JPH0255206A - 表面改質金属酸化物微粉末 - Google Patents
表面改質金属酸化物微粉末Info
- Publication number
- JPH0255206A JPH0255206A JP63203177A JP20317788A JPH0255206A JP H0255206 A JPH0255206 A JP H0255206A JP 63203177 A JP63203177 A JP 63203177A JP 20317788 A JP20317788 A JP 20317788A JP H0255206 A JPH0255206 A JP H0255206A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine powder
- metallic oxide
- amino group
- metal oxide
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000005389 trialkylsiloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 abstract description 2
- 229910002796 Si–Al Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 abstract 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 abstract 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 abstract 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- -1 anilino-γ-aminopropyltrimethoxysilane Chemical compound 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000010981 turquoise Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
- G03G9/09725—Silicon-oxides; Silicates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はシリカ、アルミナ、チタニア等の金属酸化物微
粉末の表面をアミノ基とトリアルキルシロキシ基を有す
るケイ素化合物で処理することにより、該微粉末に疎水
性と帯電性を付与し、他の粉体に添加してその流動性の
改善や帯電電荷の調整などに用いられる表面改質金属酸
化物微粉末とその用途に関する。
粉末の表面をアミノ基とトリアルキルシロキシ基を有す
るケイ素化合物で処理することにより、該微粉末に疎水
性と帯電性を付与し、他の粉体に添加してその流動性の
改善や帯電電荷の調整などに用いられる表面改質金属酸
化物微粉末とその用途に関する。
(従来技術と問題点)
従来、疎水性を付与されたシリカ微粉末が消火剤用のリ
ン酸アンモニウム粉末やエポキシ系粉体塗料、電子写真
複写機用の乾式トナーなどに添加され、それらの粉末の
固結防止や流動性改善の目的に広く使用されている。
ン酸アンモニウム粉末やエポキシ系粉体塗料、電子写真
複写機用の乾式トナーなどに添加され、それらの粉末の
固結防止や流動性改善の目的に広く使用されている。
この要求に応えるべ〈従来のマイナス帯電性のシリカ微
粉末をアミノシランで処理してプラス帯電性への改質が
試みられたが、得られた粉末は疎水性を示さず、目的を
達し得なかった。(特公昭53−22447)また、シ
ランカップリング剤と金属酸化物表面に存在する水酸基
に対して親和性が強く、これを封鎖する性質を有するい
わゆる疎水化剤とを用いてシリカ微粉末等を処理する方
法が提案され(特開昭58’−185405) 、一応
前記の目的に適うものが得られることになったが、この
処理で得られる表面改質金属酸化物微粉末の疎水性が一
定になり難く必ずしも満足できるものではない。
粉末をアミノシランで処理してプラス帯電性への改質が
試みられたが、得られた粉末は疎水性を示さず、目的を
達し得なかった。(特公昭53−22447)また、シ
ランカップリング剤と金属酸化物表面に存在する水酸基
に対して親和性が強く、これを封鎖する性質を有するい
わゆる疎水化剤とを用いてシリカ微粉末等を処理する方
法が提案され(特開昭58’−185405) 、一応
前記の目的に適うものが得られることになったが、この
処理で得られる表面改質金属酸化物微粉末の疎水性が一
定になり難く必ずしも満足できるものではない。
(問題解決に係る知見)
本発明者は、金属酸化物微粉末の表面改質に関してさら
に研究を続け、分子中にアミノ基とトリアルキルシロキ
シ基を有するケイ素化合物で表面処理を行うことにより
所望の帯電性と安定した疎水性を具備した表面改質金属
酸化物微粉末が得られることを見出した。
に研究を続け、分子中にアミノ基とトリアルキルシロキ
シ基を有するケイ素化合物で表面処理を行うことにより
所望の帯電性と安定した疎水性を具備した表面改質金属
酸化物微粉末が得られることを見出した。
(発明の構成)
すなわち本発明は、分子中に少くとも−っのアミノ基と
、少くとも一つのトリアルキルシロキシ基を有するケイ
素化合物で処理されたことを特徴とする、表面がプラス
に帯電した表面改質金属酸化物微粉末を提供する。
、少くとも一つのトリアルキルシロキシ基を有するケイ
素化合物で処理されたことを特徴とする、表面がプラス
に帯電した表面改質金属酸化物微粉末を提供する。
本発明はまた、上記表面改質金属酸化物微粉末であって
、少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つのトリアル
キルシロキシ基を有するケイ素化合物処理剤が、少くと
も一つのアミノ基を有するケイ素化合物とジシラザンと
の反応で得られる反応混合物を提供する。
、少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つのトリアル
キルシロキシ基を有するケイ素化合物処理剤が、少くと
も一つのアミノ基を有するケイ素化合物とジシラザンと
の反応で得られる反応混合物を提供する。
本発明において、出発材料である金属酸化物微粉末は気
相高温加水分解法によって得られるヒユームドシリカ、
アルミナ、チタニアあるいはケイ素、アルミニウム共酸
化物で少くとも50rn’/gの比表面積を有し、−次
粒子が50nm以下の微粉なもの、例えば日本アエロジ
ル社製の「アエロジル200」、西独デグサ社製の「ア
ルミナムオキサイドC」、「チタニウムオキサイドP−
25J、rMOX 170Jなどが好適である。これら
の微粉末酸化物は、その表面に水酸基を有しており、有
機ケイ素化合物と縮合(反応)や水素結合などにより化
学結合を形成し、親水性で零またはマイナスの表面電荷
をもつ表面の性質を、疎水性でなおかつ零またはプラス
の表面電荷に変えることができる。
相高温加水分解法によって得られるヒユームドシリカ、
アルミナ、チタニアあるいはケイ素、アルミニウム共酸
化物で少くとも50rn’/gの比表面積を有し、−次
粒子が50nm以下の微粉なもの、例えば日本アエロジ
ル社製の「アエロジル200」、西独デグサ社製の「ア
ルミナムオキサイドC」、「チタニウムオキサイドP−
25J、rMOX 170Jなどが好適である。これら
の微粉末酸化物は、その表面に水酸基を有しており、有
機ケイ素化合物と縮合(反応)や水素結合などにより化
学結合を形成し、親水性で零またはマイナスの表面電荷
をもつ表面の性質を、疎水性でなおかつ零またはプラス
の表面電荷に変えることができる。
本発明の分子中に少くとも一つのアミノ基と。
少くとも一つのトリアルキルシロキシ基を有するケイ素
化合物は一般式X4Y、Si (O5iR”R2R’)
。(式中Xはアミノ基を有するアルキル基、Yはアルコ
キシ基またはハロゲン原子、R1、R2、RjはXのア
ミノ基の特性−金属酸化物の表面にプラスの帯電を生せ
しめる特性−を損なう官能基を有さない炭化水素基で同
一でもよく異別でもよい、Q。
化合物は一般式X4Y、Si (O5iR”R2R’)
。(式中Xはアミノ基を有するアルキル基、Yはアルコ
キシ基またはハロゲン原子、R1、R2、RjはXのア
ミノ基の特性−金属酸化物の表面にプラスの帯電を生せ
しめる特性−を損なう官能基を有さない炭化水素基で同
一でもよく異別でもよい、Q。
m、nは1または2で、Q+m+n=4である)で表わ
される有機ケイ素化合物で、具体例以下のジシロキサン
が用いられる。
される有機ケイ素化合物で、具体例以下のジシロキサン
が用いられる。
上記化合物は疎水性の−(O3iRIR2R,)基を有
するので大きな帯電量を有することができる。
するので大きな帯電量を有することができる。
(O5iR,R2R3)基を有さない場合、該化合物で
処理した後の金属粉末に付着する水分(湿度)が増加し
、これが1電材となる為、金属粉の帯電量が小さくなる
。また−(O5iR,R2R,)基を有しない場合、疎
水化剤と、帯電化剤との2成分の混合処理を夫々必要と
なり反応が複雑となり、収率が低下する。
処理した後の金属粉末に付着する水分(湿度)が増加し
、これが1電材となる為、金属粉の帯電量が小さくなる
。また−(O5iR,R2R,)基を有しない場合、疎
水化剤と、帯電化剤との2成分の混合処理を夫々必要と
なり反応が複雑となり、収率が低下する。
また−(O3j、RLR2R,)基を有しない従来(7
) X、 SiY (7) −般式で表される処理剤ど
うしが反応すると、三次元鋼目構造のポリマーを形成し
て、固化し易く、異物となり易い。
) X、 SiY (7) −般式で表される処理剤ど
うしが反応すると、三次元鋼目構造のポリマーを形成し
て、固化し易く、異物となり易い。
一方、本発明の上記化合物は、−05j R1R2R3
基の嵩高さの為、処理剤どうしの反応(副反応)が抑制
され、収率が向上する。また、脱離基が2以下の為、仮
に処理剤どうし反応し、でも、三次元構造を持たず、固
化しにくい。
基の嵩高さの為、処理剤どうしの反応(副反応)が抑制
され、収率が向上する。また、脱離基が2以下の為、仮
に処理剤どうし反応し、でも、三次元構造を持たず、固
化しにくい。
これらの化合物の一部のものは市販品として入手するこ
とができるが本発明においてはアミノ基を有するケイ素
化合物とジシラザンとの反応により得られる生成物を分
離することなく混合液のまま表面処理剤として使用する
のが好適である。アミノ基を有するケイ素化合物として
はアミノアルキルアルコキシシラン、具体的にはγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、p−
アニリノ−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等の
いわゆるアミノシランカップリング剤が市販されており
容易に適用できる。一方のジシラザンは例えばヘキサメ
チルジシラザン等が使用できる。
とができるが本発明においてはアミノ基を有するケイ素
化合物とジシラザンとの反応により得られる生成物を分
離することなく混合液のまま表面処理剤として使用する
のが好適である。アミノ基を有するケイ素化合物として
はアミノアルキルアルコキシシラン、具体的にはγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、p−
アニリノ−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等の
いわゆるアミノシランカップリング剤が市販されており
容易に適用できる。一方のジシラザンは例えばヘキサメ
チルジシラザン等が使用できる。
本発明の表面改質金属酸化物は処理しようとする金属酸
化物微粉末を基準にして本発明の処理剤を5〜50重量
%の割合で添加して調製される。
化物微粉末を基準にして本発明の処理剤を5〜50重量
%の割合で添加して調製される。
5重量%以下では処理の効果が明瞭でなく、50重量%
を越えると効果が飽和するからである。金属酸化物微粉
末を高速ミキサーに入れ、高速で攪拌し乍ら本発明の処
理剤を所定量(要すればアルコールと共に)滴下もしく
は噴霧して十分に混合分散させる。その時間は例えば8
,000r、90mで攪拌する場合3〜5分で十分であ
る。混合分散された溶液を含む金属酸化物微粉末はパウ
ダートリキッドを形成しており、このパウダートリキッ
ドをミキサーから別の容器に移し、窒素雰囲気中200
℃で0.5〜5時間、好ましくは2〜3時間攪拌還流す
る。その後還流を止め、200℃に保持して余剰の処理
剤を留去すれば均一な表面改質金属酸化物微粉末が得ら
れる。かくして得られた微粉末は60%以上の疎水率と
200μc/g以上の帯電量(測定法後記)を示す。
を越えると効果が飽和するからである。金属酸化物微粉
末を高速ミキサーに入れ、高速で攪拌し乍ら本発明の処
理剤を所定量(要すればアルコールと共に)滴下もしく
は噴霧して十分に混合分散させる。その時間は例えば8
,000r、90mで攪拌する場合3〜5分で十分であ
る。混合分散された溶液を含む金属酸化物微粉末はパウ
ダートリキッドを形成しており、このパウダートリキッ
ドをミキサーから別の容器に移し、窒素雰囲気中200
℃で0.5〜5時間、好ましくは2〜3時間攪拌還流す
る。その後還流を止め、200℃に保持して余剰の処理
剤を留去すれば均一な表面改質金属酸化物微粉末が得ら
れる。かくして得られた微粉末は60%以上の疎水率と
200μc/g以上の帯電量(測定法後記)を示す。
通常用いられる成分を含有するトナーに、上述した表面
改質金属酸化物微粉末を0.1から5重量%添加すると
トナーの流動性がきわめてよくなる。
改質金属酸化物微粉末を0.1から5重量%添加すると
トナーの流動性がきわめてよくなる。
本発明のもう一つの目的であるトナーのプラスの帯電量
については5通常トナーに添加される疎水性ヒユームド
シリカはマイナスの電荷を有しているため、添加すると
トナー全体のプラスの帯電量が低下してしまう欠点があ
るが1本発明の表面改質金属酸化物微粉末は既に述べた
ようにプラスの電荷を有しているためトナー全体のプラ
スの帯電量を損うことなく流動性改善のための添加剤と
して使用できる。
については5通常トナーに添加される疎水性ヒユームド
シリカはマイナスの電荷を有しているため、添加すると
トナー全体のプラスの帯電量が低下してしまう欠点があ
るが1本発明の表面改質金属酸化物微粉末は既に述べた
ようにプラスの電荷を有しているためトナー全体のプラ
スの帯電量を損うことなく流動性改善のための添加剤と
して使用できる。
また該微粉末を添加したトナーの帯電量は、該微粉末の
もつ疎水化効果によりトナー自体の吸湿性が極端に低下
する結果、外気の湿度変化による帯電リーク巾が著しく
小さくなるため、夏季冬期を通じ長期にわたって一定値
を示し、かつトナー自体の凝集もないという疎水効果と
の複合による効果ももたらされる。
もつ疎水化効果によりトナー自体の吸湿性が極端に低下
する結果、外気の湿度変化による帯電リーク巾が著しく
小さくなるため、夏季冬期を通じ長期にわたって一定値
を示し、かつトナー自体の凝集もないという疎水効果と
の複合による効果ももたらされる。
以下に本発明を実施例をもって具体的に説明する。
(実施例)
実施例1
ヒユームドシリカ(商品名、アエロジル200、比表面
積200m/g、日本アエロジル社製)50重量部を高
速ミキサーに入れ、8,0OOr、p、mで攪拌しなが
ら、γ−アミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシ
シラン10重量部とエタノール10重量部を滴下し、3
分間攪拌を続けた後、このパウダーリキッドを窒素置換
した四つロフラスコに移し、窒素気流下200℃で3時
間還流攪拌を行なった。その後還流を止めて200℃で
1時間攪拌しエタノールおよび余剰の処理剤を留去した
。得られたヒユームドシリカを後記の方法により測定し
た結果、疎水率74.6%、帯電量605μc/gであ
った。この時の処理の収率99.6%であった。
積200m/g、日本アエロジル社製)50重量部を高
速ミキサーに入れ、8,0OOr、p、mで攪拌しなが
ら、γ−アミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシ
シラン10重量部とエタノール10重量部を滴下し、3
分間攪拌を続けた後、このパウダーリキッドを窒素置換
した四つロフラスコに移し、窒素気流下200℃で3時
間還流攪拌を行なった。その後還流を止めて200℃で
1時間攪拌しエタノールおよび余剰の処理剤を留去した
。得られたヒユームドシリカを後記の方法により測定し
た結果、疎水率74.6%、帯電量605μc/gであ
った。この時の処理の収率99.6%であった。
実施例2
γ−アミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシシラ
ン10重量部とヘキサメチルジシラザン5重量部を四つ
ロフラスコに入れ、窒素気流下で攪拌をしながら純水1
重量部を滴下した。約1時聞役白濁が生じさらに攪拌を
続けると10〜20時間後白濁が消失して透明な溶液が
得られた。この反応生成物の混合液を実施例1のγ−ア
ミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシシランのエ
タノール溶液の代りに用いた以外は実施例1と同様にし
て得られたヒユームドシリカについて1と同様に測定し
たところ、疎水率78.7″%、帯電量670μC/g
で収率は99.6%であった。
ン10重量部とヘキサメチルジシラザン5重量部を四つ
ロフラスコに入れ、窒素気流下で攪拌をしながら純水1
重量部を滴下した。約1時聞役白濁が生じさらに攪拌を
続けると10〜20時間後白濁が消失して透明な溶液が
得られた。この反応生成物の混合液を実施例1のγ−ア
ミノプロピルジェトキシトリメチルシロキシシランのエ
タノール溶液の代りに用いた以外は実施例1と同様にし
て得られたヒユームドシリカについて1と同様に測定し
たところ、疎水率78.7″%、帯電量670μC/g
で収率は99.6%であった。
実施例3
実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランのエタノール溶液の代りにN、N−
ジ(トリメチル)シリル−ρ−アニリノジメトキシトリ
メチルシロキシシラン15重量部とメタノール15重量
部とからなる溶液を用いる以外は実施例1と同様な処理
を行なって得られたヒユームドシリカについて1と同様
な測定をしたところ、疎水率81.1%、帯電量508
μc/gであった。この時のヒユームドシリカの収率は
99.5%であった。
チルシロキシシランのエタノール溶液の代りにN、N−
ジ(トリメチル)シリル−ρ−アニリノジメトキシトリ
メチルシロキシシラン15重量部とメタノール15重量
部とからなる溶液を用いる以外は実施例1と同様な処理
を行なって得られたヒユームドシリカについて1と同様
な測定をしたところ、疎水率81.1%、帯電量508
μc/gであった。この時のヒユームドシリカの収率は
99.5%であった。
実施例4
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン22重量部とへ
キサメチルジシラザン22重量部を四つロフラスコに入
れ、窒素気流下で攪拌しながら純水1.8重量部を滴下
した。約1時間後出色沈殿が生じ、さらに20時間攪拌
を続けると白色沈殿が消失した。かくして得られた反応
生成物混合液20重量部を実施例1のγ−アミノプロピ
ルジェトキシトリメチルシロキシシランのエタノール溶
液の代りに用いた以外は実施例1と同様にして得られた
ヒュードシリ力について1と同様の測定をしたところ、
疎水率72.4%、帯電量602μc/gで収率は99
.5%であった。
キサメチルジシラザン22重量部を四つロフラスコに入
れ、窒素気流下で攪拌しながら純水1.8重量部を滴下
した。約1時間後出色沈殿が生じ、さらに20時間攪拌
を続けると白色沈殿が消失した。かくして得られた反応
生成物混合液20重量部を実施例1のγ−アミノプロピ
ルジェトキシトリメチルシロキシシランのエタノール溶
液の代りに用いた以外は実施例1と同様にして得られた
ヒュードシリ力について1と同様の測定をしたところ、
疎水率72.4%、帯電量602μc/gで収率は99
.5%であった。
比較例1
実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランの代りにγ−アミノプロピルトリエ
トキシシランを用いた以外は実施例1と同様な処理を行
った結果得られたヒユームドシリカの収率は99.4%
であったが、このものは親水性のため疎水率は測定でき
なかった。また帯電量は325μc/gであったが6ケ
月放置した後測定したところ30μc/gであった。
チルシロキシシランの代りにγ−アミノプロピルトリエ
トキシシランを用いた以外は実施例1と同様な処理を行
った結果得られたヒユームドシリカの収率は99.4%
であったが、このものは親水性のため疎水率は測定でき
なかった。また帯電量は325μc/gであったが6ケ
月放置した後測定したところ30μc/gであった。
比較例2
実施例1においてγ−アミノプロピルジェトキシトリメ
チルシロキシシランとエタノールの混合物の代りにγ−
アミノプロピルトリエトキシシランとヘキサメチルジシ
ラザン夫々10重量部液の混合液を用いた以外は実施例
1と同様な処理を行って得られたヒユームドシリカは収
率95.0%であり、疎水率は86.8%、帯電率は3
84μc/gであった。
チルシロキシシランとエタノールの混合物の代りにγ−
アミノプロピルトリエトキシシランとヘキサメチルジシ
ラザン夫々10重量部液の混合液を用いた以外は実施例
1と同様な処理を行って得られたヒユームドシリカは収
率95.0%であり、疎水率は86.8%、帯電率は3
84μc/gであった。
王ユ遣」3ユt1「析(慧
実施例1〜4および比較例1〜2における帯電量おはび
疎水率の測定手順を以下に示す。
疎水率の測定手順を以下に示す。
(イ)帯電量測定試験
試料0.100gと鉄粉50.OOgをloOm、Qの
ガラスビンに入れ、シェーカーミキサーで90r、p、
mで5分間振どう後、ブローオフ粉体帯電量測定装置(
東芝ケミカルltl製モデルTB−200)を用いて電
荷量を測定し、試料1g当りの帯電量に換算する。
ガラスビンに入れ、シェーカーミキサーで90r、p、
mで5分間振どう後、ブローオフ粉体帯電量測定装置(
東芝ケミカルltl製モデルTB−200)を用いて電
荷量を測定し、試料1g当りの帯電量に換算する。
(ロ)疎水率測定試験
試料1gを分液ロートに計り取り、これに純水100n
+Qを加えて栓をするし、タープラミキサ−で10分分
間上うする。振どう後分液ロートをスタンドに掛け10
分間rlk装する。静置の後20〜30 m Q、ロー
トから抜き出した後10mm石英セルに分取し、純水を
ブランクとして比色計にかけ、その透過率を疎水率とす
る。
+Qを加えて栓をするし、タープラミキサ−で10分分
間上うする。振どう後分液ロートをスタンドに掛け10
分間rlk装する。静置の後20〜30 m Q、ロー
トから抜き出した後10mm石英セルに分取し、純水を
ブランクとして比色計にかけ、その透過率を疎水率とす
る。
以上のように測定した帯電量および疎水率について、
その経時的変化は次表の通りであった。
代
理
人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、分子中に少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つ
のトリアルキルシロキシ基を有するケイ素化合物で処理
されたことを特徴とする、表面がプラスに帯電した表面
改質金属酸化物微粉末。 2、請求項1記載の金属酸化物微粉末であって、金属酸
化物がシリカ、アルミナ、チタニアまたはケイ素、アル
ミニウム、チタンの少くとも2種の金属の混合酸化物で
あるもの。3、請求項1〜2記載の金属酸化物微粉末で
あって、金属酸化物が気相加水分解法によって製造され
たものであるもの。 4、請求項1〜3記載の表面改質金属酸化物微粉末であ
って、少くとも一つのアミノ基と、少くとも一つのトリ
アルキルシロキシ基を有するケイ素化合物処理剤が、少
くとも一つのアミノ基を有するケイ素化合物とジシラザ
ンとの反応で得られる反応混合物であるもの。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63203177A JPH0255206A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 表面改質金属酸化物微粉末 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63203177A JPH0255206A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 表面改質金属酸化物微粉末 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0255206A true JPH0255206A (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=16469734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63203177A Pending JPH0255206A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 表面改質金属酸化物微粉末 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0255206A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0566608A (ja) * | 1991-03-08 | 1993-03-19 | Canon Inc | 磁性トナー、画像形成方法、表面改質シリカ微粉末及びその製造方法 |
JPH11174726A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-07-02 | Minolta Co Ltd | 電子写真用現像剤 |
JP2003176122A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-06-24 | Wacker Chemie Gmbh | シリカのシラノール基含有率が低いシリカ |
JP2004059380A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Toyota Motor Corp | 金属酸化物粉体、その製造方法及び樹脂組成物 |
JP2010013463A (ja) * | 2001-08-06 | 2010-01-21 | Evonik Degussa Gmbh | 有機珪素化合物、その製造法、該化合物を含有するゴム混合物および該化合物の使用 |
WO2016027674A1 (ja) * | 2014-08-18 | 2016-02-25 | 日本ゼオン株式会社 | 静電荷像現像用トナー |
-
1988
- 1988-08-17 JP JP63203177A patent/JPH0255206A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0566608A (ja) * | 1991-03-08 | 1993-03-19 | Canon Inc | 磁性トナー、画像形成方法、表面改質シリカ微粉末及びその製造方法 |
JPH11174726A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-07-02 | Minolta Co Ltd | 電子写真用現像剤 |
JP2010013463A (ja) * | 2001-08-06 | 2010-01-21 | Evonik Degussa Gmbh | 有機珪素化合物、その製造法、該化合物を含有するゴム混合物および該化合物の使用 |
JP4589444B2 (ja) * | 2001-08-06 | 2010-12-01 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 有機珪素化合物、その製造法、該化合物を含有するゴム混合物および該化合物の使用 |
JP2003176122A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-06-24 | Wacker Chemie Gmbh | シリカのシラノール基含有率が低いシリカ |
JP2008189545A (ja) * | 2001-09-13 | 2008-08-21 | Wacker Chemie Ag | シリカのシラノール基含有率が低いシリカ |
JP2004059380A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Toyota Motor Corp | 金属酸化物粉体、その製造方法及び樹脂組成物 |
WO2016027674A1 (ja) * | 2014-08-18 | 2016-02-25 | 日本ゼオン株式会社 | 静電荷像現像用トナー |
CN106575091A (zh) * | 2014-08-18 | 2017-04-19 | 日本瑞翁株式会社 | 静电图像显影用调色剂 |
JPWO2016027674A1 (ja) * | 2014-08-18 | 2017-06-15 | 日本ゼオン株式会社 | 静電荷像現像用トナー |
US10539894B2 (en) | 2014-08-18 | 2020-01-21 | Zeon Corporation | Toner for developing electrostatic images |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4512872B2 (ja) | 表面改質シリカ微粉末とその製造方法 | |
JPH0131442B2 (ja) | ||
JP4118637B2 (ja) | シリカのシラノール基含有率が低いシリカ | |
JP2630946B2 (ja) | 正帯電性樹脂粉末の流動性向上剤 | |
JP3417291B2 (ja) | 電子写真用トナーの外添剤の製造方法 | |
JPH01185367A (ja) | 表面処理されたポリメチルシルセスキオキサン粉末の製造方法 | |
JPH0255206A (ja) | 表面改質金属酸化物微粉末 | |
JP3319114B2 (ja) | 疎水性シリカ粉体、その製法とそれを含む電子写真用現像剤 | |
JP4346403B2 (ja) | 表面処理シリカ粒子及びその用途 | |
JPS63101855A (ja) | 静電荷像現像剤 | |
JPH0132161B2 (ja) | ||
JPH01203478A (ja) | 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤 | |
JPH0393605A (ja) | 金属酸化物微粉末の流動性の改善の方法 | |
JP4186254B2 (ja) | 表面改質金属酸化物微粉末の製造方法及び電子写真用トナー組成物の製造方法 | |
JP2022011975A (ja) | 疎水性シリカ粒子 | |
JP4122566B2 (ja) | 疎水性金属酸化物微粉末及びその製造方法並びに電子写真用トナー組成物 | |
JP4318070B2 (ja) | 表面改質シリカ微粉末 | |
JP4936237B2 (ja) | 正帯電性疎水性酸化チタン微粉末とその製法および用途 | |
JP2964750B2 (ja) | 疎水性シリカ | |
JPH08319115A (ja) | 疎水性金属酸化物粉体およびこれを含有する電子写真用現像剤 | |
JP2023056202A (ja) | 表面改質無機酸化物及び表面改質無機酸化物を含有するトナー組成物 | |
JPH05139726A (ja) | 疎水性アルミナ | |
JP2022150873A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
JP2004144854A (ja) | トナー用外添剤 | |
JPH11125927A (ja) | 電子写真現像剤 |