JPH02311486A - ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法Info
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- JPH02311486A JPH02311486A JP13332289A JP13332289A JPH02311486A JP H02311486 A JPH02311486 A JP H02311486A JP 13332289 A JP13332289 A JP 13332289A JP 13332289 A JP13332289 A JP 13332289A JP H02311486 A JPH02311486 A JP H02311486A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｌｅｒ ｔ−ブチルトリアルコキシシランの
新規な製造方法に関するものである。
新規な製造方法に関するものである。
ｔｅｒ ｔ−ブチルトリアルコキシシランは他の有機ケ
イ素化合物の製造あるいは有機ケイ素からなる基を含む
化合物の製造に活性の高い基礎原料として広（用いられ
ている。
イ素化合物の製造あるいは有機ケイ素からなる基を含む
化合物の製造に活性の高い基礎原料として広（用いられ
ている。
従来ｔｅｒ ｔ−ブチルトリアルコキシシランの製造方
法としては、ｔｅｒ ｔ−ブチルトリクロロシランとア
ルコールとを反応させてｔｅｒ ｔ−ブチルトリアルコ
キシシランを合成する方法が知られている。しかしなが
らこの方法は、原料となるｔｅｒ ｔ−ブチルトリクロ
ロシランが極めて高価で入手困難であるため工業的な方
法ではない。
法としては、ｔｅｒ ｔ−ブチルトリクロロシランとア
ルコールとを反応させてｔｅｒ ｔ−ブチルトリアルコ
キシシランを合成する方法が知られている。しかしなが
らこの方法は、原料となるｔｅｒ ｔ−ブチルトリクロ
ロシランが極めて高価で入手困難であるため工業的な方
法ではない。
本発明は上記従来技術の持っている欠点を解決しようと
するものであり、文献未載の新規な製造方法である。
するものであり、文献未載の新規な製造方法である。
本発明者らはこの研究に鋭意取り組んだ結果、ｔｅｒｔ
−ブチル、メチル基及び水素原子を持つ有機モノアルコ
キシシラン（工業的にはグリニヤール反応により容易に
かつ安価に得られる有機ケイ素化合物）とアルコールと
を白金触媒の存在下に反応させることにより、ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリアルコキシシランを製造できることを見
出し本発明を完成させた。この反応を示すと次の通りで
ある。
−ブチル、メチル基及び水素原子を持つ有機モノアルコ
キシシラン（工業的にはグリニヤール反応により容易に
かつ安価に得られる有機ケイ素化合物）とアルコールと
を白金触媒の存在下に反応させることにより、ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリアルコキシシランを製造できることを見
出し本発明を完成させた。この反応を示すと次の通りで
ある。
ＣＨ３Ｈ
本発明で用いられる有機ケイ素化合物としては、ＨＨＨ
（ここに、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプ
ロピル基、Ｂｕはブチル基、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチ
ル基を表わす、） 本発明で利用できるアルコールとしては、ＣＨ３０Ｈ−
、ＣＨａＣＨｚＯＨＳＣＨ：＋ＣＨｔＣ）ＩｚＯＨ。
ロピル基、Ｂｕはブチル基、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチ
ル基を表わす、） 本発明で利用できるアルコールとしては、ＣＨ３０Ｈ−
、ＣＨａＣＨｚＯＨＳＣＨ：＋ＣＨｔＣ）ＩｚＯＨ。
などが例示される。
本発明で用いられる白金触媒には、ＨｔＰｔＣｌｈ、ｐ
ｔ−ｃ 、 ［Ｐｔ（ＣｚＨ＊）Ｃｊ！小などが例示
される。
ｔ−ｃ 、 ［Ｐｔ（ＣｚＨ＊）Ｃｊ！小などが例示
される。
使用する白金触媒の量は、必要以上の添加は経済的では
ないので、原料の有機ケイ素化合物に対し７１０−’
〜１０重量％、好ましくはｌＯ−”−１重量％である。
ないので、原料の有機ケイ素化合物に対し７１０−’
〜１０重量％、好ましくはｌＯ−”−１重量％である。
溶媒は用いなくてもよＣ）が、使用する場合にはベンゼ
ン、トルエル、キシレン、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素
系溶媒で良く、その使用量は、原料の有機ケイ素化合物
に対して重量にして０．１〜１００倍、好ましくは０．
５〜ｉｏ倍である。
ン、トルエル、キシレン、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素
系溶媒で良く、その使用量は、原料の有機ケイ素化合物
に対して重量にして０．１〜１００倍、好ましくは０．
５〜ｉｏ倍である。
反応温度は２０〜２００℃、好ましくは３０〜１５０’
Ｃであり、反応時間は０．５〜３０時間で合成できる。
Ｃであり、反応時間は０．５〜３０時間で合成できる。
本発明の方法によれば、Ｌｅｒ ｔ−ブチル基、メチル
基及び水素原子を有する有機モノアルコキシシランとア
ルコールとを白金触媒の存在下に反応させるとｔｅｒ
ｔ−ブチルトリアルコキシシランが合成できるが、反応
機構的には原料の有機ケイ素化合物がｔｅｒ ｔ−ブチ
ル基及び水素原子を有するためにメチル基が動き易くな
り、白金触媒により直接的に５ｉ−ＣＨ３結合が切断さ
れアルコールとの間に脱メタン反応が起り、目的のｔｅ
ｒ ｔ−ブチルトリアルコキシシランが生成するものと
考えられる。
基及び水素原子を有する有機モノアルコキシシランとア
ルコールとを白金触媒の存在下に反応させるとｔｅｒ
ｔ−ブチルトリアルコキシシランが合成できるが、反応
機構的には原料の有機ケイ素化合物がｔｅｒ ｔ−ブチ
ル基及び水素原子を有するためにメチル基が動き易くな
り、白金触媒により直接的に５ｉ−ＣＨ３結合が切断さ
れアルコールとの間に脱メタン反応が起り、目的のｔｅ
ｒ ｔ−ブチルトリアルコキシシランが生成するものと
考えられる。
従って本発明の方法によれば、ｔｅｒ Ｌ−ブチルトリ
アルコキシシランを工業的に製造することができる。
アルコキシシランを工業的に製造することができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
メタノール７７ｇ（２，４モル）と塩化白金酸０．０５
ｇを反応器に仕込み、温度を６４℃に上げた。これに、
ｔｅｒ ｔ−ブチルメチルメトキシシラン１３２ｇ（１
モル）を２時間かけて滴下した０滴下終了後、６４℃に
て２時間かくはんした後蒸留塔を用いて精留し、沸点１
４４〜１４５℃でｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシシラン
８５ｇを得た（収率４８％）。
ｇを反応器に仕込み、温度を６４℃に上げた。これに、
ｔｅｒ ｔ−ブチルメチルメトキシシラン１３２ｇ（１
モル）を２時間かけて滴下した０滴下終了後、６４℃に
て２時間かくはんした後蒸留塔を用いて精留し、沸点１
４４〜１４５℃でｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシシラン
８５ｇを得た（収率４８％）。
実施例２〜８
第１表に示した有機ケイ素化合物とアルコールとを実施
例と同様の方法で反応させたところ、ｔｅｒ ｔ−ブチ
ルトリアルコキシシランを第１表に示す収率で得た。
例と同様の方法で反応させたところ、ｔｅｒ ｔ−ブチ
ルトリアルコキシシランを第１表に示す収率で得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアルキル基である。）で示される有機
ケイ素化合物と Ｒ＾２ＯＨ（式中、Ｒ＾２はアルキル基である。）で示
されるアルコールとを白金触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とする ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ上記Ｒ＾１及びＲ
＾２に同じである。）で示されるｔｅｒｔ−ブチルトリ
アルコキシシランの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13332289A JPH0737467B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13332289A JPH0737467B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02311486A true JPH02311486A (ja) | 1990-12-27 |
| JPH0737467B2 JPH0737467B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=15101996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13332289A Expired - Lifetime JPH0737467B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ｔｅｒｔ―ブチルトリアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737467B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004006607A (ja) * | 2002-01-31 | 2004-01-08 | Tosoh Corp | 有機シラン化合物を含んでなる絶縁膜用材料、その製造方法および半導体デバイス |
| US7413775B2 (en) * | 2002-01-31 | 2008-08-19 | Tosoh Corporation | Insulating film material containing an organic silane compound, its production method and semiconductor device |
| JP2012522738A (ja) * | 2009-04-01 | 2012-09-27 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 炭化水素オキシケイ素化合物の製造方法 |
-
1989
- 1989-05-26 JP JP13332289A patent/JPH0737467B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004006607A (ja) * | 2002-01-31 | 2004-01-08 | Tosoh Corp | 有機シラン化合物を含んでなる絶縁膜用材料、その製造方法および半導体デバイス |
| US7413775B2 (en) * | 2002-01-31 | 2008-08-19 | Tosoh Corporation | Insulating film material containing an organic silane compound, its production method and semiconductor device |
| JP2012522738A (ja) * | 2009-04-01 | 2012-09-27 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 炭化水素オキシケイ素化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0737467B2 (ja) | 1995-04-26 |
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