WO2007040062A1 - 基板処理装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents

基板処理装置および半導体装置の製造方法 Download PDF

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WO2007040062A1
WO2007040062A1 PCT/JP2006/318818 JP2006318818W WO2007040062A1 WO 2007040062 A1 WO2007040062 A1 WO 2007040062A1 JP 2006318818 W JP2006318818 W JP 2006318818W WO 2007040062 A1 WO2007040062 A1 WO 2007040062A1
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boat
substrate
processing chamber
holder
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Takatomo Yamaguchi
Akinori Tanaka
Daisuke Hara
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Hitachi Kokusai Electric Inc.
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    • Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14—Wafer cassette transporting

Definitions

  • the present invention relates to a substrate processing apparatus that performs a required process such as CVD, dry etching, and sputtering on a target substrate such as a silicon wafer, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same,
  • the present invention relates to a substrate processing apparatus including a transfer device for transferring a substrate holder such as a boat.
  • the substrate processing apparatus includes a single-wafer type substrate processing apparatus that processes substrates one by one, and a batch type substrate processing apparatus that processes a predetermined number of sheets at a time.
  • a vertical diffusion CVD apparatus is used for a step of performing diffusion processing or film formation processing on a wafer.
  • a boat moving mechanism for moving a boat holding a plurality of wafers.
  • the boat moving mechanism includes a wafer transfer position, a boat loading / unloading furnace position, and a wafer. Some are configured to move between cooling positions. For example, see Patent Document 1.
  • the boat movement mechanism of this vertical diffusion CVD apparatus is equipped with two boat support arms that rotate and move up and down independently, and the boat is supported by the boat support arm to provide a platform for the wafer transfer position. It moves between the boat loading / unloading furnace position and the wafer cooling position table.
  • Patent Document 2 discloses a boat elevator that lifts and lowers a boat and carries it in and out of a reaction furnace, a boat transfer mechanism, and a boat lock mechanism that locks the boat at a wafer transfer position and a wafer cooling position. It is disclosed.
  • Patent Document 3 discloses a boat lock mechanism in which a fall prevention clamper is installed on a boat support arm in order to prevent the falling boat from falling.
  • Patent Document 1 JP 2001-338888
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-258063
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-71618
  • the boat lock mechanism in which the fall prevention clamper is installed on the boat support arm has the following problems.
  • An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can solve the above-described problems of the prior art and reliably prevent a boat from falling over.
  • a processing chamber for accommodating a substrate and performing a predetermined process
  • a substrate holder for holding the substrate in the processing chamber
  • a mounting table that can be moved into and out of the processing chamber while placing the substrate holder; and a substrate holder moving mechanism that moves the substrate holder to a place different from the mounting table while holding the substrate holder;
  • a substrate holder movement suppression mechanism that suppresses horizontal and vertical movement of the substrate holder for maintaining the state where the substrate holder is placed on the mounting portion of the substrate holder movement mechanism;
  • a substrate processing apparatus comprising the substrate processing apparatus.
  • the substrate holder movement restraining mechanism for maintaining the state where the substrate holder is placed on the mounting portion of the substrate holder moving mechanism is moved in the horizontal direction and the vertical direction of the substrate holder.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus in which the present invention is implemented.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing a substrate processing apparatus in which the present invention is implemented.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a processing furnace used in the substrate processing apparatus.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a boat toppling prevention mechanism at a boat mounting portion in the substrate processing apparatus.
  • FIG. 5 is a plan view of a lock plate used in the boat tipping prevention mechanism.
  • [061 (A) (B) (C) is an explanatory view of the interlocking and releasing operation of the lock portion in the boat toppling prevention mechanism.
  • [071 (A) (B) (C) is an explanatory view of the linkage and release operation of the boat overturn prevention mechanism.
  • FIG. 8 is a perspective view showing an example of a boat stand used in the substrate processing apparatus according to the present invention.
  • FIG. 9 is a side sectional view of the boat stand.
  • FIG. 10 is a perspective view showing an example of a boat exchange device used in the substrate processing apparatus according to the present invention.
  • FIG. 11 is a perspective view of a boat mounting portion in the boat exchange device.
  • FIG. 12 is a view taken along arrows AA in FIG. 11 showing a boat overturn prevention mechanism in the boat exchange device.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining the dimensional relationship between the vertical convex portion and the horizontal pin, (A) is a plan sectional view, (B) is a side sectional view, and (C) is a schematic diagram.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining the dimensional relationship when the circumferential phase of the vertical convex portion and the horizontal pin is shifted, (A) is a plan sectional view, and (B) is a schematic diagram.
  • FIG. 15 (A), (B), and (C) are explanatory diagrams of the linkage and release operation of the boat toppling prevention mechanism.
  • FIG. 16 is a perspective view showing a boat overturn preventing mechanism in a vertical diffusion CVD apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a perspective view showing an embodiment when the boat overturn prevention mechanism is installed in a direct-acting boat exchange device.
  • FIG. 18 is a perspective view showing an embodiment when a boat overturn prevention mechanism is installed in a SCARA robot.
  • a cassette stage 2 is provided on the front surface of the housing 1.
  • the cassette stage 2 exchanges a substrate transfer container (hereinafter referred to as a cassette.
  • a sealed cassette is used) with an external transfer device (not shown). It is composed of
  • the cassette stage 2 communicates with the inside of the housing 1 via a shirt 3.
  • a cassette opener 4 is opposed to the cassette stage 2 at the front inside the casing 1. Is provided.
  • a cassette stocker 5 is provided above the cassette opener 4. Between the cassette stocker 5 and the cassette opener 4 and the cassette stage 2, a cassette loader 6 as a cassette carrying means is provided.
  • a boat elevator 7 that is a boat moving mechanism is provided on one inner rear side of the housing 1, and a seal cap 9 is provided on a lifting arm 8 that extends horizontally from the boat elevator 7.
  • the seal cap 9 is configured to close the furnace port of the processing furnace 11 having a processing chamber and a heating mechanism.
  • the seal cap 9 is provided with a boat mounting portion 12 (see FIG. 4 described later).
  • the boat mounting portion 12 holds substrates to be processed (hereinafter referred to as wafers) 10 in a horizontal posture in multiple stages.
  • a boat (substrate holder) 13 to be held is placed.
  • the boat platform 12 has a boat platform 44 (described later) as a platform.
  • the boat mounting section 12 is configured to be able to rotate the boat 13 via the boat mounting board 44.
  • a boat exchanging device 14 is provided on the other rear side inside the housing 1 so as to face the boat elevator 7.
  • a substrate transfer machine 15 is provided between the boat exchange device 14 and the boat elevator 7 and the force setting opener 4.
  • the cassette stage 2 exchanges the cassette 16 with an external transfer device (not shown), and exchanges the cassette 16 with the cassette loader 6.
  • the cassette loader 6 can traverse, move up and down, and move forward and backward, and transfers the cassette 16 of the cassette stage 2 to the cassette opener 4 and the cassette stocker 5.
  • the cassette opener 4 opens and closes the lid of the cassette 16.
  • the substrate transfer machine 15 can move up and down, move back and forth, and rotate, and transfers the wafer 10 between the force set 16 on the cassette opener 4 and the boat 13.
  • the boat exchange device 14 has two left boat support arms 17 and a right boat support arm 18.
  • the left boat support arm 17 and the right boat support arm 18 are rotatable and can be raised and lowered independently, and the boat 13 can be moved between the wafer transfer position A, the boat transfer position B, and the wafer cooling position C. It is supposed to move.
  • the boat table 19 and And a boat stand 20 on which the boat 13 is placed At the wafer transfer position A and the wafer cooling position C, the boat table 19 and And a boat stand 20 on which the boat 13 is placed.
  • the boat placement unit 12 receives the boat 13 holding the unprocessed wafer 10 at the boat transfer position B from the boat exchange device 14.
  • the boat 13 is carried into the processing chamber of the processing furnace 11 by the boat elevator 7.
  • the wafer 10 is heated, and a required processing gas is introduced into the processing chamber to process the substrate.
  • the boat 13 is rotated during wafer processing in order to improve the uniformity of film formation.
  • the boat elevator 7 unloads the boat 13 from the processing furnace 11 to the boat transfer position B, and transfers the boat 13 to the boat exchange device 14.
  • the boat 13 holding the processed wafer 10 is moved to the wafer cooling position C, placed on the boat table 20 and cooled to a predetermined temperature.
  • the boat 13 holding the unprocessed wafers 10 is moved from the wafer transfer position A to the boat transfer position B, and is transferred to the boat mounting portion 12 to be transferred to the boat elevator.
  • the boat exchange device 14 moves the boat 13 holding the processed wafer 10 to the wafer transfer position A, and Place it on the boat table 19.
  • the substrate transfer device 15 transfers the processed wafer 10 from the boat 13 at the wafer transfer position A to the cassette 16 on the cassette opener 4.
  • the cassette 16 When the processed wafer 10 is loaded into the cassette 16, the cassette 16 is transported to the cassette stage 2 by the cassette holder 6 and further unloaded by an external transport device.
  • the substrate transfer machine 15 transfers the unprocessed wafer 10 from the cassette 16 to the wafer. Transfer to an empty boat 13 at transfer position A.
  • the processing furnace 11 has a heater 21 as a heating mechanism.
  • the heater 21 has a cylindrical shape and is provided perpendicular to the heater base 22.
  • a reaction tube 23 is disposed concentrically with the heater 21.
  • the reaction tube 23 includes an internal reaction tube 24 and an external reaction tube 25 provided concentrically on the outside thereof.
  • the internal reaction tube 24 is made of a heat-resistant material such as quartz (Si02) or silicon carbide (SiC), and has a cylindrical shape with upper and lower ends opened.
  • the internal reaction tube 24 defines a processing chamber 26, and the processing chamber 26 can accommodate a boat 13 loaded with wafers 10.
  • the external reaction tube 25 has a heat resistant material such as quartz or silicon carbide, and has a cylindrical shape with a lower end opened and a top closed.
  • the outer reaction tube 25 forms a cylindrical space 27 between the outer reaction tube 24 and the inner reaction tube 24.
  • a heater 28 is supported by the heater base 22 (support structure V is not shown).
  • the external reaction tube 25 is hermetically provided in the hold 28.
  • the hold 28 is made of, for example, stainless steel.
  • An inner flange 29 is formed on the inner cylindrical surface of the mold 28, and the inner reaction tube 24 is erected on the inner flange 29.
  • a nozzle 32 as a gas introduction part is connected to the seal cap 9 so as to communicate with the inside of the processing chamber 26, and a gas supply pipe 33 is connected to the nozzle 32.
  • a processing gas supply source and an inert gas supply source are connected to the upstream side of the gas supply pipe 33 via an MFC (mass flow controller) 34 as a gas flow rate controller!
  • a gas flow rate control unit 35 is electrically connected to the MFC 34.
  • the gas flow rate control unit 35 controls the MFC 34 so that the flow rate of the gas to be supplied becomes a desired amount and the gas supply timing becomes a desired time.
  • the manifold 28 is provided with an exhaust pipe 36 for exhausting the atmosphere of the processing chamber 26.
  • the exhaust pipe 36 is provided on the hold 28 so as to communicate with the lower end of the space 27.
  • the exhaust pipe 36 is provided with a pressure sensor 37 as a pressure detector.
  • the exhaust pipe 36 is connected to a vacuum exhaust device 39 such as a vacuum pump via a pressure adjusting device 38 such as a pressure control valve, so that the pressure in the processing chamber 26 becomes a predetermined pressure (degree of vacuum). It is configured so that it can be evacuated.
  • a pressure control unit 41 is electrically connected to the pressure sensor 37 and the pressure adjusting device 38.
  • the pressure control unit 41 is configured to control the pressure adjusting device 38 at a desired timing based on the pressure detected by the pressure sensor 37.
  • the pressure adjusting device 38 is controlled by the pressure control unit 41 to adjust the pressure in the processing chamber 26 so as to become a desired pressure at a desired timing.
  • the lower end opening of the hold 28 constitutes a furnace opening.
  • the seal cap 9 as a furnace port cover is provided below the malle 28.
  • the seal cap 9 is also in contact with a lower side force in the vertical direction on the lower end surface of the holder 28, so that the furnace bottom portion can be hermetically closed.
  • the seal cap 9 is formed in a disk shape from a metal such as stainless steel.
  • the seal cap 9 is provided with a boat rotation mechanism 42 for rotating the boat concentrically with the seal cap 9.
  • the boat rotation shaft 43 of the boat rotation mechanism 42 passes through the seal cap 9 and is connected to the boat mounting board 44, and the boat mounting board 44 has the boat 13 mounted thereon. It is supposed to be.
  • the boat rotation mechanism 42 rotates the boat 13 via the boat rotation shaft 43 and the boat mounting board 44.
  • the seal cap 9 is supported by the lift arm 8 (see FIG. 1), and is lifted and lowered by the boat elevator 7 through the lift arm 8.
  • the boat 13 is brought into and out of the processing chamber 26 by the boat elevator 7.
  • a drive control unit 45 is electrically connected to the boat elevator 7 and the boat rotation mechanism 42.
  • the drive control unit 45 controls the boat rotation mechanism 42 and the boat elevator 7 to perform a desired operation at a desired timing.
  • the boat 13 is formed of a heat resistant material such as quartz or silicon carbide, and is configured to hold a predetermined number of wafers 10 in a horizontal posture in multiple stages as described above. Yes.
  • a plurality of heat insulating plates 46 as a disk-shaped heat insulating member made of a heat resistant material such as quartz or silicon carbide are arranged in multiple stages in a horizontal posture at the lower portion of the boat 13.
  • the heat insulating plate 46 makes it difficult for heat from the processing chamber 26 to be transmitted to the side of the mall 28.
  • a temperature sensor 47 is installed in the reaction tube 23.
  • a temperature controller 48 is electrically connected to the heater 21 and the temperature sensor 47.
  • the temperature controller 48 controls the heating state of the heater 21 so that the temperature of the processing chamber 26 has a desired temperature distribution.
  • the unit 50 and the like constitute a main control unit 51, and the main control unit 51 controls the entire substrate processing apparatus.
  • the fall prevention control unit 49 and the boat exchange control unit 50 may be provided integrally in the drive control unit 45.
  • a motor holder 54 is fixed to the lower surface of the seal cap 9, and a speed reducer 55 is attached to the lower surface of the motor holder 54.
  • a hollow outer rotating shaft 56 passing through the speed reducer 55 and the motor holder 54 is rotatably supported by a bearing 57.
  • the boat rotation shaft 43 provided integrally with the outer rotation shaft 56 penetrates the seal cap 9 in an airtight manner.
  • the boat mounting board 44 is fixed to the upper end of the boat rotating shaft 43.
  • Tapered grooves 58 are formed in three radial directions on the upper surface of the boat mounting board 44.
  • Positioning pins 61 are provided so as to protrude from the bottom surface of the boat bottom plate 59 at a position divided into three equal parts. The positioning pin 61 and the tapered groove 58 are fitted to each other so that the boat 13 is positioned with respect to the boat mounting board 44.
  • a lock hole 62 is provided on the bottom surface of the bottom plate 59 of the boat 13 as described later. Yes.
  • a worm wheel 63 is fitted and fixed between the bearings 57, 57 of the outer rotating shaft 56, and a worm 64 is fitted on the worm wheel 63.
  • the worm 64 is fixed to an output shaft 65 of a boat rotation motor (not shown).
  • the boat rotation mechanism 42 has a rotation detector (not shown) that detects the rotation position of the outer rotation shaft 56.
  • the rotation detector detects a rotational position of the outer rotating shaft 56 relative to the seal cap 9.
  • the rotation detector detects a reference position of the outer rotating shaft 56, that is, the boat mounting board 44.
  • a boat lock shaft 66 is concentrically disposed inside the outer rotation shaft 56 and the boat rotation shaft 43, and the boat lock shaft 66 is rotatably supported by a bearing 67.
  • the boat lock shaft 66 is hermetically sealed.
  • the boat lock shaft 66 protrudes from the boat mounting board 44, and a substantially rectangular lock plate 68 as shown in FIG. 5 is fixed to the protruding end as a lock member.
  • a part of the lower end portion of the boat lock shaft 66 is cut into a semi-cylindrical shape, and a flat surface 69 is formed.
  • the flat surface 69 projects downward from the lower surface of the speed reducer 55.
  • a lock panel 71 that is a torsion coil panel is disposed at the lower end of the boat lock shaft 66.
  • One end of the lock panel 71 is bent toward the center and hooked on the flat surface 69.
  • the other end of the lock panel 71 extends in the tangential direction and is hooked on the outer rotating shaft 56.
  • a mechanical stopper is provided between the boat lock shaft 66 and the outer rotation shaft 56.
  • the lock panel 71 is provided with initial stagnation for reliably abutting the boat lock shaft 66 and the outer rotation shaft 56.
  • a lock rod 73 is provided on the lower surface of the speed reducer 55 via a slide bearing 72 so as to be movable in a direction perpendicular to the axis of the boat dock shaft 66.
  • the distal end of the lock rod 73 can come into contact with the flat surface 69, and the base end of the lock rod 73 is connected to a lock actuator 74 that is a linear actuator such as a cylinder or a solenoid. Yes.
  • the lock actuator 74, and the like constitute a boat overturn prevention mechanism 77 as a substrate holder movement restraining mechanism.
  • a pin extending in the horizontal direction is provided at the lower end of the boat lock shaft 66, and a member that enters and exits the rotation surface of the pin is used. It may be provided.
  • the boat bottom plate 59 is formed with the lock hole 62, and the lock hole 62 is configured to be able to link with and release from the lock plate 68.
  • the lock hole 62 is formed with a disk-like bag hole 75 inside the boat bottom plate 59, and the bag hole 75 is opened by a key hole 76. .
  • the key hole 76 has a substantially rectangular shape formed by two arcs having the same radius as the bag hole 75 and two parallel straight lines facing each other.
  • the key hole 76 and the lock plate 68 have a similar shape.
  • the lock plate 68 is inserted into the bag hole 75 through the key hole 76 (FIG. 6).
  • the boat lock shaft 66 is rotated relative to the boat bottom plate 59 at a required angle (90 ° in the drawing) (see FIG. 6 (C)), thereby A plate 68 is associated with the keyhole 76.
  • the boat mounting board 44 and the boat bottom plate 59 are locked so as not to be separated, that is, locked so that the boat 13 does not fall down.
  • the position of the boat 13 in the rotational direction with respect to the boat mounting board 44 is determined by the fitting of the tapered groove 58 and the positioning pin 61.
  • the boat dock shaft 66 is moved between the initial panel force of the lock panel 71 and the boat lock shaft 66 and the outer rotation shaft 56.
  • the position in the rotational direction of the boat lock shaft 66 and the boat mounting board 44 is determined by the stagger.
  • the lock actuator 74 is driven to cause the lock rod 73 to protrude and abut against the flat surface 69.
  • the lock rod 73 abuts against the flat surface 69 to lock the rotation of the boat lock shaft 66.
  • the rotation direction is a direction in which the lock panel 71 is further swung.
  • the position and direction of the boat 13 are uniquely determined with respect to the boat mounting board 44. At this time, the direction of the key hole 76 of the boat bottom plate 59 of the boat 13 coincides with the direction of the lock plate 68 (see FIG. 7A).
  • the boat 13 is placed on the boat mounting board 44.
  • the lock plate 68 is connected to the key hole 7
  • the boat rotation motor (not shown) is driven in a direction opposite to the rotation direction.
  • the boat lock shaft 66 is still restricted in rotation by the lock rod 73.
  • the rotation direction is a direction in which the lock panel 71 is restored.
  • the unlocking operation in the boat mounting board 44 is performed by an operation opposite to the above-described locking operation.
  • the lock rotator shaft 66 In order to return the lock plate 68 relative to the boat mounting board 44, the lock rotator shaft 66 is moved by the restoring force of the lock panel 71 by retracting the lock rod 73. It is also possible to rotate in the reverse direction.
  • the boat lock shaft 66 is slowly returned by the boat rotation motor as described above.
  • the boat table 19 will be described with reference to FIGS. 8 and 9.
  • the boat table 20 has the same structure as the boat table 19.
  • a seat plate 79 is fixed to the base 78 attached to the housing 1.
  • a support post 81 is set up on the seat plate 79, and a boat seat 82 is provided on the support post 81.
  • Three tapered grooves 80 are formed radially on the upper surface of the boat seat 82, and the taper grooves 80 are fitted with the positioning pins 61 of the boat 13.
  • a lock shaft 83 is provided on the center line of the boat seat 82, and a lock plate 84 having the same shape as the lock plate 68 is fixed to the protruding upper end of the lock shaft 83.
  • the lower end of the lock shaft 83 is connected to a rotary reactor 85 such as a rotary cylinder, a motor, or a rotary solenoid.
  • the lock plate 84 is rotated by 90 ° through the lock shaft 83 by the rotary reactor 85! /.
  • the boat 13 is placed on the boat seat 82.
  • the posture of the boat 13 with respect to the boat seat 82 is determined by the fitting of the tapered groove 80 and the positioning pin 61.
  • the direction of the key hole 76 and the direction of the lock plate 84 are made to coincide with each other. Accordingly, the lock plate 84 is inserted into the bag hole 75 through the key hole 76.
  • the rotary reactor 85, the lock shaft 83, the lock plate 84, and the like constitute a boat overturn prevention mechanism 86 as a substrate holder movement suppression mechanism.
  • the boat 13 is locked in both the state held by the boat elevator 7 and the state held by the boat cradle 19 and the boat cradle 20 to prevent overturning. It will be in the state where was given.
  • the lock of the boat 13 is executed in either the state held by the boat elevator 7 or the state held by the boat table 19 and the boat table 20 V. Well ...
  • the base (not shown) of the casing 1 is provided with a frame 87 having a U-shaped vertical section.
  • a guide shaft 88 is provided vertically on the frame 87 so as to extend vertically, and a right elevating block 89 and a left elevating block 90 are operably provided on the guide shaft 88.
  • a screw shaft 91 is screwed to the right elevating block 89, and the screw shaft 91 is provided in parallel with the guide shaft 88.
  • the lower end of the screw shaft 91 is supported by a bearing member 92 fixed to the frame 87.
  • a right elevating motor 93 is attached to the bearing member 92, and the screw shaft 91 is rotated by the right elevating motor 93.
  • An L-shaped bracket 94 is fixed to the front surface of the right lifting block 89, and a rotary reactor 95 such as a rotary cylinder is attached to the bracket 94.
  • the right boat support arm 18 is fixed to the rotary shaft 96 of the thalia actuator 95.
  • the right boat support arm 18 is moved up and down by the right lift motor 93 and is rotated by the rotary actuator 95.
  • the distal end portion of the right boat support arm 18 is a right boat mounting portion 97, and the right boat mounting portion 97 includes the boat toppling prevention mechanism 98 as will be described later. RU
  • the left boat support arm 17 is also raised and lowered and rotated by the same mechanism as the right boat support arm 18.
  • the left lifting block 90 is screw-coupled to the screw shaft 100 rotated by the left lifting motor 99.
  • a rotary actuator 102 is attached to the left elevating block 90 via a bracket 101, and the left boat support arm 17 is attached to the rotary actuator 102.
  • the front end of the left boat support arm 17 is also a left boat mounting portion 103, and the left boat mounting portion 103 is provided with a boat tipping prevention mechanism 98, similar to the right boat mounting portion 97. ing.
  • the left boat mounting portion 103 is symmetrical with the right boat mounting portion 97.
  • the right elevating motor 93, the rotary actuator 95, the left elevating motor 99 and the rotary actuator 102 are controlled by the boat replacement control unit 50 for driving such as operation speed and operation timing. It will be done.
  • FIG. 11 The boat toppling prevention mechanism 98 and the left boat mounting portion 103 will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
  • FIG. 11 The boat toppling prevention mechanism 98 and the left boat mounting portion 103 will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
  • FIG. 11 The boat toppling prevention mechanism 98 and the left boat mounting portion 103 will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
  • FIG. 11 The boat toppling prevention mechanism 98 and the left boat mounting portion 103 will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
  • the figure shows the boat toppling prevention mechanism 98 provided on the left boat support arm 17.
  • the left boat mounting portion 103 has a substantially semicircular arc shape, and the cross-sectional shape thereof includes a horizontal shelf portion 104 and a vertical wall portion 105.
  • the shelf 104 has a step 106 on which the boat 13 is placed.
  • the boat overturning prevention mechanism 98 is provided at a substantially central position of the arc shape of the left boat mounting portion 103.
  • the boat overturn prevention mechanism 98 suppresses the movement of the substrate holder in the horizontal direction and the vertical direction in order to maintain the state where the substrate holder is placed on the mounting portion of the substrate holder moving mechanism. Construct and suppress the movement control mechanism. As shown in FIG. 11, when the boat 13 is placed on the shelf 104, the boat overturn prevention mechanism 98 faces a vertical recess 115 as a recess on the lower surface of the boat 13.
  • the vertical pin 107 as a mounting surface convex portion that is placed at a position located at a position and the horizontal concave portion 116 that is also a side concave portion of the boat 13 as a side convex portion that is placed at a position facing the horizontal concave portion 116 as a side concave portion.
  • a horizontal pin 112 and a linear actuator 109 as a convex portion moving mechanism for moving the horizontal pin 112 so that the outer force of the horizontal concave portion 116 is also put in and out of the horizontal concave portion 116 are provided.
  • the horizontal pin 112 is formed in a cylindrical pin shape, is provided so as to protrude coaxially to the tip surface of the piston rod 111 of the linear actuator 109, and can be inserted into the horizontal recess 116. Constructed.
  • the wall 105 is provided with a through hole 108.
  • a mounting seat is provided radially outward at a portion of the through hole 108 on the outer periphery of the wall 105, and the linear actuator 109 is arranged so that the piston rod 111 is radially inward of the mounting seat. It is installed.
  • the vertical pin 107, the horizontal pin 112, and the linear actuator 109 are all arranged at a position of 90 ° with respect to the left boat support arm 17, that is, in the rotation direction of the left boat support arm 17. Has been placed. That is, the vertical pin 107, the horizontal pin 112, and the linear actuator 109 are aligned in a straight line toward the center of the left boat mounting portion 103.
  • L indicates that the boat 13 is mounted on the left boat mounting portion 103 vertically.
  • the distance between the lower part of the horizontal pin 112 and the boat 13, R is the bottom surface of the boat 13
  • the horizontal central force is also the distance to the vertical pin 107, r is the radius of the vertical pin 107,
  • R is the radius of the lower surface of the boat 13.
  • the boat tilt angle is smaller than ⁇ , so here, when the boat 13 tilts in the direction of FIG. 13 (C) Just think about it. If the boat 13 tilts until the boat 13 tilts and contacts the horizontal pin 112 at point P, the tilt angle ⁇ is
  • the vertical pin 107 comes out of the boat 13 when it is struck.
  • L is long (the horizontal pin 112 is inserted into the horizontal recess 116 of the boat 13).
  • L becomes longer. Therefore, in order to prevent the vertical pin 107 from coming off, L must be lengthened.
  • FIG. 1 FIG. 2, FIG. 15 (A), FIG. 15 (B), FIG.
  • the left boat support arm 17 receives at the wafer cooling position C, the left boat support arm 17 is rotated to the position of the boat table 20 by the rotary reactor 102.
  • the left boat support arm 17 is lowered by the left elevating motor 99 so that the left boat support arm 17 and the boat 13 to be received do not interfere with each other.
  • the piston rod 111 is in a retracted state.
  • the shelf 104 of the left boat platform 103 receives the boat 13. That is, the boat 13 gets on the left boat mounting portion 103 relatively. At this time, as shown in FIG. 15 (B), the vertical pin of the left boat mounting portion 103 is
  • the boat The vertical movement of 13 is restricted, that is, the vertical movement is restricted.
  • the vertical pin 107 is inserted into the vertical recess 115, and the horizontal pin 112 is inserted into the horizontal recess 116, thereby restraining the rotational movement of the boat 13 around the vertical pin 107.
  • the boat 13 is placed on the step 106 so that the rotational movement around the vertical pin 107 can be further restrained.
  • the rotational movement may be restricted by bringing the wall portion 105 close to the boat 13 and abutting the wall portion 105 against the boat 13.
  • the vertical pin 107 of the left boat mounting portion 103 is inserted into the vertical recess 115 of the boat 13, and the horizontal pin 112 is inserted into the horizontal recess 116 of the boat 13. In addition, it is possible to reliably prevent the boat 13 from falling during transportation.
  • the left boat placement section 103 is in a state corresponding to the lift arm 8, the seal cap 9, and the boat placement board 44. Become.
  • the left boat mounting portion 103 is further lowered, the vertical pin 107 of the left boat mounting portion 103 is pulled out from the vertical recess 115 of the boat 13, and the left boat mounting portion 103 is Leave the boat 13. That is, the boat 13 is transferred onto the boat mounting board 44 of the seal cap 9.
  • the left boat mounting portion 103 is returned to the wafer transfer position A by rotating the left boat support arm 17 by 90 ° in the opposite direction to that described above.
  • each unit constituting the substrate processing apparatus is controlled by the main control unit 51.
  • a predetermined number of wafers 10 are loaded (wafer charged) on the boat 13 (wafer transfer position A) placed on the boat table 19 by the substrate transfer machine 15.
  • the boat 13 placed on the boat table 19 is in a state where the lock plate 84 is linked to the lock hole 62 and is locked by the boat toppling prevention mechanism 86.
  • the boat 13 When the loading of the wafer 10 into the boat 13 is completed, the boat 13 is delivered from the boat mount 19 to the left boat support arm 17 at the wafer transfer position A, and the left boat support arm 17 The boat 13 is transported to the boat platform 12 (boat transfer position B).
  • the boat fall prevention mechanism 98 After the boat fall prevention mechanism 98 completes the locking of the boat 13, the boat fall prevention mechanism 86 is unlocked. Therefore, when the boat 13 is delivered, there is a state in which the boat overturn prevention mechanism 98 and the boat overturn prevention mechanism 86 simultaneously lock the boat 13 so that the boat 13 is not unlocked. In addition, the operation timing of the boat overturning prevention mechanism 86 and the boat overturning prevention mechanism 98 is controlled by the overturning prevention control unit 49.
  • the boat transfer position B the transfer of the boat 13 from the left boat support arm 17 to the boat mounting portion 12 is the same, and the boat fall prevention mechanism 98 is in a state where the boat 13 is locked.
  • the boat mounting board 44 receives the boat 13 and further prevents the boat from falling over.
  • Mechanism 77 is activated and locks boat 13.
  • the boat fall prevention mechanism 98 After the boat 13 has been locked by the boat fall prevention mechanism 77, the boat fall prevention mechanism 98 is unlocked. Even in this case, the operation timing force of the boat toppling prevention mechanism 98 and the boat toppling prevention mechanism 77 is controlled by the toppling prevention control unit 49 so that the boat 13 is not unlocked.
  • the inside of the processing chamber 26 is evacuated by the evacuation device 39 so that a desired pressure (degree of vacuum) is obtained. At this time, the pressure in the processing chamber 26 is measured by the pressure sensor 37 and is adjusted by the pressure regulator 38 based on the measured pressure.
  • the processing chamber 26 is heated by the heater 21 so as to reach a desired temperature.
  • the power supply to the heater 21 is feedback controlled based on the temperature information detected by the temperature sensor 47 so that the processing chamber 26 has a desired temperature distribution.
  • the gas supplied from the processing gas supply source and controlled to have a desired flow rate by the MFC 34 circulates through the gas supply pipe 33 and passes through the nozzle 32 to enter the processing chamber 26. Be led by.
  • the introduced gas ascends in the processing chamber 26, flows out into the space 27 above the opening opening force of the internal reaction pipe 24, and is exhausted from the exhaust pipe 36.
  • the gas passes through the processing chamber 26, the gas contacts the surface of the wafer 10. At this time, a thin film is deposited on the surface of the wafer 10 by a thermal CV D reaction.
  • the processed wafer 10 is taken out from the boat 13 (wafer discharge).
  • the processing conditions for processing a wafer in the processing furnace include, for example, a processing temperature of 760 ° C, a processing pressure of 20 to 25 Pa, in the formation of a SiN film, Gas type ammonia (NH3) gas, gas supply flow rate 480sccm, gas type dichlorosilane (DCS) gas, gas supply flow rate 120 SC cm are presented, and each processing condition is kept constant at a certain value within each range. As a result, the wafer is processed.
  • NH3 gas Gas type ammonia
  • DCS gas type dichlorosilane
  • the boat 13 is lowered by the boat elevator 7, and the boat 13 is transferred from the boat mounting portion 12 to the right boat support arm 18 at the boat transfer position B. Is called.
  • the boat 13 is placed on the right boat support arm 18 in a state where the boat 13 is locked by the boat fall prevention mechanism 77, and after the boat fall prevention mechanism 98 has been locked, The fall prevention mechanism 77 is unlocked.
  • the operation timing of the boat overturning prevention mechanism 77 and the boat overturning prevention mechanism 98 is controlled by the overturning prevention control unit 49 so that the boat 13 is not unlocked.
  • the tipping prevention control unit 49 prevents the boat 13 from being unlocked.
  • the operation timing of the boat toppling prevention mechanism 98 and the boat toppling prevention mechanism 86 is controlled.
  • a boat overturning prevention mechanism as a boat movement restraining mechanism is installed in the left boat mounting section and the right boat mounting section, and the boat is transported by the left boat mounting section and the right boat mounting section.
  • a boat tipping prevention mechanism is installed in the left and right boat placement sections, and the left boat placement
  • the vertical pin of the boat toppling prevention mechanism is inserted into the vertical recess of the boat, and the horizontal pin is inserted into the horizontal recess of the boat. Even if an unexpected external force is applied due to a mistake, it is possible to reliably prevent the boat from falling down, and thus the manufacturing yield in the IC manufacturing method using the vertical diffusion CVD apparatus can be improved.
  • a processing chamber for storing and processing a substrate for storing and processing a substrate, a substrate holder for holding the substrate in the processing chamber, and a mounting for mounting the substrate holder to move the substrate holder outside the processing chamber
  • a first substrate holder overturn prevention mechanism that can be linked and detached so as to prevent the substrate holder placed on the placement unit from overturning, and the substrate holder in a location different from the placement unit.
  • the substrate holder fall prevention mechanisms At least one of the substrate holders is linked to the substrate holder and controlled to prevent the substrate holder from toppling over. Therefore, when the substrate processing apparatus is in operation, the substrate holder may have any of the above-mentioned ones. Since the substrate holder overturning prevention mechanism is linked and there is no unlinked state of the substrate holder, the substrate holder can be prevented from falling even when an unexpected external force acts on the substrate holder.
  • a processing chamber for storing and processing a substrate for storing and processing a substrate
  • a substrate holder for holding the substrate in the processing chamber for holding the substrate in the processing chamber
  • a mounting for placing the substrate holder and moving the substrate holder outside the processing chamber A holding base that is arranged at a different location from the mounting part and can hold the substrate holder, and a second base that can be linked and detached so as to prevent the substrate holder placed on the holding base from overturning.
  • a second substrate holder overturning prevention mechanism that can be linked and disengaged so as to prevent the holder from overturning
  • an overturn prevention control unit that controls the linkage and disengagement of the first and second substrate holder overturn prevention mechanisms.
  • the overturn prevention control unit is configured to prevent the first and second substrate holders from falling while the substrate holder is being exchanged between the holder and the substrate holder moving mechanism. At least one of them is linked to the substrate holder and is controlled so as to prevent the substrate holder from overturning. Therefore, when the substrate processing apparatus is in operation, the substrate holder may be Since the substrate holder overturning prevention mechanism is linked and there is no unlinked state of the substrate holder, the substrate holder is prevented from falling even when an unexpected external force acts on the substrate holder. Exhibits excellent effects.
  • FIG. 16 is a perspective view showing a boat overturn prevention mechanism in a vertical diffusion CVD apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • a boat overturning prevention mechanism 98A as a substrate holder movement restraining mechanism includes two boat holders 120 as substrate holder holders.
  • the vertical pin 107 of the boat toppling prevention mechanism 98A is inserted into the vertical recess 115 of the boat 13, and the horizontal pin 112 is inserted into the horizontal recess 116 of the boat 13.
  • the boat retainer 120 is provided at a position perpendicular to a straight line connecting the horizontal pin 112 and the center of the seat plate 121 at the periphery of the seat plate 121 and more reliably. Can be prevented.
  • the boat toppling prevention mechanism as the boat movement restraining mechanism is not limited to being installed in a swing arm type boat exchanging device.
  • the boat mounting portion of the direct-acting boat changer 14A It may be installed at 97A.
  • the driving means for advancing and retracting the horizontal pin of the boat overturn prevention mechanism as the boat movement suppression mechanism is not limited to using an air cylinder device, and an actuator such as an electric motor or an electromagnetic plunger may be used. .
  • Both of the arms supporting the two boat mounting portions may be rotated by 180 °, and the boat at the boat standby position can be moved by the boat mounting portion without providing a standby boat mounting table at the boat standby position. You can support it, and you can transfer the boat at the boat transfer position by moving the boat elevator up and down.
  • the substrate holder includes a force indicating the integrated boat 13 and the like, in addition to the one in which the lower part is divided, and the one in which the boat is structured to be mounted on the boat mounting part 12 through the holding member. Needless to say.
  • the substrate holder has a lower surface recess (vertical recess) on the lower surface, and a side surface recess (horizontal recess) on the side surface of the substrate holder,
  • the substrate holder movement suppression mechanism includes a placement surface convex portion (vertical pin) disposed at a position facing the bottom surface recess when the substrate holder is placed on the placement surface of the placement portion.
  • a convex portion moving mechanism (linear actuator) that is disposed at a position facing the side concave portion and is movable from the outside of the side concave portion to the side concave portion.
  • the substrate holder movement restraining mechanism is configured such that the substrate holder is placed on the mounting portion.

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Abstract

　基板処理装置は、基板を収容し所定の処理を施す処理室と、この処理室内で基板を保持する基板保持具と、この基板保持具を載せつつ前記処理室内外に移動可能な載置台と、前記基板保持具を保持しつつ前記載置台とは異なる場所に移動させる基板保持具移動機構と、この基板保持具移動機構の載置部に前記基板保持具が載せられた状態を維持するための前記基板保持具の水平方向および垂直方向への移動を抑制する基板保持具移動抑制機構とを備えている。

Description

明 細 書
基板処理装置および半導体装置の製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、シリコンウェハ等の被処理基板に対して、 CVD、ドライエッチング、スパ ッタ等所要の処理を行う基板処理装置およびそれを使用した半導体装置の製造方 法に関し、特に、ボート等の基板保持具を搬送する搬送装置を具備する基板処理装 置に関するものである。
背景技術
[0002] シリコンウェハ等の基板に CVD、ドライエッチング、スパッタ等所要の処理を行！、半 導体装置を製造する装置として基板処理装置がある。
基板処理装置には基板を一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置と、所定枚数 を一度に処理するバッチ式の基板処理装置とがある。
[0003] 半導体集積回路装置 (以下、 ICという。）の製造方法において、ウェハに拡散処理 や成膜処理を施す工程には、縦型拡散 CVD装置が使用されている。
従来のこの種の縦型拡散 CVD装置として、複数枚のウェハを保持するボートを移 動させるボート移動機構を備えており、ボート移動機構はボートをウェハ移載位置と ボート搬入搬出炉位置とウェハクーリング位置との間で移動させるように構成されて いるものがある。例えば、特許文献 1参照。
すなわち、この縦型拡散 CVD装置のボート移動機構は、単独で旋回および上下動 する 2本のボート支持アームを備えており、ボート支持アームによってボートを支持し て、ウェハ移載位置の置き台と、ボート搬入搬出炉位置と、ウェハクーリング位置の 置き台との間を移動させるようになって 、る。
[0004] また、例えば、特許文献 2には、ボートを昇降させて反応炉に搬入搬出するボート エレベータ、ウェハ移載位置の置き台およびウェハクーリング位置の置き台において ボートをロックするボートロック機構が、開示されて ヽる。
しかし、このボートロック機構においては、ボートがウェハ移載位置とボート搬入搬 出炉位置とウェハクーリング位置との間を移動している間中はボートがロックされてい な 、ために、ボートの倒れを防止することができな!/、。
[0005] そこで、例えば、特許文献 3には、移動中のボートの倒れを防止するために、ボート 支持アームの上に倒れ防止クランパを設置したボートロック機構が、開示されている。 特許文献 1：特開 2001— 338888号公報
特許文献 2：特開 2003 - 258063号公報
特許文献 3：特開 2004 - 71618号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] しかしながら、特許文献 2に示された基板処理装置、特許文献 3に示された基板処 理装置それぞれ個々にボートの転倒防止について考慮されている力 ボート交換装 置によるボート搬送途中、ボート交換装置がボートをボート移載位置に受渡している 途中の転倒防止については、考慮されていない。
地震等は何時発生するか予測することができず、基板処理装置の基板処理中、ボ ート交換装置によるボート搬送途中、ボート交換装置がボートをボート移載位置に受 渡している途中に地震が発生した場合、ボートが転倒し、或は損傷する虞れがある。
[0007] また、ボート支持アームの上に倒れ防止クランパを設置したボートロック機構におい ては、次のような問題点がある。
1) ボート支持アーム上の倒れ防止クランパをボートに差し込んだ高さと、ボートを持 ち上げた状態の高さとの差力 隙間が発生するために、移動中のボートの倒れを完 全に防止することができな!/、。
2) ボートの倒れおよび横方向の移動が完全に拘束されていないと、地震時のような 断続的振動時にはボートが横方向に移動してしまう。
3) ボート支持アームは片持ちでボートを支持するために、橈みが若干発生すること になる。特に、ボートの有無やボートに保持されるウェハの枚数の相違によって橈み 量が変わることになることにより、一定の条件で水平レベルを調整しても、橈み量の相 違によって水平度に変化が発生するために、ボートが横方向に移動してしまう。
4) ボート支持アームの上での保持部が無い方向（ボートが支持されていない部分） にボートが移動すると、慣性によってボートがずれてしまうために、ボート支持アーム 力もボートが脱落してしまう。
5) 前述した隙間は機械的精度および調整の作業性の観点を考慮すると、小さくす ることはきわめて困難である。
[0008] 本発明の目的は、前述した従来の技術の問題点を解決し、ボートの倒れを確実に 防止することができる基板処理装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0009] 前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
(1)基板を収容し所定の処理を施す処理室と、
この処理室内で基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を載せつつ前記処理室内外に移動可能な載置台と、 前記基板保持具を保持しつつ前記載置台とは異なる場所に移動させる基板保持 具移動機構と、
この基板保持具移動機構の載置部に前記基板保持具が載せられた状態を維持す るための前記基板保持具の水平方向および垂直方向への移動を抑制する基板保持 具移動抑制機構とを備えていることを特徴とする基板処理装置。 発明の効果
[0010] 前記した手段によれば、基板保持具移動機構の載置部に基板保持具が載せられ た状態を維持するための基板保持具移動抑制機構によって基板保持具の水平方向 および垂直方向への移動を抑制することにより、基板保持具移動機構による基板保 持具の移動中に、基板保持具が水平方向および垂直方向に移動するのを防止する ことができるので、基板保持具が倒れるのを確実に防止することができる。
図面の簡単な説明
[0011] [図 1]本発明が実施される基板処理装置の概略を示す斜視図である。
[図 2]本発明が実施される基板処理装置の概略を示す平面図である。
[図 3]該基板処理装置に用いられる処理炉の一例を示す断面図である。
[図 4]該基板処理装置に於けるボート載置部でのボート転倒防止機構を示す断面図 である。
[図 5]該ボート転倒防止機構に使用されるロックプレートの平面図である。 [061 (A) (B) (C)は、該ボート転倒防止機構に於けるロック部分の連係、解除動作 の説明図である。
[071 (A) (B) (C)は、該ボート転倒防止機構の連係、解除動作の説明図である。
[図 8]本発明に係る基板処理装置に用いられるボート置き台の一例を示す斜視図で ある。
[図 9]該ボート置き台の側断面図である。
[図 10]本発明に係る基板処理装置に用いられるボート交換装置の一例を示す斜視 図である。
[図 11]該ボート交換装置に於けるボート載置部の斜視図である。
[図 12]該ボート交換装置に於けるボート転倒防止機構を示す図 11の A— A矢視図で ある。
[図 13]垂直凸部と水平ピンとの寸法関係を説明するためのものであり、 (A)は平面断 面図、（B)は側面断面図、（C)は模式図である。
[図 14]垂直凸部と水平ピンとの周方向の位相がずれた場合の寸法関係を説明する ためのものであり、（A)は平面断面図、（B)は模式図である。
[図 15] (A) (B) (C)は、該ボート転倒防止機構の連係および解除動作の説明図であ る。
[図 16]本発明の他の実施の形態である縦型拡散 CVD装置におけるボート転倒防止 機構を示す斜視図である。
[図 17]ボート転倒防止機構を直動式のボート交換装置に設置した場合の実施の形 態を示す斜視図である。
[図 18]ボート転倒防止機構をスカラ形ロボットに設置した場合の実施の形態を示す斜 視図である。
符号の説明
1 筐体
7 ボー卜エレベータ
8 昇降アーム
9 シールキャップ 10 ウェハ（基板）
11 処理炉
12 ボート載置部
13 ボート (基板保持具）
14 ボート交換装置 (基板保持具移動機構）
15 基板移載機
17 左ボート支持アーム
18 右ボート支持アーム
19 ボート置き台
20 ボート置き台
21 ヒータ
23 反応管
26 処理室
42 ボート回転機構
44 ボート載置盤
45 駆動制御部
49 転倒防止制御部
50 ボート交換制御部
51 主制御部
59 ボート底板
62 ロック穴
66 ボ1 ~~トロッタ軸
68 ロックプレート
73 ロックロッド
74 ロックァクチユエータ
76 鍵孔
77 ボート転倒防止機構 (基板保持具移動抑制機構)
82 ボート受座 83 ロックシャフト
84 ロックプレート
85 ロータリアクチユエータ
86 ボート転倒防止機構
88 ガイドシャフト
91 スクリューシャフト
93 右昇降モータ
97 右ボート載置部
98 ボート転倒防止機構
99 左昇降モータ
100 スクリューシャフト
103 左ボート載置部
106 段差部
107 垂直ピン (載置面凸部）
109 リニアァクチユエータ（凸部移動機構)
112 水平ピン (側面凸部）
115 垂直凹部（下面凹部）
116 水平凹部 (側面凹部）
120 ボート押さえ
発明を実施するための最良の形態
[0013] 以下、図面を参照しつつ本発明を実施するための最良の形態を説明する。
[0014] 先ず、図 1、図 2に於いて、本発明が実施される基板処理装置の概略について説明 する。
[0015] 筐体 1の前面にはカセットステージ 2が設けられている。カセットステージ 2は外部搬 送装置（図示せず)との間で基板搬送容器 (以下、カセットと称す。本実施の形態で は密閉式のカセットが使用されて 、る。）の授受を行うように構成されて 、る。
該カセットステージ 2はシャツタ 3を介して前記筐体 1の内部と連通している。
[0016] 該筐体 1の内部前方にはカセットオーブナ 4が前記カセットステージ 2と対向するよ うに設けられている。該カセットオーブナ 4の上方にはカセットストッカ 5が設けられて いる。該カセットストッカ 5および前記カセットオーブナ 4と前記カセットステージ 2との 間には、カセット搬送手段であるカセットローダ 6が設けられている。
[0017] 前記筐体 1の内部後方片側にはボート移動機構であるボートエレベータ 7が設けら れており、該ボートエレベータ 7から水平に延びる昇降アーム 8にはシールキャップ 9 が設けられている。該シールキャップ 9は、処理室、加熱機構を有する処理炉 11の炉 口を閉塞するように構成されて 、る。
前記シールキャップ 9にはボート載置部 12 (後述、図 4参照）が設けられており、該 ボート載置部 12には被処理基板 (以下、ウェハという。） 10を水平姿勢で多段に保 持するボート (基板保持具） 13が載せられている。
前記ボート載置部 12は載置台としてのボート載置盤 44 (後述）を有する。前記ボー ト載置部 12は該ボート載置盤 44を介して前記ボート 13を回転することができるように 構成されている。
[0018] 前記筐体 1の内部後方他側にはボート交換装置 14が前記ボートエレベータ 7に対 向して設けられている。該ボート交換装置 14および前記ボートエレベータ 7と前記力 セットオーブナ 4との間には、基板移載機 15が設けられている。
[0019] 前記カセットステージ 2は図示しない外部搬送装置との間でカセット 16の授受を行 うと共に、前記カセットローダ 6との間で前記カセット 16の授受を行う。
前記カセットローダ 6は横行、昇降、進退可能であり、前記カセットステージ 2のカセ ット 16を前記カセットオーブナ 4および前記カセットストッカ 5に移載する。
前記カセットオーブナ 4は前記カセット 16の蓋を開閉する。
[0020] 前記基板移載機 15は昇降、進退、回転可能であり、前記カセットオーブナ 4上の力 セット 16とボート 13との間で前記ウェハ 10の移載を行う。
[0021] 前記ボート交換装置 14は 2本の左ボート支持アーム 17、右ボート支持アーム 18を 有する。該左ボート支持アーム 17と右ボート支持アーム 18とは独立して回転可能か つ昇降可能となっており、ウェハ移載位置 A、ボート授受位置 B、ウェハクーリング位 置 C間で前記ボート 13の移動を行うようになっている。
前記ウェハ移載位置 Aおよび前記ウェハクーリング位置 Cにはボート置き台 19およ びボート置き台 20が設けられ、それぞれに前記ボート 13が載せられる。
[0022] 前記ボート載置部 12は前記ボート授受位置 Bにおいて未処理ウェハ 10を保持した ボート 13を前記ボート交換装置 14から受取る。前記ボート 13は前記処理炉 11の処 理室に前記ボートエレベータ 7により搬入される。
[0023] 該処理炉 11では前記ウェハ 10が加熱され、所要の処理ガスが処理室に導入され 基板処理される。
また、成膜の均一性を向上させるために、前記ボート 13はウェハ処理の間中回転 される。
[0024] 処理が完了すると、前記ボートエレベータ 7は前記処理炉 11から前記ボート 13を 前記ボート授受位置 Bに搬出し、前記ボート 13を前記ボート交換装置 14に受渡す。
[0025] 処理済ウェハ 10を保持するボート 13は前記ウェハクーリング位置 Cに移動され、前 記ボート置き台 20に載せられ、所定の温度となる迄冷却される。
その間、未処理ウェハ 10を保持するボート 13が前記ウェハ移載位置 Aより前記ボ ート授受位置 Bに移動され、前記ボート載置部 12に受渡され、前記ボートエレベータ
7により前記処理炉 11に搬入される。
[0026] 前記ウェハクーリング位置 Cにおいて処理済ウェハ 10が所定の温度迄冷却される と、前記ボート交換装置 14は処理済ウェハ 10を保持するボート 13を前記ウェハ移 載位置 A迄移動させ、前記ボート置き台 19に載せる。
[0027] 前記基板移載機 15は前記ウェハ移載位置 Aにあるボート 13から処理済ウェハ 10 を前記カセットオーブナ 4上のカセット 16に移載する。
処理済ウェハ 10が前記カセット 16に装填されると、該カセット 16は前記カセット口 ーダ 6により前記カセットステージ 2へ搬送され、さらに、外部搬送装置により搬出され る。
[0028] 未処理ウェハ 10が装填されたカセット 16が、前記カセットオーブナ 4に前記カセット ローダ 6により移載されると、前記基板移載機 15は前記カセット 16から未処理ウェハ 10を前記ウェハ移載位置 Aにある空のボート 13に移載する。
[0029] 而して、前記ウェハ 10の処理が繰返し実行される。
[0030] 次に、前記処理炉 11について図 3を参照して説明する。 [0031] 該処理炉 11は加熱機構としてのヒータ 21を有する。
該ヒータ 21は円筒形状であり、ヒータベース 22に垂直に設けられている。
[0032] 前記ヒータ 21の内部には、該ヒータ 21と同心に反応管 23が配設されている。
該反応管 23は内部反応管 24と、その外側に同心に設けられた外部反応管 25とか ら構成されている。
[0033] 前記内部反応管 24は、例えば石英（Si02 )または炭化シリコン (SiC)等の耐熱性 材料からなり、上端および下端が開口した円筒形状となっている。
前記内部反応管 24は処理室 26を画成し、該処理室 26はウェハ 10が装填された ボート 13を収納可能となっている。
前記外部反応管 25は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料力もなり、 下端が開口し上端が閉塞した円筒形状をしている。前記外部反応管 25は前記内部 反応管 24との間に円筒状の空間 27を形成する。
[0034] 前記ヒータベース 22にはマ-ホールド 28が支持されて 、る（支持構造は図示しな V、)。前記外部反応管 25はマ-ホールド 28に気密に設けられて 、る。
該マ-ホールド 28は、例えばステンレス等によって形成されている。該マ-ホール ド 28の内筒面には内フランジ 29が形成され、該内フランジ 29には前記内部反応管 2 4が立てられている。
[0035] シールキャップ 9にはガス導入部としてのノズル 32が前記処理室 26内に通ずるよう に接続されており、該ノズル 32にはガス供給管 33が接続されている。
該ガス供給管 33の上流側には、ガス流量制御器としての MFC (マスフローコント口 ーラ） 34を介して図示しな 、処理ガス供給源や不活性ガス供給源が接続されて!、る 該 MFC34にはガス流量制御部 35が電気的に接続されている。供給するガスの流 量が所望の量になるように、かつ、ガス供給タイミングが所望の時期になるように、前 記 MFC34が該ガス流量制御部 35により制御される。
[0036] 前記マ-ホールド 28には前記処理室 26の雰囲気を排気する排気管 36が設けられ ている。該排気管 36は前記空間 27の下端部に連通するように前記マ-ホールド 28 に設けられている。 前記排気管 36には圧力検出器としての圧力センサ 37が設けられている。前記排 気管 36は圧力制御弁等の圧力調整装置 38を介して真空ポンプ等の真空排気装置 39に接続されており、前記処理室 26の圧力が所定の圧力（真空度）となるように、真 空排気し得るように構成されて 、る。
前記圧力センサ 37および前記圧力調整装置 38には圧力制御部 41が電気的に接 続されている。該圧力制御部 41は前記圧力センサ 37により検出された圧力に基づ V、て前記圧力調整装置 38を所望のタイミングにて制御するように構成されて 、る。圧 力調整装置 38は圧力制御部 41によって制御されることにより、前記処理室 26の圧 力を所望のタイミングで所望の圧力となるように調整する。
[0037] 前記マ-ホールド 28の下端開口は炉口部を構成する。前記マ-ホールド 28の下 方には炉口蓋体としての前記シールキャップ 9が設けられている。
該シールキャップ 9は前記マ-ホールド 28の下端面に垂直方向下側力も接し、前 記炉ロ部を気密に閉塞可能となっている。前記シールキャップ 9は、例えばステンレ ス等の金属によって円盤状に形成されている。
該シールキャップ 9にはボートを回転させるボート回転機構 42が、前記シールキヤ ップ 9と同心に設置されている。
[0038] 前記ボート回転機構 42のボート回転軸 43は前記シールキャップ 9を貫通して、前 記ボート載置盤 44に連結されており、該ボート載置盤 44には前記ボート 13が載せら れるようになっている。前記ボート回転機構 42は前記ボート回転軸 43および前記ボ 一ト載置盤 44を介して前記ボート 13を回転させる。
[0039] 前記シールキャップ 9は前記昇降アーム 8 (図 1参照）に支持され、該昇降アーム 8 を介して前記ボートエレベータ 7によって昇降される。前記ボート 13は前記処理室 26 に該ボートエレベータ 7によって搬入搬出されるようになって 、る。
前記ボートエレベータ 7および前記ボート回転機構 42には、駆動制御部 45が電気 的に接続されて!、る。該駆動制御部 45は前記ボート回転機構 42および前記ボート エレベータ 7を所望のタイミングにて所望の動作をするように制御する。
[0040] 前記ボート 13は例えば石英や炭化珪素等の耐熱性材料によって形成されており、 前記したように所定枚数のウェハ 10を水平姿勢で多段に保持するように構成されて いる。
また、前記ボート 13の下部には、例えば石英や炭化珪素等の耐熱性材料からなる 円板形状をした断熱部材としての断熱板 46が水平姿勢で多段に複数枚配置されて いる。該断熱板 46により、前記処理室 26からの熱は前記マ-ホールド 28側に伝わり にくくなるようになっている。
[0041] 前記反応管 23内には温度センサ 47が設置されている。前記ヒータ 21と前記温度 センサ 47とには、温度制御部 48が電気的に接続されている。
前記温度センサ 47により検出された温度情報に基づき前記処理室 26の温度が所 望の温度分布となるように、該温度制御部 48は前記ヒータ 21の加熱状態を制御する
[0042] 前記ガス流量制御部 35、前記圧力制御部 41、前記駆動制御部 45、前記温度制 御部 48および後述する転倒防止制御部 49、前記ボート交換装置 14を制御するボ ート交換制御部 50等は主制御部 51を構成し、該主制御部 51は基板処理装置全体 を統括して制御する。
尚、前記転倒防止制御部 49および前記ボート交換制御部 50は前記駆動制御部 4 5内に一体的に設けてもょ 、。
[0043] 次に、図 4〜図 7により、前記ボート回転機構 42について説明する。
[0044] 前記シールキャップ 9の下面にはモータホルダ 54が固着されており、該モータホル ダ 54の下面には減速器 55が取付けられている。該減速器 55と前記モータホルダ 54 とを貫通する中空の外回転軸 56は、軸受 57によって回転自在に支持されている。該 外回転軸 56と一体に設けられた前記ボート回転軸 43は前記シールキャップ 9を気密 に貫通している。前記ボート回転軸 43の上端には前記ボート載置盤 44が固着され ている。
該ボート載置盤 44の上面にはテーパ溝 58が放射状 3方向に形成されている。 ボート底板 59の下面の円周三等分した位置には、位置決めピン 61が突出するよう に設けられている。該位置決めピン 61と前記テーパ溝 58とは嵌め合うことにより、前 記ボート載置盤 44に対するボート 13の位置決めを行うようになっている。
また、前記ボート 13の底板 59の底面にはロック穴 62が後述するように設けられて いる。
[0045] 前記外回転軸 56の前記軸受 57、 57間にはウォームホイール 63が嵌められて固定 されており、該ウォームホイール 63にはウォーム 64が嚙み合わされている。該ウォー ム 64はボート回転モータ（図示せず）の出力軸 65に固定されている。
前記ボート回転機構 42は前記外回転軸 56の回転位置を検出する回転検出器（図 示せず)を有する。該回転検出器は前記外回転軸 56の前記シールキャップ 9に対す る回転位置を検出するようになっている。また、前記回転検出器は前記外回転軸 56 すなわち前記ボート載置盤 44の基準位置を検出するようになって 、る。
[0046] 前記外回転軸 56および前記ボート回転軸 43の内部には、ボートロック軸 66が同心 に配置されており、ボートロック軸 66は軸受 67によって回転自在に支持されている。 また、該ボートロック軸 66は気密にシールされている。
前記ボートロック軸 66は前記ボート載置盤 44から突出しており、該突出端にはロッ ク部材として図 5に見られるような略矩形状のロックプレート 68が固着されている。 前記ボートロック軸 66の下端部は半円柱状に一部が切除され、平坦面 69が形成さ れている。該平坦面 69は前記減速器 55の下面より下方に突出している。
[0047] 前記ボートロック軸 66の下端部には捩りコイルパネであるロックパネ 71が配置され ている。該ロックパネ 71の一端は中心側に折曲げられて、前記平坦面 69に引っ掛け られている。該ロックパネ 71の他端は接線方向に延び出して、前記外回転軸 56に引 つ掛けられている。
特に図示していないが、前記ボートロック軸 66と前記外回転軸 56との間には、機械 的なストツバが設けられている。前記ロックパネ 71には前記ボートロック軸 66と前記 外回転軸 56とを確実に突き当てるための初期橈みが与えられている。
[0048] 前記減速器 55の下面にはスライド軸受 72を介してロックロッド 73が、前記ボート口 ック軸 66の軸心に直交する方向に移動可能に設けられている。前記ロックロッド 73 の先端は前記平坦面 69に突き当たり可能となっており、前記ロックロッド 73の基端は シリンダやソレノイド等のリニアァクチユエータであるロックァクチユエータ 74に連結さ れている。
[0049] 而して、前記ロックロッド 73が該ロックァクチユエータ 74により進退されることにより、 該ロックロッド 73の先端が前記平坦面 69に接したり離れたりするようになつている。前 記ロックロッド 73が前記平坦面 69に接した状態では、前記ボートロック軸 66の回転 が拘束される。
[0050] 前記ロックプレート 68、前記ボートロック軸 66、前記ロックパネ 71、前記ロックロッド
73および前記ロックァクチユエータ 74等は、基板保持具移動抑制機構としてのボー ト転倒防止機構 77を構成して 、る。
[0051] 尚、前記ボートロック軸 66の回転を拘束する方法としては、該ボートロック軸 66の下 端に水平方向に延びるピンを設けるとともに、該ピンの回転面に対して出入りする部 材を設けてもよい。
[0052] 前記ボート底板 59には前記ロック穴 62が形成されており、該ロック穴 62は前記ロッ クプレート 68と連係可能および解除可能に構成されている。
[0053] 該ロック穴 62は図 6 (A)に見られるように、前記ボート底板 59の内部に円板状の袋 穴 75が形成され、該袋穴 75は鍵孔 76によって開口されている。
図 6 (B)に見られるように、該鍵孔 76は前記袋穴 75と同一半径の 2つの円弧と、互 いに対向する平行な 2つの直線とで形成された略矩形形状になって 、る。該鍵孔 76 と前記ロックプレート 68とは相似形状になっている。
[0054] 而して、前記ロックプレート 68が前記鍵孔 76を通して前記袋穴 75に挿入され（図 6
(A)、図 6 (B)参照）、前記ボート底板 59に対して前記ボートロック軸 66が所要角度（ 図示で 90° )相対回転される（図 6 (C)参照）ことで、前記ロックプレート 68が前記鍵 孔 76と連係する。この連係により、前記ボート載置盤 44と前記ボート底板 59とが離 反しな 、ようにロックすなわち前記ボート 13が転倒しな 、ようにロックされる。
[0055] 前述したように、前記テーパ溝 58と前記位置決めピン 61との嵌め合いにより、前記 ボート載置盤 44に対するボート 13の回転方向の位置は決定される。
また、前記ロックロッド 73が前記平坦面 69に接していない状態では、前記ボート口 ック軸 66は前記ロックパネ 71の初期パネ力と、前記ボートロック軸 66と前記外回転 軸 56との間のストツバとにより、前記ボートロック軸 66と前記ボート載置盤 44との回転 方向の位置が決定される。
[0056] 而して、該ボート載置盤 44に置かれた前記ボート 13の前記ボート底板 59の前記鍵 孔 76の方向と前記ロックプレート 68の方向とは、前記ボートロック軸 66と前記ロック口 ッド 73とが連係していない状態では、 90° 方向が異なるようになつている（図 6 (A)と 図 6 (B)参照)。
[0057] 図 7 (A)、図 7 (B)、図 7 (C)により、前記ボート載置盤 44によるボートのロックおよび 該解除について説明する。
[0058] 先ず、前記ボート載置盤 44に前記ボート 13を載せる場合を説明する。
[0059] 載せる準備として、前記ロックァクチユエータ 74を駆動させて、前記ロックロッド 73を 突出させて前記平坦面 69に突き当てる。前記ロックロッド 73は前記平坦面 69に突き 当たることで、前記ボートロック軸 66の回転をロックする。
[0060] 該ボートロック軸 66の回転がロックされた状態で、前記ボート回転モータ（図示せず
)が駆動され、前記ウォーム 64、前記ウォームホイール 63、前記外回転軸 56および 前記ボート回転軸 43を介して、前記ボート載置盤 44が前記ロックプレート 68に対し て 90° 相対回転される。回転方向は前記ロックパネ 71を更に橈ませる方向である。 前記ボート載置盤 44に対して一義的に前記ボート 13の位置および方向が決定さ れる。この時の該ボート 13の前記ボート底板 59の前記鍵孔 76の方向は、前記ロック プレート 68の方向と合致している（図 7 (A)参照）。
[0061] 前記ボート 13を前記ボート載置盤 44に載せる。前記ロックプレート 68が前記鍵孔 7
6を通って前記袋穴 75に挿入される（図 7 (B)参照)。
[0062] 前記ボート回転モータ（図示せず）が前記回転方向とは逆の方向に駆動される。
前記ボートロック軸 66は前記ロックロッド 73により依然として回転が拘束されており
、前記ボート載置盤 44が前記ロックプレート 68に対して 90° 逆方向に相対回転され る。回転方向は前記ロックパネ 71を復元させる方向である。
前記ボート載置盤 44が 90° 逆方向に回転されると、前記ロックァクチユエータ 74 により前記ロックロッド 73が後退される。前記ボートロック軸 66はストッパ（図示せず） で回転方向の位置が決定される。
この状態では、前述したように前記ロックプレート 68と前記鍵孔 76とは 90° 方向が 異なり、該鍵孔 76に前記ロックプレート 68が連係した状態すなわち前記ボート 13が ロックされた状態となる（図 7 (C)参照)。 [0063] 前記ロックロッド 73による前記ボートロック軸 66のロックが解除された状態では、前 記ボートロック軸 66と前記ボート底板 59とは前記ロックパネ 71を介して一体ィ匕された 状態である。前記ボート回転モータ（図示せず）により前記ボート底板 59を回転する ことで、前記ボート 13はロック状態が維持されて回転する。
[0064] したがって、前記ボート交換装置 14による他のボートの搬送中、ウェハの交換動作 中、前記ボート 13を前記反応炉 11内に搬入した後のウェハ処理中であって前記ボ ート 13の回転中の 、ずれにお 、ても、前記ボート載置部 12上の前記ボート 13はロッ ク状態を維持されている。
[0065] 前記ボート載置盤 44に於けるロック解除の作動は、前述したロック作動と逆の作動 により行われる。
[0066] 前記ロックプレート 68を前記ボート載置盤 44に対して相対的に復帰させるには、前 記ロックロッド 73を後退させることにより、前記ロックパネ 71の復元力によって前記ボ 一トロッタ軸 66を逆方向に回転させることによつても可能である。
しかし、前記ボートロック軸 66の急激な回転および停止は発塵を誘発する可能性 があるので、前述したように、ボート回転モータによりゆっくり戻すのが好ましい。
[0067] 図 8および図 9により前記ボート置き台 19について説明する。
尚、前記ボート置き台 20は前記ボート置き台 19と同一構造である。
[0068] 前記筐体 1に取付けられるベース 78には座板 79が固定されている。該座板 79に は支柱 81が立てられており、支柱 81の上にはボート受座 82が設けられている。 該ボート受座 82の上面には 3本のテーパ溝 80が放射状に形成されており、該テー パ溝 80は前記ボート 13の前記位置決めピン 61と嵌め合うようになっている。
[0069] 前記ボート受座 82の中心線上にはロックシャフト 83が設けられており、該ロックシャ フト 83の突出した上端には前記ロックプレート 68と同形状のロックプレート 84が固着 されている。
前記ロックシャフト 83の下端は、例えば回転シリンダやモータやロータリソレノイド等 のロータリアクチユエータ 85に連結されている。該ロータリアクチユエータ 85により前 記ロックシャフト 83を介して前記ロックプレート 84が 90° 回転するようになって!/、る。
[0070] 前記ボート受座 82に前記ボート 13が載せられる。 前記ボート受座 82に対する前記ボート 13の姿勢は、前記テーパ溝 80と位置決め ピン 61との嵌め合 、により決定される。この状態での前記鍵孔 76の向きと前記ロック プレート 84の向きとは一致するようにしておく。したがって、前記ロックプレート 84は 前記鍵孔 76を通して前記袋穴 75に挿入される。
前記ボート受座 82に前記ボート 13が載せられた後、前記ロータリアクチユエータ 85 の駆動により、前記ロックプレート 84が 90° 回転される。これにより、前記ボート 13が 前記ボート受座 82にロックされるので、該ボート 13の転倒が防止された状態になる。 前記ロータリアクチユエータ 85、前記ロックシャフト 83、前記ロックプレート 84等は、 基板保持具移動抑制機構としてのボート転倒防止機構 86を構成している。
[0071] 而して、前記ボート 13は前記ボートエレベータ 7に保持された状態、前記ボート置 き台 19および前記ボート置き台 20に保持された状態のいずれの状態でも、ロックさ れ、転倒防止が施された状態となる。
尚、前記ボート 13のロックは前記ボートエレベータ 7に保持された状態、或は前記 ボート置き台 19および前記ボート置き台 20に保持された状態のいずれか一方につ V、て実行するようにしてもょ 、。
[0072] 次に、図 10〜図 13により前記ボート交換装置 14、および該ボート交換装置 14に おけるボート転倒防止機構 98について説明する。
[0073] 前記筐体 1のベース（図示せず）には立断面がコの字状のフレーム 87が設けられて いる。該フレーム 87にはガイドシャフト 88が上下に掛け渡って垂直に設けられており 、該ガイドシャフト 88には右昇降ブロック 89および左昇降ブロック 90が作動可能に設 けられている。
[0074] 前記右昇降ブロック 89にはスクリューシャフト 91がねじ結合されており、該スクリュ 一シャフト 91は前記ガイドシャフト 88と平行に設けられている。前記スクリューシャフト 91の下端は前記フレーム 87に固着された軸受部材 92に支持されている。該軸受部 材 92には右昇降モータ 93が取付けられており、該右昇降モータ 93によって前記ス クリューシャフト 91が回転されるようになっている。
[0075] 前記右昇降ブロック 89の前面には L字形状のブラケット 94が固着され、該ブラケッ ト 94にはロータリシリンダ等のロータリアクチユエータ 95が取付けられている。該ロー タリアクチユエータ 95の回転軸 96には前記右ボート支持アーム 18が固着されている 。該右ボート支持アーム 18は前記右昇降モータ 93により昇降されるようになっており 、かつ、前記ロータリアクチユエータ 95により回転されるようになっている。
[0076] 前記右ボート支持アーム 18の先端部は、右ボート載置部 97となっており、該右ボ 一ト載置部 97は後述するように、前記ボート転倒防止機構 98を具備して 、る。
[0077] 前記左ボート支持アーム 17も前記右ボート支持アーム 18と同様な機構により、昇 降および回転されるようになっている。
[0078] すなわち、前記左昇降ブロック 90は左昇降モータ 99によって回転されるスクリュー シャフト 100とねじ結合している。前記左昇降ブロック 90にはブラケット 101を介して ロータリアクチユエータ 102が取付けられ、該ロータリアクチユエータ 102には前記左 ボート支持アーム 17が取付けられている。該左ボート支持アーム 17も先端部が左ボ 一ト載置部 103となっており、該左ボート載置部 103は前記右ボート載置部 97と同様 に、ボート転倒防止機構 98を具備している。
尚、前記左ボート載置部 103は前記右ボート載置部 97と対称な形状をなす。
[0079] また、前記右昇降モータ 93、前記ロータリアクチユエータ 95、前記左昇降モータ 99 および前記ロータリアクチユエータ 102は、前記ボート交換制御部 50によって、動作 速度や動作タイミング等の駆動が制御されるようになって 、る。
[0080] 前記ボート転倒防止機構 98および前記左ボート載置部 103について図 11、図 12 により説明する。
尚、図は前記左ボート支持アーム 17に設けられた前記ボート転倒防止機構 98を示 している。
[0081] 前記左ボート載置部 103は略半円弧形状であり、断面形状は水平な棚部 104と垂 直な壁部 105から構成されている。前記棚部 104は前記ボート 13が載せられる段差 部 106を有している。
[0082] 前記左ボート載置部 103の円弧形状の略中央の位置には前記ボート転倒防止機 構 98が設けられている。前記ボート転倒防止機構 98は、基板保持具移動機構の載 置部に基板保持具が載せられた状態を維持するために基板保持具の水平方向およ び垂直方向への移動を抑制する基板保持具移動抑制機構を、構成して!/ヽる。 [0083] 図 11に示されているように、前記ボート転倒防止機構 98は前記棚部 104に前記ボ ート 13が載せられた際に前記ボート 13の下面凹部としての垂直凹部 115に対向す る位置に配置された状態になる載置面凸部としての垂直ピン 107と、同じく前記ボー ト 13の側面凹部としての水平凹部 116と対向する位置に配置された状態になる側面 凸部としての水平ピン 112と、この水平ピン 112を前記水平凹部 116の外側力も前記 水平凹部 116内に対し出し入れするように移動させる凸部移動機構としてのリニアァ クチユエータ 109と、を備えている。
前記水平ピン 112は円柱形のピン形状に形成されており、前記リニアァクチユエ一 タ 109のピストンロッド 111の先端面に同軸状に突き出るように設けられており、前記 水平凹部 116に挿入可能なように構成されて ヽる。
前記壁部 105には通孔 108が設けられている。前記壁部 105の外周における通孔 108の部位には取付座が径方向外向きに設けられており、前記リニアァクチユエータ 109は取付座にピストンロッド 111が径方向内向きになるように設置されて 、る。 前記垂直ピン 107、前記水平ピン 112および前記リニアァクチユエータ 109はいず れも、前記左ボート支持アーム 17に対して 90° の位置すなわち前記左ボート支持ァ ーム 17の回転方向に並んで配置されている。つまり、前記垂直ピン 107、前記水平 ピン 112および前記リニアァクチユエータ 109は前記左ボート載置部 103の中心に 向かって一直線上に整列されている。
[0084] 次に、前記垂直ピン 107と前記水平ピン 112との寸法関係を、図 13 (A)、図 13 (B) 、図 13 (C)に即して説明する。
図 13 (C)において、 Lは前記ボート 13が垂直に前記左ボート載置部 103に載せ
S
られた状態での前記水平凹部 116に挿入される前記水平ピン 112の長さ、 Cは前
S
記水平ピン 112の下部と前記ボート 13との間の距離、 Rは前記ボート 13の下面の
P
水平方向の中心力も前記垂直ピン 107までの距離、 r は前記垂直ピン 107の半径、
P
Rは前記ボート 13の下面の半径である。
図 13 (C)とは反対方向すなわち、前記ボート 13の半径方向内側に前記ボート 13 が傾く場合は、ボート傾き角は Θよりも小さいので、ここでは、図 13 (C)の方向に傾く 場合だけを考える。 前記ボート 13が傾いて前記水平ピン 112に点 Pで接触するまで、前記ボート 13が 傾いた場合には、この傾き角 Θは、
C /L =tan 0 · · · (1)
S S
の関係がある。
この時に、前記垂直ピン 107と前記ボート 13の引掛り高さを Lとすると、 L>L とな
P
つた時に前記ボート 13から前記垂直ピン 107が抜ける。
前記垂直ピン 107の抜けた状態で、前記ボート 13の下面水平方向中心側に外力 が加わると、完全に前記垂直凹部 115から前記垂直ピン 107が外れてしまう。
Lは tan 0 =L/ (R-R — r )の関係があるので、
P P
L= (R-R -r ) tan 0 · · · (2)
P P
となり、（1)式とあわせて、
L= (R— R — r ) C /L
P P s s…（3)
となる。
この式の意味は、 R +r 力 に近い程、つまり、前記垂直ピン 107の位置が前記ボ
P P
ート 13の下面の半径方向で外側にある程、 Lが小さくなることを示している。
また、 C が小さい（前記水平ピン 112の下部と前記ボート 13との距離が小さい)程、
S
Lが小さくなることを示して 、る。
また、 L が長い（前記水平ピン 112が前記ボート 13の前記水平凹部 116に挿入さ
S
れる長さが長 、)程、 Lが小さくなることを示して 、る。
以上の関係は、前記水平ピン 112と前記垂直ピン 107とが前記ボート 13の下面の 半径方向で同じ角度にある場合である力 図 14 (A)に示されているように、違う角度 Θ にあっても同様である。
2
この場合は、前式（3)において、 R は R ，となり、 R 0 の関係がある。
P P P，=R cos
P 2
例えば、 Θ 力 0° の時には cos Θ は 0であるから、
2 2
L= (R-r ) C /L となり、
P s s
前式（3)に比べると、 Lが長くなるので、前記垂直ピン 107が抜けないようにするに は、 L を長くしなければならない。
P
つまり、 Θ が大きいほど前記垂直ピン 107を長くしなければならず、前記垂直ピン 107の長さを最小にしたければ Θ を 0にすればよいことになる。
2
なお、前記ボート 13の前記垂直凹部 115の内径は、以上の計算に考慮していない
1S 前記垂直ピン 107の外径と前記垂直凹部 115の内径とで差がある場合には、そ の差を適宜に前述した計算に適用して求めればよい。
[0086] 前記ボート転倒防止機構 98の作動について図 1、図 2、図 15 (A)、図 15 (B)、図 1
5 (C)を参照して説明する。
[0087] 例えば、前記左ボート支持アーム 17がウェハクーリング位置 Cにおいて受け取る場 合、前記ロータリアクチユエータ 102により前記ボート置き台 20の位置に前記左ボー ト支持アーム 17が回転される。
この時、該左ボート支持アーム 17と受け取るべき前記ボート 13とが干渉しないよう に、前記左ボート支持アーム 17は前記左昇降モータ 99により降下されている。
[0088] 前記左ボート載置部 103の中心と前記ボート 13の中心とが合致した状態では、前 記垂直凹部 115と前記垂直ピン 107との芯が合致し、同時に前記水平ピン 112と前 記水平凹部 116との芯が合致するようになっている。
尚、前記ピストンロッド 111は後退した状態である。
[0089] まず、前記左昇降モータ 99によって前記スクリューシャフト 100が回転されると、前 記左昇降ブロック 90が前記ガイドシャフト 88に沿って上昇されることによって、図 15 (
A)に示されているように、前記左ボート支持アーム 17が上昇されるために、図 15 (B
)に示されているように、前記左ボート載置部 103の前記棚部 104が前記ボート 13を 受け取る。すなわち、前記ボート 13が前記左ボート載置部 103に相対的に乗る。 この際、図 15 (B)に示されているように、前記左ボート載置部 103の前記垂直ピン
107が前記ボート 13の垂直凹部 115に挿入される。
[0090] 次に、図 15 (C)に示されているように、前記リニアァクチユエータ 109が作動し、前 記ピストンロッド 111の先端の前記水平ピン 112が前記ボート 13の前記水平凹部 11
6に挿入される。
[0091] 前記垂直ピン 107が前記垂直凹部 115に挿入されることにより、前記ボート 13の水 平移動が拘束される。
さらに、前記水平ピン 112が前記水平凹部 116に挿入されることにより、前記ボート 13の上下移動が拘束される、すなわち、垂直方向の移動が拘束される。 尚、前記垂直ピン 107が前記垂直凹部 115に挿入され、前記水平ピン 112が前記 水平凹部 116に挿入されることにより、前記ボート 13の前記垂直ピン 107を中心とす る回転移動も拘束することができる力 好ましくは、前記ボート 13は前記段差部 106 に載せられていることにより、前記垂直ピン 107を中心とする回転移動もより一層拘束 することができる。
[0092] 而して、前記ボート転倒防止機構 98が作動した状態では、前記ボート 13に水平力 が作用した場合、垂直、水平、回転の 3方向の移動が拘束される。
尚、前記回転移動の拘束は前記壁部 105を前記ボート 13に近接させ、前記壁部 1 05を前記ボート 13に突き当てることで行ってもよい。
[0093] その後に、回転軸 96が回転されることにより、左ボート支持アーム 17および前記ボ ート 13が 90° 回転され、前記ボート授受位置 Bに搬送される。
この搬送に際して、前記左ボート載置部 103の前記垂直ピン 107が前記ボート 13 の前記垂直凹部 115に挿入され、前記水平ピン 112が前記ボート 13の前記水平凹 部 116に挿入されて 、るので、前記ボート 13の搬送中の倒れは確実に防止すること ができる。
[0094] 前記ボート授受位置 Bは前記処理炉 11の真下にあるので、前記左ボート載置部 1 03は前記昇降アーム 8、前記シールキャップ 9および前記ボート載置盤 44に対応し た状態になる。
前記左ボート載置部 103が降下されると、前記ボート 13が前記ボート載置盤 44上 に載せられる。
この際、前記左ボート載置部 103にある前記リニアァクチユエータ 109が作動し、前 記ピストンロッド 111の先端の前記水平ピン 112が前記ボート 13の前記水平凹部 11 6から引き出される。
その後、前記左ボート載置部 103がさらに降下されると、前記左ボート載置部 103 の前記垂直ピン 107が前記ボート 13の前記垂直凹部 115から引き出されるとともに、 前記左ボート載置部 103が前記ボート 13から離れる。つまり、前記ボート 13は前記 シールキャップ 9の前記ボート載置盤 44上に移載される。 前記左ボート支持アーム 17が前述と逆の方向に 90° 回転されることにより、前記 左ボート載置部 103が前記ウェハ移載位置 Aに戻される。
[0095] 次に、前述した構成に係る処理炉 11を用いて、 ICの製造方法の一工程として、 CV D法によりウェハ 10上に薄膜を形成する方法について説明する。
尚、以下の説明に於いて、基板処理装置を構成する各部の動作は前記主制御部 5 1により制御される。
[0096] 前記基板移載機 15により前記ボート置き台 19に載せられた (ウェハ移載位置 A)ボ ート 13に対して所定枚数のウェハ 10が装填（ウェハチャージ)される。
前記ボート置き台 19に載せられた前記ボート 13は前記ロックプレート 84が前記ロッ ク穴 62に連係され、前記ボート転倒防止機構 86によってロックされた状態となってい る。
[0097] 前記ボート 13へのウェハ 10の装填が完了すると、前記ウェハ移載位置 Aにおいて 前記ボート 13が前記ボート置き台 19から前記左ボート支持アーム 17へ受渡され、該 左ボート支持アーム 17により前記ボート載置部 12 (ボート授受位置 B)への前記ボー ト 13の搬送が行われる。
[0098] 前記ボート置き台 19から前記左ボート支持アーム 17への前記ボート 13の受渡し過 程に於いて、前記ボート置き台 19の前記ボート転倒防止機構 86が前記ボート 13を ロックした状態で、前記左ボート支持アーム 17の前記ボート転倒防止機構 98が作動 してボート 13をロックする。
前記ボート転倒防止機構 98がボート 13のロックを完了した後、前記ボート転倒防 止機構 86のロックが解除される。したがって、前記ボート 13の受渡し時に、前記ボー ト転倒防止機構 98と前記ボート転倒防止機構 86が同時にボート 13をロックしている 状態が存在し、前記ボート 13が非ロック状態となることがないように、前記ボート転倒 防止機構 86、前記ボート転倒防止機構 98の作動タイミングが、前記転倒防止制御 部 49によって制御される。
[0099] 前記ボート授受位置 Bで、前記左ボート支持アーム 17から前記ボート載置部 12へ のボート 13の移換えも同様であり、前記ボート転倒防止機構 98がボート 13をロックし た状態で前記ボート載置盤 44がボート 13を受け取り、さらに、前記ボート転倒防止 機構 77が作動しボート 13をロックする。
前記ボート転倒防止機構 77によるボート 13のロックが完了した後に、前記ボート転 倒防止機構 98のロックが解除される。この場合でも、前記ボート 13が非ロック状態と なることがないように、前記ボート転倒防止機構 98および前記ボート転倒防止機構 7 7の作動タイミング力 前記転倒防止制御部 49によって制御される。
[0100] 前記ボート載置部 12への移換えが完了すると、前記ボート 13は、前記ボートエレ ベータ 7によって上昇され、前記処理室 26に搬入 (ボートローデイング）される。
[0101] 該処理室 26内が所望の圧力（真空度）となるように前記真空排気装置 39によって 真空排気される。この際、前記処理室 26の圧力は、前記圧力センサ 37で測定され、 この測定された圧力に基づき前記圧力調節器 38により調節される。
また、前記処理室 26が所望の温度となるように前記ヒータ 21によって加熱される。 この際、前記処理室 26が所望の温度分布となるように前記温度センサ 47が検出した 温度情報に基づき前記ヒータ 21への通電具合がフィードバック制御される。
続いて、前記ボート回転機構 42によって前記ボート 13が回転されることにより、前 記ウェハ 10が回転される。
[0102] 次 、で、処理ガス供給源から供給され、前記 MFC34にて所望の流量となるように 制御されたガスは、前記ガス供給管 33を流通して前記ノズル 32から前記処理室 26 内に導人される。
導入されたガスは該処理室 26内を上昇し、前記内部反応管 24の上端開口力 前 記空間 27に流出して前記排気管 36から排気される。
ガスは前記処理室 26内を通過する際にウェハ 10の表面と接触し、この際に熱 CV D反応によってウェハ 10の表面上に薄膜が堆積 (デポジション)される。
[0103] 予め設定された処理時間が経過すると、不活性ガス供給源から不活性ガスが供給 され、前記処理室 26内が不活性ガスに置換されると共に、該処理室 26内の圧力が 常圧に復帰される。
[0104] その後、前記ボートエレベータ 7により前記シールキャップ 9が下降されて、前記マ 二ホールド 28の下端が開口されると共に、処理済ウェハ 10がボート 13に保持された 状態で、前記マ-ホールド 28の下端力も前記反応管 23の外部に搬出（ボートアン口 ーデイング)される。
その後、処理済ウェハ 10はボート 13より取出される（ウェハデイスチャージ)。
[0105] 尚、本発明の実施の形態の処理炉についてウェハを処理する際の処理条件として は、例えば、 SiN膜の成膜に於いては、処理温度 760°C、処理圧力 20〜25Pa、ガ ス種アンモニア（NH3 )ガス、ガス供給流量 480sccm、ガス種ジクロロシラン（DCS) ガス、ガス供給流量 120SCcmが提示され、それぞれの処理条件を、それぞれの範囲 内のある値で一定に維持することで、ウェハに処理がなされる。
[0106] 処理が完了すると、前記ボートエレベータ 7により前記ボート 13が降下され、前記ボ ート授受位置 Bで前記ボート載置部 12から前記右ボート支持アーム 18へのボート 13 の移換えが行われる。
この場合、前記ボート転倒防止機構 77によってボート 13がロックされた状態で、該 ボート 13が前記右ボート支持アーム 18に載せられ、さらに、前記ボート転倒防止機 構 98がロック完了した後、前記ボート転倒防止機構 77のロックが解除される。
したがって、前記ボート 13が非ロック状態となることがないように、前記ボート転倒防 止機構 77および前記ボート転倒防止機構 98の作動タイミングが、前記転倒防止制 御部 49によって制御される。
[0107] 同様にして、前記右ボート支持アーム 18から前記ボート置き台 20に前記ボート 13 が移換えられる場合も、前記ボート 13に非ロック状態が存在しないように、前記転倒 防止制御部 49によって前記ボート転倒防止機構 98、前記ボート転倒防止機構 86の 作動タイミングが制御される。
[0108] 前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
[0109] 1) 左ボート載置部および右ボート載置部にボート移動抑制機構としてのボート転倒 防止機構を設置し、左ボート載置部および右ボート載置部によるボートの搬送に際し て、ボート転倒防止機構の垂直ピンをボートの垂直凹部に挿入し、水平ピンをボート の水平凹部に挿入することにより、搬送中のボートの倒れを確実に防止することがで きるので、縦型拡散 CVD装置による ICの製造方法における製造歩留りを向上させる ことができる。
[0110] 2) 左ボート載置部および右ボート載置部にボート転倒防止機構を設置し、左ボート 載置部および右ボート載置部によるボートの支持に際して、ボート転倒防止機構の 垂直ピンをボートの垂直凹部に挿入し、水平ピンをボートの水平凹部に挿入すること により、地震や誤作動および人為的ミスによる不測の外力が作用した場合であっても 、ボートの倒れを確実に防止することができるので、縦型拡散 CVD装置による ICの 製造方法における製造歩留りを向上させることができる。
[0111] 3) ボートは処理中どのような状態でも、非ロック状態となることはなぐ地震等による 外的衝撃によりボートに水平力が作用した場合も、ボートが転倒や破損を防止するこ とがでさる。
[0112] 4) 基板を収納し処理する処理室と、該処理室内で基板を保持する基板保持具と、 該基板保持具を載せて前記処理室内外に前記基板保持具を移動可能な載置部と、 該載置部に載せられた前記基板保持具の転倒を防止するように連係離脱可能な第 1の基板保持具転倒防止機構と、前記載置部とは異なる箇所に前記基板保持具を 移動可能な基板保持具移動機構と、該基板保持具移動機構に載せられた前記基板 保持具の転倒を防止するように連係離脱可能な第 2の基板保持具転倒防止機構と、 前記第 1、第 2の基板保持具転倒防止機構の連係離脱を制御する転倒防止制御部 とを具備し、該転倒防止制御部は、前記基板保持具が前記載置部と前記基板保持 具移動機構との間で授受が為される間中、前記第 1、第 2の基板保持具転倒防止機 構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具の転倒を防止す るように制御するので、基板処理装置が稼働している状態では、前記基板保持具に は ヽずれかの前記基板保持具転倒防止機構が連係し、前記基板保持具の非連係 状態は存在しないので、該基板保持具に予期しない外力が作用した場合にも該基 板保持具の転倒が防止される。
[0113] 5) 基板を収納し処理する処理室と、該処理室内で基板を保持する基板保持具と、 該基板保持具を載せて前記処理室内外に前記基板保持具を移動可能な載置部と、 該載置部とは異なる箇所に配置され前記基板保持具を保持可能な保持台と、該保 持台に載せられた前記基板保持具の転倒を防止するように連係離脱可能な第 1の 基板保持具転倒防止機構と、前記載置部と前記保持台との間で前記基板保持具を 移動可能な基板保持具移動機構と、該基板保持具移動機構に載せられた前記基板 保持具の転倒を防止するように連係離脱可能な第 2の基板保持具転倒防止機構と、 前記第 1、第 2の基板保持具転倒防止機構の連係離脱を制御する転倒防止制御部 とを具備し、該転倒防止制御部は、前記基板保持具が前記保持台と前記基板保持 具移動機構との間で授受が為される間中、前記第 1、第 2の基板保持具転倒防止機 構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具の転倒を防止す るように制御するので、基板処理装置が稼働している状態では、前記基板保持具に は ヽずれかの前記基板保持具転倒防止機構が連係し、該基板保持具の非連係状 態は存在しないので、該基板保持具に予期しない外力が作用した場合にも該基板 保持具の転倒が防止される等の優れた効果を発揮する。
[0114] 図 16は本発明の他の実施の形態である縦型拡散 CVD装置におけるボート転倒防 止機構を示す斜視図である。
本実施の形態が前記実施の形態と異なる点は、基板保持具移動抑制機構としての ボート転倒防止機構 98Aが、基板保持具押さえとしてのボート押さえ 120を 2個備え ている点である。
本実施の形態によれば、前記ボート転倒防止機構 98Aの前記垂直ピン 107を前記 ボート 13の前記垂直凹部 115に挿入するとともに、前記水平ピン 112を該ボート 13 の前記水平凹部 116に挿入するのにカ卩えて、前記水平ピン 112の中心軸から線対 称位置の 2個の前記ボート押さえ 120によって前記ボート 13の座板 121の周縁部の 2箇所をそれぞれ上からもしくは側方力 押さえることができるので、前記ボート 13の 倒れをより一層確実に防止することができる。
好ましくは、前記ボート押さえ 120は前記座板 121の周縁部であって前記水平ピン 112と前記座板 121の中心とを結ぶ直線に対し直交する位置にそれぞれ設けると、 より一層確実に前記ボート 13の倒れを防止することができる。
[0115] なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなぐその要旨を逸脱しない 範囲にお 、て、種々の変更が可能であることは!、うまでもな!/、。
[0116] ボート移動抑制機構としてのボート転倒防止機構はスイングアーム式のボート交換 装置に設置するに限らない。
例えば、図 17に示されているように、直動式のボート交換装置 14Aのボート載置部 97Aに設置してもよい。
また、図 18に示されているように、スカラ开ロボット (selective compliance assembly r obot arm SCARA) 14Bの最終段のアームに取り付けられたボート載置部 97Bに設 置してちょい。
[0117] ボート移動抑制機構としてのボート転倒防止機構の水平ピンを進退させる駆動手 段としては、エアシリンダ装置を使用するに限らず、電動モータや電磁プランジャ等 のァクチユエータを使用してもよ 、。
ボート移動抑制機構としてのボート転倒防止機構は、ボート載置部に 2箇所設けて ちょい。
[0118] 二つのボート載置部を支持するアームがいずれも 180° 回転してもよいし、ボート 待機位置における待機用ボート載置台を設けずに、ボート待機位置におけるボート をボート載置部で支持してもよいし、ボート授受位置におけるボートの授受はボート エレベータの昇降動作によって行ってもよ 、。
[0119] 基板保持具は一体型のボート 13を示した力 その他、下部が分割されたもの、ボー トが保持部材を介してボート載置部 12に載せられる構造となったもの等を含むことは 言う迄もない。
[0120] なお、課題を解決するための手段のうち前記（1)以外の代表的なものは、次の通り である。
(2)前記基板保持具には、下面に下面凹部 (垂直凹部）が設けられており、かつ、前 記基板保持具の側面に側面凹部 (水平凹部）が設けられており、
前記基板保持具移動抑制機構は、前記載置部の載置面に前記基板保持具が載 せられた際に前記下面凹部と対向する位置に配置される載置面凸部 (垂直ピン)と、 前記側面凹部と対向する位置に配置され、前記側面凹部の外側から前記側面凹部 に対し出し入れするように移動可能な凸部移動機構 (リニアァクチユエータ）と、によ つて構成されていることを特徴とする前記（1)に記載の基板処理装置。
(3)前記基板保持具移動抑制機構は、さらに、複数の基板保持具押さえを備えてい ることを特徴とする前記 (2)に記載の基板処理装置。
(4)前記基板保持具移動抑制機構は、前記載置部に前記基板保持具が載せられて ヽる間中、前記基板保持具が転倒しな!ヽようにするために設けられて ヽることを特徴 とする前記（1)、 (2)または（3)に記載の基板処理装置。

Claims

請求の範囲
[1] 基板を収容し所定の処理を施す処理室と、
この処理室内で基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を載せつつ前記処理室内外に移動可能な載置台と、
前記基板保持具を保持しつつ前記載置台とは異なる場所に移動させる基板保持 具移動機構と、
この基板保持具移動機構の載置部に前記基板保持具が載せられた状態を維持す るための前記基板保持具の水平方向および垂直方向への移動を抑制する基板保持 具移動抑制機構とを備えて ヽる基板処理装置。
[2] 前記基板保持具には、下面に下面凹部が設けられており、かつ、前記基板保持具 の側面に側面凹部が設けられており、
前記基板保持具移動抑制機構は、前記載置部の載置面に前記基板保持具が載 せられた際に前記下面凹部と対向する位置に配置される載置面凸部と、前記側面凹 部と対向する位置に配置され、前記側面凹部の外側から前記側面凹部に対し出し 入れするように移動可能な凸部移動機構と、によって構成されて 、る請求項 1に記載 の基板処理装置。
[3] 前記基板保持具移動抑制機構は、さらに、複数の基板保持具押さえを備えて ヽる 請求項 2に記載の基板処理装置。
[4] 前記基板保持具移動抑制機構は、前記載置部に前記基板保持具が載せられて ヽ る間中、前記基板保持具が転倒しな ヽようにするために設けられて ヽる請求項 1に記 載の基板処理装置。
[5] 前記載置台に載せられた前記基板保持具の転倒を防止するように連係および解 除可能な基板保持具転倒防止機構と、少なくとも前記基板保持具移動抑制機構お よび前記基板保持具転倒防止機構の連係および解除を制御する転倒防止制御部と をさらに具備する請求項 1に記載の基板処理装置。
[6] 前記転倒防止制御部は、前記基板保持具が前記載置台と前記基板保持具移動機 構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移動抑制機構および前記基板保 持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具 の転倒を防止するように制御する請求項 5に記載の基板処理装置。
[7] 前記載置部とは異なる箇所に配置され前記基板保持具を保持可能な保持台と、該 保持台に載せられた前記基板保持具の転倒を防止するように連係および解除可能 な基板保持具転倒防止機構と、少なくとも前記基板保持具移動抑制機構および前 記基板保持具転倒防止機構の連係および解除を制御する転倒防止制御部とをさら に具備する請求項 1に記載の基板処理装置。
[8] 前記転倒防止制御部は、前記基板保持具が前記保持台と前記基板保持具移動機 構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移動抑制機構および前記基板保 持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具 の転倒を防止するように制御する請求項 7に記載の基板処理装置。
[9] 請求項 1の基板処理装置を用いて処理する半導体装置の製造方法であって、 前記載置台に前記基板が保持された前記基板保持具を載せつつ前記処理室外 から処理室内へ前記基板保持具を移動させるステップと、
前記基板が保持された前記基板保持具を前記処理室内へ収容し所定の処理を施 すステップと、
前記載置台に前記基板保持具を載せつつ前記処理室内から処理室外へ前記基 板が保持された前記基板保持具を移動させるステップと、
前記載置台とは異なる場所に前記基板保持具移動機構により前記基板保持具を 移動させるステップと、
前記基板保持具移動抑制機構により前記載置部に前記基板保持具が載せられた 状態を維持するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
[10] 請求項 5の基板処理装置を用いて処理する半導体装置の製造方法であって、 前記載置台に前記基板が保持された前記基板保持具を載せつつ前記処理室外 から処理室内へ前記基板保持具を移動させるステップと、
前記基板が保持された前記基板保持具を前記処理室内へ収容し所定の処理を施 すステップと、
前記載置台に前記基板保持具を載せつつ前記処理室内から処理室外へ前記基 板が保持された前記基板保持具を移動させるステップと、
前記転倒防止制御部が、前記基板保持具が前記載置台と前記基板保持具移動機 構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移動抑制機構および前記基板保 持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具 の転倒を防止するように制御するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
[11] 請求項 7の基板処理装置を用いて処理する半導体装置の製造方法であって、 前記載置台に前記基板が保持された前記基板保持具を載せつつ前記処理室外 から処理室内へ前記基板保持具を移動させるステップと、
前記基板が保持された前記基板保持具を前記処理室内へ収容し所定の処理を施 すステップと、
前記載置台に前記基板保持具を載せつつ前記処理室内から処理室外へ前記基 板が保持された前記基板保持具を移動させるステップと、
前記載置台から前記保持台に基板保持具移動機構により前記基板保持具を移動 させるステップと、
前記転倒防止制御部が、前記基板保持具が前記保持台と前記基板保持具移動機 構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移動抑制機構および前記基板保 持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と連係し、該基板保持具 の転倒を防止するように制御するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
[12] 基板が保持された基板保持具を載置台に載せつつ処理室外から処理室内へ前記 基板保持具を移動させるステップと、
前記基板が保持された前記基板保持具を前記処理室内へ収容し所定の処理を施 すステップと、
前記載置台に前記基板が保持された前記基板保持具を載せつつ前記処理室内 から処理室外へ前記基板保持具を移動させるステップと、
前記載置台とは異なる場所に基板保持具移動機構により前記基板保持具を移動さ せるステップと、 この基板保持具移動機構の載置部に前記基板保持具が載せられた状態を維持す るための前記基板保持具の水平方向および垂直方向への移動を抑制する基板保持 具移動抑制機構により前記基板保持具の水平方向および垂直方向への移動を抑制 するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
[13] 請求項 12において、さらに、転倒防止制御部が、前記基板保持具が前記載置台と 前記基板保持具移動機構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移動抑制 機構および前記基板保持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板保持具と 連係し、該基板保持具の転倒を防止するように制御するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
[14] 請求項 12において、さらに、前記転倒防止制御部が、前記基板保持具が前記保 持台と前記基板保持具移動機構との間で授受が為される間中、前記基板保持具移 動抑制機構および前記基板保持具転倒防止機構のうち少なくとも一方が前記基板 保持具と連係し、該基板保持具の転倒を防止するように制御するステップと、 を有する半導体装置の製造方法。
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