JPH11219912A - 縦型熱処理装置 - Google Patents

縦型熱処理装置

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JPH11219912A
JPH11219912A JP3541898A JP3541898A JPH11219912A JP H11219912 A JPH11219912 A JP H11219912A JP 3541898 A JP3541898 A JP 3541898A JP 3541898 A JP3541898 A JP 3541898A JP H11219912 A JPH11219912 A JP H11219912A
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JP
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mounting position
heat treatment
wafer
substrate
boat
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JP3541898A
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Masahiro Miyashita
正弘 宮下
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Tokyo Electron Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハサイズが大きくなって装置が大型化し
ている実情に鑑み、装置の占有面積を小さくすることの
できる縦型熱処理装置を提供する。 【解決手段】 ボートエレベータ41に載置されたウエ
ハボート42の中心軸Aを通る幅方向のY軸上でその中
心軸Aに対して左右対称となる位置に旋回アーム51,
52の旋回中心軸56,57を配置するとともに、前記
中心軸Aよりも装置手前側で、かつ前記中心軸Aを通り
Y軸に直交するX軸に対して左右対称となる位置にボー
トステージ54の第1の載置位置及び第2の載置位置を
位置させるようにした。直径12インチ(300mm)の
ウエハ用の装置においては、その幅は本発明によれば1
200mmであり、従来構成の熱処理装置(幅1350m
m)に比べて150mmも小さくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハを保持したボートを炉に対して搬入出し、ボート旋回
アームを備えた縦型熱処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ(以下ウエハという)に対
して行われる熱処理としては例えば酸化処理、ドーパン
トの拡散、アニールあるいはCVDなどが挙げられ、こ
のような熱処理をバッチ式で行う装置として縦型熱処理
装置が知られている。
【0003】図6には従来の例えば直径8インチ(20
0mm)のウェハを処理するための縦型熱処理装置のロー
ディングエリアのレイアウト例が示されている。この装
置ではローディングエリア内に、下方に臨んで開放され
た縦型の炉11と、炉11の下方で炉11に対して同心
状の昇降自在なボートエレベータ12と、ローディング
エリアの一端側に清浄化気流を吹き出すフィルタユニッ
ト13と、ボートエレベータ12の手前でフィルタユニ
ット13寄りに前後に並ぶ2つのボートステージ14,
15と、ボートステージ14,15とボートエレベータ
12との間で複数枚のウエハを収納したウエハボート1
6を移載するボートアーム17とが設けられている。こ
のボートアーム17はローディングエリアのフィルタユ
ニット13と反対側の一端側寄りでボートステージ1
4,15の横に並ぶ位置に設けられた垂直な旋回中心軸
aのまわりに回動しかつ上下自在に構成された回動基体
18と、この回動基体18に沿って進退自在なアーム部
19とを揃えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところでウエハ1枚当
たりのチップの収率を向上させるためにウエハの大口径
化が検討されており、近時ではウエハの直径は12イン
チ(300mm)に達している。しかしながら12インチ
径のウエハを熱処理する熱処理装置のローディングエリ
アに上述したレイアウトをそのまま適用すると、ローデ
ィングエリアの幅すなわち熱処理装置の幅が大きくなっ
てしまい、熱処理装置の占有面積が広くなってしまう。
その理由は、アーム部19がボートステージ15とボー
トエレベータ12との間で移動するときにはボートステ
ージ14を避けるために後退しなければならず、その分
を見込んで回動基体18の後端の位置を決めると回動基
台18が長くなり、結果としてローディングエリアの横
幅が大きくなるからである。この熱処理装置が、通常の
部屋と比べて単位床面積当たりの建設コスト及び運転コ
ストが極めて高い所謂クリーンルーム内に設置されて稼
動されることに鑑みれば、所定床面積のクリーンルーム
内に1台でも多くの熱処理装置が設置されるのが望まし
く、占有面積の広い装置はチップのコストアップにつな
がってしまう。
【0005】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、縦型熱処理装置の占有面積を小
さくすることができ、基板の製造コストの高騰を抑える
ことのできる縦型熱処理装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の縦型熱処理装置
は、複数の基板を基板保持具に棚状に保持させ、この基
板保持具を昇降台に載せて縦型の熱処理炉内に搬入する
装置において、前記昇降台に載せられた基板保持具の中
心軸を通り、互いに直交する水平な軸線をX軸、Y軸と
すると、前記中心軸よりも前方に位置し、X軸に対して
左右に対称に設定された、基板保持具を載置するための
第1の載置位置及び第2の載置位置と、2個の基板保持
具と、前記第1の載置位置及び前記昇降台の間で基板保
持具を移載する第1の旋回ア−ムと、前記第2の載置位
置及び前記昇降台の間で基板保持具を移載する第2の旋
回ア−ムと、前記第1の載置位置に載置された基板保持
具及び前記第2の載置位置に載置された基板保持具に対
して基板の受け渡しを行う基板移載機構と、を備え、前
記第1の旋回ア−ム及び第2の旋回ア−ムは、前記Y軸
上またはY軸の近傍に旋回中心軸が位置し、かつ前記中
心軸に対して左右対称に設けられたことを特徴とする。
このような構成によれば、Y軸方向の装置の長さが短く
て済み、装置の小型化を図ることができる。
【0007】上記発明において、第1の載置位置から第
2の載置位置に向かう清浄化気流を形成するように、第
1の載置に対して第2の載置位置とは反対側に設けられ
た気体清浄化フィルタと、前記第1の載置位置及び第2
の載置位置の間で基板保持具を移動するための移動機構
と、を備え、熱処理前の基板は第1の載置位置にて基板
移載機構から基板保持具に受け渡され、熱処理後の基板
は、第2の載置位置にて基板保持具から基板移載機構に
受け渡されるように構成してもよい。この場合熱処理前
の基板には清浄化された気体があたるのでパ−ティクル
の付着を防止できる。なお基板保持具を移動するための
移動機構は、基板保持具を載置する1個の載置台と、こ
の載置台を第1の載置位置及び第2の載置位置の間で移
動するための機構を備えた構成とすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下に本発明に係る縦型熱処理装
置の実施の形態について説明する。図1は本実施の形態
に係る縦型熱処理装置の全体斜視図であり、図示の便宜
上装置の外装部や内部の壁部などは省略してある。この
熱処理装置は、基板例えばウエハの搬送容器であるカセ
ット20の入出ポートをなす搬入出ステージ2と、搬入
出ステージ2と後述のウエハ受け渡し用の保持台30
と、カセット収納棚31との間でカセット20を移載す
るカセット移載機3と、その保持台30に保持されたカ
セット20内のウエハWを基板保持具であるウエハボー
ト42に移載し、ウエハボート42を処理部である熱処
理炉40内にローディングするローディングエリア4と
を備えており、そのローディングエリア4内には第1の
載置位置及び第2の載置位置と昇降台であるボートエレ
ベータ41との間で2台のウエハボート42を移載する
ボート移載機構部5が設けられている。
【0009】カセット移載機3は、昇降ガイド32に沿
って昇降可能な昇降基体33と、この昇降基体33に設
けられ、搬入出ステージ2から見て前後に動作可能な水
平多関節アームよりなる移載アーム34とを備えてい
る。
【0010】前記ローディングエリア4は、保持台30
上のカセット20とウエハボート42との間でウエハW
の移載を行うための基板移載機構であるウエハ移載機4
3が設けられており、このウエハ移載機43は、例えば
ウエハWを複数枚一括して移載することができ、また1
枚づつの移載もできるようになっており、進退自在、昇
降自在、回転自在に構成されている。ローディングエリ
ア4内には、カセット20とウエハボート42との間の
ウエハ搬送経路においてウエハWの向きを揃えるノッチ
アライナ装置44が設けられている。またローディング
エリア4は図示しない壁部により囲まれて外部に対して
は密閉されており、図示しないガス供給源及び排気系に
より例えば窒素ガス雰囲気とされている。
【0011】ウエハ受け渡し用保持台30は、ローディ
ングエリア4とカセット移載機3との間の図示しない仕
切り壁部のカセット移載機3側に例えば2段構成で設け
られており、例えば2個のカセット20を上下に載置で
きるようになっている。これら保持台30は図示しない
昇降部により昇降可能で、各保持台30上のカセット2
0が、交互に順次、ローディングエリア4とカセット移
載機3との間の図示しない仕切り壁部に設けられた開口
部に対応するレベルに位置するように構成されている。
【0012】前記ウエハボート42は例えば多段にウエ
ハ保持溝が形成された複数本の支柱を備え、多数枚のウ
エハWを棚状に保持するように構成されている。このウ
エハボート42はボートエレベータ41の上昇により熱
処理炉40内に搬入される。
【0013】カセット20は、特に限定しないが、例え
ばウエハの周縁の一部を保持するように、内側両側部に
棚が多段に設けられたカセット本体と、このカセット本
体のウエハの取り出し口である開口部を気密に塞ぐため
の蓋体とを備えた所謂クローズ型カセットであり、例え
ば13枚のウエハWを各々ほぼ水平に上下に間隔をおい
て保持するように構成されている。
【0014】図2及び図3はそれぞれボート移載機構部
5の一例を示す斜視図及び平面レイアウト図であり、図
2では図示の便宜上装置の外装部や内部の壁部などは省
略してある。ボート移載機構部5は、ウエハボート42
を第1の載置位置からボートエレベータ41まで搬送す
る第1の旋回アーム51と、ウエハボート42をボート
エレベータ41から第2の載置位置まで搬送する第2の
旋回アーム52と、ウエハボート42を第2の載置位置
から第1の載置位置まで移動させるボート移動機構53
とを備えている。
【0015】ボート移動機構53は、ウエハボート42
を載せる載置台であるボートステージ54と、第1の載
置位置と第2の載置位置との間でボートステージ54を
案内する案内レール55と、ボートステージ54を駆動
する駆動手段(図示省略)を備えている。
【0016】第1の旋回アーム51及び第2の旋回アー
ム52は、それぞれその基端が旋回中心軸56,57に
回動自在に取り付けられている。ウエハボート42の下
端部には図4に示すようにフランジ部47が設けられ、
更にボ−トエレベ−タ41上の保温筒41aに嵌合する
ようにフランジ部47の下方にリング突起47aが設け
られている。そして前記旋回ア−ム51、52の自由端
は前記リング突起47aを逃げるように切り欠かれた形
状となっており、フランジ部47aの下面を保持するよ
うに構成されている。
【0017】また第1の旋回アーム51及び第2の旋回
アーム52には、図4に示すように、旋回アーム51,
52上に載せられたウエハボート下端部のフランジ部4
7を側方から挟み込む少なくとも2つのクランプ片58
からなるクランプ機構が設けられている。クランプ片5
8は、例えば図示しない開閉機構によりウエハボート4
2のフランジ部47を挟んだり解放したりするようにな
っていてもよいし、図示しないばねやゴム等の弾性部材
の復帰力を利用してフランジ部47を挟むようになって
いてもよい。これによって、旋回アーム51,52の回
動中にウエハボート42が倒れることはない。なお図4
において符号59で示したものは第1の旋回アーム51
または第2の旋回アーム52を回転駆動するモータ等の
駆動手段である。
【0018】ここでボートエレベータ41上に載置され
たウエハボート42の中心軸(図3にAで示す)を通
り、かつ搬入出ステージ2から見て前後方向に水平に延
びる仮想の軸をX軸とし、また前記中心軸Aを通り、か
つX軸に直交する水平な仮想の軸をY軸とすると、第1
の旋回アーム51及び第2の旋回アーム52の旋回中心
軸56,57は、いずれもY軸上で前記中心軸に対して
対称となるように配置されている。特に図3に示すよう
に、旋回中心軸56,57はローディングエリア4を密
閉する壁部のうちの左右の側壁部近傍に配置されてい
る。
【0019】前記第1の載置位置及び第2の載置位置、
すなわちボートステージ54の、図3において実線で示
す第1の位置P1及び図3において二点鎖線で示す第2
の位置P2は、前記X軸に対して対称となるように配置
されている。
【0020】またローディングエリア4内には、ローデ
ィングエリア4を密閉する壁部の前記第1の載置位置側
の側壁部45に沿って、清浄化気流を吹き出すフィルタ
ユニット46が設けられている。このフィルタユニット
46により、ローディングエリア4内には第1の載置位
置側から第2の載置位置側へ向かって清浄化気流が流れ
るようになっている。第2の載置位置側では例えば壁部
から気流を吸い込むようになっている。なお前記旋回ア
−ム51はフィルタユニット46の下方側に位置してい
る。
【0021】このような気流がローディングエリア4内
に生じているため、第1の載置位置側をロード側とし、
第2の載置位置側をアンロード側として用いるようにす
ることが好ましい。すなわち第1の載置位置において空
のウエハボート42にウエハが移載され、それがボート
エレベータ41に移載されて熱処理炉40内に入れられ
(ロード)、一方熱処理の済んだウエハボート42はボ
ートエレベータ41から第2の載置位置に移載され、ウ
エハボート42からウエハが取り出されるようになって
いる(アンロード)。このようにすることによって、熱
処理前のウエハWは常に清浄化気流に曝されるので、ウ
エハ表面へのパーティクル等の付着を防止でき、ウエハ
表面を清浄に保ったまま熱処理炉40内にローディング
することができる。一方、熱処理済みのウエハWは熱処
理炉40から清浄化気流の下流側にアンローディングさ
れるため、ウエハ表面にパーティクル等が付着する虞が
あるが、熱処理工程後、洗浄工程を経てから次のウエハ
処理工程に進むため、たとえアンローディング時にウエ
ハ表面にパーティクル等が付着しても、洗浄工程におい
てパーティクル等が除去されるので、何ら不都合は生じ
ない。
【0022】次に上述の熱処理装置の全体の動作につい
て説明する。先ず外部からカセット20を図示しない自
動搬送ロボットあるいはオペレータにより搬入出ステー
ジ2に置く。そしてその置かれたカセット20をカセッ
ト移載機3によりウエハ受け渡し用の保持台30に移載
する。なお熱処理の進行具合に応じてカセット20はカ
セット収納棚31に一旦収納される。
【0023】次いでウエハ移載機43により保持台30
上のカセット20からウエハWを取り出し、ノッチアラ
イナ装置44によりウエハWの向きを揃えた後、第1の
載置位置にあるウエハボート42に移載する。そのウエ
ハボート42を第1の旋回アーム51によりボートエレ
ベータ41上に載置し熱処理炉40内にローディングす
る。
【0024】熱処理終了後、ウエハボート42を熱処理
炉40から搬出し、ボートエレベータ41上のウエハボ
ート42を第2の旋回アーム52により第2の載置位置
に移載する。そしてウエハ移載機43によりウエハボー
ト42からウエハWを取り出して保持台30上のカセッ
ト20に装填する。ウエハを収納したカセット20は搬
入出ステージ2を介して外部に搬出される。
【0025】図5には2つのウエハボートの動作の流れ
が模式的に示されている。なおここでは説明の便宜上、
2つのウエハボートを区別してそれぞれ符号48及び符
号49で示す。また同図においてW1及びW2はそれぞ
れ熱処理前及び熱処理後のウエハであり、符号46は上
述したフィルタユニットであり、従ってフィルタユニッ
ト46に近い方(すなわち図5(a)によればウエハボ
ート49の側)が第1の載置位置となる。
【0026】熱処理炉40内に第1のウエハボート48
がローディングされて熱処理されている間、第1の載置
位置ではボートステージ54に載置された空の第2のウ
エハボート49に未処理のウエハW1が装填される(図
5(a))。
【0027】第1のウエハボート48の熱処理が終了す
ると、第1のウエハボート48はアンローディングされ
て第2の旋回アーム52により第2の載置位置へ移載さ
れ、それと同時に第1の載置位置から第2のウエハボー
ト49が第1の旋回アーム51により熱処理炉40の下
のボートエレベータ41に移載される(図5(b))。
その際ボートステージ54は空となり、アンローディン
グされた第1のウエハボート48を第2の旋回ア−ム5
2から受けとるために第1の移載位置から第2の移載位
置へ戻される。
【0028】熱処理炉40内に第2のウエハボート49
がローディングされて熱処理されている間、第2の載置
位置ではボートステージ54に載置された第1のウエハ
ボート48から処理済みのウエハW2が取り出される
(図5(c))。
【0029】第1のウエハボート48が空になったら、
ボートステージ54が第2の載置位置から第1の載置位
置へ移動され、従って空の第1のウエハボート48が第
1の載置位置に位置することになる。そして熱処理炉4
0内で第2のウエハボート49が熱処理されている間、
第1の載置位置では第1のウエハボート48に未処理の
ウエハW1が移載される(図5(d))。
【0030】第2のウエハボート49の熱処理が終了す
ると、第2のウエハボート49はアンローディングされ
て第2の旋回アーム52により第2の載置位置へ移載さ
れ、それと同時に第1の載置位置から第1のウエハボー
ト48が第1の旋回アーム51により熱処理炉40の下
のボートエレベータ41に移載される(図5(e))。
その際ボートステージ54は空となり、アンローディン
グされた第2のウエハボート49を載せるために第1の
移載位置から第2の移載位置へ戻される。
【0031】熱処理炉40内に第1のウエハボート48
がローディングされて熱処理されている間、第2の載置
位置ではボートステージ54に載置された第2のウエハ
ボート49から処理済みのウエハW2が取り出される
(図5(f))。
【0032】第2のウエハボート49が空になったら、
ボートステージ54の移動により第2のウエハボート4
9が第2の載置位置から第1の載置位置へ移動される。
以後、上述した図5(a)〜図5(f)の動作が繰り返
される。
【0033】上述実施の形態によれば、ボートエレベー
タ41に載置されたウエハボート42の中心軸Aを通る
幅方向のY軸上でその中心軸Aに対して左右対称となる
位置に旋回アーム51,52の旋回中心軸56,57が
配置されているとともに、前記中心軸Aよりも装置手前
側で、かつ前記中心軸Aを通りY軸に直交するX軸に対
して左右対称となる位置にボートステージ54の第1の
載置位置及び第2の載置位置が位置している構成となっ
ている。従ってボートステージの第1の載置位置及び第
2の載置位置が装置の一端側寄りでX軸方向に並んで配
置され、かつ単一のアームでウエハボートの移載を行う
ようにした従来の構成の熱処理装置に比べて、熱処理装
置の幅が小さくて済む。本発明者が直径12インチ(3
00mm)のウエハ用として上記実施の形態の構成による
熱処理装置を検討した結果、その幅は1200mmであ
り、同じ12インチウエハ用として検討した従来構成の
装置の幅1350mmに比べて150mmも小さかった。こ
のためクリーンルーム内に設置可能な装置台数を増やす
ことができ、生産効率を上げることができる。
【0034】以上において本発明は、第1の旋回アーム
51及び第2の旋回アーム52の旋回中心軸56,57
がいずれもY軸の近傍で前記中心軸Aに対して対称とな
るように配置されていてもよいし、清浄化気流はローデ
ィングエリア4の天井から床へ向かって流れていてもよ
い。
【0035】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、装置の幅
が小さくて済むので、装置の占有面積を小さくすること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る縦型熱処理装置の全体の一例を示
す概略斜視図である。
【図2】その熱処理装置のボート移載機構の一例を示す
斜視図である。
【図3】その熱処理装置の平面レイアウトを示すレイア
ウト図である。
【図4】そのボート移載機構にボートが保持された状態
の概略を示す側面図である。
【図5】そのボート移載機構の動作を説明するための説
明図である。
【図6】従来の縦型熱処理装置のローディングエリアを
示す平面図である。
【符号の説明】
W ウエハ W1 熱処理前のウエハ W2 熱処理後のウエハ 2 搬入出ステージ 20 カセット 3 カセット移載機 30 ウエハ受け渡し用の保持台 31 カセット収納棚 32 昇降ガイド 33 昇降基体 34 移載アーム 4 ローディングエリア 40 熱処理炉 41 ボートエレベータ 42,48,49 ウエハボート 43 ウエハ移載機 44 ノッチアライナ装置 45 ローディングエリアの一側壁部 46 フィルタユニット 47 ウエハボートのフランジ部 5 ボート移載機構部 51 第1の旋回アーム 52 第2の旋回アーム 53 ボート移動機構部 54 ボートステージ 55 案内レール 56,57 旋回中心軸 58 クランプ片 59 旋回アームの駆動手段

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の基板を基板保持具に棚状に保持さ
    せ、この基板保持具を昇降台に載せて縦型の熱処理炉内
    に搬入する装置において、 前記昇降台に載せられた基板保持具の中心軸を通り、互
    いに直交する水平な軸線をX軸、Y軸とすると、 前記中心軸よりも前方に位置し、X軸に対して左右に対
    称に設定された、基板保持具を載置するための第1の載
    置位置及び第2の載置位置と、 2個の基板保持具と、 前記第1の載置位置及び前記昇降台の間で基板保持具を
    移載する第1の旋回ア−ムと、 前記第2の載置位置及び前記昇降台の間で基板保持具を
    移載する第2の旋回ア−ムと、 前記第1の載置位置に載置された基板保持具及び前記第
    2の載置位置に載置された基板保持具に対して基板の受
    け渡しを行う基板移載機構と、を備え、 前記第1の旋回ア−ム及び第2の旋回ア−ムは、前記Y
    軸上またはY軸の近傍に旋回中心軸が位置し、かつ前記
    中心軸に対して左右対称に設けられたことを特徴とする
    縦型熱処理装置。
  2. 【請求項2】 第1の載置位置から第2の載置位置に向
    かう清浄化気流を形成するように、第1の載置に対して
    第2の載置位置とは反対側に設けられた気体清浄化フィ
    ルタと、 前記第1の載置位置及び第2の載置位置の間で基板保持
    具を移動するための移動機構と、を備え、 熱処理前の基板は第1の載置位置にて基板移載機構から
    基板保持具に受け渡され、熱処理後の基板は、第2の載
    置位置にて基板保持具から基板移載機構に受け渡される
    ことを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
  3. 【請求項3】 基板保持具を移動するための移動機構
    は、基板保持具を載置する1個の載置台と、この載置台
    を第1の載置位置及び第2の載置位置の間で移動するた
    めの機構を備えていることを特徴とする請求項2記載の
    縦型熱処理装置。
JP3541898A 1998-02-02 1998-02-02 縦型熱処理装置 Pending JPH11219912A (ja)

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