JPH04120724A - 縦型熱処理装置 - Google Patents

縦型熱処理装置

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JPH04120724A
JPH04120724A JP24196890A JP24196890A JPH04120724A JP H04120724 A JPH04120724 A JP H04120724A JP 24196890 A JP24196890 A JP 24196890A JP 24196890 A JP24196890 A JP 24196890A JP H04120724 A JPH04120724 A JP H04120724A
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boat
heat treatment
reaction tube
wafer
rail
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Takayasu Asano
浅野 貴庸
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、縦型熱処理装置に関する。
(従来の技術) 多数枚のウェハを一度に熱処理するバッチ式熱処理は周
知であり、この処理のスルーブツトを向上させるため、
複数のボートを有し、一方のボートに収容された被処理
体を所定の熱処理を行っている間、他のボートとキャリ
ア間で被処理体を移替えるか、あるいは他の処理用ボー
トを待機させる技術は特願平2−45212に記載され
ている。
(発明か解決しようとする課題) かかる縦型熱処理装置においては、待機ウェハボートは
、退避場所に垂直に立設させて退避、収容されるか、高
さが約1m前後あるため地震等の場合、ボートが転倒す
る可能性かある。
−度転倒するとウェハの破壊はもちろん、ウェハに形成
されていた処理膜の粉塵も舞う結果も招き、超クリーン
ルーム内を汚し、他の装置へも影響するなどで大きな問
題となる。
この発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、地震時等においてもボートが
転倒することのない縦型熱処理装置を提供することにあ
る。
[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 前記目的を達成するために本発明は、ウニ11の収納さ
れた複数のボートを有しており、第1のボートを炉内に
搬入してウェハに熱処理している期間、第2のボートを
待機させて、連続処理を可能にした縦型熱処理装置にお
いて、上記待機中の垂直に設けられたボートの上端の揺
れを防止する機構を設けることを特徴とする縦型熱処理
装置。
(作用) 本発明では、処理中のボート以外のボートの上端の揺れ
か防止されるので、地震時等においてもボートの転倒を
防止できる。
(実施例) 以下、本発明装置を半導体ウェハの熱処理工程に使用し
た一実施例を図面を参照して説明する。
まず、熱処理装置の構成を説明する。
この装置は、たとえば第1図および第2図に示すように
、縦型熱処理炉で、軸方向を垂直軸とする反応管1から
成る処理部2と、この処理部2に設定可能な基板、たと
えば半導体ウェハ3を板厚方向に複数枚、たとえば10
0〜150枚所定間隔を設けて収納可能なボート4と、
このボート4を上記反応管1内に搬入比する如く昇降可
能な昇降機構5と、この昇降機構部5か下降した位置と
ウェハ移替部22とボート載置部42の間で上記ボート
4を支持して移動可能なボート移動機構6と、上記ウェ
ハ3を複数枚、たとえば25枚単位に収納可能なキャリ
ア7を複数個設置可能なキャリア設置台8と、キャリア
設置台8に設置されたキャリア7および上記ボート4間
でウニl\3の移替えを行う移載機9と、上記キャリア
7をこの装置と外部の搬送ロボットとの間で受渡しを行
う搬入搬出機構、たとえば搬入搬出ボート10と、この
搬入搬出ボート10および上記キャリア設置台8の間で
キャリア7の搬送を行う搬送機11と反応ガスを供給す
る処理ガス供給部70と真空ポンプ等より構成される真
空排気部60と熱処理工程およびウェハ移載等をコント
ロールするプロセスコントロール部50とから構成され
ている。
上記処理部2には第2図に示すように、耐熱性を有し処
理ガスに対して反応しにくい材質、たとえば石英ガラス
から成る上面が封止された筒状反応管1か設けられ、こ
の反応管1内に上記ボート4を設置可能な如くボート4
より大口径で縦長に形成されている。このような反応管
1の周囲には、この反応管1内部を所望する温度、たと
えば600〜1200℃程度に加熱可能な加熱機構、た
とえばコイル状ヒータ12が上記反応管1と所定の間隔
を設けて非接触状態で巻回されている。このような反応
管1には、図示しないか反応管1内壁に沿って下部から
上方に延びたガス供給管が配設されており、処理ガス供
給部70内の図示しないマスフローコントローラ等を介
してガス供給源に接続されている。そして、上記反応管
1の下部には排気管14か接続され、この排気管14に
は、上記反応管1内を所望の圧力に減圧および処理ガス
を排出可能な真空排気部60内の真空ポンプ(図示せず
)に接続されている。
上記のように構成された処理部2の反応管1内を気密に
設定する如く、反応管1下端部と当接可能な蓋体15か
設けられている。この蓋体15は上記昇降機構5上に載
置され、駆動機構たとえばボールネジ]6の駆動による
ガイド17に沿った昇降により、上記反応管1下端部と
の当接が可能とされている。この蓋体15の上部には、
保温筒18か載置され、さらに、この保温筒18上に耐
熱性および耐腐食性材質、たとえば石英ガラス製のボー
ト4がほぼ垂直状態で載置可能とされている。
上記ボート移動機構6は、半円環状のアーム19が回転
軸20に軸着し、回転軸20は図示しない移動機構によ
り上下移動と図示しない回転機構により回転軸20を中
心に回転が可能とされている。ボート移動機構6の回転
と上下移動により上記昇降機構5が下降した位置とウェ
ハ移替部22とボート載置部42の間で上記ボート4を
支持して移載可能となっている。
上記搬送機11と上述した移載機9は同一基台(図示せ
ず)に搭載され、回転軸に軸着し、ボールネジ(図示せ
ず)の駆動により昇降する。この移載機9の両端にはガ
イドレール36に沿ってスライド移動可能な一対のキャ
リア支持アーム37ε、37bが設けられている。この
キャリア支持アーム37a、37bは互いに平行状態に
設けられて連動駆動するようになっており、このキャリ
ア支持アーム37a、37bは、図示しない駆動機構、
たとえばモータによりスライド移動可能とされている。
上記キャリア設置台8は、縦方向に複数個、たとえば4
個のキャリア7をそれぞれ載置可能であり、このキャリ
ア設置台8および上記移載機9および搬送機11の上方
には、ファン53を備えた、たとえばHEPAフィルタ
ーあるいはtlLPAフィルター等のフィルター54か
設けられており、上記ウェハ移替え時にウェハ3上に清
浄化されたエアーのみを供給することにより、上記ウェ
ハ3の汚染を防止する構造となっている。
上記ボート載置部42にはボート4の下部と嵌合してこ
のボート4を垂直に保持する載置台44か設けられてお
り、この載置台44は図示しないモータとボールネジの
駆動によりレール46上を平行に移動可能なように構成
されている。
また、第3図および第4図に示すように、レール46の
端部の上部にはU字溝102を有する板100が設けら
れている。この板100は、望ましくは石英、SiCで
あり、少なくともボート4との接触部は石英、SiCで
形成する。
載置台44にボート4が載置され、レール46の端部に
まで送られると、ボート4の上部の突出片104かU字
溝102に収納される。
上記ウェハ移替部22には載置台44と同様にボート4
を垂直に保持する載置台24が設けられており、この載
置台24は図示しない移動機構により上下移動可能なよ
うに構成されている。
上記載置台24上部には第4図に示すように、ボート4
の上端部を保持する支持部材26が図示しない移動機構
により上下移動可能に設けられている。このようにして
熱処理装置か構成されている。
次に、上述した熱処理装置の動作作用、およびウェハの
移替え方法を説明する。
上記搬入搬出ボート10のキャリア17を、搬送機11
によりキャリア設置台8に搬送する。次に、上記移載機
9の5枚用の支持機構あるいは 1枚用の支持機構によ
り、キャリア7内に収納されているウェハ3を5枚づつ
、あるいは 1枚づつ上記ボート4に移替える。この時
、必要に応じてモニタ用ウェハあるいはダミーウェハを
移替えてもよい。この移替えを行うに際し、上記ボート
4はウェハ移替部22の載置台24に垂直に保持され、
この載置台24は図示しない上下移動機構により上方へ
移動され、または、支持部材26か図示しない上下機構
により下方へ移動し、ボート4の上端部か支持部材26
によって保持され、この位置にて移替えが行われる。そ
して、上記移替えが終了すると載置台24は上記上下移
動機構により下方へ移動され、または支持部材26か上
方へ移動し、ボート4の上端部は支持部材26より開放
された状態となる。
次に、ボート移動機構6が回転しアーム19がボート4
の下部凹部に嵌合される。
第5図に示すように、ボート移動機構6のアーム19を
上方に移動、またはウェハ移替部22の載置台24の図
示しない上下機構を下方に移動し、ボート4をウェハ移
替部22の載置台24より離脱させる。
次に、アーム19を回転しボート載置部42の上方へボ
ート4を移動し、アーム19を下方へ移動しボート4を
ボート載置部42へ移載する。
次に、ボート載置部42の載置台44を平行に移動しア
ーム19がボート4から開放される状態とする。
そして、ボート4を載せた載置台44がレール46に沿
ってレール46の端部まで移動する。この時、ボート4
の上部の突出片104は板100のU字溝102に収納
される。したがって、この状態で地震等が生じてもボー
ト4の転倒を防止できる。
ボート4の上部の突出片104との係合について説明し
たが、ボート4の上部に凹部を形成し、この凹部との係
合またはボート側面の支持など何れでもよい。
次に、反応管1内にあり、所定の熱処理を施されたウェ
ハ3を収容する上記説明とは別のボート4は、昇降機構
5により下方に移動される。
第5図に示すように、昇降機構5上の保温筒18に載置
されたボート4の下部凹部にアーム19を回転載置しア
ームを上方へ移動、または昇降機構5を下方へ移動し保
温筒18からボート4を離脱させる。
このボート4をアーム19の回転によりウェハ移替部2
2へ移動し上記と同様の方法により載置台24に載置し
、移載機9により上記とは逆にボート4からキャリア7
内に処理済みのウェハ3を移替える。そして、上述した
搬入搬出ボート10から上記キャリア7を無人搬送車等
により外部に搬送する。
次に、アーム19はボート載置部42へ旋回し待機し、
載置台44上に載置されたボート4がレール46上を移
動し、上記ボート4の下部凹部にアーム19が嵌合され
る。
アーム19を上方に移動しボート4を載置台がら離脱さ
せ、アーム19を回転させ昇降機構5上に載置された保
温筒18上に移動し、ボート4と保温筒18の軸心が一
致した状態でアーム19を下げ、または昇降機構5を上
方に移動し、ボート4を保温筒18に載置し、アーム1
9をボート載置部42上方に退避させ昇降機構5を上昇
させる。
この上昇により上記蓋体15を反応管1下側部に当接さ
せ、反応管1内部を気密に設定すると同時に、上記ボー
ト4を反応管1内に設置する。そして、ヒータ12によ
り反応管1内を所望する温度および温度分布で加熱制御
し、この状態で所定の処理ガスをガス供給管(図示せず
)から反応管1内に供給し、所定の酸化、拡散、CVD
処理等を施す。
この処理終了後、処理ガスの供給を停止し、必要に応じ
て上記反応管1内を不活性ガス、たとえばN2ガスに置
換した後、上記昇降機構5によりボート4を下降させ処
理か終了する。
以上説明したように、ボート4か待機状態において、待
機中のボート4の上部の突出片は板100のU字溝10
2内に収納されるので、地震時、作業時においての振動
によっても、ボート4か転倒することはない。
ボート4を垂直に立てて移送する場合かあり、この場合
もボート4の上部を支持して移送すると良い。
なお、本実施例では、レール46の端部にあるボート4
の転倒を防止することとしたが、レール46を搬送中の
ボート4の上部を支持するようにして転倒を防止したり
、アーム1つによって搬送中のボート4の上部を支持し
てその転倒を防止することもできる。
また、上記実施例においては、被処理体に半導体ウェハ
を用いたが、これに限定するものではなく、たとえば液
晶カラス基板やセラミック基板等を処理する装置に適用
してもよいこはいうまでもない。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、地震時、作業時に
おいても、ボートの転倒を防止できる縦型熱処理装置を
提供することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明装置の一実施例を説明する
ための熱処理装置の構成図、第3図および第4図はレー
ル46の端部にあるボート4の正面図および平面図、第
5図はボート移載説明図である。 3・・・・・・・・・ウェハ 4・・・・・・・・ボート 7・・・・・・・・キャリア 100・・・・・・・・板 102・・・・・・・・U字溝

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハの収納された複数のボートを有しており、第1の
    ボートを炉内に搬入してウェハに熱処理している期間、
    第2のボートを待機させて、連続処理を可能にした縦型
    熱処理装置において、上記待機中の垂直に設けられたボ
    ートの上端の揺れを防止する機構を設けることを特徴と
    する縦型熱処理装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003282457A (ja) * 2002-03-26 2003-10-03 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法
WO2007040062A1 (ja) * 2005-10-04 2007-04-12 Hitachi Kokusai Electric Inc. 基板処理装置および半導体装置の製造方法
JP2007096350A (ja) * 2006-12-26 2007-04-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003282457A (ja) * 2002-03-26 2003-10-03 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法
WO2007040062A1 (ja) * 2005-10-04 2007-04-12 Hitachi Kokusai Electric Inc. 基板処理装置および半導体装置の製造方法
US9530677B2 (en) 2005-10-04 2016-12-27 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method
JP2007096350A (ja) * 2006-12-26 2007-04-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法

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