JPS61286394A - オレフイン性シラザンの製造方法 - Google Patents
オレフイン性シラザンの製造方法Info
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- JPS61286394A JPS61286394A JP61003710A JP371086A JPS61286394A JP S61286394 A JPS61286394 A JP S61286394A JP 61003710 A JP61003710 A JP 61003710A JP 371086 A JP371086 A JP 371086A JP S61286394 A JPS61286394 A JP S61286394A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオレフィン性シラザン及びその製造方法に関す
る。オレフィン性シラザンは、例えば米国特許第3,6
42,854号の実施例12に開示されているように、
シリル化イソンアネートの製造における中間体として用
いられる既知の化合物である。1985年1月14日提
出の係属中の米国特許出願節691,293号及び19
85年3月4日提出の米国特許出願節707.6.30
号に開示されているように、こイ1らはビス(アミノア
ルキル)ジシロキサンの製造方法においても有用である
。
る。オレフィン性シラザンは、例えば米国特許第3,6
42,854号の実施例12に開示されているように、
シリル化イソンアネートの製造における中間体として用
いられる既知の化合物である。1985年1月14日提
出の係属中の米国特許出願節691,293号及び19
85年3月4日提出の米国特許出願節707.6.30
号に開示されているように、こイ1らはビス(アミノア
ルキル)ジシロキサンの製造方法においても有用である
。
米国特許出願節691,293号に示された方法では、
オレフィン性シラサンをヒドロシリル化して中間体を形
成し、これを次いで加水分解してビス(アミノアルキル
)ジシロキサンとしている。
オレフィン性シラサンをヒドロシリル化して中間体を形
成し、これを次いで加水分解してビス(アミノアルキル
)ジシロキサンとしている。
オレフィン性シラザンは2−メチル−2−シラー3−ア
ザ−5−ヘキセンのようなモノシラザンでも、2−メチ
ル−3−ジメチルシリル−2−シラー3−アザ−5−ヘ
キセンのようなジシラザンでもよいが、異性体の混合物
ではなくほぼ純粋なビ= 3 − ス(アミノアルキル)ジシロキサンを生成するのでモノ
シラザンが非常に望ましい。
ザ−5−ヘキセンのようなモノシラザンでも、2−メチ
ル−3−ジメチルシリル−2−シラー3−アザ−5−ヘ
キセンのようなジシラザンでもよいが、異性体の混合物
ではなくほぼ純粋なビ= 3 − ス(アミノアルキル)ジシロキサンを生成するのでモノ
シラザンが非常に望ましい。
従来、オレフィン性シラザンは典型的には酸結合剤の(
r在ドでアリルアミンのようなオレフィン性アミンとジ
メチルクロロシランのようなりロロシランとの反応によ
って製造されてきた。しかし、この方法はモノシラサン
ージンラザン混合物を生成し、その混合物中ではモノシ
ラザンがオレフィン性アミンとジシラザンへのかなり迅
速な不均化反応を受けるので不利である。このようにし
て得られた混合物は純粋なビス(アミノアルキル)ジシ
ロキサンへの変換が本質的に不可能である。
r在ドでアリルアミンのようなオレフィン性アミンとジ
メチルクロロシランのようなりロロシランとの反応によ
って製造されてきた。しかし、この方法はモノシラサン
ージンラザン混合物を生成し、その混合物中ではモノシ
ラザンがオレフィン性アミンとジシラザンへのかなり迅
速な不均化反応を受けるので不利である。このようにし
て得られた混合物は純粋なビス(アミノアルキル)ジシ
ロキサンへの変換が本質的に不可能である。
従って、本発明の第1の目的は、クロロシランから?+
1られるよりも純粋なオレフィン性モノシラサンを製造
する方法を提供することである。
1られるよりも純粋なオレフィン性モノシラサンを製造
する方法を提供することである。
別の目的は、比較的簡単な方法によって、かなり純粋な
ビス(アミノアルキル)ジシロキサンへの変換に非常に
適した形でオレフィン性モノシラザンを製造することで
ある。
ビス(アミノアルキル)ジシロキサンへの変換に非常に
適した形でオレフィン性モノシラザンを製造することで
ある。
その他の[]的は一部明らかであり、一部は以後明らか
にされよう。
にされよう。
最も広い意味において、本発明は、式
(式中R1及び各R2は独〜γにC1−4第1級又は第
2級アルキル基、フェニル又は置換フェニル基であり、
mは1〜約20である) のオレフィン性シラサンを含む組成物を製造する方法で
あり、高揮発性のアミノ化合物 (R3) 3−n NH,を除去しながら、式のオレフ
ィン性アミンを、式 (式中R3は水素又はメチルであり、nは1又は2であ
る) のシラザンと反応さけることから成る。
2級アルキル基、フェニル又は置換フェニル基であり、
mは1〜約20である) のオレフィン性シラサンを含む組成物を製造する方法で
あり、高揮発性のアミノ化合物 (R3) 3−n NH,を除去しながら、式のオレフ
ィン性アミンを、式 (式中R3は水素又はメチルであり、nは1又は2であ
る) のシラザンと反応さけることから成る。
式■のシラザン(以後“シラサン反応物質“と言うこと
かある)においてR1はフェニル基、例えはトリル、ク
ロロフェニル、カルボメトキシフ ゛エニル叉はシ
アノフェニルのような、置換基か本発明の反応で有害な
反応を起こさない置換されたフェニル緘、又は(好まし
くは)C,、第1級叉は第2級アルキル基であり、この
例にはメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、
1−ブチル、2−ブチル及び2−メチル−1−プロピル
などかある。メチル及びエチル括(殊にメチル基)は特
に好ましい。nの値は1又は2である。即ちシラサン反
応物質はモノ又はジシラザンである。
かある)においてR1はフェニル基、例えはトリル、ク
ロロフェニル、カルボメトキシフ ゛エニル叉はシ
アノフェニルのような、置換基か本発明の反応で有害な
反応を起こさない置換されたフェニル緘、又は(好まし
くは)C,、第1級叉は第2級アルキル基であり、この
例にはメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、
1−ブチル、2−ブチル及び2−メチル−1−プロピル
などかある。メチル及びエチル括(殊にメチル基)は特
に好ましい。nの値は1又は2である。即ちシラサン反
応物質はモノ又はジシラザンである。
8R3は水素又はメチルである。その結果、反応中側生
物として製造されるアミノ化合物はアンモニア、メチル
アミン又はジメチルアミンである。
物として製造されるアミノ化合物はアンモニア、メチル
アミン又はジメチルアミンである。
好ましいシラザン反応物質はR1及び各R3がメチルで
あり、nが1であるジメチルアミノジメチルシランとR
1がメチル R3が水素、nか2であるテトラメチルジ
シラザンである。テトラメチルジシラザンは特に好まし
い。
あり、nが1であるジメチルアミノジメチルシランとR
1がメチル R3が水素、nか2であるテトラメチルジ
シラザンである。テトラメチルジシラザンは特に好まし
い。
オレフィン性アミンにおけるR2は通常ずべて水素であ
る。しかし、そのうちf下意のものがR1に関して前に
記載されたようなフェニル、置換フェニル又はCl−4
第1級又は第2級アルキル基であってよく、好ましい例
も同様である。本発明ではR2がすべて異なるような化
合物と同様、R2がすべて同じであるような化合物の使
用も含まれる。また、mが約20までであり、得られる
アルキレン基のR2置換基かすべて異なるような化合物
も含まれる。mの値は通常1叉は2であり、好ましくは
1である。アリルアミンは特に好ましいオレフィン性ア
ミンである。
る。しかし、そのうちf下意のものがR1に関して前に
記載されたようなフェニル、置換フェニル又はCl−4
第1級又は第2級アルキル基であってよく、好ましい例
も同様である。本発明ではR2がすべて異なるような化
合物と同様、R2がすべて同じであるような化合物の使
用も含まれる。また、mが約20までであり、得られる
アルキレン基のR2置換基かすべて異なるような化合物
も含まれる。mの値は通常1叉は2であり、好ましくは
1である。アリルアミンは特に好ましいオレフィン性ア
ミンである。
本発明の方法においては、シラザン反応物質及= 7
− びオレフィン性アミンを典型的には約10〜100°C
の範囲の温度において反応させ、好ましくは約40〜1
00°Cの範囲で反応させる。特にオレフィン性アミン
かアリルアミンである場合、還流しながら反応を行なう
のが好都合である。アリルアミンの沸点は約57℃であ
り、このアミンが消費されるにつれてこれより温度が1
−昇する。試薬の割合は一般に、はぼ理論礒から、アミ
ンが約2090過剰までの範囲である。明らかなように
、アミン対シラ→j゛ン反応物質の理論mのモル比は、
モノシラサンの場合1,1であり、ジシラザンの場合2
.1である。
− びオレフィン性アミンを典型的には約10〜100°C
の範囲の温度において反応させ、好ましくは約40〜1
00°Cの範囲で反応させる。特にオレフィン性アミン
かアリルアミンである場合、還流しながら反応を行なう
のが好都合である。アリルアミンの沸点は約57℃であ
り、このアミンが消費されるにつれてこれより温度が1
−昇する。試薬の割合は一般に、はぼ理論礒から、アミ
ンが約2090過剰までの範囲である。明らかなように
、アミン対シラ→j゛ン反応物質の理論mのモル比は、
モノシラサンの場合1,1であり、ジシラザンの場合2
.1である。
所望により、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド
又はジメチルスルホキシドのような実質的に不活性の希
釈剤を用いてもよい。しかし、希釈剤は一般的には必ザ
なく、使用によって通常(111ら(11益をもたらさ
ない。
ン、トルエン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド
又はジメチルスルホキシドのような実質的に不活性の希
釈剤を用いてもよい。しかし、希釈剤は一般的には必ザ
なく、使用によって通常(111ら(11益をもたらさ
ない。
本発明の好ましい具体例としては、ハロゲンか30以1
−の原r計を存する少くとも1種のハロゲン化水素源の
触媒量の存在下で反応を行なうものである。そして、適
したハロゲン化水素には塩化水素、臭化尿素及びヨウ化
水素があり、触媒活性の高きと比較的低価格のため塩化
水素が好ましい。
−の原r計を存する少くとも1種のハロゲン化水素源の
触媒量の存在下で反応を行なうものである。そして、適
したハロゲン化水素には塩化水素、臭化尿素及びヨウ化
水素があり、触媒活性の高きと比較的低価格のため塩化
水素が好ましい。
必須ではないが、このような触媒は一般に反応速度をか
なり1−げろ。
なり1−げろ。
ハロゲン化水素源はハロゲン化水素自身であってもよく
、あるいはハロゲン化アシルやハロシランのようなその
他の活性なハロゲン化物でもよい。
、あるいはハロゲン化アシルやハロシランのようなその
他の活性なハロゲン化物でもよい。
ジメチルクロロシランのようなりロロシランは有用であ
ることが多い。触媒の瓜は一般に、シラザン反応物質の
当量に対して約0.001〜0.01ミリ当量である。
ることが多い。触媒の瓜は一般に、シラザン反応物質の
当量に対して約0.001〜0.01ミリ当量である。
(本発明の口約にとっては、クロロシランの当量は塩素
原子の数でその分子量を割ったものであり、シラザンの
当量はケイ素原子の数でその分子量を割ったものである
。)シラザン反応物質の種類によってアンモニア、メチ
ルアミン又はジメチルアミンである高揮発性のアミノ化
合物が副生物として゛反応中に生じる。
原子の数でその分子量を割ったものであり、シラザンの
当量はケイ素原子の数でその分子量を割ったものである
。)シラザン反応物質の種類によってアンモニア、メチ
ルアミン又はジメチルアミンである高揮発性のアミノ化
合物が副生物として゛反応中に生じる。
このアミノ化合物か失われることが、少くとも部性的に
反応の推進力として働く。アリルアミン及びテトラメチ
ルジシラザンの場合におけるその他の推進力は少くとも
、副生物のアンモニア(弱)及び反応物質のアリルアミ
ン(強)の間の塩基の強さの違いである。
反応の推進力として働く。アリルアミン及びテトラメチ
ルジシラザンの場合におけるその他の推進力は少くとも
、副生物のアンモニア(弱)及び反応物質のアリルアミ
ン(強)の間の塩基の強さの違いである。
反応は、アンモニア、メチルアミン又はジメチルアミン
の発生がみられなくなったら実質的に完了である。生成
物は一般に、所望のオレフィン性モノシラザンを多量に
含む。また、相当するジシラザンと未反応のオレフィン
性アミンを少量含む。
の発生がみられなくなったら実質的に完了である。生成
物は一般に、所望のオレフィン性モノシラザンを多量に
含む。また、相当するジシラザンと未反応のオレフィン
性アミンを少量含む。
必要ならば、蒸留やカラムクロマトグラフィーのような
慣用の方法でモノシラザンを精製してもよい。純粋なモ
ノシラザンは上記の不均化反応を受けるが、その速度は
、モノシラザン−ジシラザン混合物中のモノシラザンの
ものよりかなり低いことが見出された。
慣用の方法でモノシラザンを精製してもよい。純粋なモ
ノシラザンは上記の不均化反応を受けるが、その速度は
、モノシラザン−ジシラザン混合物中のモノシラザンの
ものよりかなり低いことが見出された。
本発明により得られた生成物の分析は、ガスクロマトグ
ラフ法と質量分析法とを組み合わせて行なう。ガスクロ
マトグラフ法は、長さ30mで内径0,25IIun、
フィルム厚が0.1011IIIlのJ&Wサイエンテ
ィフィック型DB−1ガラスキヤピラリーカラムを備え
たパリアン(Varian) 型3700クロマトグラ
フを用いて行なう。キャピラリーカラムにかかる圧力は
115〇一体積ガススプリッターで減少させ、体積分は
検出器前のカラム末端で補給される。入口の圧力はヘリ
ウムの12psiである。熱的条件は一20℃に2分間
維持し、次に最終温度300℃まで毎分5℃の割合で−
1−昇させる。試料の体積は0.5マイクロリツトルで
ある。これらの条件の下で、次の保持時間か観察された
。
ラフ法と質量分析法とを組み合わせて行なう。ガスクロ
マトグラフ法は、長さ30mで内径0,25IIun、
フィルム厚が0.1011IIIlのJ&Wサイエンテ
ィフィック型DB−1ガラスキヤピラリーカラムを備え
たパリアン(Varian) 型3700クロマトグラ
フを用いて行なう。キャピラリーカラムにかかる圧力は
115〇一体積ガススプリッターで減少させ、体積分は
検出器前のカラム末端で補給される。入口の圧力はヘリ
ウムの12psiである。熱的条件は一20℃に2分間
維持し、次に最終温度300℃まで毎分5℃の割合で−
1−昇させる。試料の体積は0.5マイクロリツトルで
ある。これらの条件の下で、次の保持時間か観察された
。
化合物 保持時間(秒)2−メチル−2
−シラー3−アザ−8005−ヘキセン 2−メチル−3−ジメチルシリル−12502−シラー
3−アサ−5−ヘキセン 本発明の方法を次の実施例によって説明する。
−シラー3−アザ−8005−ヘキセン 2−メチル−3−ジメチルシリル−12502−シラー
3−アサ−5−ヘキセン 本発明の方法を次の実施例によって説明する。
実施例1
テトラメチルジシラザン66.6g (0,5モル)
、アリルアミン61.6g (1,1モル)及びシメ
チクロロシラン0.5マイクロリットルの混合物を還流
させながら約2時間加熱し、その間還流温度が57℃か
ら81.5℃に」二がる。還流の間にアンモニアは揮発
により失われる。生成物は直ちにガスクロマトグラフ法
により分析され、74%の2−メチル−2−シラー3−
アザ−5−ヘキセン、18.4%の2−メチル−3−ジ
メチルシリル−2−シラー3−アザ−5−ヘキセン及び
7.6%のテトラメチルジシラザンから成ることがわか
った。
、アリルアミン61.6g (1,1モル)及びシメ
チクロロシラン0.5マイクロリットルの混合物を還流
させながら約2時間加熱し、その間還流温度が57℃か
ら81.5℃に」二がる。還流の間にアンモニアは揮発
により失われる。生成物は直ちにガスクロマトグラフ法
により分析され、74%の2−メチル−2−シラー3−
アザ−5−ヘキセン、18.4%の2−メチル−3−ジ
メチルシリル−2−シラー3−アザ−5−ヘキセン及び
7.6%のテトラメチルジシラザンから成ることがわか
った。
実施例2
テトラメチルジシラザンを、ジメチルアミノジメチルシ
ラン131.2g (1モル)にかえて、実施例1の
操作をくり返す。同様の生成物が得られた。
ラン131.2g (1モル)にかえて、実施例1の
操作をくり返す。同様の生成物が得られた。
本発明方法はクロロシラン法に比べ、いくつかの利点を
有する。例えば、単一の副生物として高揮発性の物質が
生成することは、アミン塩酸塩が生じる場合よりも単離
の操作をより簡単なものとする。また、モノシラザン生
成物を不均化反応をより受けにくい形で容易に得ること
かできる。
有する。例えば、単一の副生物として高揮発性の物質が
生成することは、アミン塩酸塩が生じる場合よりも単離
の操作をより簡単なものとする。また、モノシラザン生
成物を不均化反応をより受けにくい形で容易に得ること
かできる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高揮発性のアミノ化合物(R^3)_3_−_nN
H_nを除去しながら、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2は水素、C_1_−_4第1級又は第2
級アルキル基、フェニル又は置換フェニル基であり、m
は1〜約20である) のオレフィン性アミンを、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はC_1_−_4第1級又は第2級アル
キル基、フェニル又は置換フェニル基であり、R^3は
水素又はメチルであり、nは1又は2である)のシラザ
ンと反応させることから成る、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2およびmは上記のとおり)のオレ
フィン性シラザンを含む組成物を製造する方法。 2、mが1又は2であり、各R^2が水素である特許請
求の範囲第1項記載の方法。 3、反応温度が約40〜100℃の範囲である特許請求
の範囲第2項記載の方法。 4、R^1がメチル、mが1である特許請求の範囲第3
項記載の方法。 5、反応を還流を行ないながら希釈剤を用いずに行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の方法。 6、nが2であり、R^3が水素である特許請求の範囲
第5項記載の方法。 7、nが1であり、R^3がメチルである特許請求の範
囲第5項記載の方法。 8、ハロゲンが30以上の原子量を有する少くとも1種
のハロゲン化水素源の触媒量の存在下で反応を行なう特
許請求の範囲第3項記載の方法。 9、ハロゲン化水素源の量がシラザン反応物質1当量に
つき約0.001〜0.01ミリ当量である特許請求の
範囲第8項記載の方法。 10、R^1がメチルであり、mが1である特許請求の
範囲第9項記載の方法。 11、反応を還流を行ないながら、希釈剤を用いずに行
なうことを特徴とする特許請求の範囲第10項記載の方
法。 12、ハロゲン化水素源がジメチルクロロシランである
特許請求の範囲第11項記載の方法。 13、nか2であり、R^3が水素である特許請求の範
囲第12項記載の方法。 14、nが1であり、R^3がメチルである特許請求の
範囲第12項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US743836 | 1985-06-12 | ||
US06/743,836 US4565885A (en) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | Method for preparing olefinic silazanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61286394A true JPS61286394A (ja) | 1986-12-16 |
JPH0357112B2 JPH0357112B2 (ja) | 1991-08-30 |
Family
ID=24990393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61003710A Granted JPS61286394A (ja) | 1985-06-12 | 1986-01-13 | オレフイン性シラザンの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4565885A (ja) |
JP (1) | JPS61286394A (ja) |
DE (1) | DE3600502A1 (ja) |
FR (1) | FR2583420B1 (ja) |
GB (1) | GB2176485B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009249312A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Hitachi Chem Co Ltd | シラン化合物 |
WO2014046223A1 (ja) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | セントラル硝子株式会社 | 有機シリルアミン化合物の製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4671933A (en) * | 1985-06-24 | 1987-06-09 | Stauffer-Wacker Silicones Corporation | Method for inhibiting corrosion of metal surfaces |
CN106749377A (zh) * | 2016-12-23 | 2017-05-31 | 湖北新蓝天新材料股份有限公司 | 一种n,n‑双(三甲基甲硅烷基)烯丙基胺及其制备方法 |
JP7446097B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2024-03-08 | 東京応化工業株式会社 | 表面処理剤及び表面処理方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3467686A (en) * | 1967-10-03 | 1969-09-16 | Union Carbide Corp | Preparation of organosilicon-nitrogen compounds |
DE2923604A1 (de) * | 1979-06-11 | 1980-12-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von silicium enthaltenden derivaten des acetamids |
US4584393A (en) * | 1985-01-14 | 1986-04-22 | General Electric Company | Bis(aminoalkyl)disiloxanes and method and intermediates for their preparation |
US4631346A (en) * | 1985-03-04 | 1986-12-23 | General Electric Company | Silyl carbamates and their use in the preparation of bis (aminoalkyl) disiloxanes |
-
1985
- 1985-06-12 US US06/743,836 patent/US4565885A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-01-10 DE DE19863600502 patent/DE3600502A1/de active Granted
- 1986-01-13 JP JP61003710A patent/JPS61286394A/ja active Granted
- 1986-01-13 FR FR868600344A patent/FR2583420B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1986-01-15 GB GB8600932A patent/GB2176485B/en not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009249312A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Hitachi Chem Co Ltd | シラン化合物 |
WO2014046223A1 (ja) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | セントラル硝子株式会社 | 有機シリルアミン化合物の製造方法 |
JPWO2014046223A1 (ja) * | 2012-09-20 | 2016-08-18 | セントラル硝子株式会社 | 有機シリルアミン化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4565885A (en) | 1986-01-21 |
GB2176485A (en) | 1986-12-31 |
DE3600502A1 (de) | 1986-12-18 |
DE3600502C2 (ja) | 1991-10-31 |
FR2583420A1 (fr) | 1986-12-19 |
GB8600932D0 (en) | 1986-02-19 |
FR2583420B1 (fr) | 1990-03-23 |
GB2176485B (en) | 1989-08-16 |
JPH0357112B2 (ja) | 1991-08-30 |
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