JPH0255206A - 表面改質金属酸化物微粉末 - Google Patents

表面改質金属酸化物微粉末

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JPH0255206A
JPH0255206A JP63203177A JP20317788A JPH0255206A JP H0255206 A JPH0255206 A JP H0255206A JP 63203177 A JP63203177 A JP 63203177A JP 20317788 A JP20317788 A JP 20317788A JP H0255206 A JPH0255206 A JP H0255206A
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JP
Japan
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metallic oxide
amino group
metal oxide
group
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JP63203177A
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English (en)
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Kyosuke Uchida
内田 享祐
Toshio Morii
俊夫 森井
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Nippon Aerosil Co Ltd
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Nippon Aerosil Co Ltd
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Publication date
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    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/097Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708Inorganic compounds
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  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はシリカ、アルミナ、チタニア等の金属酸化物微
粉末の表面をアミノ基とトリアルキルシロキシ基を有す
るケイ素化合物で処理することにより、該微粉末に疎水
性と帯電性を付与し、他の粉体に添加してその流動性の
改善や帯電電荷の調整などに用いられる表面改質金属酸
化物微粉末とその用途に関する。
(従来技術と問題点) 従来、疎水性を付与されたシリカ微粉末が消火剤用のリ
ン酸アンモニウム粉末やエポキシ系粉体塗料、電子写真
複写機用の乾式トナーなどに添加され、それらの粉末の
固結防止や流動性改善の目的に広く使用されている。
この要求に応えるべ〈従来のマイナス帯電性のシリカ微
粉末をアミノシランで処理してプラス帯電性への改質が
試みられたが、得られた粉末は疎水性を示さず、目的を
達し得なかった。(特公昭53−22447)また、シ
ランカップリング剤と金属酸化物表面に存在する水酸基
に対して親和性が強く、これを封鎖する性質を有するい
わゆる疎水化剤とを用いてシリカ微粉末等を処理する方
法が提案され(特開昭58’−185405) 、一応
前記の目的に適うものが得られることになったが、この
処理で得られる表面改質金属酸化物微粉末の疎水性が一
定になり難く必ずしも満足できるものではない。
(問題解決に係る知見) 本発明者は、金属酸化物微粉末の表面改質に関してさら
に研究を続け、分子中にアミノ基とトリアルキルシロキ
シ基を有するケイ素化合物で表面処理を行うことにより
所望の帯電性と安定した疎水性を具備した表面改質金属
酸化物微粉末が得られることを見出した。
(発明の構成) すなわち本発明は、分子中に少くとも−っのアミノ基と
、少くとも一つのトリアルキルシロキシ基を有するケイ
素化合物で処理されたことを特徴とする、表面がプラス
に帯電した表面改質金属酸化物微粉末を提供する。
本発明はまた、上記表面改質金属酸化物微粉末であって
、少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つのトリアル
キルシロキシ基を有するケイ素化合物処理剤が、少くと
も一つのアミノ基を有するケイ素化合物とジシラザンと
の反応で得られる反応混合物を提供する。
本発明において、出発材料である金属酸化物微粉末は気
相高温加水分解法によって得られるヒユームドシリカ、
アルミナ、チタニアあるいはケイ素、アルミニウム共酸
化物で少くとも50rn’/gの比表面積を有し、−次
粒子が50nm以下の微粉なもの、例えば日本アエロジ
ル社製の「アエロジル200」、西独デグサ社製の「ア
ルミナムオキサイドC」、「チタニウムオキサイドP−
25J、rMOX 170Jなどが好適である。これら
の微粉末酸化物は、その表面に水酸基を有しており、有
機ケイ素化合物と縮合(反応)や水素結合などにより化
学結合を形成し、親水性で零またはマイナスの表面電荷
をもつ表面の性質を、疎水性でなおかつ零またはプラス
の表面電荷に変えることができる。
本発明の分子中に少くとも一つのアミノ基と。
少くとも一つのトリアルキルシロキシ基を有するケイ素
化合物は一般式X4Y、Si (O5iR”R2R’)
。(式中Xはアミノ基を有するアルキル基、Yはアルコ
キシ基またはハロゲン原子、R1、R2、RjはXのア
ミノ基の特性−金属酸化物の表面にプラスの帯電を生せ
しめる特性−を損なう官能基を有さない炭化水素基で同
一でもよく異別でもよい、Q。
m、nは1または2で、Q+m+n=4である)で表わ
される有機ケイ素化合物で、具体例以下のジシロキサン
が用いられる。
上記化合物は疎水性の−(O3iRIR2R,)基を有
するので大きな帯電量を有することができる。
(O5iR,R2R3)基を有さない場合、該化合物で
処理した後の金属粉末に付着する水分(湿度)が増加し
、これが1電材となる為、金属粉の帯電量が小さくなる
。また−(O5iR,R2R,)基を有しない場合、疎
水化剤と、帯電化剤との2成分の混合処理を夫々必要と
なり反応が複雑となり、収率が低下する。
また−(O3j、RLR2R,)基を有しない従来(7
) X、 SiY (7) −般式で表される処理剤ど
うしが反応すると、三次元鋼目構造のポリマーを形成し
て、固化し易く、異物となり易い。
一方、本発明の上記化合物は、−05j R1R2R3
基の嵩高さの為、処理剤どうしの反応(副反応)が抑制
され、収率が向上する。また、脱離基が2以下の為、仮
に処理剤どうし反応し、でも、三次元構造を持たず、固
化しにくい。
これらの化合物の一部のものは市販品として入手するこ
とができるが本発明においてはアミノ基を有するケイ素
化合物とジシラザンとの反応により得られる生成物を分
離することなく混合液のまま表面処理剤として使用する
のが好適である。アミノ基を有するケイ素化合物として
はアミノアルキルアルコキシシラン、具体的にはγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、p−
アニリノ−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等の
いわゆるアミノシランカップリング剤が市販されており
容易に適用できる。一方のジシラザンは例えばヘキサメ
チルジシラザン等が使用できる。
本発明の表面改質金属酸化物は処理しようとする金属酸
化物微粉末を基準にして本発明の処理剤を5〜50重量
%の割合で添加して調製される。
5重量%以下では処理の効果が明瞭でなく、50重量%
を越えると効果が飽和するからである。金属酸化物微粉
末を高速ミキサーに入れ、高速で攪拌し乍ら本発明の処
理剤を所定量(要すればアルコールと共に)滴下もしく
は噴霧して十分に混合分散させる。その時間は例えば8
,000r、90mで攪拌する場合3〜5分で十分であ
る。混合分散された溶液を含む金属酸化物微粉末はパウ
ダートリキッドを形成しており、このパウダートリキッ
ドをミキサーから別の容器に移し、窒素雰囲気中200
℃で0.5〜5時間、好ましくは2〜3時間攪拌還流す
る。その後還流を止め、200℃に保持して余剰の処理
剤を留去すれば均一な表面改質金属酸化物微粉末が得ら
れる。かくして得られた微粉末は60%以上の疎水率と
200μc/g以上の帯電量(測定法後記)を示す。
通常用いられる成分を含有するトナーに、上述した表面
改質金属酸化物微粉末を0.1から5重量%添加すると
トナーの流動性がきわめてよくなる。
本発明のもう一つの目的であるトナーのプラスの帯電量
については5通常トナーに添加される疎水性ヒユームド
シリカはマイナスの電荷を有しているため、添加すると
トナー全体のプラスの帯電量が低下してしまう欠点があ
るが1本発明の表面改質金属酸化物微粉末は既に述べた
ようにプラスの電荷を有しているためトナー全体のプラ
スの帯電量を損うことなく流動性改善のための添加剤と
して使用できる。
また該微粉末を添加したトナーの帯電量は、該微粉末の
もつ疎水化効果によりトナー自体の吸湿性が極端に低下
する結果、外気の湿度変化による帯電リーク巾が著しく
小さくなるため、夏季冬期を通じ長期にわたって一定値
を示し、かつトナー自体の凝集もないという疎水効果と
の複合による効果ももたらされる。
以下に本発明を実施例をもって具体的に説明する。
(実施例) 実施例1 ヒユームドシリカ(商品名、アエロジル200、比表面
積200m/g、日本アエロジル社製)50重量部を高
速ミキサーに入れ、8,0OOr、p、mで攪拌しなが
ら、γ−アミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシ
シラン10重量部とエタノール10重量部を滴下し、3
分間攪拌を続けた後、このパウダーリキッドを窒素置換
した四つロフラスコに移し、窒素気流下200℃で3時
間還流攪拌を行なった。その後還流を止めて200℃で
1時間攪拌しエタノールおよび余剰の処理剤を留去した
。得られたヒユームドシリカを後記の方法により測定し
た結果、疎水率74.6%、帯電量605μc/gであ
った。この時の処理の収率99.6%であった。
実施例2 γ−アミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシシラ
ン10重量部とヘキサメチルジシラザン5重量部を四つ
ロフラスコに入れ、窒素気流下で攪拌をしながら純水1
重量部を滴下した。約1時聞役白濁が生じさらに攪拌を
続けると10〜20時間後白濁が消失して透明な溶液が
得られた。この反応生成物の混合液を実施例1のγ−ア
ミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシシランのエ
タノール溶液の代りに用いた以外は実施例1と同様にし
て得られたヒユームドシリカについて1と同様に測定し
たところ、疎水率78.7″%、帯電量670μC/g
で収率は99.6%であった。
実施例3 実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランのエタノール溶液の代りにN、N−
ジ(トリメチル)シリル−ρ−アニリノジメトキシトリ
メチルシロキシシラン15重量部とメタノール15重量
部とからなる溶液を用いる以外は実施例1と同様な処理
を行なって得られたヒユームドシリカについて1と同様
な測定をしたところ、疎水率81.1%、帯電量508
μc/gであった。この時のヒユームドシリカの収率は
99.5%であった。
実施例4 γ−アミノプロピルトリエトキシシラン22重量部とへ
キサメチルジシラザン22重量部を四つロフラスコに入
れ、窒素気流下で攪拌しながら純水1.8重量部を滴下
した。約1時間後出色沈殿が生じ、さらに20時間攪拌
を続けると白色沈殿が消失した。かくして得られた反応
生成物混合液20重量部を実施例1のγ−アミノプロピ
ルジェトキシトリメチルシロキシシランのエタノール溶
液の代りに用いた以外は実施例1と同様にして得られた
ヒュードシリ力について1と同様の測定をしたところ、
疎水率72.4%、帯電量602μc/gで収率は99
.5%であった。
比較例1 実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランの代りにγ−アミノプロピルトリエ
トキシシランを用いた以外は実施例1と同様な処理を行
った結果得られたヒユームドシリカの収率は99.4%
であったが、このものは親水性のため疎水率は測定でき
なかった。また帯電量は325μc/gであったが6ケ
月放置した後測定したところ30μc/gであった。
比較例2 実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランとエタノールの混合物の代りにγ−
アミノプロピルトリエトキシシランとヘキサメチルジシ
ラザン夫々10重量部液の混合液を用いた以外は実施例
1と同様な処理を行って得られたヒユームドシリカは収
率95.0%であり、疎水率は86.8%、帯電率は3
84μc/gであった。
王ユ遣」3ユt1「析(慧 実施例1〜4および比較例1〜2における帯電量おはび
疎水率の測定手順を以下に示す。
(イ)帯電量測定試験 試料0.100gと鉄粉50.OOgをloOm、Qの
ガラスビンに入れ、シェーカーミキサーで90r、p、
mで5分間振どう後、ブローオフ粉体帯電量測定装置(
東芝ケミカルltl製モデルTB−200)を用いて電
荷量を測定し、試料1g当りの帯電量に換算する。
(ロ)疎水率測定試験 試料1gを分液ロートに計り取り、これに純水100n
+Qを加えて栓をするし、タープラミキサ−で10分分
間上うする。振どう後分液ロートをスタンドに掛け10
分間rlk装する。静置の後20〜30 m Q、ロー
トから抜き出した後10mm石英セルに分取し、純水を
ブランクとして比色計にかけ、その透過率を疎水率とす
る。
以上のように測定した帯電量および疎水率について、 その経時的変化は次表の通りであった。
代 理 人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、分子中に少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つ
    のトリアルキルシロキシ基を有するケイ素化合物で処理
    されたことを特徴とする、表面がプラスに帯電した表面
    改質金属酸化物微粉末。 2、請求項1記載の金属酸化物微粉末であって、金属酸
    化物がシリカ、アルミナ、チタニアまたはケイ素、アル
    ミニウム、チタンの少くとも2種の金属の混合酸化物で
    あるもの。3、請求項1〜2記載の金属酸化物微粉末で
    あって、金属酸化物が気相加水分解法によって製造され
    たものであるもの。 4、請求項1〜3記載の表面改質金属酸化物微粉末であ
    って、少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つのトリ
    アルキルシロキシ基を有するケイ素化合物処理剤が、少
    くとも一つのアミノ基を有するケイ素化合物とジシラザ
    ンとの反応で得られる反応混合物であるもの。
JP63203177A 1988-08-17 1988-08-17 表面改質金属酸化物微粉末 Pending JPH0255206A (ja)

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