JPH03116495A - Eprom装置 - Google Patents
Eprom装置Info
- Publication number
- JPH03116495A JPH03116495A JP2141402A JP14140290A JPH03116495A JP H03116495 A JPH03116495 A JP H03116495A JP 2141402 A JP2141402 A JP 2141402A JP 14140290 A JP14140290 A JP 14140290A JP H03116495 A JPH03116495 A JP H03116495A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mosfet
- circuit
- level
- power switch
- eprom device
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- XUFQPHANEAPEMJ-UHFFFAOYSA-N famotidine Chemical compound NC(N)=NC1=NC(CSCCC(N)=NS(N)(=O)=O)=CS1 XUFQPHANEAPEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 101150005343 INHA gene Proteins 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、MOSFET(絶縁ゲート型電界効果トラ
ンジスタ)で構成されたEPROM(エレクトリカリ・
プログラマブル・リード・オンリー・メモリ)装置に関
する。
ンジスタ)で構成されたEPROM(エレクトリカリ・
プログラマブル・リード・オンリー・メモリ)装置に関
する。
FAMO3(フローティング・アバランシェインジェク
ションMOSFET)のような半導体素子を記憶素子(
メモリセル)とするEPROM装置が公知である。
ションMOSFET)のような半導体素子を記憶素子(
メモリセル)とするEPROM装置が公知である。
従来のFFROM装置においては、その読み出し動作の
高速化を図るため、メモリセルからの読み出し信号振幅
を小さくするレベルリミッタ回路が設けられている。
高速化を図るため、メモリセルからの読み出し信号振幅
を小さくするレベルリミッタ回路が設けられている。
すなわち、第1図に示すようなMO3FET回路によっ
て、中間レベル(約2ボルト)を形成して、メモリアレ
イからの読み出し信号振幅をセンスアンプの動作に必要
最小なレベルとして、ハイレベル/ロウレベル相互の遷
移時間を速くするものである。
て、中間レベル(約2ボルト)を形成して、メモリアレ
イからの読み出し信号振幅をセンスアンプの動作に必要
最小なレベルとして、ハイレベル/ロウレベル相互の遷
移時間を速くするものである。
ところで、本願発明者は、上記EPROM装置の周辺回
路を0MO5(相補型MO3)回路によって構成するこ
とにより、その低消費電力化を図ることを考えた。この
場合、上記バイアス回路には常時電流が流れるものであ
るので、上記CMO5回路化にあたって、その消費電流
が無視できないばかりか、半導体基板に電流をたれ流す
ものであるのでCMOS回路にラッチアップを生じさせ
る危険性が高くなってしまう。
路を0MO5(相補型MO3)回路によって構成するこ
とにより、その低消費電力化を図ることを考えた。この
場合、上記バイアス回路には常時電流が流れるものであ
るので、上記CMO5回路化にあたって、その消費電流
が無視できないばかりか、半導体基板に電流をたれ流す
ものであるのでCMOS回路にラッチアップを生じさせ
る危険性が高くなってしまう。
この発明の目的は、低消費電力化を図ったEPROM装
置を提供することにある。
置を提供することにある。
この発明の他の目的は、以下の説明及び図面から明らか
になるであろう。
になるであろう。
以下、この発明を実施例とともに詳細に説明する。
第2図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。
る。
同図の各回路素子は、公知のMO5半導体集積回路の製
造技術によって、シリコンのような半導体基板上におい
て形成される。
造技術によって、シリコンのような半導体基板上におい
て形成される。
このEPROM装置は、図示しない外部端子から供給さ
れるアドレス信号を受けるアドレスバッファを通して形
成された相補アドレス信号がアドレスデコーダX−DC
R,Y−DCRに入力される。
れるアドレス信号を受けるアドレスバッファを通して形
成された相補アドレス信号がアドレスデコーダX−DC
R,Y−DCRに入力される。
アドレスデコーダX−DCRは、その相補アドレス信号
に従ったメモリアレイM−ARYのワーク゛ レス信号に従ったメモリアレイM−ARYのI−タ ダ線りの選択信号を形成する。
に従ったメモリアレイM−ARYのワーク゛ レス信号に従ったメモリアレイM−ARYのI−タ ダ線りの選択信号を形成する。
上記メモリアレイM−ARYは、その代表として示され
ている複数のFAMOSトランジスタ(不揮発性メモリ
素子・・・・・・MOSFETQI〜Q6)と、ワード
線Wl、W2及びデータ線D1〜Dnとにより構成され
る。
ている複数のFAMOSトランジスタ(不揮発性メモリ
素子・・・・・・MOSFETQI〜Q6)と、ワード
線Wl、W2及びデータ線D1〜Dnとにより構成され
る。
上記メモリアレイM−ARYにおいて、同じ行に配置さ
れたFAMO5)ランジスタQ1〜Q3(Q4〜Q6)
のコントロールゲートは、それぞれ対応するワード線W
l (W2)に接続され、同じ列に配置されたFAMO
3)ランジスタQl。
れたFAMO5)ランジスタQ1〜Q3(Q4〜Q6)
のコントロールゲートは、それぞれ対応するワード線W
l (W2)に接続され、同じ列に配置されたFAMO
3)ランジスタQl。
Q3〜Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応するデー
タ線D1〜Dnに接続されている。
タ線D1〜Dnに接続されている。
そして、上記FAMOSトランジスタの共通ソース線C
8は、デイプレッション型MO3FETQIOを介して
接地されている。また、上記各データ線D1〜Dnは、
カラム(列)選択スイッチMOSFETQ7〜Q9を介
して、共通データ線CDに接続されている。
8は、デイプレッション型MO3FETQIOを介して
接地されている。また、上記各データ線D1〜Dnは、
カラム(列)選択スイッチMOSFETQ7〜Q9を介
して、共通データ線CDに接続されている。
この共通データ線CDには、書込み用のデータ入力バッ
ファDIRの出力端子が接続される。また、次に説明す
るレベルリミッタ回路と、このれベルリミッタ回路に設
けられた増幅MO3FET018を通して出力信号を受
けるセンスアンプSAと、このセンスアンプSAの増幅
出力を受けるデータ出力バッファDOBとが設けられて
いる。
ファDIRの出力端子が接続される。また、次に説明す
るレベルリミッタ回路と、このれベルリミッタ回路に設
けられた増幅MO3FET018を通して出力信号を受
けるセンスアンプSAと、このセンスアンプSAの増幅
出力を受けるデータ出力バッファDOBとが設けられて
いる。
この実施例では、上記アドレスデコーダX、Y−DCR
,センスアンプSA、データ入力、出力バッファDIR
,DOB等の周辺回路が公知のCMOS回路によって構
成されている。
,センスアンプSA、データ入力、出力バッファDIR
,DOB等の周辺回路が公知のCMOS回路によって構
成されている。
そして、上記レベルリミッタ回路は、その消費電流を小
さくするために次のような回路構成とされる。
さくするために次のような回路構成とされる。
直列形態のデイプレッション型MO3FETQ11、Q
12 (Q14.Q15)は、そのコンダクタンス比に
より、電源電圧Vccを分圧して所定の中間レベルを形
成する。そして、上記直列形態のMO3FETQ11.
Q12(Q14.Q15)には、パワースイッチとして
のpチャンネルMO3FETQ13(016)を介して
電源電圧VCCが供給される。このMO3FETQ13
(Q16)のゲートには、特に限定されないが、読み
出し選択動作にロウレベルとなるチップ選択信号ceが
印加されている。
12 (Q14.Q15)は、そのコンダクタンス比に
より、電源電圧Vccを分圧して所定の中間レベルを形
成する。そして、上記直列形態のMO3FETQ11.
Q12(Q14.Q15)には、パワースイッチとして
のpチャンネルMO3FETQ13(016)を介して
電源電圧VCCが供給される。このMO3FETQ13
(Q16)のゲートには、特に限定されないが、読み
出し選択動作にロウレベルとなるチップ選択信号ceが
印加されている。
上記MOSFETQII、Q12で形成された中間レベ
ルは、リミッタ用MO3FETQ17及び増幅用MO3
FETQ18のゲートに印加される。これらのMO3F
ETSQ17及びMO3FETQ18のソースは、とも
に上記共通データ線CDに接続される。そして、上記M
O3FETQ17のドレインは、電源電圧V c cに
接続され、上記MO3FET018(7))’L/イン
ハ、負荷MO3FETQ19を介して電源電圧VCCに
接続される。
ルは、リミッタ用MO3FETQ17及び増幅用MO3
FETQ18のゲートに印加される。これらのMO3F
ETSQ17及びMO3FETQ18のソースは、とも
に上記共通データ線CDに接続される。そして、上記M
O3FETQ17のドレインは、電源電圧V c cに
接続され、上記MO3FET018(7))’L/イン
ハ、負荷MO3FETQ19を介して電源電圧VCCに
接続される。
また、上記MO3FETQ14.Q15で形成された中
間レベルは、MO3FETQ20のゲートに印加される
。このMOSFETQ20のソースは印加され、そのド
レインは上記共通データ線CDに接続されている。
間レベルは、MO3FETQ20のゲートに印加される
。このMOSFETQ20のソースは印加され、そのド
レインは上記共通データ線CDに接続されている。
したがって、メモリセルの記憶情報の読み出し時におい
て、アドレスデコーダX−DCR,Y−DCRによって
選択されたメモリセルには、上記MO3FETQ17を
介してバイアス電圧が与えられる。選択されたメモリセ
ルは、書込みデータに従って、ワード線選択レベルに対
して、高いしきい値電圧か又は低いしきい値電圧を持つ
ものである。
て、アドレスデコーダX−DCR,Y−DCRによって
選択されたメモリセルには、上記MO3FETQ17を
介してバイアス電圧が与えられる。選択されたメモリセ
ルは、書込みデータに従って、ワード線選択レベルに対
して、高いしきい値電圧か又は低いしきい値電圧を持つ
ものである。
選択されたメモリセルがワード線選択レベルにかかわら
ずにオフ状態にされている場合、共通データ線CDは、
MOSFETQ17によって比較的ハイレベルにされる
。
ずにオフ状態にされている場合、共通データ線CDは、
MOSFETQ17によって比較的ハイレベルにされる
。
一方、選択されたメモリセルがワード線選択レベルによ
ってオン状態にされている場合、共通データ線CDは、
比較的ロウレ(、しにされる。
ってオン状態にされている場合、共通データ線CDは、
比較的ロウレ(、しにされる。
この場合、共通データ線CDのロウレベルは、MO3F
ETQ17のゲート電圧が上記MO8FETQI 1.
Ql 2のコンダクタンス比に従って、比較的低くされ
ていることによって、比較的低いレベルにされる。
ETQ17のゲート電圧が上記MO8FETQI 1.
Ql 2のコンダクタンス比に従って、比較的低くされ
ていることによって、比較的低いレベルにされる。
共通データ線CDのロウレベルは、MO3FETQ17
及びMO3FETQ18とメモリセルを構成するMOS
FETとの寸法比を適当に設定することによって比較的
高いレベルにされる。
及びMO3FETQ18とメモリセルを構成するMOS
FETとの寸法比を適当に設定することによって比較的
高いレベルにされる。
このように共通データ線CDのハイレベルとロウレベル
とを制限すると、この共通データ線CD等に信号変化速
度を制限する浮遊容量等の容量が存在するにかかわらず
に、読み出しの高速化を図ることができる。すなわち、
複数のメモリセルからのデータを次々に読み出すような
場合において共通データ線CDの一方のレベルが他方の
レベルへ変化させられるまでの時間を短くすることがで
きる。
とを制限すると、この共通データ線CD等に信号変化速
度を制限する浮遊容量等の容量が存在するにかかわらず
に、読み出しの高速化を図ることができる。すなわち、
複数のメモリセルからのデータを次々に読み出すような
場合において共通データ線CDの一方のレベルが他方の
レベルへ変化させられるまでの時間を短くすることがで
きる。
なお、上記増幅用のMO3FETQ18は、ゲート2接
地型ソース入力の増幅動作を行い、次段の差動増幅回路
で構成されたセンスアンプSAにその出力を伝える。そ
して、このセンスアンプSAの出力は、データ出力バッ
ファDOBを介して外部端子Voutから送出される。
地型ソース入力の増幅動作を行い、次段の差動増幅回路
で構成されたセンスアンプSAにその出力を伝える。そ
して、このセンスアンプSAの出力は、データ出力バッ
ファDOBを介して外部端子Voutから送出される。
上記センスアンプSAの基準電圧Vrも上記パワースイ
ッチMOSFETが設けられたMO3FETQI 1.
Ql 2のような電圧分圧回路によって形成される。
ッチMOSFETが設けられたMO3FETQI 1.
Ql 2のような電圧分圧回路によって形成される。
この実施例では、上記中間レベルを形成するMO3FE
TQII、Ql2及びQl4.Ql5並びにセンスアン
プSAの基準電圧Vrを形成する回路には、パワースイ
ッチMO3FETが設けられており、その動作時にしか
直流電流を流さないので、上記周辺回路をCMOS回路
で構成した場合にも、その低消費電力性を損なうことに
ならない すなわち、通常、ROMは、上記のようなメモリアレイ
が複数設けられることによって複数ビットからなるデー
タを読み出すので、上記中間レベルを形成する回路は、
それと同数組だけ必要になるので、EPROM装置全体
から見れば、これらの中間レベル発生回路で消費される
直流電流は大きな値になる。この実施例では、上記直流
電流を大幅に小さくできるので、その低消費電力化を図
ることができる。
TQII、Ql2及びQl4.Ql5並びにセンスアン
プSAの基準電圧Vrを形成する回路には、パワースイ
ッチMO3FETが設けられており、その動作時にしか
直流電流を流さないので、上記周辺回路をCMOS回路
で構成した場合にも、その低消費電力性を損なうことに
ならない すなわち、通常、ROMは、上記のようなメモリアレイ
が複数設けられることによって複数ビットからなるデー
タを読み出すので、上記中間レベルを形成する回路は、
それと同数組だけ必要になるので、EPROM装置全体
から見れば、これらの中間レベル発生回路で消費される
直流電流は大きな値になる。この実施例では、上記直流
電流を大幅に小さくできるので、その低消費電力化を図
ることができる。
また、これに伴ってCMOS回路でのラッチアップの危
険性を低くすることもできる。
険性を低くすることもできる。
この発明は、前記実施例に限定されない。
上記中間レベルを形成するMO3FET回路は、例えば
第3図に示すように、エンハンスメント型MOSFET
Q21.Q22により構成するもの等種々の変形を採る
ことができるものである。そして、そのパワースイッチ
MO3FET023等を制御するタイミング信号φは、
上記チップ選択信号ceの他、例えばアドレス信号の変
化を検出するエツジトリガ回路により、読み出しアクセ
スがなされたことを検出して動作状態にされるもの等種
々の変形を採ることができる。
第3図に示すように、エンハンスメント型MOSFET
Q21.Q22により構成するもの等種々の変形を採る
ことができるものである。そして、そのパワースイッチ
MO3FET023等を制御するタイミング信号φは、
上記チップ選択信号ceの他、例えばアドレス信号の変
化を検出するエツジトリガ回路により、読み出しアクセ
スがなされたことを検出して動作状態にされるもの等種
々の変形を採ることができる。
さらに、EPROM装置におけるその周辺回路の具体的
回路構成は、CMOS回路であることを前提として種々
の実施形態を採ることができるものである。
回路構成は、CMOS回路であることを前提として種々
の実施形態を採ることができるものである。
第1図は、従来のEPROM装置における中間レベルを
形成するMOSFET回路の一例を示す回路図、 第2図は、この発明の一実施例を示す回路図、第3図は
、その中間レベルを形成するMOSFET回路の他の一
実施例を示す回路図である。 X−DCR,Y−DCR・・・アドレスデコーダ、M−
ARY・・・メモリアレイ、SA・・・センスアンプ、
DIB・・・データ入力バッファ、DOB・・・データ
出力バッファ。 第 図
形成するMOSFET回路の一例を示す回路図、 第2図は、この発明の一実施例を示す回路図、第3図は
、その中間レベルを形成するMOSFET回路の他の一
実施例を示す回路図である。 X−DCR,Y−DCR・・・アドレスデコーダ、M−
ARY・・・メモリアレイ、SA・・・センスアンプ、
DIB・・・データ入力バッファ、DOB・・・データ
出力バッファ。 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、不揮発性半導体素子をメモリセルとするメモリアレ
イと、 CMOS回路により構成されたアドレスデコーダ、セン
スアンプ、データ入力出力バッファを含む周辺回路と、 上記センスアンプの動作のための所定の中間電位のバイ
アス電圧を形成するバイアス回路と、を備え、 上記バイアス回路は、チップ選択信号に基づいてチップ
非選択期間にスイッチオフ制御されるパワースイッチM
OSFETを含んでなることを特徴とするEPROM装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2141402A JPH03116495A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | Eprom装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2141402A JPH03116495A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | Eprom装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57189105A Division JPS5979493A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Eprom装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03116495A true JPH03116495A (ja) | 1991-05-17 |
Family
ID=15291172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2141402A Pending JPH03116495A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | Eprom装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03116495A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55112037A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-29 | Fujitsu Ltd | Static type mos circuit |
JPS5641579A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-18 | Toshiba Corp | Address selector |
JPS5647995A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Memory device |
JPS5671881A (en) * | 1979-11-15 | 1981-06-15 | Fujitsu Ltd | Decoder circuit |
JPS56152330A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-25 | Hitachi Ltd | Mis output circuit |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP2141402A patent/JPH03116495A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55112037A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-29 | Fujitsu Ltd | Static type mos circuit |
JPS5641579A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-18 | Toshiba Corp | Address selector |
JPS5647995A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Memory device |
JPS5671881A (en) * | 1979-11-15 | 1981-06-15 | Fujitsu Ltd | Decoder circuit |
JPS56152330A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-25 | Hitachi Ltd | Mis output circuit |
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