JPH0269583A - 有機ガラスインク - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子工業用材料等に利用されるガラス質薄膜
を形成するだめの有機ガラスインクに関するものである
。
を形成するだめの有機ガラスインクに関するものである
。
(従来技術とその問題点)
従来、ガラス質の薄膜を各種の基材上に形成させる方法
は、ガラスフリットと呼ばれる粉末が用いられている。
は、ガラスフリットと呼ばれる粉末が用いられている。
その薄膜形成方法としては、ペーストによる方法等が一
般的に行われているが、ペースト法はガラス質の成分と
なる金属または無機化合物塩の微粉末と有機バインダと
溶剤を加えて混合し調製されているため、均一に分散さ
せることが困難である点や、膜厚も8ミクロン以下にす
ることが難しく、形成させた膜厚のバラツキが大きく、
また、ピンホールが生ずる欠点がある。
般的に行われているが、ペースト法はガラス質の成分と
なる金属または無機化合物塩の微粉末と有機バインダと
溶剤を加えて混合し調製されているため、均一に分散さ
せることが困難である点や、膜厚も8ミクロン以下にす
ることが難しく、形成させた膜厚のバラツキが大きく、
また、ピンホールが生ずる欠点がある。
また、貴金属の薄膜を抵抗体として用いる場合に、各種
の基体に密着性を高めるために該ガラス質成分となる微
粉末を貴金属ペーストに混合して用いることも盛んに行
われている。
の基体に密着性を高めるために該ガラス質成分となる微
粉末を貴金属ペーストに混合して用いることも盛んに行
われている。
しかし、従来用いられているガラスフリットは粉末であ
り、塗布、乾燥、焼成して形成した貴金属の薄膜の抵抗
値バラツキが大きい欠点があり、膜厚を薄くするのも限
界があり、抵抗値を調節することにおいての難点もあり
、他に、粉末を原料として用いているため、保存してい
る間に、成分の分離が生じやすい欠点もあった。
り、塗布、乾燥、焼成して形成した貴金属の薄膜の抵抗
値バラツキが大きい欠点があり、膜厚を薄くするのも限
界があり、抵抗値を調節することにおいての難点もあり
、他に、粉末を原料として用いているため、保存してい
る間に、成分の分離が生じやすい欠点もあった。
(発明の目的)
本発明は、従来法の欠点を解決するために成されたもの
で、簡便な方法で各種基材へち密なピンホールのない薄
膜を形成することができ、膜厚のバラツキを小さくし、
密着性が強く、貴金属レジネートと同じ有機溶剤に溶解
して、長期の保存においても分離しにくい均一分散した
有機ガラスインクを提供することを目的とする。
で、簡便な方法で各種基材へち密なピンホールのない薄
膜を形成することができ、膜厚のバラツキを小さくし、
密着性が強く、貴金属レジネートと同じ有機溶剤に溶解
して、長期の保存においても分離しにくい均一分散した
有機ガラスインクを提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、ガラス成分として、鉛、ケイ素、ホウ素、ビ
スマス、アンチモン、クロム、カルシウム、マグネシウ
ム、マンガン、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロ
ンチウム、およびカリウムから成る群から選択される2
種以上の元素が、脂肪族カルボン酸、天然ロジン、合成
ロジン誘導体、カナダバルサム、ペルーバルサム、アビ
エチン酸、安息香酸、フタル酸、アセチルアセトン、エ
トキシド、およびブトキシドの1種以上の有機化合物塩
であり、有機溶剤を加えて、混合溶液としたことを特徴
とする有機ガラスインクである。
スマス、アンチモン、クロム、カルシウム、マグネシウ
ム、マンガン、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロ
ンチウム、およびカリウムから成る群から選択される2
種以上の元素が、脂肪族カルボン酸、天然ロジン、合成
ロジン誘導体、カナダバルサム、ペルーバルサム、アビ
エチン酸、安息香酸、フタル酸、アセチルアセトン、エ
トキシド、およびブトキシドの1種以上の有機化合物塩
であり、有機溶剤を加えて、混合溶液としたことを特徴
とする有機ガラスインクである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の有機ガラスインクの原料成分としてガラス成分
である元素の有機化合物塩を主成分とし、その元素とし
ては、鉛、ケイ素、ホウ素、ビスマス、アンチモン、ク
ロム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、ジ
ルコニウム、バリウム、ストロンチウム、およびカリウ
ムから成る群から選択される2種以上の有機化合物塩を
用途により任意に組み合わせて用いる。
である元素の有機化合物塩を主成分とし、その元素とし
ては、鉛、ケイ素、ホウ素、ビスマス、アンチモン、ク
ロム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、ジ
ルコニウム、バリウム、ストロンチウム、およびカリウ
ムから成る群から選択される2種以上の有機化合物塩を
用途により任意に組み合わせて用いる。
有機溶剤としてメンタノール、ターピネオール、ブチル
カルピトール、メチルエチルケトン、プロピレングリコ
ール、エチレングリコール、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ベンジル、アミルアセテート、セルソルブ、
ブチルセルソルブ、ブタノール、ニトロベンゼン、トル
エン、キシレン、石油エーテル、クロロホルム、四塩化
炭素、ピネン、ジペンテン、ジペンテンオキサイド、精
油のいずれか1種または2種以上の混合溶剤を用いる。
カルピトール、メチルエチルケトン、プロピレングリコ
ール、エチレングリコール、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ベンジル、アミルアセテート、セルソルブ、
ブチルセルソルブ、ブタノール、ニトロベンゼン、トル
エン、キシレン、石油エーテル、クロロホルム、四塩化
炭素、ピネン、ジペンテン、ジペンテンオキサイド、精
油のいずれか1種または2種以上の混合溶剤を用いる。
有機化合物塩は、2−エチルへキサン酸、オクタン酸、
ナフテン酸、ステアリン酸等の脂肪族カルボン酸、天然
ロジン、合成ロジン誘導体、カナダバルサム、ペルーバ
ルサム、アビエチン酸、安息香酸、フタル酸、アセチル
アセトン、エトキシド、およびブトキシドの1種以上の
有機化合物塩を用いる。
ナフテン酸、ステアリン酸等の脂肪族カルボン酸、天然
ロジン、合成ロジン誘導体、カナダバルサム、ペルーバ
ルサム、アビエチン酸、安息香酸、フタル酸、アセチル
アセトン、エトキシド、およびブトキシドの1種以上の
有機化合物塩を用いる。
上記の有機化合物塩を用いる理由は、ガラス質成分の元
素との化合物を容易に生成することと、同一の有機溶剤
に溶解し、しかも貴金属レジネートとの混合溶液を調製
する場合でも、共通の有機溶剤で溶解することができる
からである。
素との化合物を容易に生成することと、同一の有機溶剤
に溶解し、しかも貴金属レジネートとの混合溶液を調製
する場合でも、共通の有機溶剤で溶解することができる
からである。
また、有機化合物塩を用いているので従来法のガラス質
成分を微粉末で用いる場合より低い温度で焼成でき、形
成した薄膜は0.1〜1.0ミクロンの均質なガラス質
膜が得られる。
成分を微粉末で用いる場合より低い温度で焼成でき、形
成した薄膜は0.1〜1.0ミクロンの均質なガラス質
膜が得られる。
有機溶剤を用いるのは、有機化合物塩を均一の混合溶液
とし、塗布する操作を容易にし、しかも形成したガラス
質膜の均質性を高めることができ、比較的短時間で揮発
するからである。
とし、塗布する操作を容易にし、しかも形成したガラス
質膜の均質性を高めることができ、比較的短時間で揮発
するからである。
尚、塗布方法は一般的な筆塗り法、スクリーン印刷法、
スタンプ法、スプレ法、ディッピング法、スピンコーテ
ィング法を用いる。
スタンプ法、スプレ法、ディッピング法、スピンコーテ
ィング法を用いる。
乾燥は、先ず室温で10〜20分間乾燥し、次いで18
0〜280℃で5〜15分間加熱乾燥する。
0〜280℃で5〜15分間加熱乾燥する。
焼成温度は500〜800℃で10〜20分間行えば良
い、焼成温度は800℃以上では、ガラス質の成分が蒸
発したり、溶融して凝縮したり、また基材を痛める等の
影響があり、あまり好ましくない。
い、焼成温度は800℃以上では、ガラス質の成分が蒸
発したり、溶融して凝縮したり、また基材を痛める等の
影響があり、あまり好ましくない。
以下、本発明の実施例を記載するが、該実施例は本発明
を限定するものではない。
を限定するものではない。
(実施例・1)
鉛2−エチルへキサン酸塩(P b 30%)40%、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン(Si14%)
10%、ホウ酸DL−)クー3−メンチル(82%)4
0%、ターピネオール10%を混合して有機ガラスイン
クを調製し、アルミナ系、シリカ系、ジルコニア系、お
よびチタン酸系のセラミックの基板にスクリーン印刷法
で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、20
0℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃で15分間
焼成して、徐冷した。
オクタフェニルシクロテトラシロキサン(Si14%)
10%、ホウ酸DL−)クー3−メンチル(82%)4
0%、ターピネオール10%を混合して有機ガラスイン
クを調製し、アルミナ系、シリカ系、ジルコニア系、お
よびチタン酸系のセラミックの基板にスクリーン印刷法
で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、20
0℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃で15分間
焼成して、徐冷した。
冷却後、セラミック上に形成した薄膜を拡大して観察し
たところ、ち密でピンホールのない膜で厚みは平均0,
3ミクロンであった。
たところ、ち密でピンホールのない膜で厚みは平均0,
3ミクロンであった。
(実施例2)
実施例1と同じ有機化合物塩と有機溶剤を用いて、有機
溶剤の割合を5%、20%、30%に変えて調製した有
機ガラスインクをアルミナ系セラミックの基板にスクリ
ーン印刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次
いで、200℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃
で15分間焼成して、徐冷した。
溶剤の割合を5%、20%、30%に変えて調製した有
機ガラスインクをアルミナ系セラミックの基板にスクリ
ーン印刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次
いで、200℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃
で15分間焼成して、徐冷した。
冷却後、セラミック上に形成した薄膜を拡大して観察し
たところ、ち密でピンホールのない膜で厚みは、0.3
5ミクロン、0.2ミクロン、0.1ミクロンであった
。
たところ、ち密でピンホールのない膜で厚みは、0.3
5ミクロン、0.2ミクロン、0.1ミクロンであった
。
(実施例3)
樹脂酸ルテニウム(Ru20%)5%、ガラス質成分と
して、鉛−ナフテン酸塩(Pb40%)25%、オクタ
フェニルシクロテトラシロキサン(S i 14%)1
0%、ホウ酸DL−トリー3−メンチル(82%)30
%、を加え、さらにバインダとして、アルキド樹脂を1
0%、有機溶剤として、ターピネオールを20%加えて
混合溶液とし、ジルコニア系セラミック基板にスクリー
ン印刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次い
で、200℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃で
10分間焼成して、徐冷した。
して、鉛−ナフテン酸塩(Pb40%)25%、オクタ
フェニルシクロテトラシロキサン(S i 14%)1
0%、ホウ酸DL−トリー3−メンチル(82%)30
%、を加え、さらにバインダとして、アルキド樹脂を1
0%、有機溶剤として、ターピネオールを20%加えて
混合溶液とし、ジルコニア系セラミック基板にスクリー
ン印刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次い
で、200℃で5分間加熱乾燥し、その後、700℃で
10分間焼成して、徐冷した。
冷却後、セラミック上に形成したルテニウム薄膜を拡大
して観察したところ、ち密でピンホールのない膜で厚み
は0.1ミクロンのものであった。
して観察したところ、ち密でピンホールのない膜で厚み
は0.1ミクロンのものであった。
(実施例4)
鉛2−エチルへキサン酸塩(P b 30%)35%、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン(Si14%)
10%、ホウ酸DL−トリー3−メンチル(82%)3
0%、カルシウムナフテン酸塩(Ca5%)8%、メト
キシナトリウム(Na43%)2%、を加え、有機溶剤
として、ターピネオールを15%加えて混合して有機ガ
ラスインクを調製し、アルミナ系、シリカ系、チタン酸
系、およびジルコニア系セラミック基板にスクリーン印
刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、
200℃で10分間加熱乾燥し、その後、500℃で1
5分間焼成して、徐冷した。
オクタフェニルシクロテトラシロキサン(Si14%)
10%、ホウ酸DL−トリー3−メンチル(82%)3
0%、カルシウムナフテン酸塩(Ca5%)8%、メト
キシナトリウム(Na43%)2%、を加え、有機溶剤
として、ターピネオールを15%加えて混合して有機ガ
ラスインクを調製し、アルミナ系、シリカ系、チタン酸
系、およびジルコニア系セラミック基板にスクリーン印
刷法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、
200℃で10分間加熱乾燥し、その後、500℃で1
5分間焼成して、徐冷した。
冷却後、それぞれのセラミック基板上に形成したガラス
薄膜を拡大して観察したところ、ち密でピンホールのな
い膜で厚みは0.25ミクロンのものであった。
薄膜を拡大して観察したところ、ち密でピンホールのな
い膜で厚みは0.25ミクロンのものであった。
(発明の効果)
本発明は、電子工業用材料として広い用途がある、ガラ
ス質薄膜を、従来用いられているガラスフリットを用い
たペースト法では得られにくい緻密でピンホールのない
薄膜を形成することができ、簡便な塗布、乾燥、焼成操
作で薄膜を形成することができ、しかも、各種基材への
密着性の良いガラス質薄膜を施すことができ、さらに、
貴金属レジネート等と混合して用いることにより、貴金
属薄膜を均一にし、各種基体への密着性を良くすること
もでき、その応用は極めて広く技術の発展に大きく貢献
するものである。
ス質薄膜を、従来用いられているガラスフリットを用い
たペースト法では得られにくい緻密でピンホールのない
薄膜を形成することができ、簡便な塗布、乾燥、焼成操
作で薄膜を形成することができ、しかも、各種基材への
密着性の良いガラス質薄膜を施すことができ、さらに、
貴金属レジネート等と混合して用いることにより、貴金
属薄膜を均一にし、各種基体への密着性を良くすること
もでき、その応用は極めて広く技術の発展に大きく貢献
するものである。
出願人 田中貴金属工業株式会社
Claims (1)
- 1.ガラス成分として、鉛、ケイ素、ホウ素、ビスマス
、アンチモン、クロム、カルシウム、マグネシウム、マ
ンガン、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウ
ム、およびカリウムから成る群から選択される2種以上
の元素が、脂肪族カルボン酸、天然ロジン、合成ロジン
誘導体、カナダバルサム、ペルーバルサム、アビエチン
酸、安息香酸、フタル酸、アセチルアセトン、エトキシ
ド、およびブトキシドの1種以上の有機化合物塩であり
、有機溶剤を加えて、混合溶液としたことを特徴とする
有機ガラスインク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63219872A JPH0269583A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機ガラスインク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63219872A JPH0269583A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機ガラスインク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0269583A true JPH0269583A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16742380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63219872A Pending JPH0269583A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機ガラスインク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0269583A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107286730A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-24 | 郑州市亚美凯新材料有限公司 | 一种触摸屏专用水性钢化玻璃油墨及其制备方法 |
CN107936693A (zh) * | 2017-12-08 | 2018-04-20 | 马鞍山虹润彩印有限责任公司 | 一种应用在钢化玻璃上的彩印油墨 |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63219872A patent/JPH0269583A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107286730A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-24 | 郑州市亚美凯新材料有限公司 | 一种触摸屏专用水性钢化玻璃油墨及其制备方法 |
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