェハチャック３８によって例えば５０枚まとめて
把持されたウェハＷが待機している。このように処理室
７１の上方に待機しているウェハＷは、既に各処理部１
２〜１７における所定の処理が行われた状態にある。

【００４０】この搬送装置３２はウェハチャック３８を
駆動させる駆動部９０を備え、この駆動部９０は洗浄シ
ステム１の長手方向に沿って走行移動する走行部９１の
上方に昇降部９２を介して支持される。図４中、実線で
示した駆動部９０は、昇降部９２の上昇によって上方に
持ち上げられた状態を示している。一点鎖線で示した駆
動部９０’は、昇降部９２の下降によって下に下がった
状態を示している。ウェハチャック３８は、駆動部９０
から突出する左右一対の把持部材９３、９３を備えてお
り、これら把持部材９３、９３にはそれぞれ二本づつの
アーム９４、９４が垂設され、更にこれらアーム９４、
９４の間に上下の把持棒９５、９５がそれぞれ取り付け
られている。

【００４１】このウェハチャック３８を正面から見ると
図６に示すようになっており、把持部材９３、９３の回
動によって左右のアーム９４、９４が矢印９６で示され
る方向にそれぞれ揺動する。そして、アーム９４、９４
同士を互いに近づけるように揺動させた際に、例えば５
０枚のウェハＷを把持棒９５、９５同士の間で一括して
把持するように構成されている。ウェハＷの周縁は略円
形に形成され、その一部に平坦形状のオリフラ部Ｗ’が
形成される。この実施の形態に示す洗浄システム１にあ
っては、このオリフラ部Ｗ’を上に向けた姿勢にして把
持棒９５、９５同士の間でウェハＷを一括把持するよう
になっている。

【００４２】また、把持棒９５、９５の内側にはウェハ
Ｗの周縁部を保持するための、ウェハＷの枚数に対応す
る例えば５０個の溝９７が等間隔で刻設されている。従
って、この搬送装置３２は、ウェハチャック３８のアー
ム９４、９４同士を互いに近づけるように揺動させた際
に、例えば５０枚のウェハＷを把持棒９５、９５の溝９
７にそれぞれ挿入させた状態で、それらウェハＷを並列
に等間隔に並べて一括把持することが可能である。そし
て、このように把持棒９５、９５同士の間で一括して把
持した例えば５０枚のウェハＷを、図４に示すように処
理室７１の上方に移動できるように構成されている。ま
た、前記昇降部９２の下降動作により、このように並列
に並べて把持した状態のウェハＷを、そのオリフラ部
Ｗ’を上に向けた姿勢を保ったまま下降させ、処理室７
１の開口部８０を介して処理室７１内部に搬入すること
が可能である。

【００４３】図４に示すように、処理室７１の内部にお
いて前述の回転軸７２、７３の先端にはロータ１００、
１０１がそれぞれ装着されており、これらロータ１０
０、１０１の間には、下側の拘束機構１０２と上側の拘
束機構１０３が装着されている。ロータ１００、１０１
がこれら拘束機構１０２、１０３によって連結されるこ
とにより、前述のモータ７４の稼働によって、回転軸７
２、７３と一緒にロータ１００、１０１も一体的に回転
するように構成されている。

【００４４】図６に示すように、下側の拘束機構１０２
は例えばテフロンパイプにステンレスパイプを圧入した
二重構造からなる３本の棒体１０６、１０７、１０８を
ロータ１００、１０１の間に固着した構成になってい
る。これら３本の棒体１０６、１０７、１０８において
ウェハＷと接触する側の面（図示の例では上面）には、
上記把持棒９５、９５の内側に刻設された溝９７に対応
する溝１１０、１１１、１１２がそれぞれ刻設されてい
る。上記したように搬送装置３２の昇降部９２の下降動
作によって、ウェハチャック３８の把持棒９５、９５同
士の間で把持された例えば５０枚のウェハＷが処理室７
１内部に搬入されると、それらウェハＷの周縁部が溝１
１０、１１１、１１２にそれぞれ挿入されるように構成
されている。そして、そのように３本の棒体１０６、１
０７、１０８の溝１１０、１１１、１１２にウェハＷの
周縁部を挿入させた際には、棒体１０６と棒体１０８の
溝１１０と溝１１２がウェハＷの自重を支える役割を果
たし、棒体１０７の溝１１１がウェハＷの倒れを防ぐ役
割を果たすことにより、例えば５０枚のウェハＷがこれ
ら３本の棒体１０６、１０７、１０８の上において垂直
に立った姿勢を保ちながら、等間隔で並列に並んだ状態
に保持されるようになっている。

【００４５】上側の拘束機構１０３も同様に、図６に示
すように例えばテフロンパイプにステンレスパイプを圧
入してなる３本の棒体１１５、１１６、１１７を備えて
いる。但し、両側の棒体１１５と棒体１１７は溝のない
丸棒に形成される。棒体１１６のウェハＷと接触する側
の面（図示の例では下面）には、先に説明した下側の拘
束機構１０２の棒体１０６、１０７、１０８にそれぞれ
形成された溝１１０、１１１、１１２に対応する溝１１
８が刻設されている。この溝１１８は、２つの傾斜面１
１８ａ、１１８ｂの備えた略「Ｖ」字形状に形成されて
いる。

【００４６】拘束機構１０３を構成しているこれら棒体
１１５、１１６、１１７の基端側と先端側には、図７に
示すように、「Ｔ」字形状のブラケット１２０、１３０
が取り付けてあり、基端側のブラケット１２０はロータ
１０１に回転自在に支持された軸１１９に取り付けられ
ており、上側の拘束機構１０３全体をこの軸１１９を中
心にして回動させることにより、図４中の実線で示すよ
うに、上側の拘束機構１０３を上方に９０度回動させ
て、処理室７１の上方に上側の拘束機構１０３を退避さ
せた状態と、一点鎖線１０３’で示すように、上側の拘
束機構１０３を水平に倒すことにより、処理室７１内に
収納したウェハＷを下側の拘束機構１０２との間で押さ
えた状態とに切り替えることができる。

【００４７】後述するように、ウェハチャック３８より
一括して受け渡された例えば５０枚のウェハＷを、これ
ら下側の拘束機構１０２と上側の拘束機構１０３によっ
て拘束保持した際には、ウェハＷの周縁部は下側の拘束
機構１０２の棒体１０６、１０７、１０８の溝１１０、
１１１、１１２と上側の拘束機構１０３の棒体１１６の
溝１１８に挿入された状態とされ、例えば５０枚のウェ
ハＷが等間隔を保ちながら並列に保持されるようになっ
ている。また、このように下側の拘束機構１０２と上側
の拘束機構１０３によって拘束保持されたウェハＷの、
ロータ１００、１０１に対する相対的な回転は、オリフ
ラ部Ｗ’と棒体１１６の溝１１８に形成された傾斜面１
１８ａ、１１８ｂの何れかとの接触によって、阻止され
るように構成されている。

【００４８】図７に示すように、ロータ１０１に回転自
在に支持された軸１１９の一端には噛み合い部１２１が
形成されている。上記処理室７１の壁面には、この軸１
１９の噛み合い部１２１と歯合可能な噛み合い部１２２
を有する軸１２３を、進退自在かつ回転自在に支持する
軸受装置１２４が装着されている。軸１２３には処理室
７１の外部においてタイミングプーリ１２５が取り付け
られており、該タイミングプーリ１２５を介して図示し
ないモータからの回転動力が軸１２３に伝達される。ま
た、軸１２３の後端は、処理室７１の外部に固定された
シリンダ１２６のピストンロッド１２７と部材１２８を
介して接続され、シリンダ１２６の作動によるピストン
ロッド１２７の伸縮に従って軸１２３は進退するように
構成されている。

【００４９】一方、先端側のブラケット１３０はロータ
１００に装着された切替ピン１３１によって固定される
ロック状態と、ロータ１００に対して固定されていない
アンロック状態に切り換えて保持されるように構成され
ている。上記処理室７１の壁面には、この切替ピン１３
１をロック状態にさせるプッシャ１３２と、この切替ピ
ン１３１をアンロック状態にさせるプッシャ１３３が、
切替ピン１３１と直列に対向配置されている。

【００５０】上記処理室７１の壁面の一部には、光を通
過させる窓部１３５、１３６が対向配置されており、こ
の窓部１３５、１３６を介して処理室７１内部に光を投
光する投光器１３７と、その光を受光する受光センサ１
３８が装着されている。処理室７１内にウェハＷが収納
されているときは、そのウェハＷによって光が遮られる
ので受光センサ１３８は光を検知できなくなり、それに
よってウェハＷの存在を検出できる。

【００５１】また、図４に示すように、処理室７１の下
方には架台７０の内部に構成された気液排除機構１４０
が設置されている。この気液排除機構１４０は、処理室
７１の内部を吸引すると共に、処理室７１内でウェハＷ
より分離された水分を排除するもので、ドレン１４１と
ブロワ１４２を備えており、これらドレン１４１とブロ
ワ１４２と、処理室７１内を接続ダクト１４３、１４４
によって連通させた構成になっている。

【００５２】さて、以上のように構成された洗浄システ
ム１におけるウェハＷの処理工程を説明すると、先ず、
図示しない搬送ロボットの如き適当な搬送手段により、
キャリアＣが搬入・取出部２の搬入部５に載置される。
このキャリアＣにはまだ洗浄されていないウェハＷが装
填されている。キャリアＣには、正常な場合は例えば２
５枚の如き所定枚数のウェハＷが装填されているが、何
らかの理由により、所定枚数よりも少ない枚数のウェハ
Ｗしか装填されていない場合もある。

【００５３】そして、搬入・取出部２の搬入部５に載置
されたキャリアＣは、オリフラ合わせが行われた後、移
送装置７によって隣接する取出部６に順次移送され、そ
の都度、ガイド部材４６とプッシャ４７によるキャリア
Ｃの位置決めが行われる。こうして、可動ステージ４１
上に形成されている各開口４４、４５の真上位置に二つ
のキャリアＣがそれぞれの下面開口部を一致させるよう
に位置決めが行われると、可動ステージ４１が下降を開
始し、それに伴って、二つのキャリアＣも一緒に下降し
ていく。この時、ウェハ保持台４２、４３は支柱５１の
上端にそれぞれ固定されて同じ高さを保っているので、
二つのキャリアＣ内に装填されていたウェハＷは、各開
口４４、４５と二つのキャリアＣの下面に形成されてい
る図示しない開口部をそれぞれ通過して相対的に上昇す
るウェハ保持台４２、４３によって突き上げられ、ウェ
ハＷは、各キャリアＣ内から取り出されてそのままウェ
ハ保持台４２、４３の各保持溝５０で保持された状態と
なる。

【００５４】次いで、今度はウェハカウンタ５５のガイ
ド材５６がウェハ保持台４２、４３の側方に沿って移動
し、その移動の際に湾曲部材５７の下側にて対向してい
る発光器６１と受光器６２の間で各ウェハＷの周縁部上
端をスキャンしていき、ウェハＷの枚数を計数する。同
時に、発光器６３と受光器６４とによって、各ウェハＷ
が全て整列状態で保持されているかの確認もなされる。
このようにして計数されたウェハＷの枚数は、後に図８
において説明する中央制御部１５０に入力され、記憶さ
れる。

【００５５】また、この計数の後、図２において手前側
のウェハ保持台４２を固定している支柱５１が移動し、
ウェハ保持台４２を奥側のウェハ保持台４３に近付ける
ことによりいわゆる片寄せが行われ、キャリアＣ二個分
のウェハＷが等間隔で整列した状態になる。こうして、
搬入・取出部２の取出部６において、キャリアＣ二個分
のウェハＷが整列状態で待機される。

【００５６】こうして搬入・取出部２の取出部６におい
てウェハ保持台４２、４３上に整列されたウェハＷは、
次に、既に洗浄乾燥処理部３の処理部１１において洗浄
及び乾燥処理された搬送装置３０のウェハチャック３６
によって整列状態を維持したまま一括して把持され、各
処理部１２、１３、１４へと搬送されて、そこでウェハ
Ｗは洗浄液中に浸漬されて順次洗浄処理される。更に、
搬送装置３１のウェハチャック３７によってウェハＷは
一括把持されて各処理部１５、１６、１７へと搬送さ
れ、そこでもウェハＷは洗浄液中に浸漬されて順次洗浄
処理される。

【００５７】このようにして洗浄システム１の各処理部
１２〜１７において既に所定の洗浄処理が既に行われた
ウェハＷは、次に、既に搬送装置３２のウェハチャック
３８によって整列状態を維持したまま一括して把持さ
れ、図４に示すように、回転処理部１９の処理室７１の
上方に搬送される。

【００５８】そして、処理室７１においては、図４中の
実線で示したように蓋体８１が上方に回動し、処理室７
１上部の開口部８０が開放された状態になっている。ま
た、上側の拘束機構１０３は上方に９０度回動させられ
て、図中の実線で示したように処理室７１の上方に退避
した状態になっている。

【００５９】次に、上記搬送装置３２の昇降部９２の下
降動作により、ウェハチャック３８で把持されたウェハ
Ｗが一括して処理室７１内部に搬入される。そして、ウ
ェハチャック３８が所定の高さまで下降すると、図６に
示すように、ウェハチャック３８の把持棒９５、９５同
士の間で把持されているウェハＷの周縁部が下側の拘束
機構１０２の棒体１０６、１０７、１０８に形成された
溝１１０、１１１、１１２にそれぞれ挿入された状態と
なる。こうして、ウェハチャック３８で把持していたウ
ェハＷを下側の拘束機構１０２上に載置させた後、ウェ
ハチャック３８のアーム９４、９４が開脚揺動して把持
棒９５、９５同士の間で把持していたウェハＷを放し、
その後、上記昇降部９２の上昇動作により、ウェハチャ
ック３８は上昇させられ、処理室７１の上方に退避され
る。こうして下側の拘束機構１０２に受け渡されたウェ
ハＷは、棒体１０６、１０８の溝１１０、１１２によっ
てその自重が支えられると共に、棒体１０７の溝１１１
によって倒れが防がれて、ウェハＷはこれら３本の棒体
１０６、０７、１０８の上において垂直に立った姿勢を
保ちながら、等間隔で並列に並んだ状態に保持される。

【００６０】こうしてウェハＷを下側の拘束機構１０２
上に載置させ、ウェハチャック３８を処理室７１の上方
に退避させた後、上側の拘束機構１０３がロータ１０１
に対して軸１１９を中心に下向きに９０度回動すること
により、図４に示すように、下側の拘束機構１０２と一
点鎖線で示した上側の拘束機構１０３’の間でウェハＷ
が垂直に立った姿勢で一括して拘束保持される。また、
蓋体８１が軸８３を中心にして下方に回動し、図４中の
一点鎖線で示した蓋体８１’の状態となって処理室７１
の上部は閉塞された状態となる。

【００６１】ここで、以上のような上側の拘束機構１０
３の下向きへの回動は、図示しないモータの稼働によっ
て行われる。即ち、下側の拘束機構１０２上へのウェハ
Ｗの受け渡しが終了すると、先ず、軸受装置１２４に設
けられた軸１２３が処理室７１の内部に向かって進出
し、軸１２３先端の噛み合い部１２２と、上側の拘束機
構１０３の軸１１９先端の噛み合い部１２１が歯合状態
となる。次いで、図示しないモータが稼働して、その回
転がタイミングプーリ１２５を介して、軸１２３に伝達
され、上側の拘束機構１０３は下向きに９０度回動され
る。また、このように上側の拘束機構１０３が下向きに
９０度回動させられて、下側の拘束機構１０２と上側の
拘束機構１０３の間でウェハＷを拘束保持した後、処理
室７１の壁面に配置されたプッシャ１３２がロータ１０
０に装着された切替ピン１３１を押すように作動する。
これにより、上側の拘束機構１０３の先端側のブラケッ
ト１３０はロータ１００に装着された切替ピン１３１に
よって固定されてロック状態となる。このように、下側
の拘束機構１０２と上側の拘束機構１０３の間でウェハ
Ｗを拘束保持する工程が終了したら、上記軸受装置１２
４に設けられた軸１２３は後退し、軸１２３先端の噛み
合い部１２２と、上側の拘束機構１０３の軸１１９先端
の噛み合い部１２１が離れた状態となる。また、プッシ
ャ１３２も短縮稼働され、ロータ１００に装着された切
替ピン１３１から離れる。こうして、回転処理部１９の
処理室７１内にウェハＷを収納する工程が終了する。

【００６２】一方、遅くとも以上のように回転処理部１
９の処理室７１内にウェハＷが収納されるときまでに
は、こうして下側の拘束機構６２と上側の拘束機構６３
の間で一括して保持されたウェハＷ全体のバランス調整
が、オートバランサ７５、７６によって既に行われた状
態になっている。

【００６３】即ち、前述の搬入・取出部２の取出部６に
おいてウェハカウンタ５５で計数されたウェハＷの枚数
は、図８に示すバッファ１５１を経て中央制御部１５０
に入力され、記憶される。そして、この中央制御部１５
０にて記憶されたウェハＷの枚数が再びバッファ１５１
を経て、回転処理部１９のオートバランサ７５、７６を
制御しているコントローラ１５２に入力され、各オート
バランサ７５、７６に内蔵されたカウンタウェイトの位
置を移動させることにより、ウェハＷの枚数に基づくバ
ランス調整が行われる。

【００６４】ここで、カウンタウエイトの移動位置は、
予めコントローラ１５２に位置データとして記憶されて
おり、前述の搬入、取出部２の取出部６においてウェハ
カウンタ５５によってウェハＷの枚数が計数されると、
その枚数に応じてカウンタウエイトの移動位置が選択さ
れるようになっている。なお、このカウンタウエイトの
移動位置を決定しておくために、処理室７１内に実際に
何通りかの枚数でウェハＷを収納して回転させ、手動も
しくは自動によってカウンタウエイトの移動させてバラ
ンス調整を行うことにより、図９に示す如きウェハＷの
枚数ｘとカウンタウエイトの合力ｙの関係を予め決定し
ておく。この関係を決定するためには、ウェハＷの枚数
は全枚数（たとえば１枚から５０枚までの全部の枚数）
に対する測定を行って図９に示す関係を定めても良い
が、適当な枚数毎（例えば５枚おき）に測定を行ってそ
の間の関係は近似式（１次式）により求めるようにして
も良い。ウェハＷの枚数ｘとカウンタウエイトの合力ｙ
は比例関係にあり、ウェハＷの枚数ｘが多くなるにつれ
てカウンタウエイトの合力ｙも大きくする必要が生じる
ので、ウェハの枚数ｘとカウンタウエイトの合力ｙとの
関係は、一次式であるｙ＝ａｘ＋ｂで表現できる。ここ
でａはこの直線の傾きを示し、ｂはオフセットを示す。
例えば、５枚のウェハＷを収納した場合のカウンタウエ
イトの合力ｙと、１０枚のウェハＷを収納した場合のカ
ウンタウエイトの合力ｙを実測データとしてこの関係式
（ｙ＝ａｘ＋ｂ）に代入し、ａ（傾き）とｂ（オフセッ
ト）を算出する。この求めた式においてｘにウェハＷの
枚数として６枚〜９枚を代入すれば、それに対応した合
力ｙを求めることが可能となる。

【００６５】そして、このようにして予め定めておいた
関係に従ってウェハＷの枚数に応じたカウンタウエイト
の合力を求め、カウンタウエイトの移動位置を選択して
バランス調整を行う。このバランス調整を、遅くとも回
転処理部１９の処理室７１内にウェハＷが収納されると
きまでに終了しておき、処理室７１内にウェハＷを収納
した後は、直ちにウェハＷを回転させて乾燥処理を開始
する。

【００６６】但し、実際には洗浄システム１の搬入・取
出部２と洗浄乾燥処理部３と装填・搬出部４における各
バッチ処理は同時に進行しており、洗浄乾燥処理部３の
各処理部１２〜１７および回転処理部１９にはキャリア
Ｃ２個分のウェハＷがそれぞれ収納された状態になって
いる（以下、このように各処理部１２〜１７および回転
処理部１９に収納されているそれぞれの複数枚のウェハ
Ｗを「ロット」と呼ぶ）。従って、以上のようなオート
バランサ７５、７６のバランス調整は、回転処理部１９
において任意のロットのウェハＷの乾燥処理が終了した
後、次のロットのウェハＷが回転処理部１９の処理室７
１内に収納される前に行っておかなければならない。

【００６７】そこで、この実施の形態では、図１０に示
す手順に従ってバランス調整が行われる。即ち、先ずＳ
1に示すように、搬送装置３２のウェハチャック３８
が、回転処理部１９において乾燥処理を終了したロット
のウェハＷを搬出すると、Ｓ2に示すように、中央制御
部１５０は処理部１７に収納されているウェハＷ（次に
回転処理部１９の処理室７１内に収納されるロットとな
るウェハＷ）の枚数をコントローラ１５２に入力する。
９なお、このコントローラ１５２へのウェハＷの枚数の
入力を、次に回転処理部１９の処理室７１内に収納され
るロットが決まった時点で行いように構成しても良
い。）すると、コントローラ１５２はウェハＷの枚数に
基づいてオートバランサ７５、７６に内蔵されたカウン
タウェイトの移動位置を決定し、カウンタウェイトの移
動指令をオートバランサ７５、７６に出力する。これに
より、オートバランサ７５、７６内のカウンタウェイト
が移動を開始し、Ｓ3に示すように、バランス調整が開
始する。

【００６８】また、中央制御部１５０は、Ｓ4に示すよ
うに、このバランス調整に必要な時間、即ち、オートバ
ランサ７５、７６内のカウンタウェイトの移動に必要な
時間Ａと、次のロットのウェハＷを回転処理部１９の処
理室７１内に収納し終えるまでの時間、即ち、搬送装置
３２のウェハチャック３８によって処理部１７からウェ
ハＷを取り出し、それを回転処理部１９の処理室７１内
に収納し終えるまでの時間Ｂとの差Ｘ（Ｘ＝Ａ−Ｂ）を
演算する。そして、時間Ａが時間Ｂよりも長くない場合
（Ｘ≦０）は、ウェハＷを回転処理部１９の処理室７１
内に収納し終えた時には、必ずオートバランサ７５、７
６のバランス調整が終了しているので、Ｓ5に示すよう
に、バランス調整の開始後すぐに処理部１７からのウェ
ハＷの搬送を開始して良い。

【００６９】しかし、時間Ａが時間Ｂよりも長い場合
（Ｘ＞０）は、バランス調整の開始後すぐにウェハＷの
搬送を開始すると、ウェハＷを回転処理部１９の処理室
７１内に収納した時にまだバランス調整が終了していな
いといった事態が生ずる恐れがある。ウェハＷを処理室
７１内に収納した時点でバランス調整が終了していない
と、すぐにウェハＷの回転を開始することができず、ウ
ォータマークの発生の原因となる。

【００７０】そこで、時間Ａが時間Ｂよりも長い場合
（Ｘ＞０）は、Ｓ6に示すように、オートバランサ７
５、７６においてバランス調整を開始してから時間Ｘだ
け搬送装置３２の稼働開始を待機させ、時間Ｘが経過し
た後、搬送装置３２のウェハチャック３８によって処理
部１７からウェハＷを取り出し、それを回転処理部１９
の処理室７１内に収納する。そうすれば、回転処理部１
９の処理室７１内にウェハＷを収納した時には、必ずオ
ートバランサ７５、７６内のバランス調整が終了してい
ることとなる。

【００７１】こうして、回転処理部１９の処理室７１内
においてウェハＷを下側の拘束機構と上側の拘束機構１
０３の間で一括して拘束保持し、また、処理室７１の上
部を蓋体８１によって閉塞してウェハＷを収納する工程
が終了すると、直ちにモータ７４が稼働を開始し、Ｓ7
に示すように、回転処理が開始する。こうしてウェハＷ
が回転させられることにより、ウェハＷの表面に付着し
ていた水分がその遠心力により周囲に飛散する。この場
合、上述のようにオートバランサ７５、７６内のバラン
ス調整は既に終了しているので、回転に伴って発生する
振動を小さく押さえることができる。また一方で、架台
７０の内部に構成された気液排除機構１４０の稼働が開
始される。即ち、ブロワ１４２の稼働によって処理室７
１の内部雰囲気が減圧され、これにより図示しないフィ
ルタを通過して清浄化された空気が処理室７１内に流入
される。そして、この清浄空気が処理室７１内部におい
て回転しているウェハＷの表面に吹き付けられることに
より、ウェハＷは乾燥される。また、ウェハＷの表面か
ら遠心力によって飛散除去された水分はブロワ１４２の
給気流と共に処理室７１下方に排出され、該水分はドレ
ン１４１に捕集される。

【００７２】Ｓ8に示すようにウェハＷの乾燥処理を終
了すると、モータ７４の稼働が停止し、ウェハＷの回転
が止まる。次いで、上側の拘束機構１０３は上方に９０
度回動して退避状態となり、蓋体８１は上方に回動退避
し、処理室７１の上部が開放される。すると、予め処理
部１８において洗浄および乾燥処理された搬送装置３２
のウェハチャック３８が処理室７１内部に下降し、回転
処理部１９の処理室７１内から乾燥処理されたウェハＷ
をロットごと取り出し、そのウェハＷを装填・搬出部４
の装填部２０に搬送して行く。かくして以上の工程を経
て洗浄乾燥処理されたウェハＷは装填・搬出部４の装填
部２０にてキャリアＣに装填された後、搬出部２１にお
いて、キャリアＣごと洗浄システム１の外部に取り出さ
れる。

【００７３】以上、本発明の実施の形態をウェハＷを洗
浄するための洗浄システム１に基づいて説明したが、図
示の例によれば、回転処理部１９の処理室７１内にウェ
ハＷを収納した後、すぐにモータ７４の稼働を開始する
ように構成しているので、ウェハＷの表面に付着してい
た水分は自然蒸発する間もなく直ちに遠心力によって飛
散する。従って、ウェハＷの表面にウォータマークが残
る心配がない。

【００７４】

【発明の効果】本発明によれば、回転処理部に被処理体
を収納した後、直ちに被処理体の回転を開始することに
より、処理時間の短縮化を図ることができる。また、収
納後から回転開始までの時間が極めて短いので、その間
に被処理体に生ずる不具合を回避できるといった特徴が
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】洗浄システムの斜視図である。

【図２】取出部の斜視図である。

【図３】図２におけるＡ−Ａ断面矢視拡大図である。

【図４】本発明の実施の形態にかかる回転処理部の内部
構造の説明図である。

【図５】回転処理部の内部構造を側方より見た説明図で
ある。

【図６】下側の拘束機構と上側の拘束機構によって拘束
保持された状態のウェハの拡大正面図である。

【図７】処理室の平面図である。

【図８】洗浄システムの制御を示すブロック図である。

【図９】ウェハＷの枚数ｘとカウンタウエイトの合力ｙ
の関係を示すグラフである。

【図１０】本発明の実施の形態におけるバランス調整の
手順を示すフローチャートである。

【図１１】従来の回転処理部の内部構造図である。

【図１２】ウェハの周縁部が保持杆の溝に挿入された状
態を示す拡大図である。

【図１３】オートバランサによるバランス調整の説明図
である。

【符号の説明】

ＷウェハＣキャリア１処理システム２搬入・取出部３洗浄乾燥処理部４装填・搬出部１９回転処理部５５ウェハカウンタ７１処理室７５、７６オートバランサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岡秀治郎広島県福山市大門町５丁目60番地大宮工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数枚の被処理体を一括して回転させて
乾燥処理する回転処理部と、被処理体の枚数に基づいて
カウンターウェイトの位置を移動させることにより該回
転処理部をバランス調整するバランス調整機構とを備え
た処理装置において、前記回転処理部に収納される被処理体の枚数を計数する
計数手段と、予め定めておいた被処理体の枚数とカウン
ターウェイトの移動位置との関係に従って前記バランス
調整機構のバランス調整を制御する制御手段とを設けた
ことを特徴とする処理装置。
【請求項２】被処理体を処理する一または二以上の処
理部と、該処理部で処理された複数枚の被処理体を一括
して回転させて乾燥処理する回転処理部と、被処理体の
枚数に基づいてカウンターウェイトの位置を移動させる
ことにより該回転処理部をバランス調整するバランス調
整機構とを備えた処理装置において、前記処理部での処理を開始する前に被処理体の枚数を計
数する計数手段と、予め定めておいた被処理体の枚数と
カウンターウェイトの移動位置との関係に従って前記バ
ランス調整機構のバランス調整を制御する制御手段とを
設けたことを特徴とする処理装置。
【請求項３】前記制御手段は、遅くとも前記回転処理
部に被処理体を収納した時までに前記バランス調整機構
のバランス調整を終了しておくように制御するものであ
る請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】回転処理部に収納した被処理体の枚数に
基づいてカウンターウェイトの位置を移動させることに
より該回転処理部をバランスを調整した後、複数枚の被
処理体を一括して回転させて処理できるように構成され
た処理方法において、遅くとも前記回転処理部に被処理体を収納した時までに
バランスの調整を終了しておき、前記回転処理部に被処
理体を収納した後、直ちに被処理体の回転を開始するこ
とを特徴とする処理方法。
【請求項５】前記回転処理部のバランス調整は、予め
定めておいた被処理体の枚数とカウンターウェイトの移
動位置との関係に従って行われる請求項４に記載の処理
方法。