JPH0499315A - 熱処理装置のボートの支持機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的コ （産業上の利用分野） 本発明は、熱処理装置のボートの支持機構に関するもの
である。

（従来の技術） 従来、熱処理装置において、ウェハをボートに移載する
場合、このボートを支持するものとして、特願平２−４
５２１２号に記載されたものがある。このボートの支持
機構は、ボートの下端側が回転支持手段によって支持さ
れ、ボートにウェハを移載する時、ボートの上端を鉛直
方向に移動可能な支持部材で支持するものである。

（発明か解決しようとする課題） しかしながら、このようなボートの支持機構においては
、支持部材の移動により、ゴミ等が発生しやすく、この
ゴミがボート内部のウェハに付着することがあるという
問題があった。

本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、ゴミ等の発生の少ないボートの
支持機構を提供することにある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 前述した目的を達成するために本発明は、ボート内部に
ウェハを収納し、このボートを炉内に挿入して熱処理を
行う熱処理装置のボートの支持機構において、前記ボー
トにウエノ１を移し替える位置で前記ボートの端部と係
合して前記ボートを支持する係合手段と、前記係合手段
を移動させる移動機構と、前記移動機構から発生するゴ
ミを覆うごとく前記係合手段に伸縮自在に設けられるベ
ローズと、を具備する熱処理装置のボートの支持機構で
ある。

（作用） 本発明では、移動機構から発生するゴミは金属ベローズ
の外側に飛散することがない。

（実施例） 以下、図面に基づいて本発明の一実施例を詳細に説明す
る。

第１図および第２図は、本発明の一実施例に係るボート
の支持機構が用いられた縦型熱処理炉の平面図および概
略側面図である。

この熱処理装置は、たとえば第１図およびＭ２図に示す
ように、縦型熱処理炉で、軸方向を垂直軸とする反応管
１から成る処理部２と、この処理部２に設定可能な基板
、たとえば半導体ウニ／Ｘ３を板厚方向に複数枚、たと
えば１００〜１５０枚所定間隔を設けて収納可能なボー
ト４と、このボート４を上記反応管１内に搬入比する如
く昇降可能な昇降機構５と、この昇降機構５が下降した
位置とウェハ移替部２２とボート載置部４２の間で上記
ボート４を支持して移動可能なボート移動機構６と、上
記ウェハ３を複数枚、たとえば２５枚単位に収納可能な
キャリア７を複数個設置可能なキャリア設置台８と、キ
ャリア設置台８に設置されたキャリア７および上記ボー
ト４間でウェハ３の移替えを行う移載機９と、上記キャ
リア７をこの装置と外部の搬送ロボットとの間で受渡し
を行う搬入比機構、たとえば搬入搬出ボート１０と、こ
の搬入搬出ボート１０および上記キャリア設置台８の間
でキャリア７の搬送を行う搬送機１１と、反応ガスを供
給する処理ガス供給部７０と、真空ポンプ等により構成
される真空排気部６０と、熱処理工程およびウェハ移載
等をコントロールするプロセスコントロール部５０とか
ら構成されている。

上記処理部２には、耐熱性を存し処理ガスに対して反応
しにくい材質、たとえば石英ガラスから成る上面か封止
された筒状反応管１が設けられ、この管１の下面からこ
の反応管１内に上記ボート４を搬入設置可能な如くボー
ト４より大口径で縦長に上記反応管１は形成されている
。このような反応管１の周囲には、この反応管１内部を
所望する温度、たとえば６００〜１２００℃程度に加熱
可能な加熱機構、たとえばコイル状ヒータ１２が上記反
応管１と所定の間隔を設けて非接触状態で巻回されてい
る。このような反応管１には、図示しないが反応管１内
壁に沿って下部から上方に延びたガス供給管が配設され
ており、処理ガス供給部７０内の図示しないマスフロー
コントローラ等を介してガス供給源に接続されている。

そして、上記反応管１の下部には排気管１４が接続され
、この排気管１４には、上記反応管１内を所望の圧力に
減圧および処理ガスを排出可能な真空排気部６０内の真
空ポンプ（図示せず）に接続されている。

上記のように構成された処理部２の反応管１内を気密に
設定する如く、反応管１下端部と当接可能な蓋体１５か
設けられている。この蓋体１５は、上記昇降機構５上に
載置され、駆動機構、たとえばボールネジ１６の駆動に
よるガイド１７に沿った昇降により、上記反応管１下端
部との当接か可能とされている。この蓋体１５の上部に
は、保温筒１８か載置され、さらに、この保温筒１８上
に耐熱性および耐腐食性材質、たとえば石英ガラス製の
ボート４がほぼ垂直状態で載置可能とされている。

上記ボート移動機構６は、半円環状のアーム１９が回転
輪２０に軸着し、回転軸２０は図示しない移動機構によ
り上下移動と図示しない回転機構により回転軸２０を中
心に回転が可能とされている。ボート移動機構６の回転
と上下移動により上記昇降機構５が下降した位置とウェ
ハ移替部２２とボート載置部４２の間で上記ボート４を
支持して移載可能となっている。

上記搬送機１１と上述した移載機９は、同−基台（図示
せず）に搭載され、回転軸に軸着し、ボールネジ（図示
せず）の駆動により昇降する。この移載機９の両端には
ガイドレール３６に沿ってスライド移動可能な一対のキ
ャリア支持アーム３７ａ、３７ｂが設けられている。こ
のキャリア支持アーム３７ａ、３７ｂは互いに平行状態
に設けられて連動駆動するようになっており、このキャ
リア支持アーム３７ａ、３７ｂは、図示しない駆動機構
、たとえばモータによりスライド移動可能とされている
。

上記キャリア設置台８は、縦方向に複数個、たとえば４
個のキャリア７をそれぞれ載置可能であり、このキャリ
ア設置台８および上記移載機９および搬送機１１の上方
には、ファン５３を備えた、たとえばＨＥＰＡフィルタ
ーあるいはＵＬＰＡフィルター等のフィルター５４が設
けられており、上記ウェハ移替え時にウェハ３上に清浄
化されたエアーのみを供給することにより、上記ウェハ
３の汚染を防止する構造となっている。

上記ウェハ移替部２２には、載置台４４と同様にボート
４を垂直に保持する載置台２４が設けられており、この
載置台２４は図示しない移動機構により上下移動可能な
ように構成されている。

上記載置台２４上部には、第３図に示すように、ボート
４の上端部を保持する支持部材２６が上下移動可能に設
けられている。

第４図は、支持機構２６の概略構成を示す正面図、第５
図は、係合片近辺の部材の構成図である。

支持板１０１にシリンダ１０３および台座１１１が固定
される。ロッド１０５は、シリンダ１０３によって図中
ＡＢ力方向駆動され、このロッド１０５の他端は、移動
板１０７に固着される。この移動板１０７には別のロッ
ド１０９が固着され、このロッド１０９は支持板１０１
を貫入し、その一端に第１円柱部１１５が設けられる。

台座１１１と第１円柱部１１５の間には、伸縮自在の金
属ベローズ１１３が設けられる。

第２円柱部１１７に係合片１１９が設けられ、この係合
片１１９は、第３図に示すようにボート４上端に設けら
れた係合部１２３と係合するものである。

この第２円柱部１１７と係合片１１９は、一体としてネ
ジ］２１により第１円柱部１１５に螺合される。

次に、本実施例の主要動作について説明する。

搬入搬出ボート１０にキャリア１７が置かれると、搬送
機１１によりキャリア設置台８にこのキャリア１７が搬
送される。次に、上記移載機９の５枚用の支持機構ある
いは１枚用の支持機構により、キャリア７内に収納され
ているウェハ３を５枚づつあるいは１枚づつ上記ボート
４に移し替える。この時、必要に応じてモニタ用ウェハ
あるいはダミーウェハを移し替えてもよい。この移し替
えを行うに際し、上記ボート４はウェハ移替部２２の載
置台２４に垂直に保持され、この載置台２４は図示しな
い上下移動機構により上方へ移動される。

そして、このボート４は支持機構２６により支持される
。

すなわち、シリンダ１０３が駆動され、ロッド１０５、
移動板１０７、ロッド１０９か、第３図Ｂ方向に移動し
、係合片１１９かボート４上部の係合部１２３と係合し
、ボート４が保持され、この位置にて移し替えが行われ
る。

この移し替えが終了すると、載置台２４は前述した上下
移動機構により下方へ移動される。この時、シリンダ１
０３の駆動が解かれ、ロッド１０５、移動板１０７、ロ
ッド１０９が、第３図中入方向に移動し、係合片１１９
と係合部１２３が離れた状態になる。

以後、ボート移動機構６によりボート４が移動され、昇
降機構５によりボート４が反応管１内に挿入され熱処理
が行われる。

尚、熱処理されたボート４は反応管１から取り出され、
ボート移動機構６によりウニノーの移し替え位置まで移
動されるか、このボート４からウェハを取り出す場合に
も、ボート４は支持機構２６で支持される。

本実施例では、ボート４にウニノ１３を移し替える位置
で係合片１１９を下降させ、ボート４を支持するように
したが、支持板１０１とロッド１０９の摺動部分から発
生するゴミは、台座１１１および金属ベローズ１１３の
外部へ飛散することがない。

なお、上記実施例においては、縦型熱処理装置に適用し
たが、これに限定するものではなく、たとえば横型熱処
理装置に適用しても同様な効果を得ることができる。

また、上記実施例においては、被処理体に半導体ウェハ
を用いたが、これに限定するものではなく、たとえば液
晶ガラス基板やセラミック基板等を処理する装置に適用
してもよいことは言うまでもない。

［発明の効果］ 以上詳細に説明したように本発明によれば、ゴミ等の発
生の少ないボートの支持機構を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明の一実施例に係るボート
の支持機構が用いられる縦型熱処理装置の概略構成を示
す平面図および側面図、第３図は、支持機構２６とボー
ト４の相対的関係を示す図、 第４図は、支持機構２６の構成を示す図、第５図は、支
持機構２６の一部の構成を示す図である。 ４・・・・・・・・・ボート ２６・・・・・・・・・支持機構 １０３・・・・・・・・・シリンダ １０５．１０９・・・ロッド １０７・・・・・・・・・移動板 １１１・・・・・・・・・台座 １１３・・・・・・・・・金属ベローズ１１９・・・・
・・・・・係合片 １２３・・・・・・・・・係合部 出願人　東京エレクトロン相模株式会社代理人　弁理士
　　須　山　佐　−（ほか１名）第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ボート内部にウェハを収納し、このボートを炉内に挿入
   して熱処理を行う熱処理装置のボートの支持機構におい
   て、 前記ボートにウェハを移し替える位置で前記ボートの端
   部と係合して前記ボートを支持する係合手段と、 前記係合手段を移動させる移動機構と、 前記移動機構から発生するゴミを覆うごとく前記係合手
   段に伸縮自在に設けられるベローズと、を具備する熱処
   理装置のボートの支持機構。