JPH0363284A - シラザン類の製造方法 - Google Patents
シラザン類の製造方法Info
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- JPH0363284A JPH0363284A JP1199818A JP19981889A JPH0363284A JP H0363284 A JPH0363284 A JP H0363284A JP 1199818 A JP1199818 A JP 1199818A JP 19981889 A JP19981889 A JP 19981889A JP H0363284 A JPH0363284 A JP H0363284A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Silicon Polymers (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ヒドロシラン類とアミン類とから、セラミッ
クス原料および医農薬中間体などとして有用なシラザン
類を製造する方法に関する。
クス原料および医農薬中間体などとして有用なシラザン
類を製造する方法に関する。
従来、ヒドロシラン類とアミン類とからシラザン類を製
造するには、触媒として鉄金属を使用する方法(米国特
許第4115427号(1978))、またはルテニウ
ムカルボニル錯体を使用する方法(J、 Mol。
造するには、触媒として鉄金属を使用する方法(米国特
許第4115427号(1978))、またはルテニウ
ムカルボニル錯体を使用する方法(J、 Mol。
Catal、、 48.183(1988))などがあ
る。
る。
しかし、鉄金属を使用する方法ではシラザンの収率が低
い1反応条件が厳しいなどの問題点がある。またルテニ
ウムカルボニル錯体を使用する方法ではシラザンの収率
が低い1反応条件が厳しい、触媒が高価で不安定である
などの問題点がある。
い1反応条件が厳しいなどの問題点がある。またルテニ
ウムカルボニル錯体を使用する方法ではシラザンの収率
が低い1反応条件が厳しい、触媒が高価で不安定である
などの問題点がある。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決するため、
安価で、安定な触媒を使用して、温和な反応条件下で、
高収率でシラザン類が製造できるシラザン類の製造方法
を提案することである。
安価で、安定な触媒を使用して、温和な反応条件下で、
高収率でシラザン類が製造できるシラザン類の製造方法
を提案することである。
本発明は、下記一般式(1)
(式中、R1−R1はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、アミノ基または有機ケイ素基、kは
1〜100の整数を示す HL〜R3は同一でも異なっ
ていてもよい、) で表わされるヒドロシラン類と、 下記一般式(n) 4 R’−NH・・・(Ill (式中、R4およびRsはそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または有
機ケイ素基を示す R4およびR5は同一でも異なって
いてもよい、) で表わされるアミン類とを反応させてシラザン類を製造
する方法において、 触媒として下記一般式(III) MAR,・・・(III) (式中、Mはアルカリ金属、Aはホウ素またはアルミニ
ウムを示す、) で表わされるアルカリ金属化合物を使用することを特徴
とするシラザン類の製造方法である。
、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、アミノ基または有機ケイ素基、kは
1〜100の整数を示す HL〜R3は同一でも異なっ
ていてもよい、) で表わされるヒドロシラン類と、 下記一般式(n) 4 R’−NH・・・(Ill (式中、R4およびRsはそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または有
機ケイ素基を示す R4およびR5は同一でも異なって
いてもよい、) で表わされるアミン類とを反応させてシラザン類を製造
する方法において、 触媒として下記一般式(III) MAR,・・・(III) (式中、Mはアルカリ金属、Aはホウ素またはアルミニ
ウムを示す、) で表わされるアルカリ金属化合物を使用することを特徴
とするシラザン類の製造方法である。
本発明で使用するヒドロシラン類は前記一般式(1)で
表わされるヒドロシラン類である。
表わされるヒドロシラン類である。
前記一般式(I)におけるR1−R3としては、例えば
水素原子;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原
子;メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ
基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニ
ル基;エチニル基。
水素原子;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原
子;メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ
基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニ
ル基;エチニル基。
プロピニル基、ブチニル基等のアルキニル基;フェニル
基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基;アミノ
基;シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基、シロキ
シ基、ジシラニロキシ基、トリシラニロキシ基等の有機
ケイ素基などをあげることができる。これらのアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基および有機ケイ素基はハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基などの置換基を有していてもよい。
基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基;アミノ
基;シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基、シロキ
シ基、ジシラニロキシ基、トリシラニロキシ基等の有機
ケイ素基などをあげることができる。これらのアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基および有機ケイ素基はハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基などの置換基を有していてもよい。
前記一般式(1)におけるkは1〜100.好ましくは
1〜10の整数が好ましい。
1〜10の整数が好ましい。
本発明で使用するヒドロシラン類の具体的なものとして
は1例えばSiH4、(CH3> s sin 。
は1例えばSiH4、(CH3> s sin 。
(C,)1.)、5i)1. (C,Hs)、SiH
,、(CH,O)、SiH。
,、(CH,O)、SiH。
(C,H,O)、SiH,、(C,H,0)aSiHl
Cs)I、5iHa。
Cs)I、5iHa。
(CJs)ssiHs、 CH3CH=CH5IH3,
CH3CミC3iH,、などをあげることができる。
CH3CミC3iH,、などをあげることができる。
本発明で使用するアミン類は前記一般式〔■〕で表わさ
れるアミン類である。
れるアミン類である。
前記一般式(n)におけるR4およびRSとしては。
例えば水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基等の
アルケニル基;エチニル基、プロピニル基、ブチニル基
等のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基等のアリール基;シリル基、ジシラニル基、トリシ
ラニル基、シロキシ基、ジシラニロキシ基、トリシラニ
ロキシ基等の有機ケイ素基などをあげることができる。
アルキル基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基等の
アルケニル基;エチニル基、プロピニル基、ブチニル基
等のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基等のアリール基;シリル基、ジシラニル基、トリシ
ラニル基、シロキシ基、ジシラニロキシ基、トリシラニ
ロキシ基等の有機ケイ素基などをあげることができる。
これらのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基および有機ケイ素基はハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基などの置換基を有していてもよい。
リール基および有機ケイ素基はハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基などの置換基を有していてもよい。
本発明で使用するアミン類の具体的なものとして、例え
ばNH3,CH□NH2,C,H,Nl(、、(C)I
、)、CHNH,。
ばNH3,CH□NH2,C,H,Nl(、、(C)I
、)、CHNH,。
C,H工3N)1.、(C)1.)、N)l、(C,H
,)、Nl(、((CHI)□CH)、N)l、をあげ
ることができる。
,)、Nl(、((CHI)□CH)、N)l、をあげ
ることができる。
本発明において出発原料となる前記ヒドロシラン類およ
び前記アミン類は、ヒドロシラン類/アミン類のモル比
で0.05〜30、好ましくは0.5〜10の割合とな
るように使用するのが好ましい。
び前記アミン類は、ヒドロシラン類/アミン類のモル比
で0.05〜30、好ましくは0.5〜10の割合とな
るように使用するのが好ましい。
本発明は、前記ヒドロシラン類と前記アミン類とを、前
記一般式[I[[]で表わされるアルカリ金属化合物の
存在下に反応させて、シラザンを製造する方法である。
記一般式[I[[]で表わされるアルカリ金属化合物の
存在下に反応させて、シラザンを製造する方法である。
前記一般式(III)におけるMで示されるアルカリ金
属としては、例えばLi、 Na、に、 Rbなどをあ
げることができる。
属としては、例えばLi、 Na、に、 Rbなどをあ
げることができる。
本発明で使用するアルカリ金属化合物の具体的なものと
しては1例えばLiBH4,LiAjlHいNaBH4
,NaAQl(* −KBII4、KARH,、RbB
H4,RbAl2Hイなどをあげることができる。これ
らの中では、LiBH,、LiAQH,、NaBH4,
NaAQH4,KBH4,KAI2H,が好ましい。
しては1例えばLiBH4,LiAjlHいNaBH4
,NaAQl(* −KBII4、KARH,、RbB
H4,RbAl2Hイなどをあげることができる。これ
らの中では、LiBH,、LiAQH,、NaBH4,
NaAQH4,KBH4,KAI2H,が好ましい。
アルカリ金属化合物は1種単独で使用することもできる
し、2種以上を混合して使用することもできる。
し、2種以上を混合して使用することもできる。
触媒として使用する前記アルカリ金属化合物の使用量は
、使用する出発原料の種類にもよるが、ヒドロシラン類
100モルに対して通常0.01〜30モル、好ましく
は0.1〜1モルが好ましい。
、使用する出発原料の種類にもよるが、ヒドロシラン類
100モルに対して通常0.01〜30モル、好ましく
は0.1〜1モルが好ましい。
本発明では、前記アルカリ金属化合物の存在下に、前記
ヒドロシラン類と前記アミン類とを反応させることによ
り、シラザン類が製造される。ここで製造されるシラザ
ン類の代表的なものとしては、下記一般式[rV)〜(
VI)で表わされるシラザン類をあげることができる。
ヒドロシラン類と前記アミン類とを反応させることによ
り、シラザン類が製造される。ここで製造されるシラザ
ン類の代表的なものとしては、下記一般式[rV)〜(
VI)で表わされるシラザン類をあげることができる。
となるヒドロシラン類とアミン類とのモル比などの反応
条件により変化する。
条件により変化する。
本発明で製造されるシラザン類としては、例えば
(式中、R1−R5およびkは前記と同じである。nは
1以上の整数を示す、) また前記一般式(IV)〜(Vl)において、R1およ
びR8の少なくとも1つが水素原子である場合は、これ
らの水素原子もアミン類と反応して、側鎖を有するシラ
ザン類も製造される。
1以上の整数を示す、) また前記一般式(IV)〜(Vl)において、R1およ
びR8の少なくとも1つが水素原子である場合は、これ
らの水素原子もアミン類と反応して、側鎖を有するシラ
ザン類も製造される。
本発明の製造方法では1通常両末端がヒドロシラン残基
のシラザン類、一方の末端がヒドロシラン残基のシラザ
ン類および両末端がアミン残基のシラザン類の混合物が
得られる0反応生成物中の末端に含めるアミン残基末端
の割合は、出発原料あげることができる。
のシラザン類、一方の末端がヒドロシラン残基のシラザ
ン類および両末端がアミン残基のシラザン類の混合物が
得られる0反応生成物中の末端に含めるアミン残基末端
の割合は、出発原料あげることができる。
本発明では出発原料の種類、触媒の種類および使用量、
反応条件などを選択することにより重合度の高い、すな
わち前記一般式(mV)〜(VI)におけるnの値が大
きいシラザン類(以下、ポリシラザン類と称する)が製
造される。ポリシラザン類としては、平均分子量が30
00程度、nが30程度のものまで製造できる。
反応条件などを選択することにより重合度の高い、すな
わち前記一般式(mV)〜(VI)におけるnの値が大
きいシラザン類(以下、ポリシラザン類と称する)が製
造される。ポリシラザン類としては、平均分子量が30
00程度、nが30程度のものまで製造できる。
本発明の反応は溶媒を用いないで行うこともできるし、
溶媒を用いて行うこともできる。使用できる溶媒として
は、例えばピリジン、トリエチルアミン等のアミン類;
エトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、クラウンエー
テル等のエーテル類などをあげることができる。
溶媒を用いて行うこともできる。使用できる溶媒として
は、例えばピリジン、トリエチルアミン等のアミン類;
エトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、クラウンエー
テル等のエーテル類などをあげることができる。
反応条件は、反応温度が一20〜200℃、好ましくは
O〜100℃1反応時間が1分〜48時間、好ましくは
20分〜7時間が好ましい。
O〜100℃1反応時間が1分〜48時間、好ましくは
20分〜7時間が好ましい。
本発明の反応は、減圧条件下、常圧条件下および加圧条
件下のいずれの条件でも行うことができ、さらに反応は
気相法および液相法のいずれの方法を採用してもよい、
そして1反応方式は、例えば液相法を採用した場合には
、回分法、半回分法などの通常の反応法のほか、管型反
応法などの連続法を採用することもでき、また例えば気
相法を採用した場合には、固定床法および流動層法など
の反応様式を採用することができる。
件下のいずれの条件でも行うことができ、さらに反応は
気相法および液相法のいずれの方法を採用してもよい、
そして1反応方式は、例えば液相法を採用した場合には
、回分法、半回分法などの通常の反応法のほか、管型反
応法などの連続法を採用することもでき、また例えば気
相法を採用した場合には、固定床法および流動層法など
の反応様式を採用することができる。
反応終了後は、反応液中に水を加えた後、トルエン等の
溶媒を加えて反応生成物を含む抽出液を得、次に抽出液
から溶媒、未反応のヒドロシラン類および/またはアミ
ン類を留去する方法、または抽出液をシリカゲルを充填
したカラムクロマトグラフィー等により分離する方法な
どによってシラザン類が得られる。
溶媒を加えて反応生成物を含む抽出液を得、次に抽出液
から溶媒、未反応のヒドロシラン類および/またはアミ
ン類を留去する方法、または抽出液をシリカゲルを充填
したカラムクロマトグラフィー等により分離する方法な
どによってシラザン類が得られる。
本発明により製造されるシラザン類は、セラミックス原
料および医農薬中間体などとして利用できる。
料および医農薬中間体などとして利用できる。
本発明によれば、安価で、安定な触媒を用いて。
温和な反応条件下で、高収率でシラザン類が製造できる
。
。
以下1本発明の実施例について説明する。
実施例1
n−ヘキシルアミン(CsHtzNHi) 3 gのテ
トラヒドロフラン(T)IF) 5−溶液を0℃に冷却
し、この中にLiAQH450mgを加えた。さらにこ
の中に、フェニルシラン(C,H,SiH,) 3 g
のTHF 5−溶液を0℃で滴下した1滴下終了後、
THF還流下に4時間かくはんを続けた。4時間復水
を加えた後、生成物をトルエンで抽出し、トルエン相を
濃縮して5.1gの粘稠なポリシラザンを得た。ゲル浸
透クロマトグラフィー(GPC)分析の結果、 このポ
リシラザンの平均分子量はポリスチレン換算で1500
であった。
トラヒドロフラン(T)IF) 5−溶液を0℃に冷却
し、この中にLiAQH450mgを加えた。さらにこ
の中に、フェニルシラン(C,H,SiH,) 3 g
のTHF 5−溶液を0℃で滴下した1滴下終了後、
THF還流下に4時間かくはんを続けた。4時間復水
を加えた後、生成物をトルエンで抽出し、トルエン相を
濃縮して5.1gの粘稠なポリシラザンを得た。ゲル浸
透クロマトグラフィー(GPC)分析の結果、 このポ
リシラザンの平均分子量はポリスチレン換算で1500
であった。
実施例2
実施例1において、Li1H,の代りにKBH,を用い
る以外は実施例1と同様にして反応を行った。得られた
ポリシラザンの平均分子量は、ポリスチレン換算で12
00であった。
る以外は実施例1と同様にして反応を行った。得られた
ポリシラザンの平均分子量は、ポリスチレン換算で12
00であった。
比較例1
実施例1において、 LiARH4の代りにFeを使用
する以外は実施例1と同様にして反応を行った。出発原
料が回収され、反応は全く起らなかった。
する以外は実施例1と同様にして反応を行った。出発原
料が回収され、反応は全く起らなかった。
実施例3
n−ヘキシルアミン3.00を0℃に冷却し、この中に
NaBH450−gを加えた。この中にジエチルシラン
((C,H,)!SiH,)3.0−を0℃で滴下し、
滴下終了後55℃で8時間かくはんを続けた。8時間後
反応液に水を加えた後、生成物をトルエンで抽出した。
NaBH450−gを加えた。この中にジエチルシラン
((C,H,)!SiH,)3.0−を0℃で滴下し、
滴下終了後55℃で8時間かくはんを続けた。8時間後
反応液に水を加えた後、生成物をトルエンで抽出した。
n−ヘキシルアミン基準で、ジシラザン、トリシラザン
、テトラシラザンがそれぞれ45%、31%、14%の
収率で得られた。
、テトラシラザンがそれぞれ45%、31%、14%の
収率で得られた。
なお、ジシラザンとはケイ素原子を2個有し。
両末端がヒドロシラン残基のシラザン、一方の末端がヒ
ドロシラン残基のシラザンおよび両末端がアミン残基の
シラザンの混合物を示す、またトリシラザンとはケイ素
原子を3個有し、両末端がヒドロシラン残基のシラザン
、一方の末端がヒドロシラン残基のシラザンおよび両末
端がアミン残基のシラザンの混合物を示し、テトラシラ
ザンとはケイi!原子を4個有し、両末端がヒドロシラ
ン残基のシラザン、一方の末端がヒドロシラン残基のシ
ラザンおよび両末端がアミン残基のシラザンの混合物を
示す。
ドロシラン残基のシラザンおよび両末端がアミン残基の
シラザンの混合物を示す、またトリシラザンとはケイ素
原子を3個有し、両末端がヒドロシラン残基のシラザン
、一方の末端がヒドロシラン残基のシラザンおよび両末
端がアミン残基のシラザンの混合物を示し、テトラシラ
ザンとはケイi!原子を4個有し、両末端がヒドロシラ
ン残基のシラザン、一方の末端がヒドロシラン残基のシ
ラザンおよび両末端がアミン残基のシラザンの混合物を
示す。
実施例4
実施例3において、NaBH,の代りにKBH4を用い
る以外は実施例3と同様にして行った。n−ヘキシルア
ミン基準で、ジシラザン、トリシラザン、テトラシラザ
ンがそれぞれ40%、33%、15%の収率で得られた
。
る以外は実施例3と同様にして行った。n−ヘキシルア
ミン基準で、ジシラザン、トリシラザン、テトラシラザ
ンがそれぞれ40%、33%、15%の収率で得られた
。
実施例5
実施例3において、NaBH,の代りにLiBH,を用
いる以外は実施例3と同様にして行った。n−ヘキシル
アミン基準で、ジシラザン、トリシラザン、テトラシラ
ザンがそれぞれ32%、41%、14%の収率で得られ
た。
いる以外は実施例3と同様にして行った。n−ヘキシル
アミン基準で、ジシラザン、トリシラザン、テトラシラ
ザンがそれぞれ32%、41%、14%の収率で得られ
た。
Claims (1)
- (1)下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、R^1〜R^3はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基。 アルキニル基、アリール基、アミノ基または有機ケイ素
基、kは1〜100の整数を示す。R^1〜R^3は同
一でも異なっていてもよい。) で表わされるヒドロシラン類と、 下記一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 (式中、R^4およびR^5はそれぞれ水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基また
は有機ケイ素基を示す。R^4およびR^5は同一でも
異なっていてもよい。) で表わされるアミン類とを反応させてシラザン類を製造
する方法において、 触媒として下記一般式〔III〕 MAH_4・・・〔III〕 (式中、Mはアルカリ金属、Aはホウ素またはアルミニ
ウムを示す。) で表わされるアルカリ金属化合物を使用することを特徴
とするシラザン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1199818A JPH0363284A (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | シラザン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1199818A JPH0363284A (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | シラザン類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0363284A true JPH0363284A (ja) | 1991-03-19 |
Family
ID=16414152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1199818A Pending JPH0363284A (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | シラザン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0363284A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997024391A1 (fr) * | 1995-12-28 | 1997-07-10 | Tonen Corporation | Procede de production de polysilazane |
JP2006027917A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Shiseido Co Ltd | Sp2混成軌道からなるシリコンオリゴマー |
JP2014522822A (ja) * | 2011-07-06 | 2014-09-08 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | モノクロロシランとアンモニアとからトリシリルアミンを製造する方法 |
JP2019501159A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-17 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | オルガノアミノシランの製造方法、そのオルガノアミノシランからのシリルアミンの製造方法 |
-
1989
- 1989-08-01 JP JP1199818A patent/JPH0363284A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997024391A1 (fr) * | 1995-12-28 | 1997-07-10 | Tonen Corporation | Procede de production de polysilazane |
JP2006027917A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Shiseido Co Ltd | Sp2混成軌道からなるシリコンオリゴマー |
JP2014522822A (ja) * | 2011-07-06 | 2014-09-08 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | モノクロロシランとアンモニアとからトリシリルアミンを製造する方法 |
US9656869B2 (en) | 2011-07-06 | 2017-05-23 | Evonik Degussa Gmbh | Process for the preparation of trisilylamine from monochlorosilane and ammonia |
JP2019501159A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-17 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | オルガノアミノシランの製造方法、そのオルガノアミノシランからのシリルアミンの製造方法 |
US10875877B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-12-29 | Dow Silicones Corporation | Method for making an organoaminosilane; a method for making a silylamine from the organoaminosilane |
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