JP2012099763A - 基板処理装置及び基板処理装置の保守点検方法 - Google Patents

Abstract

【課題】保守点検の作業をする空間が狭まるのを抑制することができる基板処理装置及び基板処理装置の保守点検方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、筺体１２と、筺体１２内と作業者が保守点検する保守点検空間８４とを連通する保守点検口に接続部材１０６を軸として開閉自在に設けられた保守点検開閉部１０４と、保守点検開閉部１０４の開閉動作を干渉する位置と干渉しない位置との間で移動する操作部９８と、を有する。
【選択図】図３

Description

本発明は、基板処理装置及び基板処理装置の保守点検方法に関する。

基板処理装置の処理炉を構成する構成品は、洗浄等の保守点検（メンテナンス）の際、装置外に取出す必要がある。

特許文献１には、反応管を乗載し走行可能な装置本体が、台車と進退可能なスライドアームとを有し、スライドアームの進退により反応管の縦型炉側への搬入搬出が行われ、エレベータによる昇降でスライドアームに載置された反応管を反応管受載盤を介して位置決め盤が受載し、更に反応管を受載した位置決め盤をエレベータにより降下させることで反応管受載盤を介して反応管をスライドアームに移載する縦型反応炉の石英管着脱装置が開示されている。

特開平１０−９８００２号公報

しかしながら、保守点検の作業をする空間が十分に確保されていない場合、保守点検の作業が困難となる。

本発明は、保守点検の作業をする空間が狭まるのを抑制することができる基板処理装置及び基板処理装置の保守点検方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の特徴とするところは、基板処理装置本体と、前記基板処理装置本体内と作業者が保守点検する保守点検空間とを連通する保守点検口と、前記保守点検口に開閉自在に設けられた保守点検開閉部と、前記保守点検開閉部の開閉動作を干渉する位置と干渉しない位置との間で移動する操作部と、を有する基板処理装置にある。

本発明の第２の特徴とするところは、基板処理装置本体と、前記基板処理装置本体内と作業者が保守点検する保守点検空間とを連通する保守点検口と、前記保守点検口を開閉する保守点検開閉部と、を有する基板処理装置の保守点検方法であって、前記保守点検開閉部を開く工程と、前記保守点検開閉部の開閉動作を干渉する位置から干渉しない位置に操作部を移動する工程と、を有する保守点検方法にある。

本発明によれば、保守点検の作業をする空間が狭まるのを抑制することができる基板処理装置及び基板処理装置の保守点検方法を提供することができる。

本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の斜視図である。 本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の側面透視図である。 本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の背面側からの斜視図である。 本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の背面図である。 保守点検の一例を示す図である。 本発明の一実施形態に用いられる処理炉の概略構成図である。 本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の制御構成のブロック図である。 本発明の一実施形態に用いられる実用部の斜視図である。 本発明の一実施形態に用いられる基板処理装置の背面側の上面図である。 本発明の一実施形態に用いられる操作部の接続部材の周辺構造を示す図である。 保守点検開閉部を開いた際の位置関係を説明する説明図である。 第２実施形態に係る操作部及びその周辺構造の概略図である。 第３実施形態に係る操作部及びその周辺構造の概略図である。

［第１実施形態］
本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０の斜視図を示す。
図２は、基板処理装置１０の側面透視図を示す。
図３は、基板処理装置１０の背面側（後側）からの斜視図を示す。
図４は、基板処理装置１０の背面図を示す。

基板処理装置１０は、半導体装置（IC）の製造方法における処理工程を実施する半導体装置の製造装置として構成される。基板処理装置１０は、例えば、基板としてのウエハ２に酸化処理や拡散処理、CVD処理等を行う縦型の装置である。

基板処理装置１０は、主要部が配置される筺体１２を有する。基板処理装置１０には、例えばシリコン（Si）からなるウエハ２を収納する基板収容器としてのＦＯＵＰ（以下、ポッド４という）が、ウエハキャリアとして使用される。

筺体１２の正面壁１２ａには、ポッド搬入搬出口１４が筺体１２の内外を連通するように開設されている。ポッド搬入搬出口１４は、フロントシャッタ１６によって開閉されるようになっている。
ポッド搬入搬出口１４の正面前方側には、ロードポート１８が設置されている。ロードポート１８は、ポッド４が載置され、載置されたポッド４の位置合わせを行うように構成されている。ポッド４は、工程内搬送装置（非図示）とロードポート１８との間で授受される。

筺体１２内の前後方向の略中央上部には、回転式ポッド棚２０が設置されている。回転式ポッド棚２０は、垂直に立設され水平面内で間欠回転される支柱２２と、この支柱２２に例えば上下３段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板２４とを備えている。棚板２４はそれぞれ、ポッド４を複数個載置した状態で保持するように構成されている。
このように、回転式ポッド棚２０は、複数個のポッド４を保管するように構成されている。

筺体１２内のロードポート１８と回転式ポッド棚２０との間には、ポッド搬送装置３０が設置されている。ポッド搬送装置３０は、ポッド４を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ３０ａと、ポッド４を支持するポッド搬送機構３０ｂとで構成されている。
ポッド搬送装置３０は、ポッドエレベータ３０ａとポッド搬送機構３０ｂとの連続動作により、ロードポート１８、回転式ポッド棚２０、及び後述するポッドオープナ３６これらの間で、ポッド４を搬送するように構成されている。

筺体１２内の前後方向の略中央下部には、副筺体３２が後端にわたって構築されている。
副筺体３２の正面壁３２ａには、ウエハ２をこの副筺体３２内外に搬入搬出するウエハ搬入搬出口３４が、例えば垂直方向に上下２段に並べて開設されている。ウエハ搬入搬出口３４にはそれぞれ、ポッドオープナ３６が設置されている。

ポッドオープナ３６は、ポッド４を載置する載置台３８と、ポッド４のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構４０とを備えている。ポッドオープナ３６は、載置台３８に設置されたポッド４のキャップをキャップ着脱機構４０によって着脱することにより、ポッド４のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。

副筺体３２は、ポッド搬送装置３０や回転式ポッド棚２０が設置された空間から流体的に隔絶された移載室４２を構成する。

移載室４２内の前側領域には、ウエハ移載機構５０が設置されている。ウエハ移載機構５０は、ウエハ２を水平方向で回転あるいは直動可能なウエハ移載装置５２と、ウエハ移載装置５２を昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ５４とで構成されている。
ウエハ移載機構５０は、ウエハ移載装置５２のツイーザ５８をウエハ２の載置部として、基板保持具であるボート６０にウエハ２を装填（チャージング）、あるいはこのボート６０からウエハ２を脱装（ディスチャージング）するように構成されている。

ボート６０は、複数本の保持部材を備えており、複数枚（例えば５０〜１２５枚程度）のウエハ２をその中心を揃えて垂直方向に整列した状態で、水平に保持するように構成されている。

ポッド搬送装置３０やポッドオープナ３６、ウエハ移載機構５０等には、搬送制御部６２（図７参照）が電気的に接続されており、この搬送制御部６２は、これらが所望の動作をするよう所望のタイミングで制御するように構成されている。

移載室４２のウエハ移載装置エレベータ５４と対向する反対側には、クリーンユニット６４が設置されている。クリーンユニット６４は、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエアを供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されている。
クリーンユニット６４とウエハ移載装置５２との間には、ウエハ２の円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置６６が設置されている。

クリーンユニット６４から吹き出されたクリーンエアは、ウエハ移載装置５２、ノッチ合わせ装置６６を通り、移載室４２の対向する側に配置されたウエハ移載装置エレベータ５４、ボートエレベータ７４等に流通された後、後述する排気部８２に吸い込まれ筺体１２の外部に排気される。
あるいは、クリーンユニット６４から吹き出されたクリーンエアは、排気部８２に排気される替わりに、クリーンユニット６４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環され、再びクリーンユニット６４によって移載室４２内に吹き出されるように構成されている。

移載室４２内の後側領域上方には、処理炉７０が設けられている。処理炉７０の下端部は、炉口シャッタ７２により開閉されるように構成されている。
処理炉７０の下方には、ボートエレベータ７４が設置されている。

ボートエレベータ７４のアームには、炉口蓋体としてのシールキャップ７６が水平方向に据え付けられている。シールキャップ７６は、例えばステンレス等の金属からなり、円盤状に形成されている。
シールキャップ７６は、ボート６０を垂直に支持し、処理炉７０の下端部を閉塞可能なように構成されている。シールキャップ７６がボートエレベータ７４によって垂直方向に昇降されることで、ボート６０が昇降する構成となっている。
このように、移載室４２は、ボート６０にウエハ２を移載する室を構成するとともに、処理炉７０からボート６０が搬出される搬出室を構成する。

筺体１２の背面壁１２ｂには、実用部８０と排気部８２とが対向するようにして設けられている。
実用部８０と排気部８２との間に、保守点検空間（メンテナンススペース）８４が形成される。保守点検空間８４は、作業者が基板処理装置１０の保守点検をするための空間である。

実用部８０は、基板処理装置１０のユーティリティーを構成し、この基板処理装置１０全体の動作を制御する装置が配置されている制御部９０、配管が配置されている配管部９２、筺体１２内に供給するガス（ガス供給源）を収容するガス収容部９４、基板処理装置１０を制御する電子的回路が配置されている電装部９６、作業者が操作を行う操作部９８が設けられている。
排気部８２は、筺体１２内の雰囲気を排気するように構成されている。

筺体１２の背面壁１２ｂには、筺体１２内と保守点検空間８４とを連通する保守点検口１０２が開設されており、この保守点検口１０２には、この保守点検口１０２を開閉する保守点検開閉部１０４が設けられている。
保守点検開閉部１０４は、背面壁１２ｂの実用部８０側（図４において右側）に設けられた蝶番等からなる接続部材１０６を軸として、開閉自在に構成されている。

図５は、保守点検の一例として、処理炉７０の構成部（例えばプロセスチューブ１３６）を筺体１２から取り出す様子を示す。
保守点検空間８４は、例えば、作業者がプロセスチューブ１３６を保守点検口１０２を介して筺体１２外に取出す際、このプロセスチューブ１３６を載置して移動する台車１１２を進入させるのに用いられる。

次に、処理炉７０の詳細について説明する。

図６は、処理炉７０の概略構成図であり、縦断面図を示す。
処理炉７０は、加熱機構としてのヒータ１３２を有する。ヒータ１３２は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース１３４に支持されることにより垂直に据え付けられている。

ヒータ１３２の内側には、このヒータ１３２と同心円状に反応管としてのプロセスチューブ１３６が配設されている。プロセスチューブ１３６は、内部反応管としてのインナーチューブ１３８と、その外側に設けられた外部反応管としてのアウターチューブ１４０とから構成されている。

インナーチューブ１３８は、例えば石英（SiO₂）あるいは炭化シリコン（SiC）等の耐熱性材料からなり、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。
インナーチューブ１３８の筒中空部には、ウエハ２が処理される処理室１４２が形成されている。処理室１４２は、ウエハ２をボート６０によって水平姿勢で垂直方向に多段に整列した状態で収容可能に構成されている。

アウターチューブ１４０は、例えば石英あるいは炭化シリコン等の耐熱性材料からなる。アウターチューブ１４０は、内径がインナーチューブ１３８の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されており、インナーチューブ１３８と同心円状に設けられている。

アウターチューブ１４０の下方には、このアウターチューブ１４０と同心円状にマニホールド１４４が配設されている。マニホールド１４４は、例えばステンレス等からなり、上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド１４４は、インナーチューブ１３８とアウターチューブ１４０に係合しており、これらを支持するように設けられている。

マニホールド１４４とアウターチューブ１４０との間には、シール部材としてのＯリング１４６ａが設けられている。
マニホールド１４４がヒータベース１３４に支持されることにより、プロセスチューブ１３６は垂直に据え付けられた状態となる。
プロセスチューブ１３６とマニホールド１４４により反応容器が形成される。

マニホールド１４４の下方に、このマニホールド１４４の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体としてのシールキャップ７６が配設される。シールキャップ７６は、マニホールド１４４の下端に垂直方向下側から当接されるようになっている。シールキャップ７６の上面には、マニホールド１４４の下端と当接するシール部材としてのＯリング１４６ｂが設けられる。

シールキャップ７６には、ガス導入部としてのノズル１５２が処理室１４２内に連通するように接続されており、このノズル１５２には、ガス供給管１５４が接続されている。

ガス供給管１５４のノズル１５２との接続側と反対側である上流側には、処理ガス供給源（非図示）や不活性ガス供給源（非図示）が、開閉弁であるバルブ１５６、及び処理室１４２に供給するガスのガス流量を測定するマスフローコントローラ（ＭＦＣ）１５８を介して接続されている。
ＭＦＣ１５８は、配管の詰まりや、センサ類の劣化等により生じる基準値の変化（基準値シフト）に対応するために、基準値を補正する機能（基準値補正機能）を備えている。

バルブ１５６及びＭＦＣ１５８にはガス流量制御部１６０（図７参照）が電気的に接続されており、このガス流量制御部１６０は、供給するガスの流量が所望の量となるようにこれらバルブ１５６及びＭＦＣ１５８を所望のタイミングで制御するように構成されている。

マニホールド１４４には、処理室１４２内の雰囲気を排気する排気管１６２が設けられている。排気管１６２は、インナーチューブ１３８とアウターチューブ１４０との隙間に形成される筒状空間１６４の下端部に配置されており、この筒状空間１６４に連通している。

筒状空間１６４には、処理室１４２の温度を検出する温度検出器としての温度センサ１７０が設置されている。
ヒータ１３２及び温度センサ１７０には、温度制御部１７２（図４参照）が接続されている。温度制御部１７２は、処理室１４２内が所望の温度となるように、温度センサ１７０により検出された測定結果に基づいてヒータ１３２を所望のタイミングで制御するように構成されている。

排気管１６２のマニホールド１４４の接続側と反対側である下流側には、圧力検出器としての圧力センサ１８０と、排気量を調節することで圧力を調整する圧力調整装置１８２とを介して、真空ポンプ等の真空排気装置１８４が接続されている。

圧力センサ１８０及び圧力調整装置１８２には、圧力制御部１８６（図７参照）が電気的に接続されている。圧力制御部１８６は、処理室１４２内が所望の圧力となるように、圧力センサ１８０により検出された測定結果に基づいて真空排気装置１８４を所望のタイミングで制御するように構成されている。

シールキャップ７６の処理室１４２と反対側（図３において下側）には、ボート６０を回転させる回転機構１９０が設置されている。回転機構１９０の回転軸１９２は、シールキャップ７６を貫通してボート６０に接続されており、このボート６０を回転させることでウエハ２を回転させるように構成されている。
ボート６０は、ボートエレベータ７４がシールキャップ７６を昇降させる動作に伴い処理室１４２に対し搬入搬出される。

回転機構１９０及びボートエレベータ７４には、駆動制御部１９４（図７参照）が電気的に接続されており、駆動制御部１９４は、所望の動作をするようこれら回転機構１９０及びボートエレベータ７４を所望のタイミングで制御するように構成されている。

ボート６０の下部には、例えば石英や炭化珪素等の耐熱性材料からなる円板形状をした断熱部材としての断熱板１９８が水平姿勢で多段に複数枚配置されており、ヒータ１３２からの熱がマニホールド１４４側に伝わりにくくなるよう構成されている。

図７は、基板処理装置１０部の制御構成のブロック図を示す。
搬送制御部６２、ガス流量制御部１６０、温度制御部１７２、圧力制御部１８６、駆動制御部１９４、操作部９８は、基板処理装置１０全体を制御する主制御部１９６に電気的に接続されている。
搬送制御部６２、ガス流量制御部１６０、温度制御部１７２、圧力制御部１８６、駆動制御部１９４、操作部９８、及び主制御部１９６は、コントローラ１９８として構成されている。

次に、基板処理装置１０の動作について説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置１０を構成する各部の動作は、コントローラ１９８により制御される。

ポッド４が工程内搬送装置によってロードポート１８に供給されると、ポッド搬入搬出口１４がフロントシャッタ１６によって開放される。ロードポート１８の上のポッド４は、ポッド搬送装置３０によって筐体１２の内部へポッド搬入搬出口１４から搬入される。

筐体１２内に搬入されたポッド４は、ポッド搬送装置３０によって回転式ポッド棚２０の指定された棚板２４へ受け渡され一時的に保管された後、この棚板２４からポッドオープナ３６に搬送されて載置台３８に移載される。あるいは、筐体１２内に搬入されたポッド４は、棚板２４を経由することなく直接、ポッドオープナ３６に搬送されて載置台３８に移載される。

この際、副筺体３２に設けられたウエハ搬入搬出口３４は、キャップ着脱機構４０によって閉じられており、移載室４２には、クリーンエアが流通され充満されている。
例えば、移載室４２には、クリーンエアとして窒素（N₂）やアルゴン（Ar）等の不活性ガスが充満しており、この移載室４２内の酸素濃度が、筐体１２の内部（大気雰囲気）の酸素濃度よりも低くなるように（20 ppm以下程度）設定されている。

載置台３８に載置されたポッド４は、その開口側端面がウエハ搬入搬出口３４の開口縁辺部に押し付けられるとともに、キャップ着脱機構４０によってこのポッド４のキャップが取り外されウエハ出し入れ口が開放される。

ポッド４のウエハ出し入れ口が開放されると、ウエハ２は、このポッド４からウエハ移載装置５２のツイーザ５８によってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされる。そして、ウエハ２は、ノッチ合わせ装置６６によって周方向の位置を整合された後、移載室４２の後方にあるボート６０に装填（チャージング）される。
ウエハ移載装置５２は、ボート６０にウエハ２を受け渡した後、ポッド４に戻り次のウエハ２をボート６０に装填する。

一方（上段又は下段）のポッドオープナ３６におけるウエハ２のボート６０への装填作業と並行して、他方のポッドオープナ３６には、他のポッド４がポッド搬送装置３０によって回転式ポッド棚２０から搬送され、この他方のポッドオープナ３６においてこの他のポッド４の開放作業が行われる。

所定枚数のウエハ２がボート６０に装填されると、炉口シャッタ７２が開き、処理炉７０の下端部が開放される。続いて、複数枚のウエハ２を保持したボート６０が、シールキャップ７６がボートエレベータ７４によって上昇されることにより、処理炉７０内へ搬入（ローディング）される。そして、シールキャップ７６は、Ｏリング１４６ｂを介してマニホールド１４４の下端をシールした状態となる。

ウエハ２を処理室１４２内に搬送した後、このウエハ２に所定の処理を行う。

処理室１４２は、この処理室１４２内が所望の圧力（真空度）となるように真空排気装置１８４によって真空排気される。この際、処理室１４２内の圧力は圧力センサ１８０で測定され、この測定された圧力に基づいて圧力調節器１２２が、フィードバック制御される。

また、処理室１４２は、この処理室１４２内が所望の温度となるようにヒータ１３２によって加熱される。この際、処理室１４２内が所望の温度分布となるように温度センサ１７０が検出した温度情報に基づきヒータ１３２への通電具合がフィードバック制御される。

ウエハ２は、回転機構１９０によりボート６０が回転されるのに伴い、回転した状態となる。

処理室１４２内に所定の処理ガスが供給される。処理ガスは、処理ガス供給源から供給され、ＭＦＣ１５８にて所望の流量となるように制御され、ガス供給管１５４を流通してノズル１５２から処理室１４２内に導入される。
導入されたガスは、処理室１４２内を上昇しインナーチューブ１３８の上端開口から筒状空間１６４に流出して排気管１６２から排気される。ガスは処理室１４２内を通過する際にウエハ２の表面と接触し、この際に熱CVD反応によってウエハ２の表面上に薄膜が堆積（デポジション）される。

予め設定された処理時間が経過すると、不活性ガスが、不活性ガス供給源から供給され、処理室１４２内が不活性ガスに置換されるとともに、この処理室１４２内の圧力が常圧に復帰される。

ボートエレベータ７４によりシールキャップ７６が下降されて、マニホールド１４４の下端が開口される。次いで、処理済のウエハ２がボート６０に保持された状態でマニホールド１４４の下端からプロセスチューブ１３６の外部に搬出（ボートアンローディング）される。
その後、処理済のウエハ２は、ボート６０から取出される（ウエハディスチャージ）。

基板処理装置１０の処理炉７０においてウエハ２を処理する際の処理条件として、例えば窒化珪素（Si₃N₄）膜を成膜する場合、処理温度：600 〜 700 ℃、処理圧力：20 〜 40 Pa、ガス種：ジクロロシラン（SiH₂Cl₂）、アンモニア（NH₃）、ガス供給流量：0 〜 99.999 slmが例示される。
それぞれの処理条件を、それぞれの範囲内のある値で一定に維持することでウエハ２に処理がなされる。

次に、実用部８０のガス収容部９４の詳細について説明する。
図８は、実用部８０の保守点検空間８４側からの斜視図を示す。図９は、基板処理装置１０の後側の操作部９８の高さにおける上面断面図を示す。
図８（ａ）、図９（ａ）は、収容開閉部２０４及び操作部９８が閉じている状態を示し、図８（ｂ）、図９（ｂ）は、収容開閉部２０４及び操作部９８が開いている状態を示す。

ガス収容部９４の保守点検空間８４側には、このガス収容部９４の内外を連通する収容口２０２が開口しており、この収容口２０２は、収容開閉部２０４によって開閉されるようになっている。
収容開閉部２０４は、第１の開閉部材２１０と、この第１の開閉部材２１０よりも背面壁１２ｂに近い側（前側）に設けられた第２の開閉部材２１２とにより構成される。

第１の開閉部材２１０は、ガス収容部９４の背面壁１２ｂ側とは反対側（後側）に設けられた蝶番等からなる接続部材２１４を軸として、背面壁１２ｂとは逆側に９０度以上開くようになっている。すなわち、第１の開閉部材２１０の第１の開閉部材２１０の幅（図９で示す長さＡ）は、少なくとも開閉動作の範囲において排気部８２と接しない長さとなっている。
第１の開閉部材２１０の幅は、この第１の開閉部材２１０を閉じた状態における前後方向の長さを示す。

本実施形態において、第１の開閉部材２１０の幅は、保守点検空間８４の前後方向の全範囲で実用部８０と排気部８２との間の長さ（図９で示す長さＢ）よりも小さくなっている。

第１の開閉部材２１０には、操作部９８の一部を収容する凹部２１６が設けられている。凹部２１６には、操作部９８が閉じられた状態でその一部が収容されるようになっている。

第２の開閉部材２１２は、背面壁１２ｂ側の端部に設けられた蝶番等からなる接続部材２２４を軸として、背面壁１２ｂ側に開くようになっている。

ガス収容部９４と上下方向で重なる位置に操作部９８が配置されている。操作部９８は、ガス収容部９４の後側に設けられた蝶番等からなる接続部材２３２を軸として１８０度開閉自在となっている。
操作部９８は、収容開閉部２０４とは別個に開閉自在に設けられており、この収容開閉部２０４を閉じた状態で、この操作部９８を開くことができるようになっている。

操作部９８には、入出力を行うタッチパネル等からなる入出力部２３４が設けられており、この入出力部２３４は、操作部９８が閉じられた状態で保守点検空間８４側を向くように構成されている。このため、作業者は、保守点検空間８４において操作部９８を操作することができるようになっている。

操作部９８は、開閉動作に加え、２軸構造として縦方向に回転する構成とするようにしてもよい。これにより、操作部９８を開いた状態において、入出力部２３４を保守点検空間８４側に向けられるようになる。

図１０は、操作部９８の接続部材２３２周辺の概略図を示す。
図１０（ａ）は、操作部９８が閉じられている状態を示し、図１０（ｂ）は、操作部９８が開かれている状態を示す。

接続部材２３２は、ガス収容部９４の後側に設けられている。このため、操作部９８は、開かれた状態において、この操作部９８の全体がガス収容部９４の後側に配置され、左右方向で保守点検空間８４と重ならないようになっている（。
このように、接続部材２３２がガス収容部９４の後側に設けられている場合、ガス収容部９４の保守点検空間８４側に設けられている場合と比較して、保守点検空間８４が広く確保される。

次に、保守点検開閉部１０４を開く際の操作部９８との位置関係について説明する。
図１１は、保守点検開閉部１０４を開いた際の位置関係を説明する説明図である。
図１１（ａ）は、操作部９８が開かれている状態を示し、図１１（ｂ）は、比較として操作部９８が閉じられている状態を示す。

図１１（ａ）に示すように、操作部９８が開かれている状態においては、保守点検開閉部１０４は、操作部９８に干渉されることなく収容開閉部２０４と略平行となる位置まで開かれる。すなわち、保守点検開閉部１０４が左右方向において保守点検口１０２と重ならない位置にまで開かれる。
この場合、例えば、保守点検として保守点検空間８４に台車１１２を進入させる際、保守点検開閉部１０４がこの台車１１２の進路を妨害しない位置に配置されることとなる。
また、操作部９８は、保守点検開閉部１０４の開閉を干渉しない位置に移動するため、保守点検開閉部１０４が開かれた状態において、入出力部２３４がこの保守点検開閉部１０４に隠れることが防止される。

これに対し、図１１（ｂ）に示すように、操作部９８が閉じられている状態においては、保守点検開閉部１０４は、操作部９８に干渉され収容開閉部２０４と略平行となる位置よりも内側の位置まで開かれる。
この場合、例えば、保守点検として保守点検空間８４に台車１１２を進入させる際、保守点検開閉部１０４がこの台車１１２の進路を妨害し得ることとなる。

このように、操作部９８が開かれている場合、この操作部９８が閉じられている場合と比較して、保守点検開閉部１０４の稼動する範囲が広くなる。

［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。
図１２は、第２実施形態にかかる操作部９８及びその周辺構造の概略図を示す。
図１２（ａ）は、操作部９８が保守点検空間８４側にある状態を示し、図１２（ｂ）は、操作部９８がガス収容部９４の後側にある状態を示す。
また、図１２（ａ）、（ｂ）において、上側の図は、上面図を示し、下側の図は、保守点検空間８４側から見た図を示す。

第２実施形態において、ガス収容部９４の上部には、保守点検空間８４に対向する側から後側にかけて案内溝３０２が設けられている。操作部９８には、上方に伸びる連結部３０４が設けられており、この連結部３０４は、案内溝３０２に水平移動自在に連結している。
操作部９８は、案内溝３０２に沿ってガス収容部９４の後側まで移動し、その後、連結部３０４を軸として基板処理装置１０の外側（保守点検空間８４の反対側）に旋回する構成となっている。

このように、操作部９８は、保守点検開閉部１０４の開閉動作を干渉する保守点検空間８４側の位置（図１２（ａ））と、開閉動作を干渉しないガス収容部９４の後側の位置（図１２（ｂ））とを水平移動するようになっている。

なお、案内溝３５２、３５４をガス収容部９４の外側（保守点検空間８４の反対側）まで設け、操作部９８をガス収容部９４の外側まで移動させる構成としてもよい。

［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。
図１３は、第２実施形態にかかる操作部９８及びその周辺構造の概略図を示す。
図１３（ａ）は、操作部９８が保守点検空間８４側にある状態を示し、図１３（ｂ）は、操作部９８がガス収容部９４の後側にある状態を示す。
また、図１３（ａ）、（ｂ）において、上側の図は、上面図を示し、下側の図は、保守点検空間８４側から見た図を示す。

第３実施形態において、ガス収容部９４の上部及び下部には、保守点検空間８４に対向する側から後側にかけて案内溝３５２、３５４が設けられている。操作部９８の上部及び下部には、連結部３６２、３６４が設けられており、これらの連結部３６２、３６４は、案内溝３５２、３５４に水平移動自在に連結している。つまり、操作部９８が上下方向で案内溝３５２、３５４に挟まれるようにして構成されている。
このように、本実施形態においては、操作部９８は、保守点検開閉部１０４の開閉動作を干渉する保守点検空間８４側の位置（図１３（ａ））と、開閉動作を干渉しないガス収容部９４の後側の位置（図１３（ｂ））とを水平移動するようになっている。

なお、案内溝３５２、３５４をガス収容部９４の外側（保守点検空間８４の反対側）まで設け、操作部９８をガス収容部９４の外側まで移動させる構成としてもよい。

［本発明の好ましい態様］
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。

本発明の一態様によれば、基板処理装置本体の背面側に関し、背面扉を開けメンテナンス（保守点検）作業を行うメンテナンスエリア（保守点検空間）を有し、該メンテナンスエリアを避けた一方側に排気ボックスを有し、残る一方側にユーティリティボックスを設け、該ユーティリティボックスは、コントロールボックス、配電ボックス、ガスボックス、オペレーションボックス、電装品ボックスから構成され、前記オペレーションボックスは、ガスボックスに収納され、前記オペレーションボックスは、前記背面扉を開けた際に、該背面扉と干渉しない位置に可動することを特徴とする基板処理装置が提供される。

本発明の他の態様によれば、移載室を有する基板処理装置であって、移載室には構成部品、構成ユニット、又は作業者が通過できる開口部があり、その開口部を密閉可能な背面扉があることを特徴とする基板処理装置が提供される。

好適には、移載室扉の旋回範囲・移動範囲に干渉物があり、背面扉を限界まで開放してもメンテナンス治具及び運搬物が通過できないが、干渉物を移動させることでメンテナンス治具及び運搬物が通行可能となる。

好適には、背面扉の旋回範囲・移動範囲に操作部・表示部があり、背面扉開放時には操作部・表示部が視認できないが、操作部・表示部を移動させることで背面扉開放時にも操作部・表示部が視認可能となる。

２ ウエハ
４ ポッド
１０ 基板処理装置
１２ 筺体
１２ａ 正面壁
１２ｂ 背面壁
３２ 副筺体
３８ 載置台
４０ キャップ着脱機構
４２ 移載室
５０ ウエハ移載機構
６０ ボート
６２ 搬送制御部
７０ 処理炉
８０ 実用部
８２ 排気部
８４ 保守点検空間
９０ 制御部
９２ 配管部
９４ ガス収容部
９６ 電装部
９８ 操作部
１０２ 保守点検口
１０４ 保守点検開閉部
１２２ 圧力調節器
１４２ 処理室
１６０ ガス流量制御部
１７２ 温度制御部
１８４ 真空排気装置
１８６ 圧力制御部
１９４ 駆動制御部
１９６ 主制御部
１９８ コントローラ
２０２ 収容口
２０４ 収容開閉部
２３４ 入出力部

Claims (2)

1. 基板処理装置本体と、
   前記基板処理装置本体内と作業者が保守点検する保守点検空間とを連通する保守点検口と、
   前記保守点検口に開閉自在に設けられた保守点検開閉部と、
   前記保守点検開閉部の開閉動作を干渉する位置と干渉しない位置との間で移動する操作部と、
   を有する基板処理装置。
2. 基板処理装置本体と、
   前記基板処理装置本体内と作業者が保守点検する保守点検空間とを連通する保守点検口と、
   前記保守点検口を開閉する保守点検開閉部と、
   を有する基板処理装置の保守点検方法であって、
   前記保守点検開閉部を開く工程と、
   前記保守点検開閉部の開閉動作を干渉する位置から干渉しない位置に操作部を移動する工程と、
   を有する保守点検方法。

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