JPS5979493A - Eprom装置 - Google Patents
Eprom装置Info
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- JPS5979493A JPS5979493A JP57189105A JP18910582A JPS5979493A JP S5979493 A JPS5979493 A JP S5979493A JP 57189105 A JP57189105 A JP 57189105A JP 18910582 A JP18910582 A JP 18910582A JP S5979493 A JPS5979493 A JP S5979493A
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- Japan
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- voltage
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- mosfet
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、MOSFET (絶縁ケート型電界すノ果
1−ランシスク)で構成されたEPROM(エレクトリ
カリ・プログラマブル・リーl゛・オンリー・メモリ)
装置に関する。
1−ランシスク)で構成されたEPROM(エレクトリ
カリ・プログラマブル・リーl゛・オンリー・メモリ)
装置に関する。
FAMO3()l、1−ティ7ク・アバランシュインジ
ェクションMO3FET)のような半導体素子を記憶素
子(メモリセル)とするIF、 l) ROM装置が公
知である。。
ェクションMO3FET)のような半導体素子を記憶素
子(メモリセル)とするIF、 l) ROM装置が公
知である。。
従来のE l) ROM装置においては、その読め出し
動作の高速化を図るため、メモリセルからの読み出し信
月振’l’flを小ざくするレベルリミノタ11羽略が
設けられている。
動作の高速化を図るため、メモリセルからの読み出し信
月振’l’flを小ざくするレベルリミノタ11羽略が
設けられている。
ずなわら、第1図に示すようなM OS FE T回路
によ−って、中間レベル(約2ホル1−)を形成し2て
、メモリアレイからの読め出し信冒振幅をセンスアンプ
の動作に必要最小なレールとして、ハーイレベル/ロウ
レヘル相U−の遷移Ih間を速<スルモのである。
によ−って、中間レベル(約2ホル1−)を形成し2て
、メモリアレイからの読め出し信冒振幅をセンスアンプ
の動作に必要最小なレールとして、ハーイレベル/ロウ
レヘル相U−の遷移Ih間を速<スルモのである。
ところで、本騨発明考は、上記IE P ROM装置の
周辺回路をCMO3(相補型MO5)回路によって構成
することにより、その低消費電力化を図ることを考えた
。この場合、1・記バイアス回路には常時電流が流れる
ものであるので、上記CMO3回路化にあたって、その
消費電流が無視できないばかりか、半導体基板に電流を
たれ流すものであるのでCM OS回路にラソチア、プ
を74Eしさせる危険性が11もくなってしまう。
周辺回路をCMO3(相補型MO5)回路によって構成
することにより、その低消費電力化を図ることを考えた
。この場合、1・記バイアス回路には常時電流が流れる
ものであるので、上記CMO3回路化にあたって、その
消費電流が無視できないばかりか、半導体基板に電流を
たれ流すものであるのでCM OS回路にラソチア、プ
を74Eしさせる危険性が11もくなってしまう。
この発明の目的は、低消費電力化を図ったEPR01v
l装置を提供することにある。
l装置を提供することにある。
この発明の他の目的は、以下の説明及び図面から明ら力
4こなるであろう。
4こなるであろう。
以下、この発明を実施例とともに詳細すこ説明する。
第2図には、この発明の一実施例の回路1λIが示され
ている。
ている。
同図の各回路素子は、公知のMO3半導体集積回M/;
の製造技術によって、シリコンのような半導体栽4#
、、l二において形成される。
の製造技術によって、シリコンのような半導体栽4#
、、l二において形成される。
このIE P ROM装置は、図示しない外部端子から
(J(給されるアドレス信号を受けるアドレス八ソファ
を通して形成された相補アドレス信号がアtしノスデ」
−ダX−DCR,Y−DCRに入力される。
(J(給されるアドレス信号を受けるアドレス八ソファ
を通して形成された相補アドレス信号がアtしノスデ」
−ダX−DCR,Y−DCRに入力される。
アドレスデコーダX −D CRは、その相補アドレス
信号に従ったメモリアレイM−ΔRYのワード線Wの選
択信号を形成する。
信号に従ったメモリアレイM−ΔRYのワード線Wの選
択信号を形成する。
アドレスデコーダY −D CRは、その相補アドレス
信号に従ったメモリアレイM −A RYのデータ線り
の選択信号を形成する。
信号に従ったメモリアレイM −A RYのデータ線り
の選択信号を形成する。
一ヒ記メモリアレイM−ARYは、その代表として示さ
れている複数のFAMO3lランシスタ(不揮発性メモ
リ素子・・M OS F E i’ Q I〜Q6)と
、ワード線W1’、W2及びデータ線D1へ・Dnとに
より構成されている。
れている複数のFAMO3lランシスタ(不揮発性メモ
リ素子・・M OS F E i’ Q I〜Q6)と
、ワード線W1’、W2及びデータ線D1へ・Dnとに
より構成されている。
に記メモリアレイM−ARYにおいて、同し行に配置さ
れたFAMO3l−ランシスタQ1〜Q3(Q4〜Q6
)のコンl−1:J−ルケー1−は、それぞれ対応する
ワード線Wl (W2)に接続され、同し列に配置さ
れたFΔMOSトランジスタQl。
れたFAMO3l−ランシスタQ1〜Q3(Q4〜Q6
)のコンl−1:J−ルケー1−は、それぞれ対応する
ワード線Wl (W2)に接続され、同し列に配置さ
れたFΔMOSトランジスタQl。
Q3〜Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応゛」るデ
ータ線D1〜Dnに接続されている。
ータ線D1〜Dnに接続されている。
そして、上記FAMO5I−ランジスタの共通ソース線
(/Sは、ディプレッション型M OS F E TQ
IOを介して接地されている。また、上記各データ線1
.) I ”・I) nは、カラム(列)選択スイッチ
M OS F I兄TQ7〜Q9を介して、共通データ
線CDに接続されている。
(/Sは、ディプレッション型M OS F E TQ
IOを介して接地されている。また、上記各データ線1
.) I ”・I) nは、カラム(列)選択スイッチ
M OS F I兄TQ7〜Q9を介して、共通データ
線CDに接続されている。
この共通データ線CDには、書込み用のデータ人力ハン
ファL−) I Bの出力端子が接続される。また、次
に説明するレベルリミノク回路と、このレベルリミノタ
回路に設けられた増’m M OS F E ”「Ql
8を通してた出力信号を受りるセンスアンプSAと、ご
のセンスアンプSAの増幅出力を受りるデータ出カバソ
ファDOBとが設りられている。
ファL−) I Bの出力端子が接続される。また、次
に説明するレベルリミノク回路と、このレベルリミノタ
回路に設けられた増’m M OS F E ”「Ql
8を通してた出力信号を受りるセンスアンプSAと、ご
のセンスアンプSAの増幅出力を受りるデータ出カバソ
ファDOBとが設りられている。
この実施例では、上記アドレスデコーダX、Y−L)C
I?、pンスアンプSA、データ入力、出力ハノファD
IB、DOB等の周辺回路が公知のCMO8回路によっ
て構成されている。
I?、pンスアンプSA、データ入力、出力ハノファD
IB、DOB等の周辺回路が公知のCMO8回路によっ
て構成されている。
そして、十記レベルリミッタ回路は、その/l!H2電
流を小さくするために次のような回路構成とされる。
流を小さくするために次のような回路構成とされる。
直列形態のディプレッション型MO5FETQ11、Q
l 2 (Ql 4.Ql 5)は、そのコンダクタン
ス比により、電源電圧Vccを分圧して所定の中間レベ
ルを形成する。そして、ト記的列形態のMO3FETQ
I 1.Ql 2 (Ql 4.、Ql 5)には、バ
マノースイノチとしてのpチャンネルMO3FETQI
3 (Ql 6)を介して電源電圧Vccが供給され
る。このMO3FE′「QI 3 (Ql6)のケーl
−には、特に開眼されないが、読め出し選択動作時にロ
ウレベルとなるチップ選択信号ceが印加されている。
l 2 (Ql 4.Ql 5)は、そのコンダクタン
ス比により、電源電圧Vccを分圧して所定の中間レベ
ルを形成する。そして、ト記的列形態のMO3FETQ
I 1.Ql 2 (Ql 4.、Ql 5)には、バ
マノースイノチとしてのpチャンネルMO3FETQI
3 (Ql 6)を介して電源電圧Vccが供給され
る。このMO3FE′「QI 3 (Ql6)のケーl
−には、特に開眼されないが、読め出し選択動作時にロ
ウレベルとなるチップ選択信号ceが印加されている。
」−記MO3FETQI 1.Ql 2で形成された中
間レベルは、リミッタ用MO3FETQI7及び増幅用
MO3FETQI’8のケートに印加される。これらの
MOS F El”Q 17及びM OS F IF。
間レベルは、リミッタ用MO3FETQI7及び増幅用
MO3FETQI’8のケートに印加される。これらの
MOS F El”Q 17及びM OS F IF。
TQIOのソースば、共に」1記共通データ線CDに接
続される。そして、1−記MO5F)ETQ17のトレ
インは、電源電圧Vc、cに接続され、上記MO3FE
”「Ql8のト”レインは、負荷MO3FETQ19を
介して電源電圧Vccに接続される。
続される。そして、1−記MO5F)ETQ17のトレ
インは、電源電圧Vc、cに接続され、上記MO3FE
”「Ql8のト”レインは、負荷MO3FETQ19を
介して電源電圧Vccに接続される。
また、上記MO3FETQI 4.Ql 5で形成され
た中間レベルば、MO3FETQ20のゲーI−に印加
される。このMO3FETQ20の゛ノースは接地され
、そのドレインは一ヒ記共通データ線C1,)に接続さ
れている。
た中間レベルば、MO3FETQ20のゲーI−に印加
される。このMO3FETQ20の゛ノースは接地され
、そのドレインは一ヒ記共通データ線C1,)に接続さ
れている。
したがゲこ、メモリセルの記憶情報の読み出し時におい
て、アドレスデコーダX−DCR,Y−1) CRによ
って選択されたメモリセルには、上記MOS F ru
TQ I 7を介してバイアス電圧が与えられる。選択
されたメモリセルは、書込みデータに従って、ワード線
選択レベルに対して、高いしきい値電圧か又は低いしき
い値電圧を持つものである。
て、アドレスデコーダX−DCR,Y−1) CRによ
って選択されたメモリセルには、上記MOS F ru
TQ I 7を介してバイアス電圧が与えられる。選択
されたメモリセルは、書込みデータに従って、ワード線
選択レベルに対して、高いしきい値電圧か又は低いしき
い値電圧を持つものである。
選択されたメモリセルがワード線選択レベルにかかわら
ずにオフ状態にされている場合、共通テータ李泉CLI
は、MO3FETQ17によって圧子9的ハイレー・ル
にされる。
ずにオフ状態にされている場合、共通テータ李泉CLI
は、MO3FETQ17によって圧子9的ハイレー・ル
にされる。
一方、選択されたメモリセルがワード線選択レベルに、
Lってオン状態にされている場合、共通データiQ C
I)は、比較的ハイレベルにされる。
Lってオン状態にされている場合、共通データiQ C
I)は、比較的ハイレベルにされる。
この場合、共通データ線CDのノ\イレベルは、MO3
FETQI 7のケー 1・電圧が上記MO3F
’ETQI 1.Ql 2の」ンダクタンス比に従つ°
ζ、比較的低くされていることによって、比較的低いレ
ベルにされる。
FETQI 7のケー 1・電圧が上記MO3F
’ETQI 1.Ql 2の」ンダクタンス比に従つ°
ζ、比較的低くされていることによって、比較的低いレ
ベルにされる。
共通データ線CDのし」ウレベルは、MOS Fr−C
TQ17及びM OS FE TQ l 8とメモリセ
ルを構成するMOSFETとの1十法比を適当に設定す
ることによって比較的高いレベルにされる。
TQ17及びM OS FE TQ l 8とメモリセ
ルを構成するMOSFETとの1十法比を適当に設定す
ることによって比較的高いレベルにされる。
このような共通データ線CDのハイL・ヘルと1゛1ウ
レヘルとを制限すると、この共通データ線CD等に信号
変化速度を制限するd遊′R−量等の容田が存在するに
かかわらずに、読’j出しの高速化を図ることができる
。ずなわら、複数のメモリセルからのデータを次々に読
め出すような場合において共通データ線CI)の一方の
し・ヘルが他方のレベルへ変化させられるまでの時間を
短くすることができる。
レヘルとを制限すると、この共通データ線CD等に信号
変化速度を制限するd遊′R−量等の容田が存在するに
かかわらずに、読’j出しの高速化を図ることができる
。ずなわら、複数のメモリセルからのデータを次々に読
め出すような場合において共通データ線CI)の一方の
し・ヘルが他方のレベルへ変化させられるまでの時間を
短くすることができる。
なお、」1記増幅用のMO3FETQ18は、ゲー1−
と接地型ソース入力の増IIIJa動作を行い、次段の
差動増幅回路で構成されたセンスアンプSΔにその出力
を伝える。そして、このセンスアンプSAの出力は、テ
ータ出カバソファD O13を介して外部端子Vout
から送出される。
と接地型ソース入力の増IIIJa動作を行い、次段の
差動増幅回路で構成されたセンスアンプSΔにその出力
を伝える。そして、このセンスアンプSAの出力は、テ
ータ出カバソファD O13を介して外部端子Vout
から送出される。
上記センスアンプSAの基準電圧Vrも上記パワースイ
ッチMOS F ETが設けられたMO3FするTQI
1.に112のような電圧分圧回M3によって形成さ
れる。
ッチMOS F ETが設けられたMO3FするTQI
1.に112のような電圧分圧回M3によって形成さ
れる。
この実施例では、上記中間レベルを形成するMOS F
fヱ’I’QI 1.Ql 2及びQl、1.Ql5並
びにセンスアンプSAの基準電圧Vrを形成する回1t
’/G lには、パワースイッチMO3FETが設番J
られており、その動作時にしか直流電流を流さないので
、に記周辺回路を0M03回路で構成した場合でも、そ
の低消費電力性を招なうことにならない。
fヱ’I’QI 1.Ql 2及びQl、1.Ql5並
びにセンスアンプSAの基準電圧Vrを形成する回1t
’/G lには、パワースイッチMO3FETが設番J
られており、その動作時にしか直流電流を流さないので
、に記周辺回路を0M03回路で構成した場合でも、そ
の低消費電力性を招なうことにならない。
ずなわら、 通常、ROMは、上記のようなメモリアレ
イが複数設けられることによって複数ピノ1−からなる
データを読み出すので、上記中間レベルを形成する回路
は、それと同数組だけ必要になるので、I三l) RO
M装置全体から見れば、これらの中間レベル発/−1:
、回路で消ひされる直流電流は大きな値になる。この実
施例では、[−記直流電流を大幅に小さくできるので、
その低消費電力化を図ることができる。
イが複数設けられることによって複数ピノ1−からなる
データを読み出すので、上記中間レベルを形成する回路
は、それと同数組だけ必要になるので、I三l) RO
M装置全体から見れば、これらの中間レベル発/−1:
、回路で消ひされる直流電流は大きな値になる。この実
施例では、[−記直流電流を大幅に小さくできるので、
その低消費電力化を図ることができる。
また、これに441’って0M03回路でのラノチア7
プの危険性を低くすることもできる。
プの危険性を低くすることもできる。
この発明は、前記実施例に限定されない。
」1記中間しベルを形成するM OS F E T回路
は、例えば第3図に示すように、エンハンスノント型M
O3FETQ2]、Q22により構成するもの等種々の
変形を採ることができるものである。
は、例えば第3図に示すように、エンハンスノント型M
O3FETQ2]、Q22により構成するもの等種々の
変形を採ることができるものである。
そして、そのバマ2−スイッチMO3FETQ23等を
制j「11するタイミング信−υφは、−1:8ピチノ
ゾ選択信男ceの他、例えばアドレス信列の変化を検出
するエツジトリガ回路により、読め出しアクーl!スが
なされたことを検出して動作状態にされるもの等種々の
変形を採ることができる。
制j「11するタイミング信−υφは、−1:8ピチノ
ゾ選択信男ceの他、例えばアドレス信列の変化を検出
するエツジトリガ回路により、読め出しアクーl!スが
なされたことを検出して動作状態にされるもの等種々の
変形を採ることができる。
さらに、EPROM装置にお&Jるその周辺回路の具体
的回路構成は、CMO51戸ノ路であることを前提とし
て種々の実施形態を採る、二とかできるものである。
的回路構成は、CMO51戸ノ路であることを前提とし
て種々の実施形態を採る、二とかできるものである。
第1図は、()L来のlEPROM装置におりる中間し
・−・ルを形成するM OS F E T回路の−・例
を示す回路図、 第2図は、この発明の一実施例を示す回路図、第;(図
は、その中間レベルを形成するMO3F+5 T回路の
他の一実施例を示す回路図である。 X I)C1ぐ、Y−DCR・・アドレステ゛二J−
ダ、M−△RY・・メモリアレイ、SA・・センスアン
プ、i) + 13・・データ入カハノファ、I) 0
13・・データ出力ハノファ
・−・ルを形成するM OS F E T回路の−・例
を示す回路図、 第2図は、この発明の一実施例を示す回路図、第;(図
は、その中間レベルを形成するMO3F+5 T回路の
他の一実施例を示す回路図である。 X I)C1ぐ、Y−DCR・・アドレステ゛二J−
ダ、M−△RY・・メモリアレイ、SA・・センスアン
プ、i) + 13・・データ入カハノファ、I) 0
13・・データ出力ハノファ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、不揮発I11半導体記憶素子をメモリセルとするメ
モリアし・イと、CMO3回路により構成された1y1
辺回路と、所定の中間電位のバイアス電圧を形成するバ
イアス回路とを含め、上記バイアス回路は、その−lン
ダクタンス比により上記バイアス電圧を形成するM O
S F E T回路と、その動作タイミング偵冒−を受
り、上記MO3FE’r回路に電圧供給を行うパ【ノー
スイッチM OS F F、 ”「とテ構成されるもの
であることを特徴とするEFROM装置。 2.1記バイアス回路は、センスアンプSAの人力読J
)出しレベルの振幅を制限するレベルリミ。 夕動作に用いられるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のE P R0M装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57189105A JPS5979493A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Eprom装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57189105A JPS5979493A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Eprom装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2141402A Division JPH03116495A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | Eprom装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5979493A true JPS5979493A (ja) | 1984-05-08 |
JPH0136200B2 JPH0136200B2 (ja) | 1989-07-28 |
Family
ID=16235441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57189105A Granted JPS5979493A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Eprom装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5979493A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6151696A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-14 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH023191A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-01-08 | Toshiba Corp | 不揮発性メモリ回路装置 |
JPH03296996A (ja) * | 1990-04-14 | 1991-12-27 | Nec Corp | メモリ装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55112037A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-29 | Fujitsu Ltd | Static type mos circuit |
JPS5641579A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-18 | Toshiba Corp | Address selector |
JPS5647995A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Memory device |
JPS5671881A (en) * | 1979-11-15 | 1981-06-15 | Fujitsu Ltd | Decoder circuit |
JPS56152330A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-25 | Hitachi Ltd | Mis output circuit |
-
1982
- 1982-10-29 JP JP57189105A patent/JPS5979493A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55112037A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-29 | Fujitsu Ltd | Static type mos circuit |
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JPS56152330A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-25 | Hitachi Ltd | Mis output circuit |
Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
JPS6151696A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-14 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0522999B2 (ja) * | 1984-08-22 | 1993-03-31 | Hitachi Maikon Shisutemu Kk | |
JPH023191A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-01-08 | Toshiba Corp | 不揮発性メモリ回路装置 |
JPH03296996A (ja) * | 1990-04-14 | 1991-12-27 | Nec Corp | メモリ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0136200B2 (ja) | 1989-07-28 |
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