JPH03130372A - クロムメタロオーガニック - Google Patents
クロムメタロオーガニックInfo
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- JPH03130372A JPH03130372A JP26791389A JP26791389A JPH03130372A JP H03130372 A JPH03130372 A JP H03130372A JP 26791389 A JP26791389 A JP 26791389A JP 26791389 A JP26791389 A JP 26791389A JP H03130372 A JPH03130372 A JP H03130372A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子工業用材料としてのクロム薄膜を形成す
るためのクロムメタロオーガニックに関するものである
。
るためのクロムメタロオーガニックに関するものである
。
(従来技術とその問題点)
従来、クロムの薄膜形成方法としては、蒸着dスパッタ
法による方法が行われているが、それぞれの欠点として
、スパッタ法、蒸着法では、薄膜形成に時間と高価な装
置を必要とし、複雑な形状の基材への薄膜を形成するの
に困難であるという欠点がある。
法による方法が行われているが、それぞれの欠点として
、スパッタ法、蒸着法では、薄膜形成に時間と高価な装
置を必要とし、複雑な形状の基材への薄膜を形成するの
に困難であるという欠点がある。
また、電気メツキ法は盛んに利用されているが、基材へ
の密着性が不十分であることと、基材がセラミックス等
の導電性に欠けるものでは電気メツキできないという欠
点があった。
の密着性が不十分であることと、基材がセラミックス等
の導電性に欠けるものでは電気メツキできないという欠
点があった。
(発明の目的)
本発明は、従来法の欠点を解決するために成されたもの
で、簡便な方法で各種基材へち密でピンホールのない0
. 1ミクロンから1.0ミクロンのクロムの薄膜を形
成することができ、膜厚のバラツキを小さくすることの
できるクロムメタロオーガニックを提供することを目的
とする。
で、簡便な方法で各種基材へち密でピンホールのない0
. 1ミクロンから1.0ミクロンのクロムの薄膜を形
成することができ、膜厚のバラツキを小さくすることの
できるクロムメタロオーガニックを提供することを目的
とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、クロムレジネートと他の金属成分としてロジ
ウム、ビスマス、アンチモン、鉛、ほう素、ケイ素、ア
ルミニウム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜
鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウム、および
コバルトから成る群から選択される1種または2種以上
の金属レジネートとバインダとしての樹脂と有機溶剤を
含有することを特徴とするクロムメタロオーガニックで
ある。
ウム、ビスマス、アンチモン、鉛、ほう素、ケイ素、ア
ルミニウム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜
鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウム、および
コバルトから成る群から選択される1種または2種以上
の金属レジネートとバインダとしての樹脂と有機溶剤を
含有することを特徴とするクロムメタロオーガニックで
ある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明のクロムメタロオーガニックの原料成分としては
、クロムのハロゲン化物や酸化物あるいは酢酸塩等と脂
肪族あるいは芳香族カルボン酸やアビエチン酸の多核脂
肪酸やアビエチン酸を主成分とするガムロジン等を反応
させて合成したクロムレジネートを主成分とし、クロム
以外の金属成分(以下「他の金属成分jとよぶ。)とし
ては、ロジウム、ビスマス、アンチモン、鉛、ほう素、
ケイ素、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、マ
ンガン、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウ
ム、およびコバルトから成る群から選択される1種また
は2種以上の金属のハロゲン化物や酢酸塩や酸化物等と
脂肪族あるいは芳香族カルボン酸やアビエチン酸の多核
脂肪酸やアビエチン酸を主成分とするガムロジン等を反
応させて合成した金属レジネートを用途により任意に組
み合わせて加える。
、クロムのハロゲン化物や酸化物あるいは酢酸塩等と脂
肪族あるいは芳香族カルボン酸やアビエチン酸の多核脂
肪酸やアビエチン酸を主成分とするガムロジン等を反応
させて合成したクロムレジネートを主成分とし、クロム
以外の金属成分(以下「他の金属成分jとよぶ。)とし
ては、ロジウム、ビスマス、アンチモン、鉛、ほう素、
ケイ素、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、マ
ンガン、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウ
ム、およびコバルトから成る群から選択される1種また
は2種以上の金属のハロゲン化物や酢酸塩や酸化物等と
脂肪族あるいは芳香族カルボン酸やアビエチン酸の多核
脂肪酸やアビエチン酸を主成分とするガムロジン等を反
応させて合成した金属レジネートを用途により任意に組
み合わせて加える。
バインダとして、ロジン、アルキッド樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、およびテ
ルペン重合体から成る群から選択される1種または2種
以上の樹脂を加える。
メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、およびテ
ルペン重合体から成る群から選択される1種または2種
以上の樹脂を加える。
有機溶剤としてメンタノール、テルピネオール、ジブチ
ルカルピトール、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢
酸ベンジル、アミルアセテート、セルソルブ、ブチルセ
ルソルブ、ブタノール、ニトロベンゼン、トルエン、・
キシレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン
、ピネン、ジテルペン、ジテルペンオキサイド、精油の
いずれか1種または2種以上を混合して用いる。
ルカルピトール、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢
酸ベンジル、アミルアセテート、セルソルブ、ブチルセ
ルソルブ、ブタノール、ニトロベンゼン、トルエン、・
キシレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン
、ピネン、ジテルペン、ジテルペンオキサイド、精油の
いずれか1種または2種以上を混合して用いる。
クロムレジネートはクロムの含有率が3〜15重量%の
ものがよく、該クロムメタロオーガニック中に加える量
を調節することにより、クロム薄膜を任意の厚みに形成
することができ、また他の金属成分としての金属レジネ
ートやバインダとして加える各種の樹脂と共通の有機溶
剤に溶解して均一な溶液になり、長期保存に耐える特徴
がある。
ものがよく、該クロムメタロオーガニック中に加える量
を調節することにより、クロム薄膜を任意の厚みに形成
することができ、また他の金属成分としての金属レジネ
ートやバインダとして加える各種の樹脂と共通の有機溶
剤に溶解して均一な溶液になり、長期保存に耐える特徴
がある。
前記の他の金属成分を加えるのは、クロムの薄膜を安定
させることと、各種の基材、例えばセラミックにはガラ
ス成分の金属レジネートを加えることで、塗布、乾燥、
焼成によりクロムの薄膜がセラミックに対し強い密着性
を得ることができ、また加える量を調節することでクロ
ムの酸化を防止することもできるからである。
させることと、各種の基材、例えばセラミックにはガラ
ス成分の金属レジネートを加えることで、塗布、乾燥、
焼成によりクロムの薄膜がセラミックに対し強い密着性
を得ることができ、また加える量を調節することでクロ
ムの酸化を防止することもできるからである。
また、前記のバインダとして加える各種の樹脂は、適度
の粘度を持たせるためと、他の金属成分の金属レジネー
トを塗布、乾燥、焼成する際に該金属の蒸発を防止する
効果もあるからである。
の粘度を持たせるためと、他の金属成分の金属レジネー
トを塗布、乾燥、焼成する際に該金属の蒸発を防止する
効果もあるからである。
前記の有機溶剤を用いるのは、原料であるクロムレジネ
ートと他の金属成分のレジネートおよび各種樹脂を溶解
し均一な混合溶液とし、塗布しやすく、印刷性のよいこ
とと、比較的短時間で揮発させることができるため混合
成分が均一な状態を維持し焼成した際の薄膜形成成分と
厚みがバラツキの少ないもの氾得られ、長期の保存にも
安定した均一な混合溶液として保てるからである。
ートと他の金属成分のレジネートおよび各種樹脂を溶解
し均一な混合溶液とし、塗布しやすく、印刷性のよいこ
とと、比較的短時間で揮発させることができるため混合
成分が均一な状態を維持し焼成した際の薄膜形成成分と
厚みがバラツキの少ないもの氾得られ、長期の保存にも
安定した均一な混合溶液として保てるからである。
本発明に於ける代表的成分割合について以下に示す。
クロムレジネートは30〜70重量%で、他の金属成分
は1〜25重量%で、バインダとしての各種樹脂は2〜
30重量%で、有機溶剤としては10〜40重量%の範
囲で混合し調製したものでは1回の塗布、乾燥、焼成に
より膜厚は0.1〜1、 0ミクロンの厚みが得られる
ものである。
は1〜25重量%で、バインダとしての各種樹脂は2〜
30重量%で、有機溶剤としては10〜40重量%の範
囲で混合し調製したものでは1回の塗布、乾燥、焼成に
より膜厚は0.1〜1、 0ミクロンの厚みが得られる
ものである。
尚、塗布方法は一般的な筆塗り法、スクリーン印刷法、
パッド印刷法、スタンプ法、スプレ法、ディッピング法
、スピンコーティング法を用いることができ、乾燥は、
先ず室温で10〜20分間乾燥し、次いで150〜25
0℃で5〜15分間加熱乾燥すればよく、焼成温度は大
気中または窒素と水素混合ガス中で700〜800℃で
10〜30分間行えば金属クロムの薄膜を形成すること
ができる。
パッド印刷法、スタンプ法、スプレ法、ディッピング法
、スピンコーティング法を用いることができ、乾燥は、
先ず室温で10〜20分間乾燥し、次いで150〜25
0℃で5〜15分間加熱乾燥すればよく、焼成温度は大
気中または窒素と水素混合ガス中で700〜800℃で
10〜30分間行えば金属クロムの薄膜を形成すること
ができる。
以下、本発明の実施例を記載するが、該実施例は本発明
を限定するものではない。
を限定するものではない。
(実施例1)
クロムレジネート(Cr15%)50wt%、鉛レジネ
ート(Pb30%)1wt%、ほう素レジネート(87
%)4wt%、ケイ素レジネート(S i 10%)5
wt%、アルキッド樹脂10wt%、尿素樹脂5wt%
、メンタノール20wt%、変性ガムロジン5wt%を
混合してクロムメタロオーガニックを調製し、5枚のセ
ラミックの基板にスクリーン印刷法で塗布したのち、室
温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10分間加熱
乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間焼成した
のち、徐冷した。
ート(Pb30%)1wt%、ほう素レジネート(87
%)4wt%、ケイ素レジネート(S i 10%)5
wt%、アルキッド樹脂10wt%、尿素樹脂5wt%
、メンタノール20wt%、変性ガムロジン5wt%を
混合してクロムメタロオーガニックを調製し、5枚のセ
ラミックの基板にスクリーン印刷法で塗布したのち、室
温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10分間加熱
乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間焼成した
のち、徐冷した。
冷却後、セラミック上に形成した薄膜を拡大して観察し
たところ、それぞれち密でブリスタおよびピンホールの
ない平均0.3ミクロンの膜厚であった。
たところ、それぞれち密でブリスタおよびピンホールの
ない平均0.3ミクロンの膜厚であった。
(実施例2)
クロムレジネート(Cr15%)30%、ロジウムレジ
ネート(Rh27%)1%、ビスマスレジネート(Bi
18%)1%、メンタノール20%、アルキッド樹脂1
5%、尿素樹脂3%、テルペン樹脂lO%、酢酸ベンジ
ル20%を混合してクロムメタロオーガニックを調製し
、5枚のセラミックの基板に筆ぬり法で塗布したのち、
室温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10分間加
熱乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間焼成し
、徐冷した。
ネート(Rh27%)1%、ビスマスレジネート(Bi
18%)1%、メンタノール20%、アルキッド樹脂1
5%、尿素樹脂3%、テルペン樹脂lO%、酢酸ベンジ
ル20%を混合してクロムメタロオーガニックを調製し
、5枚のセラミックの基板に筆ぬり法で塗布したのち、
室温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10分間加
熱乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間焼成し
、徐冷した。
冷却後、セラミック上に形成した薄膜を拡大して観察し
たところ、それぞれち密でピンホールのない平均0.1
ミクロンの膜厚であった。
たところ、それぞれち密でピンホールのない平均0.1
ミクロンの膜厚であった。
(実施例3)
クロムレジネート(Cr10%)70%、バリウムレジ
ネート(Ba12%)1%、アンチモンレジネート(S
b7%)2%、マンガンレジオー)(Mn8%)1%、
アクリル樹脂5%、メンタノール11%、エポキシ樹脂
5%、セルソルブ5%、を混合してクロムメタロオーガ
ニツタを調製し、5枚のガラスの基板にスクリーン印刷
法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、1
25℃で10分間加熱乾燥し、その後、大気中で700
℃で10分間焼成し徐冷した。
ネート(Ba12%)1%、アンチモンレジネート(S
b7%)2%、マンガンレジオー)(Mn8%)1%、
アクリル樹脂5%、メンタノール11%、エポキシ樹脂
5%、セルソルブ5%、を混合してクロムメタロオーガ
ニツタを調製し、5枚のガラスの基板にスクリーン印刷
法で塗布したのち、室温で10分間乾燥し、次いで、1
25℃で10分間加熱乾燥し、その後、大気中で700
℃で10分間焼成し徐冷した。
冷却後、ガラス基板上に形成した薄膜を拡大して観察し
たところ、それぞれち密でピンホールのない膜で厚みは
平均0.3ミクロンであった。
たところ、それぞれち密でピンホールのない膜で厚みは
平均0.3ミクロンであった。
(実施例4)
実施例1〜3で得たクロム薄膜を形成した各5枚のセラ
ミックおよびガラス基板の密着強度を測定し、たとこる
500g/mm”以上であった。
ミックおよびガラス基板の密着強度を測定し、たとこる
500g/mm”以上であった。
また、実施例1〜3で調製したクロムメタロオーガニッ
クを密閉容器に入れ、3ケ月間冷暗所に保存しておき、
該メタロオーガニックの変化を目視で確認したところ、
均一な溶液の状態を維持していた。
クを密閉容器に入れ、3ケ月間冷暗所に保存しておき、
該メタロオーガニックの変化を目視で確認したところ、
均一な溶液の状態を維持していた。
(実施例5)
実施例1のクロムメタロオーガニックの構成成分のうち
でクロムレジネートと有機溶剤の添加割合のみを調節し
て下記の4種類のクロムメタロオーガニックを調製し、
それぞれセラミック基板にスクリーン印刷法で塗布した
のち、室温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10
分間加熱乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間
焼成し、徐冷した。
でクロムレジネートと有機溶剤の添加割合のみを調節し
て下記の4種類のクロムメタロオーガニックを調製し、
それぞれセラミック基板にスクリーン印刷法で塗布した
のち、室温で10分間乾燥し、次いで、200℃で10
分間加熱乾燥し、その後、大気中で800℃で10分間
焼成し、徐冷した。
冷却後、それぞれのセラミック上に形成した薄膜を拡大
して観察したところ、それぞれち密でピンホールのない
膜で厚みは■0.1、■0.I5、■0.2、■0.4
ミクロンであった。
して観察したところ、それぞれち密でピンホールのない
膜で厚みは■0.1、■0.I5、■0.2、■0.4
ミクロンであった。
(発明の効果)
本発明は、クロムメタロオーガニックを用いることで、
簡便な方法により緻密で均一な薄膜を得ることができる
ことと、該薄膜がセラミックやガラス等の導電性の悪い
基板にも極めて密着力の強いものが形成させることがで
き、該クロムメタロオーガニックは均一な溶液状のイン
クであるため基板に印刷、乾燥、焼成すると、その膜厚
は0. 1〜1.0ミクロンのバラツキの少ない薄膜が
得られる。
簡便な方法により緻密で均一な薄膜を得ることができる
ことと、該薄膜がセラミックやガラス等の導電性の悪い
基板にも極めて密着力の強いものが形成させることがで
き、該クロムメタロオーガニックは均一な溶液状のイン
クであるため基板に印刷、乾燥、焼成すると、その膜厚
は0. 1〜1.0ミクロンのバラツキの少ない薄膜が
得られる。
また、本発明のクロムメタロオーガニックは金属粉末を
使用していない均一な溶液のため、直接スクリーン印刷
またはパッド印刷法により線巾50ミクロンの回路を形
成することも可能であり、しかも、長期の保存にも耐え
るもので利用価値の高いもので技術の発展に大いに貢献
するものである。
使用していない均一な溶液のため、直接スクリーン印刷
またはパッド印刷法により線巾50ミクロンの回路を形
成することも可能であり、しかも、長期の保存にも耐え
るもので利用価値の高いもので技術の発展に大いに貢献
するものである。
Claims (1)
- 1)クロムレジネートと他の金属成分としてロジウム、
ビスマス、アンチモン、鉛、ほう素、ケイ素、アルミニ
ウム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、ジ
ルコニウム、バリウム、ストロンチウム、およびコバル
トから成る群から選択される1種または2種以上の金属
レジネートとバインダとしての樹脂と有機溶剤を含有す
ることを特徴とするクロムメタロオーガニック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26791389A JPH03130372A (ja) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | クロムメタロオーガニック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26791389A JPH03130372A (ja) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | クロムメタロオーガニック |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03130372A true JPH03130372A (ja) | 1991-06-04 |
Family
ID=17451362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26791389A Pending JPH03130372A (ja) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | クロムメタロオーガニック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03130372A (ja) |
-
1989
- 1989-10-14 JP JP26791389A patent/JPH03130372A/ja active Pending
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