JP2824951B2 - 基板処理装置における基板受け渡し装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板、ガラス基
板等の基板（以下、単に「基板」という）を処理する基
板処理装置における基板受け渡し装置に関する。

【０００２】

【従来技術】基板処理装置の従来技術として、図１２及
び図１３に示すものがある。これは図１２に示すよう
に、複数の基板１０９を起立整列状態で収容するカセッ
ト１０８を載置するカセット載置テーブル１１１と、基
板受け渡し具１１７と、複数の処理槽を有する基板処理
部１０５と、カセット載置テーブル１１１と基板処理部
１０５との間を移動する基板搬送ロボット１０４とを備
え、カセット載置テーブル１１１にカセット１０８の下
開口部１１５に臨む受け渡し具挿通孔１１６をあけ、こ
の受け渡し具挿通孔１１６の下方に基板受け渡し具１１
７を起立状に設け、この基板受け渡し具１１７の上端部
に複数の基板１０９を起立整列状態で保持する基板載置
部１１８を設け、この基板受け渡し具１１７とカセット
載置テーブル１１１とを相対的に昇降させて、基板受け
渡し具１１７の基板載置部１１８で複数の基板１０９を
起立整列状態のまま保持して、カセット１０８内と基板
搬送ロボット１０４との間で複数の基板１０９を一括し
て受け渡し可能に構成してある。尚、図１２において、
符号１１４は回転駆動装置、図１３において、符号１０
１はカセット搬出入ステージ、１０２はカセット搬送ロ
ボット、１１０はカセット搬入位置、１１２はカセット
搬出位置である。

【０００３】この種の基板処理装置では、基板処理前
は、未処理基板１０９を収容したカセット１０８をカセ
ット載置テーブル１１１に載置し、カセット載置テーブ
ル１１１を基板受け渡し具１１７に対して相対的に下降
させて、受け渡し具挿通孔１１６とカセット１０８の下
開口部１１５とを貫通してきた基板受け渡し具１１７の
基板載置部１１８に未処理基板１０９を保持して、未処
理基板１０９をカセット１０８の上方に取り出し、これ
を基板搬送ロボット１０４に受け渡して、基板処理部１
０５まで搬送し、処理槽内の処理液に浸漬してその処理
を行うことができる。そして、基板処理後は、処理済み
基板１０９を基板搬送ロボット１０４で基板処理部１０
５からカセット載置テーブル１１１まで搬送し、洗浄済
みカセット１０８の上方に位置させた基板受け渡し具１
１７の基板載置部１１８に保持させ、カセット載置テー
ブル１１１を基板受け渡し具１１７に対して相対的に上
昇させて、予めカセット載置テーブル１１１に載置して
おいた洗浄済みカセット１０８に処理済み基板１０９を
収容する。

【０００４】ところで、この従来の基板処理装置では、
未処理基板１０９の受け渡しと処理済み基板１０９の受
け渡しは、いずれもこれらを基板受け渡し具１１７の基
板載置部１１８の同一箇所に保持して行うようになって
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、未
処理基板１０９の受け渡しと処理済み基板１０９の受け
渡しは、いずれもこれらを基板受け渡し具１１７の基板
載置部１１８の同一箇所に保持して行うようになってい
るため、未処理基板１０９に付着していた汚染物質が基
板受け渡し具１１７の基板載置部１１８を介して処理済
み基板１０９に付着する。このため、処理済み基板１０
９が汚染される。

【０００６】また、酸化拡散工程の前処理洗浄において
は、既に洗浄された基板を洗浄することになるので、上
記のような汚染の問題はないが、洗浄後の濡れた基板を
保持した基板載置部１１８で乾いた基板を保持すると、
基板の種類によってはウォータマークが発生するという
弊害が生ずる。上記基板の汚染やウォータマークの発生
は、いずれも製品の歩留まりを低下させる。本発明は、
基板受け渡し具による処理済み基板の汚染やウォータマ
ークの発生を防止できる基板処理装置における基板受け
渡し装置を提供することをその課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の基板を
一群として起立整列状態で収容するカセットをカセット
載置テーブル上に載置し、上記カセット載置テーブルと
その下側に起立状に設けた基板受け渡し具とを相対的に
昇降させてカセット内に基板受け渡し具を挿通させ、上
記基板受け渡し具により上記一群の基板を起立整列状態
で一括保持し、上記カセットと基板搬送ロボットとの間
で上記一群の基板を受け渡すように構成した基板処理装
置における基板受け渡し装置であって、次のように構成
したことを特徴とする。

【０００８】前記基板受け渡し具は、その上端部にそれ
ぞれ一群の基板を一括保持する第１の基板載置部分と第
２の基板載置部分とを並設し、かつ前記第１の基板載置
部分及び／又は前記第２の基板載置部分は駆動装置によ
り昇降可能に設けられた基板載置部を備え、前記基板載
置部の相対的に上昇位置ある第１の基板載置部分または
第２の基板載置部分のいずれか一方で一群の基板を一括
保持するすように構成したものである。上記の第１の基
板載置部分及び／又は第２の基板載置部分が駆動装置に
より昇降可能に設けられたとは、具体的には、第２の基
板載置部分が固定され第１の基板載置部分が駆動装置に
より昇降可能に設けられている場合、第１の基板載置部
分が固定され第２の基板載置部分が駆動装置により昇降
可能に設けられている場合、あるいは第１の基板載置部
分が駆動装置により昇降可能に設けられ、第２の基板載
置部分も駆動装置により昇降可能に設けられている場合
である。このようにして、相対的に第１の基板載置部分
の位置と第２の基板載置部分の位置をずらし、いずれか
一方で一群の基板を一括保持するすようにするものであ
る。

【０００９】

【作用】本発明では、カセット内から未処理基板を取り
出す場合と、カセット内に処理済み基板を収容する場合
とで、基板受け渡し具の第１の基板載置部分と第２の基
板載置部分とを使い分ける。例えば、カセット内から未
処理基板を取り出す場合には、第１の基板載置部分が上
昇位置にあり、当該基板載置部分により一群の基板を一
括保持して持ち上げ、基板搬送ロボットに引き渡す。ま
た、処理済み基板を収容する場合には、第２の基板載置
部分が上昇位置にあり、基板搬送ロボットから一群の基
板を一括して受け取る。この場合、処理済み基板は第１
の基板載置部分に触れることはないので、未処理基板に
付着している汚染物質が第１の基板載置部分を介して処
理済み基板を汚染することがない。これにより、処理済
み基板の汚染が防止される。同様に、濡れた基板と乾燥
した基板とで、基板受け渡し具の第１の基板載置部分と
第２の基板載置部分とを使い分けることにより、ウォー
タマークの発生を防止できる。

【００１０】

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図１１に示すように、この実施例に係る基板処理装置
は、カセット搬出入ステージ１と、カセット搬送ロボッ
ト２と、基板移載部３と、基板搬送ロボット４と、基板
処理部５と、基板乾燥部６と、カセット洗浄器７とを備
えている。この実施例で用いるカセット８は、内部に基
板整列収容溝を備え、複数の基板９を起立整列状態で収
容できるようになっている。

【００１１】この基板処理装置では、基板処理装置外か
ら未処理基板９を収容したカセット８がカセット搬出入
ステージ１の搬入位置１０に搬入されると、このカセッ
ト８を二個、カセット搬送ロボット２で基板移載部３の
カセット載置テーブル１１に搬送し、ここでカセット８
二個分の未処理基板９をカセット８内から基板搬送ロボ
ット４に移載する。

【００１２】次に、基板搬送ロボット４に移載された未
処理基板９を基板処理部５に搬送し、基板処理部５で処
理し、処理済み基板９を基板搬送ロボット４で基板乾燥
部６に搬送して乾燥させた後、基板搬送ロボット４で基
板移載部３に搬送する。一方、先に基板移載部３で未処
理基板９を取り出された空のカセット８はカセット搬送
ロボット４でカセット洗浄器７に搬送して洗浄する。そ
して、この洗浄済みカセット８をカセット搬送ロボット
２で基板移載部３のカセット載置テーブル１１に搬送す
る。次に、基板移載部３で処理済み基板９を洗浄済みカ
セット８に移載し、このカセット８をカセット搬送ロボ
ット２でカセット搬出入ステージ１の搬出位置１２に搬
送し、ここから基板処理装置外に搬出する。

【００１３】このように、この基板処理装置では、カセ
ット搬送ロボット２により、カセット８をカセット搬出
入ステージ１とカセット載置テーブル１１との間で搬送
するようにしてあるが、図２に示すように、カセット搬
出入ステージ１で搬出入姿勢をとるカセット８内では、
基板９の収容姿勢が基板処理部５での基板９の処理姿勢
に対して平面視で直交する方向になっている。また、カ
セット搬送ロボット２は、カセット載置テーブル１１と
カセット搬出入ステージ１との間でカセット８を１８０
゜反転させて搬送する機構のものを用いている。

【００１４】このため、基板処理前に、カセット搬出入
ステージ１の搬入位置１０で搬入姿勢をとるカセット８
をカセット搬送ロボット２でカセット載置テーブル１１
に搬送すると、カセット載置テーブル１１上のカセット
８内の未処理基板９の収容姿勢が処理姿勢に対して平面
視で直交する姿勢になり、このままの姿勢では基板９を
処理姿勢と平行な姿勢に保持して搬送を行う基板搬送ロ
ボット４に未処理基板９を受け渡すことができない。ま
た、基板処理後に、カセット搬送ロボット２でカセット
８をカセット載置テーブル１１からカセット搬出入ステ
ージ１の搬出位置１２に搬送する際、搬出位置１２でカ
セット８が搬出姿勢となるようにするためには、カセッ
ト載置テーブル１１上のカセット８を搬出姿勢に対して
１８０゜反転した姿勢にしておく必要があるが、このよ
うな姿勢でカセット載置テーブル１１上に洗浄済みカセ
ット８を載置した場合には、洗浄済みカセット８の基板
収容方向が処理姿勢に対して平面視で直交する方向にな
るため、このままの姿勢では基板９を処理姿勢と平行な
姿勢に保持して搬送を行う基板搬送ロボット４から洗浄
済みカセット８に処理済み基板９を受け入れることがで
きない。

【００１５】このため、この基板処理装置では、基板移
載部３のカセット載置テーブル１１にターンテーブル１
３を設けてある。基板移載部３の構成は次の通りであ
る。すなわち、図２に示すように、カセット載置テーブ
ル１１の二箇所のカセット載置箇所に二個のターンテー
ブル１３を設け、このターンテーブル１３を後述する回
転駆動装置１４に連動連結して、このターンテーブル１
３を９０゜だけ回転させるようにしてある。図１に示す
ように、このターンテーブル１３の中央部にはカセット
８の下開口部１５に臨む受け渡し具挿通孔１６をあけ、
この受け渡し具挿通孔１６の下方に基板受け渡し具１７
を起立状に設け、この基板受け渡し具１７の上端部に複
数の基板９を起立整列状態で保持する基板載置部１８を
設けている。この基板受け渡し具１７は、昇降駆動手段
８５（昇降駆動モータ）に連動した縦送りネジ軸１９に
連動連結した昇降台２０上に設け、基板受け渡し具１７
の昇降により、基板載置部１８で複数の基板９を起立整
列状態のまま保持して、カセット８内と基板搬送ロボッ
ト４との間で複数の基板９を一括して受け渡し可能に構
成してある。

【００１６】この基板移載部３では、図２に示すよう
に、基板処理前に、カセット搬出入ステージ１の搬入位
置１０からカセット搬送ロボット２でターンテーブル１
３に搬送されてきたカセット８の姿勢を、ターンテーブ
ル１３のａ方向の回転により９０゜方向変換し、カセッ
ト８内の未処理基板９の収容姿勢を基板処理部５での基
板９の処理姿勢と平行として、図１に示す、基板受け渡
し具１７の上昇により、基板載置部１８に未処理基板９
を保持した状態で、カセット８上方に未処理基板９を取
り出し、基板受け渡し具１７を回転させることなしに、
カセット８内の未処理基板９を基板搬送ロボット４に受
け渡す。

【００１７】また、基板処理後には、図１１に示すカセ
ット洗浄器７からカセット搬送ロボット２でターンテー
ブル１３に搬送されてきた洗浄済みカセット８を、図２
の図示の姿勢からターンテーブル１３のａ方向の回転に
より９０゜方向変換し、その基板収容方向を処理姿勢と
平行として、図１に示すように、洗浄済みカセット８の
下方に位置させた基板受け渡し具１７の基板載置部１８
を上昇させて、基板搬送ロボット４で搬送されてきた処
理済み基板９を保持させ、この状態で基板受け渡し具１
７を下降させて、基板受け渡し具１７を回転させること
なしに、処理済み基板９を洗浄済みカセット８内に受け
渡す。そして、図２に示すように、処理済み基板９を収
容した洗浄済みカセット８を、ターンテーブル１３のｂ
方向の回転により９０゜方向変換して、図示の姿勢に
し、カセット搬送ロボット２でカセット搬出入ステージ
１の搬出位置１２に搬送すると、このカセット８が搬出
位置１２で搬出姿勢となる。

【００１８】このように、この基板移載部３では、図１
に示すように、基板９をカセット８内と基板搬送ロボッ
ト４との間で受け渡すに当たり、基板受け渡し具１７を
回転させる必要がないので、基板受け渡し具１７の基板
載置部１８に保持した基板９の姿勢がずれない。そのう
え、基板９を向け替えるに当たっては、基板９をカセッ
ト８に安定に収容保持したまま、ターンテーブル１３を
回転させることにより行うので、基板９の姿勢のずれを
おそれることなくターンテーブル１３の回転速度を高く
設定できる。

【００１９】この基板移載部３のターンテーブル１３及
びその回転駆動装置１４の具体的構成は次のとおりであ
る。図３（Ａ）に示すように、ターンテーブル１３はカ
セット載置テーブル１１のベース板２１にベアリング２
２を介して回転自在に取り付けてある。このターンテー
ブル１３を回転させる回転駆動装置１４には、回転駆動
モータを用い、この出力軸２３に固定したピニオンギヤ
２４をターンテーブル１３に外嵌固定したリングギヤ２
５に噛み合わせ、図３（Ｃ）に示すように、回転角度を
９０゜に設定して、ターンテーブル１３を回転させるよ
うにしてある。

【００２０】また、図３（Ｂ）に示すように、ターンテ
ーブル１３上には、矩形の受け渡し具挿通孔１６の周縁
の三方に沿ってカセット位置決め枠２６を平面視でコ字
状に形成するとともに、この周縁の残り一方にカセット
クランプ２７を設け、ターンテーブル１３上でカセット
８を適正位置に位置決め固定できるようにしてある。こ
の実施例では、回転駆動装置１４に回転駆動モータを用
いているが、これに代えて、図３（Ｄ）・（Ｅ）に示す
ように、回転駆動装置１４に回転駆動用エアシリンダを
用いてもよい。図３（Ｄ）のものでは、回転駆動用シリ
ンダのピストン２８にラックギヤ２９を取り付け、この
ラックギヤ２９をターンテーブル１３に外嵌固定したリ
ングギヤ２５に噛み合わせてある。また図３（Ｅ）のも
のでは、回転駆動用エアシリンダのピストン２８をター
ンテーブル１３に外嵌固定したリング３０に枢着してあ
る。

【００２１】上記基板受け渡し具１７は、図４（Ａ）に
示すように、パイプ支持台３１に立設したパイプ３２の
上端部に箱体３３を取り付け、基板載置部１８は上記箱
体３３の上面に設けられている。この基板載置部１８
は、それぞれ複数の基板を起立整列状態で保持する第１
の基板載置部分３８と第２の基板載置部分３９とから構
成されいてる。そして第１の基板載置部分３８は二個の
昇降載置部３８ａにより、また、第２の基板載置部分３
９は三個の固定載置部３９ｂにより構成されている。各
固定載置部３９ｂは箱体３３の上面の中央及び両側に固
設した各固定座３４に取り付け、各昇降載置部３８ａは
上記固定座３４同士の間に配置した二個の昇降座３５に
取り付けてある。

【００２２】この昇降座３５は、パイプ３２内を貫通さ
せた昇降杆３６の上端部に固定し、昇降杆３６はパイプ
支持台３１に取り付けた昇降駆動装置３７に連動連結し
てある。上記昇降駆動装置３７として昇降用シリンダを
用いている。つまり、昇降載置部３８ａより成る第１の
基板載置部分３８は、固定載置部３９ｂより成る第２の
基板載置部分３９の上方位置に突出する上昇位置と、第
２の基板載置部分３９より低位置に沈む下降位置とに切
り替え可能に構成してある。例えば図１において、カセ
ット８内から基板搬送ロボット４に未処理基板９を受け
渡す場合には、第１の基板載置部分３８を上昇位置と
し、基板搬送ロボット４から洗浄済みカセット８内に処
理済み基板９を受け渡す場合には、第１の基板載置部分
３８を下降位置とする。

【００２３】上記構成によれば、未処理基板９の受け渡
しに際しては、未処理基板９が第１の基板載置部分３８
に保持され、第２の基板載置部分３９に触れないので、
第２の基板載置部分３９が未処理基板９に付着している
汚染物質で汚染されることがない。そして、処理済み基
板９の受け渡しに際しては、汚染されていない第２の基
板載置部分３９に処理済み基板９が保持されるので、処
理済み基板９の汚染が防止される。逆に、第１の基板載
置部分３８を下降位置として第２の基板載置部分３９で
未処理基板９を受け渡し、第１の基板載置部分３８を上
昇位置として処理済み基板９を受け渡すことも可能であ
り、この場合にも同様に処理済み基板９の汚染を防止す
ることができる。

【００２４】なお、第１の基板載置部分３８及び第２の
基板載置部分３９には、図４（Ｂ）に示すように、そこ
に載置する基板９の主面方向（図４における紙面に垂直
な方向）にカセット８が有する基板整列収容溝と同一ピ
ッチの基板整列保持溝９０が設けられており、また、こ
の基板整列保持溝９０の解放上側縁部９２は、基板の保
持を円滑にするためハの字状の面取りがしてある。ま
た、二個の昇降載置部３８ａと三個の固定載置部３９ｂ
とは、図５に示すように、一体加工された通常の基板載
置部１８を一点鎖線部分で切断することにより容易に製
作できる。

【００２５】上記昇降載置部３８ａと固定載置部３９ｂ
には、図５で示すように、そこに保持する基板９の外周
に沿う形状の基板整列保持溝９０が切設されており、こ
の基板整列保持溝９０は、基板９のオリエンテーション
フラットに対応する直線部９５とそれ以外の湾曲部９６
とから成る。即ち、中央の固定載置部３９ｂとその両側
の昇降載置部３８ａ・３８ａとにかけて、基板９のオリ
エンテーションフラットに対応する直線部９５が切設さ
れ、当該昇降載置部３８ａからその外側の固定載置部３
９ｂにかけて湾曲部９６が切設されている。つまり、第
１の基板載置部分３８を構成する昇降載置部３８ａ・３
８ａが直線部分９５と湾曲部９６とを有し、かつ、第２
の基板載置部分３９を構成する固定載置部３９ｂが直線
部分９５と湾曲部９６とを有することにより、第１の基
板載置部分３８又は第２の基板載置部分３９のいずれか
により基板９を保持した場合であっても、基板９の回転
を防止することができる。

【００２６】上記実施例では、第１の基板載置部分３８
が昇降し、第２の基板載置部分３９が固定されたものと
して説明したが、これに代えて図６で示すように、両者
を昇降可能に構成することもできる。即ち、第１の基板
載置部分３８は、二つの昇降載置部３８ａを昇降ロッド
３４ａを介して第１の昇降ベース３５ａで支持し、また
第２の基板載置部分３９は、同様に三つの昇降載置部３
９ｂを昇降ロッド３４ｂを介して第２の昇降ベース３５
ｂで支持し、それらの昇降ベース３５ａ・３５ｂを揺動
アーム３６に連動連結し、駆動用アクチュエータ３７に
より上記揺動アーム３６をその揺動支軸Ｐで昇降揺動す
ることにより、両者を相対的に昇降切り換え可能に構成
してある。そして上昇位置にある一方の基板載置部分に
より基板を保持するように構成する。

【００２７】ところで、図７に示すように、この基板受
け渡し具１７は、二個のカセット８内と基板搬送ロボッ
ト４との間で基板９の受け渡しを行うため、二個設けら
れており、この二個の基板受け渡し具１７は幅寄せ装置
４２で幅寄せ可能にしてある。この幅寄せ装置４２の構
成は次の通りである。図８（Ａ）に示すように、両パイ
プ支持台３１を昇降台２０上のガイドレール４３にスラ
イド自在に支持し、両パイプ支持台３１を幅寄せリンク
機構４４で連結してある。幅寄せリンク機構４４は、図
８（Ａ）に示すように、昇降台２０の中央部から垂設し
た支軸８２にリンクアーム８３の中央部を枢着し、リン
クアーム８３の両端部と両パイプ支持台３１との間にリ
ンクロッド８４を介設して構成してある。そして、図８
（Ｂ）に示すように、昇降台２０に取り付けた幅寄せ駆
動用シリンダ４５に一方のパイプ支持台３１を連動連結
してある。

【００２８】この幅寄せ装置４２では、幅寄せ駆動用シ
リンダ４５を縮小させると、これに連結した一方のパイ
プ支持台３１が昇降台２０の中央側に寄ると同時に、幅
寄せリンク機構４４を介して他方のパイプ支持台３１も
昇降台２０の中央側に寄り、双方の基板受け渡し具１７
が幅寄せされる。また、幅寄せ駆動用シリンダ４５を伸
長させると、双方の基板受け渡し具１７が相互に遠ざか
る。この幅寄せ装置４２では、図７に示すように、基板
処理前に、二個のカセット８内から二群の未処理基板９
を基板搬送ロボット４に受け渡すに当たり、二個の基板
受け渡し具１７の基板載置部１８にそれぞれ各群の未処
理基板９を保持させ、双方の基板受け渡し具１７を幅寄
せにより近づけ、二群の未処理基板９の間に大きな隙間
を作ることなく、これらを基板搬送ロボット４に受け渡
す。また、基板処理後に、カセット８二個分の処理済み
基板９を基板搬送ロボット４から二個の洗浄済みカセッ
ト８に受け渡すに当たり、基板搬送ロボット４で搬送さ
れてきた処理済み基板９を、カセット８の上方で幅寄せ
しておいた二個の基板受け渡し具１７の両基板載置部１
８に保持させ、両基板受け渡し具１７を遠ざけて、処理
済み基板９を二群に分離し、各群を二個の洗浄済みカセ
ット８に収容する。

【００２９】次に、基板搬送ロボット４の構成を説明す
る。図１に示すように、この基板搬送ロボット４は、走
行部本体４６と、この走行部本体４６から略水平に突出
した左右一対のアーム回転軸４７と、この一対のアーム
回転軸４７を回転させる軸回転手段４８と、各アーム回
転軸４７に固定され、複数の基板９を起立整列状態で一
括保持する基板チャック４９とを備えている。一対の基
板チャック４９は、一対の対向面５０同士と、その裏面
５１同士とに、それぞれカセット８が有する基板整列収
容溝と同一ピッチの基板整列保持溝５２・５３を有し、
アーム回転軸４７の回転により、基板チャック４９をそ
の一対の対向面５０同士及びその裏面５１同士がそれぞ
れ対向する逆ハの字状の基板保持姿勢に切り替え可能に
構成してある。

【００３０】この基板搬送ロボット４では、未処理基板
９を搬送する場合には、基板チャック４９の一対の対向
面５０同士が対向する姿勢にし、処理済み基板９を搬送
する場合には、裏面５１同士が対向する姿勢にする。こ
のようにすると、未処理基板９の搬送に際しては、未処
理基板９が一対の対向面５０同士の基板整列保持溝５２
に保持され、未処理基板９が裏面５１の基板整列保持溝
５３に触れないので、裏面５１の基板整列保持溝５３が
未処理基板９に付着した汚染物質で汚染されることがな
い。そして、処理済み基板９の搬送に際しては、処理済
み基板９が汚染されていない裏面５１の基板整列保持溝
５３に保持されるので、処理済み基板９の汚染が防止さ
れる。

【００３１】基板チャック４９の具体的構成は次の通り
である。図９（Ａ）に示すように、基板チャック４９
は、板状のチャック本体５４の両端にエンドプレート５
５を備え、チャック本体５４の中央部とエンドプレート
５５の中央部とにアーム回転軸４７を挿通して固定して
ある。エンドプレート５５間には一対の補強パイプ５９
を平行に架設し、これをチャック本体５４内に挿通して
固定してある。図９（Ｂ）に示すように、チャック本体
５４の基板整列保持溝５２・５３は、いずれも基板９の
周縁に沿う円弧状に形成してある。また、図９（Ｃ）に
示すように、この基板整列保持溝５２・５３の解放縁部
５７はハの字状に面取りしてある。この基板チャック４
９は、図９（Ｄ）・（Ｅ）に示すように、基板整列保持
溝５２・５３を一連に周設した溝形成パイプ５８を補強
パイプ５９に外嵌して構成してもよい。この場合、補強
パイプ５９にエンドプレート５５をネジ止めすることに
より、両エンドプレート５５間で溝形成パイプ５８を挟
圧固定することができる。

【００３２】また、図１０（Ａ）に示すように、アーム
回転軸４７を回転させる軸回転手段４８には、一対の軸
回転用モータを用いている。この軸回転用モータは走行
部本体４６に固定し、各出力軸６０にアーム回転軸４７
を軸継ぎ手６１で連結し、両アーム回転軸４７をそれぞ
れ個別に回転連動するようにしてある。また、走行部本
体４６の走行駆動手段６２には、走行駆動モータを用い
ている。この走行駆動モータは、固定機枠６３に固定
し、その出力軸６４に駆動プーリ６５を取り付け、固定
機枠６３に枢着した遊動プーリ（図外）と駆動プーリ６
５との間に連動ベルト６６を巻き掛け、この連動ベルト
６６に走行部本体４６を取り付けてある。また、図１０
（Ｂ）に示すように、走行部本体４６は、固定機枠６３
上に設けたガイドレール６７上にスライド自在に取り付
けてある。

【００３３】この基板搬送ロボット４は、図１０（Ｃ）
に示すように、軸回転手段４８に一個の軸回転用モータ
を用い、その出力軸６０に取り付けた駆動ギヤ６８に反
転ギヤ６９を噛み合わせ、一方のアーム回転軸４７に取
り付けた入力ギヤ７０を駆動ギヤ６８に、他方のアーム
回転軸４７に取り付けた入力ギヤ７１を反転ギヤ６９に
それぞれ噛み合わせる構成としてもよい。また、図１０
（Ｄ）に示すように、走行駆動手段６２である走行駆動
モータを走行部本体４６に取り付け、その出力軸６４に
取り付けたピニオンギヤ７２を固定機枠６３に取り付け
たラックギヤ７３に噛み合わせ、走行部本体４６を自走
式にしてもよい。

【００３４】基板処理部５の構成は次の通りである。図
１に示すように、基板処理部５は、三個の処理槽７４を
備え、この処理槽７４にはそれぞれ基板９を支持する処
理基板載置部７５を設けてある。この処理基板載置部７
５は図２または図１１に示す昇降駆動手段７６に連動連
結して、昇降可能としてある。すなわち、図１に示すよ
うに、前記基板移載部３の基板載置部１８に保持した基
板９を基板搬送ロボット４に受け渡す位置を第一の基板
受け渡し位置７７とし、各処理槽７４の処理基板載置部
７５に保持した基板９を基板搬送ロボット４に受け渡す
位置を第二の基板受け渡し位置７８（図１においては、
中央の処理槽７４について図示している）とすると、処
理基板載置部７５の昇降により、ここに保持した基板９
を、第二の基板受け渡し位置７８と、処理槽７４内に浸
漬してその処理を行う基板処理位置７９との間で昇降で
きるようにしてある。そして、前記基板搬送ロボット４
は、第一の基板受け渡し位置７７と第二の基板受け渡し
位置７８との間で走行させるようにしてある。

【００３５】この基板処理部５を備えた基板処理装置で
は、基板処理前に、基板移載部３でカセット８内の未処
理基板９を基板搬送ロボット４に受け渡すに当たり、基
板移載部３の基板載置部１８に未処理基板９を保持し、
これを第一の基板受け渡し位置７７に上昇させて、基板
搬送ロボット４に受け渡す。そして、この未処理基板９
を基板搬送ロボット４で第二の基板受け渡し位置７８ま
で搬送し、上昇してきた処理基板載置部７５に未処理基
板９を受け渡し、処理基板載置部７５を下降させて、未
処理基板９を処理槽７４の基板処理位置７９に位置さ
せ、処理液８０に浸漬して処理を行う。そして、処理槽
７４での基板処理が終了すると、処理基板載置部７５を
上昇させて、処理済み基板９を第二の基板受け渡し位置
７８に位置させて、基板搬送ロボット４に受け渡す。そ
して、この処理済み基板９を基板搬送ロボット４で第一
の基板受け渡し位置７７まで搬送し、上昇してきた基板
移載部３の基板載置部１８に保持させ、基板移載部３の
基板載置部１８を下降させて、処理済み基板９を基板収
容位置８１に位置させ、洗浄済みカセット８内に収容す
る。

【００３６】このように、未処理基板９を基板処理部５
の処理基板載置部７５に保持して昇降させることによ
り、基板９を保持する基板搬送ロボット４の基板チャッ
ク４９を処理槽７４の処理液８０に浸漬する必要がなく
なり、基板チャック４９に付着した汚染物質が処理槽７
４内に持ち込まれることがない。そのうえ、基板チャッ
ク４９を処理槽７４に侵入させる必要がないため、基板
チャック４９の寸法を短くでき、基板搬送中に基板チャ
ック４９が振動しにくくなり、基板９と基板チャック４
９の基板整列保持溝５２・５３との摺動によるパーティ
クルの発生が軽減され、処理槽７４へのパーティクルの
侵入が軽減される。なお、本発明に係る基板処理装置
は、酸化拡散工程前の前処理装置として適用することも
可能であり、この場合には、基板の汚染は問題とならな
いので、未処理基板と処理済み基板とで基板載置部１８
を使い分けなくてもよい。むしろ、乾いた基板を保持す
る場合と濡れた基板を保持する場合とで、第１の基板載
置部分３８と第２の基板載置部分３９とを使い分けるこ
とにより、ウォータマークの発生を防止するようにすれ
ばよい。

【００３７】上述した実施例においては、基板受け渡し
具１７から受け取った複数の基板９を、基板搬送ロボッ
ト４により基板処理部５に搬送する基板処理装置につい
て述べたが、本発明は、基板受け渡し具１７から受け取
った複数の基板９を、基板搬送ロボット４により処理専
用カセットに移し替え、この処理専用カセットをカセッ
ト搬送ロボットにより基板処理部に搬送する基板処理装
置にも同様に適用できる。

【００３８】

【発明の効果】未処理基板の受け渡しと処理済み基板の
受け渡しとで、基板受け渡し具の第１の基板載置部分と
第２の基板載置部分とを使い分けることにより、未処理
基板に付着した汚染物質が基板受け渡し具の基板載置部
を介して処理済み基板に転移することによる処理済み基
板の汚染を防止できる。あるいは、濡れた基板と乾燥し
た基板とで、基板受け渡し具の第１の基板載置部分と第
２の基板載置部分とを使い分ることにより、ウォータマ
ークによる弊害を有効に防止することができる。これに
より製品である基板の歩留まりを高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る基板処理装置の縦断正面
図である。

【図２】図１の基板処理装置の平面図である。

【図３】図１の基板処理装置で用いるターンテーブルの
説明図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は平面
図、同図（Ｃ）は同図（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図、同図
（Ｄ）はターンテーブルの回転駆動機構の第１変更例の
同図（Ｃ）相当図、同図（Ｅ）はターンテーブルの回転
駆動機構の第２変更例の同図（Ｃ）相当図である。

【図４】図１の基板処理装置で用いる基板受け渡し具を
説明する図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は基
板載置部の一部断面図である。

【図５】基板受け渡し具の基板載置部の要部縦断面図で
ある。

【図６】基板受け渡し具の基板載置部の変形例を示す要
部縦断面図である。

【図７】図１のＶ−Ｖ線断面図である。

【図８】図１の基板処理装置で用いる幅寄せリンク機構
の説明図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は平面
図である。

【図９】図１の基板処理装置で用いる基板搬送ロボット
の基板チャックを説明する図で、同図（Ａ）は斜視図、
同図（Ｂ）は同図（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図、同図（Ｃ）
は同図（Ｂ）のＣ−Ｃ線断面図、同図（Ｄ）は基板チャ
ックの変更例の縦断面図、同図（Ｅ）は同図（Ｄ）のＥ
−Ｅ線断面図である。

【図１０】図１の基板処理装置で用いる基板搬送ロボッ
トの基板チャック回転機構と走行部本体の走行機構を説
明する図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）の側面図、同図（Ｃ）は変更例の斜視図、同図
（Ｄ）は同図（Ｃ）の側面図である。

【図１１】図１の基板処理装置の斜視図である。

【図１２】従来技術に係る基板処理装置の図１相当図で
ある。

【図１３】図１２の基板処理装置の平面図である。

【符号の説明】

４…基板搬送ロボット、 ５…基板処理部、８
…カセット、 ９…基板、１１…カセ
ット載置テーブル、 １５…下開口部、１６…受け渡
し具挿通孔、 １７…基板受け渡し具、１８…基
板載置部、 ３７…昇降駆動装置、３８…
第１の基板載置部分、 ３９…第２の基板載置部
分。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数の基板を一群として起立整列状態で収
   容するカセットをカセット載置テーブル上に載置し、上
   記カセット載置テーブルとその下側に起立状に設けた基
   板受け渡し具とを相対的に昇降させてカセット内に基板
   受け渡し具を挿通させ、上記基板受け渡し具により、上
   記一群の基板を起立整列状態で一括保持し、上記カセッ
   トと基板搬送ロボットとの間で上記一群の基板を受け渡
   すように構成した基板処理装置における基板受け渡し装
   置であって、 前記基板受け渡し具は、その上端部にそれぞれ一群の基
   板を一括保持する第１の基板載置部分と第２の基板載置
   部分とを並設し、かつ前記第１の基板載置部分及び／又
   は前記第２の基板載置部分は駆動装置により昇降可能に
   設けられた基板載置部を備え、前記基板載置部の相対的
   に上昇位置ある第１の基板載置部分または第２の基板載
   置部分のいずれか一方で一群の基板を一括保持するすよ
   うに構成した、ことを特徴とする基板処理装置における
   基板受け渡し装置。