JPH01111713A - 超電導体インク - Google Patents

超電導体インク

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Publication number
JPH01111713A
JPH01111713A JP62267349A JP26734987A JPH01111713A JP H01111713 A JPH01111713 A JP H01111713A JP 62267349 A JP62267349 A JP 62267349A JP 26734987 A JP26734987 A JP 26734987A JP H01111713 A JPH01111713 A JP H01111713A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
ink
mixture
superconductor
org
Prior art date
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Pending
Application number
JP62267349A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Okamoto
浩治 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Filing date
Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、超電導体の膜を製造する為の素材である超電
導体インクに関する。
(従来の技術) 従来、超電導体の膜を作る技術、は、1μm@後の膜は
スパッタリング法や蒸着法により基板上に作成し、又は
15μm前後の膜は超電導体ペーストを基板上にスクリ
ーン印刷機で印刷し、乾燥後800〜1000℃で焼成
して作成するものであった。
又、アセチルアセトン錯塩、アルキル金属化合物、金属
アルコキシドおよび有機酸塩を有機溶媒に溶かし、その
溶液を基板に塗布して焼成することにより超電導体膜の
作製が計られている。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、スパッタリング法や蒸着法は、作成した膜の
成分が原料の主成分の成分組成と違うことが多くて、歩
留りが悪く、工業生産性に欠ける上、イツトリウム、バ
リウム、銅等の主成分の成分比をコントロールすること
が困難である。さらに局部的に膜を作成したり、複雑な
形状のものに膜を作成することが不可能であった。
他方、超電導体ペーストを用いたスクリーン印刷法は、
超電導体ペーストが有機溶媒に単にイツトリウム、バリ
ウム、銅等の主成分の酸化物微粉末が物理的に分散して
いるだけである為、均一な厚さの均一な組成の膜を作成
することは不可能であった。
又アルキル金属化合物、金属アルコキシドは大気中で不
安定であり、それらを構成成分とした超電導体有機溶液
は安定性に問題があり工業生産性に欠ける。アセチルア
セトン錯塩や、有機酸塩を有機溶媒に溶かした超電導体
有機溶液は、形状が溶液であるため、粘度のコントロー
ルが不可能なため、焼成後の膜厚のコントロールが困難
である。
また基板への塗布方法にも限界があり例えば複雑なバク
ーンスクリーン印刷などは低粘度の溶液では、ダレ、ニ
ジミなどの印刷性の問題により均一な膜厚が得られず工
業生産性に欠く。
(発明の目的) 本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、均
一な成分組成で、その成分の成分比を容易にコントロー
ルでき、各種有機樹脂、有機溶媒の混合比を変えること
により、さまざまな塗布方法によりしかも均一な厚さの
超電導体膜を作成することのできる超電導体インクを、
提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点を解決するための本発明の超電導体インクは
、イツトリウムなどの+3価の酸化状態をとる希土類金
属(Ce、Pr、Pm、Tb、LaXSc、Nd、Sm
5Eu、Gd、、Dy。
HO% Ers Tm、Yb、Lu)を2〜15%含む
ナフテン酸塩などの環状脂肪族カルボン酸塩又は2−エ
チルヘキサン酸塩などの脂肪族カルボン酸塩のいずれか
1種又は2種以上の混合物ど、バリウムなどのアルカリ
土類金属(Be、Mg、Ca、Sr)を5〜15%含む
ナフテン酸塩などの環状脂肪族カルボン酸塩又は2−エ
チルヘキサン酸塩などの脂肪族カルボン酸塩のいずれか
1種又は2種以上の混合物と、銅、銀、亜鉛、クロム、
マンガン、鉄、コバルト、ビスマス、ニッケル、鉛のい
ずれかを2〜15%含むナフテン酸塩などの環状脂肪族
カルボン酸塩又は2−エチルヘキサン酸塩などの脂肪族
カルボン酸塩のいずれか1種又は2種以上の混合物と、
エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース、エチルヒド
ロキシルエチルセルロース、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、ポリスチレン樹脂、天然ロジン、シリアンアスファ
ルト、テルペン系重合樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂
、メラニン樹脂、合成ロジン誘導体樹脂(変性ロジンの
グリセリンエステル、ペンタエリスリトールエステル等
の1群)のいずれか1種又は2種以上の混合物と、テル
ピネオール、メンタノール、ブチルカルビトール、メチ
ルエチルケトン、プロピレングリコール、エチレングリ
コール、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ベンジル
、アミルアセテート、セルソルブ、ブタノール、ニトロ
ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ピネン、ジペンテン、ジペンテン
オキサイド、精油(例えばラベンダー油、ローズマリー
油、ダイズ油、ササフラス油、テレピン油、ハツカ油、
レモン油、オレンジ油、ローズ油、樟脳油、ウィキョウ
油)のいずれか1種又は2種以上の混合物とが混合され
て成ることを特徴とするものである。
(作用) 上記構成の超電導体インクは、イツトリウム、バリウム
、銅等の主成分が有機溶媒に完全に溶解しているので、
基板上に塗布した後、800〜1000℃で2〜8時間
焼成して徐々に冷却すると、0.1〜1.0μmの均一
な厚さでしかも均一な成分組成の超電導体膜が得られる
また上記構成の超電導体インクは、インク中の主成分で
あるイツトリウム、バリウム、銅等の成分比を容易にコ
ントロールできるので、インク中の組成を変えて所要の
成分組成の超電導体膜を得ることが可能である。
さらに上記構成の超電導体インクは、筆ぬりのみならず
スタンプ、スプレー、スクリーン印刷、スピンコーティ
ング法により塗布したり、直接インク中に浸漬して塗布
したりできるので、塗布する対象物の形状により制限さ
れることなく超電導体膜を容易に形成でき、その上局所
への超電導体膜の形成も容易である。
(実施例) 本発明による超電導体インクの一実施例を説明する。イ
ツトリウムを10%含む2−エチルヘキサン酸塩10−
t%と、バリウムを12%含む2−エチルヘキサン酸塩
16.7wt%と、銅を10%含むナフテン酸塩30r
 t%と、エチルセルロース樹脂35.3wt%と、テ
ルピネオール8wt%を、混合して超電導体インクを作
った。
この超電導体インクを、Y z O3で安定したZ r
 Oz (Y Z S )基板上にスクリーン印刷にて
塗布し、大気中室温にて乾燥後、900℃で8時間焼成
し、その後徐々に冷却して0.8μmの均一な厚さの超
電導体膜を得た。この得られた超電導体膜の成分組成を
検査した処、原料の超電導体インクの主成分の組成と同
一であった。
次に他の実施例を説明する。+3価の酸化状態をとる希
土類金属であるイッテルビウムを5%含む2−エチルヘ
キサン酸塩20−t%と、バリウムを12%含む2−エ
チルヘキサン酸塩16.7wt%と、銅を10%含むナ
フテン酸塩30−t%と、エチルヒドロキシルエチルセ
ルロースを10wt%、と、メンタノールとを23.3
wt%を、混合して超電導体インクを作った。
この超電導体インクを、ysz5板上にスピンコーティ
ングにて塗布し、真空中室温にて乾燥後、800℃で8
時間焼成し、その後徐々に冷却して0.3μmの均一な
厚さの超電導体膜を得た。この得られた超電導体膜の成
分組成を検査した処、原料の超電導体インクの主成分と
同一であった。
次いでさらに他の実施例を説明する。イツトリウムを5
%含むナフテン酸塩20w t%と、バリウムを12%
含む2−エチルヘキサン酸塩16.7wt%と、銅を1
0%含むナフテン酸塩30wt%と、天然ロジンを10
.3wt%と、テルピネオール10−t%とブチルカル
ビトールを13−t%を、混合して超電導体インクを作
った。
この超電導体インクを、YSZ基板上に筆ぬりにて塗布
し、大気中室温にて乾燥後800℃で8時間焼成し、そ
の後徐々に冷却して0.1μmの均一な超電導体膜を得
た。この得られた超電導体膜の成分組成を検査した処、
原料の超電導体インクの主成分と同一であった。
尚、上記実施例では超電導体インクをysz基板上に塗
布しているが、yszl仮に限るものではない。また基
板に塗布する方法は、スプレー、スクリーン印刷、筆ぬ
りの他、スタンプ、スピンコーティング等があり、また
直接基板をインク中に浸漬する方法がある。
また上記実施例では、基板上に塗布した超電導体インク
を大気中及び真空中で乾燥しているが、不活性ガス中で
乾燥しても良いものであり、その温度条件も室温に限る
ものではなく、200℃までならいかなる温度でも良い
ものである。その乾燥時間も10分〜1時間で十分であ
る。
さらに基板に塗布した超電導体インクを乾燥、焼成後、
冷却するには、1〜10時間かけて室温まで冷却すると
良い。
(発明の効果) 以上の説明で判るように本発明の超電導体インクは、超
電導体膜の主成分であるイツトリウム、バリウム、銅等
が有機溶媒に完全、に溶解しているので、基板上に塗布
した後、800〜1000℃で2〜8時間焼成して徐々
に冷却すると0.1〜1.0μmの均一な厚さで、しか
も均一な成分組成の超電導体膜が得られる。また本発明
の超電導体インクは、イツトリウム、バリウム、銅等の
成分比を容易にコントロールできるので、所要の成分組
成の超電導体膜を得ることが可能である。さらに本発明
の超電導体インクは、塗布する対象物の形状により制限
されることなく超電導体膜を容易に形成でき、その上局
所への超電導体膜の形成も容易である。
出願人  田中貴金属工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  イットリウムなどの+3価の酸化状態をとる希土類金
    属を2〜15%含むナフテン酸塩などの環状脂肪族がカ
    ルボン酸塩又は2−エチルヘキサン酸塩などの脂肪族カ
    ルボン酸塩のいずれか1種又は2種以上の混合物と、バ
    リウムなどのアルカリ土類金属を5〜15%含むナフテ
    ン酸塩などの環状脂肪族カルボン酸塩又は2−エチルヘ
    キサン酸塩などの脂肪族カルボン酸塩のいずれか1種又
    は2種以上の混合物と、銅、銀、亜鉛、クロム、マンガ
    ン、鉄、コバルト、ビスマス、ニッケル、鉛のいずれか
    を2〜15%含むナフテン酸塩などの環状脂肪族カルボ
    ン酸塩又は2−エチルヘキサン酸塩などの脂肪族カルボ
    ン酸塩のいずれか1種又は2種以上の混合物と、エチル
    セルロース樹脂ニトロセルロース、エチルヒドロキシル
    エチルセルロース、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリ
    スチレン樹脂、天然ロジン、シリアンアスファルト、テ
    ルペン系重合樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂、メラニ
    ン樹脂、合成ロジン誘導体樹脂のいずれか1種又は2種
    以上の混合物と、テルピネオール、メンタノール、ブチ
    ルカルビトール、メチルエチルケトン、プロピレングリ
    コール、エチレングリコール、シクロヘキサノン、酢酸
    エチル、酢酸ベンジル、アミルアセテート、セルソルブ
    、ブタノール、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、
    石油エーテル、クロロホルム、四塩化炭素、ピネン、ジ
    ペンテン、ジペンテンオキサイド、精油のいずれか1種
    又は2種以上の混合物とが混合されて成ることを特徴と
    する超電導体インク。
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